JPH07294702A - 光学素子の表面改質方法 - Google Patents
光学素子の表面改質方法Info
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- JPH07294702A JPH07294702A JP6083410A JP8341094A JPH07294702A JP H07294702 A JPH07294702 A JP H07294702A JP 6083410 A JP6083410 A JP 6083410A JP 8341094 A JP8341094 A JP 8341094A JP H07294702 A JPH07294702 A JP H07294702A
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- JP
- Japan
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- optical element
- coating film
- vacuum
- film
- modifying
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- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 基板との密着性・耐久性にすぐれ、溶剤を使
用せずに真空中で使用可能な光学素子の表面改質法を提
供する。 【構成】 光学素子の表面又はコート膜の表面に、下記
一般式で示されるシロキサザン化合物を真空中で付着反
応させる光学素子の表面改質法。 【化１】
用せずに真空中で使用可能な光学素子の表面改質法を提
供する。 【構成】 光学素子の表面又はコート膜の表面に、下記
一般式で示されるシロキサザン化合物を真空中で付着反
応させる光学素子の表面改質法。 【化１】
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光学素子の表面に撥水
性を付与して光学素子の表面を改質する、光学素子の表
面改質方法に関する。
性を付与して光学素子の表面を改質する、光学素子の表
面改質方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】光学素子は、その表面に無機物又は有機
物等の異物が付着すると、光の吸収や散乱などにより光
学性能の低下を引き起こす場合がある。また、多くの光
学素子は、その光学性能を高めるために単層又は多層の
反射防止膜が施されている。反射防止膜には無機物から
なるものと有機物からなるものがあるが、特に多用され
ているのは、ＳｉＯ2 、ＳｉＯ、ＺｒＯ2 、ＴｉＯ2 、
ＭｇＦ2 等の無機化合物の単層膜又は多層膜を、真空蒸
着やイオンプレーティング等のＰＶＤ法により形成する
ものである。しかし、ＳｉＯ2 等の無機コート膜は、Ｓ
ｉ、Ｎａ、Ｃａ等の不純物を含む水滴が付着した場合、
乾燥する過程において不純物が無機コート膜表面に残
り、いわゆるヤケ現象を起こす。特に反射防止膜におい
ては、外観上の問題となるのに加えて、光学性能にも重
大な支障をきたす。これらの課題を解決する方法とし
て、光学基板やコート膜の表面に撥水性のある薄膜を形
成し、汚れやゴミの付着を防止することが行なわれてい
る。たとえば、特開昭６１−１３０９０２号公報及び特
開昭６２−１４８９０２号公報等にはポリオルガノシロ
キサンによる反射防止膜の処理方法が開示されており、
特開昭６２−８０６０３号公報には末端シラノール有機
ポリシロキサンによる処理方法が開示されている。ま
た、特開昭６２−２４７３０２号公報にはアミノシラン
又はポリシラザンによる無機コート膜の表面改質法が開
示されている。さらに特開平４−３５５４０４号公報に
は、側鎖にＮ−β（アミノメチル）γ−アミノプロピル
基を有する有機ケイ素化合物を用いて真空蒸着法によ
り、光学基板上に撥水性の薄膜を形成する方法が開示さ
れている。
物等の異物が付着すると、光の吸収や散乱などにより光
学性能の低下を引き起こす場合がある。また、多くの光
学素子は、その光学性能を高めるために単層又は多層の
反射防止膜が施されている。反射防止膜には無機物から
なるものと有機物からなるものがあるが、特に多用され
ているのは、ＳｉＯ2 、ＳｉＯ、ＺｒＯ2 、ＴｉＯ2 、
ＭｇＦ2 等の無機化合物の単層膜又は多層膜を、真空蒸
着やイオンプレーティング等のＰＶＤ法により形成する
ものである。しかし、ＳｉＯ2 等の無機コート膜は、Ｓ
ｉ、Ｎａ、Ｃａ等の不純物を含む水滴が付着した場合、
乾燥する過程において不純物が無機コート膜表面に残
り、いわゆるヤケ現象を起こす。特に反射防止膜におい
ては、外観上の問題となるのに加えて、光学性能にも重
大な支障をきたす。これらの課題を解決する方法とし
て、光学基板やコート膜の表面に撥水性のある薄膜を形
成し、汚れやゴミの付着を防止することが行なわれてい
る。たとえば、特開昭６１−１３０９０２号公報及び特
開昭６２−１４８９０２号公報等にはポリオルガノシロ
キサンによる反射防止膜の処理方法が開示されており、
特開昭６２−８０６０３号公報には末端シラノール有機
ポリシロキサンによる処理方法が開示されている。ま
た、特開昭６２−２４７３０２号公報にはアミノシラン
又はポリシラザンによる無機コート膜の表面改質法が開
示されている。さらに特開平４−３５５４０４号公報に
は、側鎖にＮ−β（アミノメチル）γ−アミノプロピル
基を有する有機ケイ素化合物を用いて真空蒸着法によ
り、光学基板上に撥水性の薄膜を形成する方法が開示さ
れている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来のポリオ
ルガノシロキサン又は有機ポリシロキサン化合物の希釈
液に浸漬又は塗布硬化する方法は、反応性が悪く被膜の
形成が難しいという欠点があり、さらに加熱処理の必要
があった。また、シラザン化合物を塗布する方法は化合
物と基板との反応性はよいが、シラザン化合物を安定に
保存するためには溶液中で保管使用する必要がある。従
って、真空中でコート膜を形成後に光学素子基板を大気
中に取り出し、改めてディップコート法やスピンコート
法により塗布する必要があった。さらに、希釈溶媒にも
制約があり、フロンや可燃性溶媒など環境保護や防火対
策に対する配慮も必要である。一方、真空蒸着法により
形成された側鎖にＮ−β（アミノメチル）γ−アミノプ
ロピル基を有する有機ケイ素化合物の薄膜は、溶剤を使
用せずまた真空中で使用できるメリットはあるが、基板
表面との密着性が悪く、過酷な使用下での耐久性が不足
していた。
ルガノシロキサン又は有機ポリシロキサン化合物の希釈
液に浸漬又は塗布硬化する方法は、反応性が悪く被膜の
形成が難しいという欠点があり、さらに加熱処理の必要
があった。また、シラザン化合物を塗布する方法は化合
物と基板との反応性はよいが、シラザン化合物を安定に
保存するためには溶液中で保管使用する必要がある。従
って、真空中でコート膜を形成後に光学素子基板を大気
中に取り出し、改めてディップコート法やスピンコート
法により塗布する必要があった。さらに、希釈溶媒にも
制約があり、フロンや可燃性溶媒など環境保護や防火対
策に対する配慮も必要である。一方、真空蒸着法により
形成された側鎖にＮ−β（アミノメチル）γ−アミノプ
ロピル基を有する有機ケイ素化合物の薄膜は、溶剤を使
用せずまた真空中で使用できるメリットはあるが、基板
表面との密着性が悪く、過酷な使用下での耐久性が不足
していた。
【０００４】そこで、本発明はこのような問題を解決
し、基板との密着性・耐久性にすぐれ、かつ、溶剤を使
用せずに真空中で使用可能な表面改質方法を提供するこ
とを目的とする。
し、基板との密着性・耐久性にすぐれ、かつ、溶剤を使
用せずに真空中で使用可能な表面改質方法を提供するこ
とを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の光学素子の表面
改質法は、下記一般式（１）で示されるフルオロアルキ
ル基を含むシロキサザン化合物を真空中で加熱・蒸発さ
せて、ガラス材料又はプラスチック材料からなる光学素
子の表面に付着反応させることを特徴とする。
改質法は、下記一般式（１）で示されるフルオロアルキ
ル基を含むシロキサザン化合物を真空中で加熱・蒸発さ
せて、ガラス材料又はプラスチック材料からなる光学素
子の表面に付着反応させることを特徴とする。
【０００６】
【化２】
【０００７】また、前記一般式（１）で示されるフルオ
ロアルキル基を含むシロキサザン化合物を真空中で加熱
・蒸発させて、無機又は有機のコート膜を有する光学素
子の該コート膜に付着反応させたことを特徴とする。
ロアルキル基を含むシロキサザン化合物を真空中で加熱
・蒸発させて、無機又は有機のコート膜を有する光学素
子の該コート膜に付着反応させたことを特徴とする。
【０００８】また、前記コート膜が無機コート膜である
ことを特徴とする。さらにまた、前記無機コート膜がＰ
ＶＤ法により形成された単層又は多層の反射防止膜であ
ることを特徴とする。本発明の一般式（１）で示される
シロキサザン化合物においてＰは１以上の整数である
が、好ましくは１〜２０である。以下に本発明で用いら
れるシロキサザン化合物を例示する。
ことを特徴とする。さらにまた、前記無機コート膜がＰ
ＶＤ法により形成された単層又は多層の反射防止膜であ
ることを特徴とする。本発明の一般式（１）で示される
シロキサザン化合物においてＰは１以上の整数である
が、好ましくは１〜２０である。以下に本発明で用いら
れるシロキサザン化合物を例示する。
【０００９】
【化３】
【００１０】
【化４】
【００１１】
【化５】
【００１２】
【化６】
【００１３】上記化合物は一般式ＲaＳｉＯ(4-a)/2で示
されるオルガノポリシロキサンに、そのブロックあたり
少なくとも２個のＳｉＸ（Ｘはハロゲン原子）を含有す
るハロシロキサン又はこれとハロシランの混合物を添加
し、これにアンモニア又は第１級アミンを反応させるこ
とによって合成することができる。また、酸素雰囲気中
で市販のアミノシラン化合物を酸化させて得ることもで
きる。これらの化合物は単独のみならず２種以上を混合
して用いることができる。
されるオルガノポリシロキサンに、そのブロックあたり
少なくとも２個のＳｉＸ（Ｘはハロゲン原子）を含有す
るハロシロキサン又はこれとハロシランの混合物を添加
し、これにアンモニア又は第１級アミンを反応させるこ
とによって合成することができる。また、酸素雰囲気中
で市販のアミノシラン化合物を酸化させて得ることもで
きる。これらの化合物は単独のみならず２種以上を混合
して用いることができる。
【００１４】これらのシロキサザン化合物は大部分が固
形状を呈しているのでそのまま真空下で加熱・蒸発させ
ることができる。また、その取扱い、蒸発速度の調整な
どのため熱電導の良好な容器に入れて使用しても良い
が、これらの容器の加熱温度は２００〜４００℃、好ま
しくは２００〜３００℃である。
形状を呈しているのでそのまま真空下で加熱・蒸発させ
ることができる。また、その取扱い、蒸発速度の調整な
どのため熱電導の良好な容器に入れて使用しても良い
が、これらの容器の加熱温度は２００〜４００℃、好ま
しくは２００〜３００℃である。
【００１５】本発明で用いる光学素子としては、メチル
メタクリレート単独重合体、メチルメタクリレートと他
の１種以上のモノマーをモノマー成分とする共重合体、
ジエチレングリコールビスアリルカーボネート単独重合
体、ジエチレングリコールと１種以上の他のモノマーを
モノマー成分とする共重合体、イオウ含有共重合体、ハ
ロゲン含有共重合体、ポリカーボネート、ポリスチレ
ン、ポリウレタン等のプラスチック製の光学素子又は無
機ガラス製の光学素子などが挙げられる。
メタクリレート単独重合体、メチルメタクリレートと他
の１種以上のモノマーをモノマー成分とする共重合体、
ジエチレングリコールビスアリルカーボネート単独重合
体、ジエチレングリコールと１種以上の他のモノマーを
モノマー成分とする共重合体、イオウ含有共重合体、ハ
ロゲン含有共重合体、ポリカーボネート、ポリスチレ
ン、ポリウレタン等のプラスチック製の光学素子又は無
機ガラス製の光学素子などが挙げられる。
【００１６】なお、本発明において光学素子とは、眼鏡
レンズのみならず、カメラレンズ、パソコンのディスプ
レイ等に付設する光学フィルター、自動車の窓ガラス等
に用いられる広義の光学素子を意味する。
レンズのみならず、カメラレンズ、パソコンのディスプ
レイ等に付設する光学フィルター、自動車の窓ガラス等
に用いられる広義の光学素子を意味する。
【００１７】また、コート膜としては眼鏡レンズのハー
ドコート、反射防止膜、各種光学フィルターの誘電体薄
膜や金属薄膜、有機物薄膜を含む。具体的には、ハード
コートして有機ケイ素化合物、アクリル化合物を含んだ
硬化膜、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、ＣｅＯ2などの無機化合物
を含んだ有機ケイ素化合物などを例示することができ
る。また反射防止膜や各種フィルターは、ＺｒＯ2、Ｔ
ｉＯ2、Ｙ2Ｏ3、Ｔａ2Ｏ5、ＳｉＯ2、ＭｇＦ2、Ａｌ2Ｏ
3、Ｃｒ、Ａｇ、Ａｌ等の材料を単独で、２種以上の混
合物として又は２種以上の化合物として用いて、単層又
は多層の薄膜として形成される。それらは主として真空
蒸着法を用いて形成されるが、スパッタリング法、イオ
ンプレーティング法などの他のＰＶＤ法（物理的気相堆
積法：physicalvapour deposition method）又はＣＶＤ
法（化学気相堆積法:chemical vapourdeposition metho
d）などを用いて形成することもできる。
ドコート、反射防止膜、各種光学フィルターの誘電体薄
膜や金属薄膜、有機物薄膜を含む。具体的には、ハード
コートして有機ケイ素化合物、アクリル化合物を含んだ
硬化膜、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、ＣｅＯ2などの無機化合物
を含んだ有機ケイ素化合物などを例示することができ
る。また反射防止膜や各種フィルターは、ＺｒＯ2、Ｔ
ｉＯ2、Ｙ2Ｏ3、Ｔａ2Ｏ5、ＳｉＯ2、ＭｇＦ2、Ａｌ2Ｏ
3、Ｃｒ、Ａｇ、Ａｌ等の材料を単独で、２種以上の混
合物として又は２種以上の化合物として用いて、単層又
は多層の薄膜として形成される。それらは主として真空
蒸着法を用いて形成されるが、スパッタリング法、イオ
ンプレーティング法などの他のＰＶＤ法（物理的気相堆
積法：physicalvapour deposition method）又はＣＶＤ
法（化学気相堆積法:chemical vapourdeposition metho
d）などを用いて形成することもできる。
【００１８】
【実施例】以下に本発明を実施例に基づいて詳細に説明
するが、本発明はこれに限られるものではない。
するが、本発明はこれに限られるものではない。
【００１９】（実施例１）ジエチレングリコールビスア
リルカーボネートの単独重合体からなる合成樹脂製眼鏡
レンズをＩＰＡで洗浄後、真空蒸着装置（株式会社シン
クロン製、ＶＥ−８００）を用いて真空蒸着法によって
ＺｒＯ2 層とＳｉＯ2 層の積層膜からなる反射防止膜を
形成した。その膜構成はレンズ側からＺｒＯ2 層、Ｓｉ
Ｏ2 層、ＺｒＯ2 層、ＳｉＯ2 層である。そして、その
膜厚は、レンズ側に形成されたＺｒＯ2 層とＳｉＯ2 層
の合計膜厚はλ／４、その上層のＺｒＯ2 層はλ／２、
最上層のＳｉＯ2 層はλ／４である（λ=５２０ｎ
ｍ）。次に分子式
リルカーボネートの単独重合体からなる合成樹脂製眼鏡
レンズをＩＰＡで洗浄後、真空蒸着装置（株式会社シン
クロン製、ＶＥ−８００）を用いて真空蒸着法によって
ＺｒＯ2 層とＳｉＯ2 層の積層膜からなる反射防止膜を
形成した。その膜構成はレンズ側からＺｒＯ2 層、Ｓｉ
Ｏ2 層、ＺｒＯ2 層、ＳｉＯ2 層である。そして、その
膜厚は、レンズ側に形成されたＺｒＯ2 層とＳｉＯ2 層
の合計膜厚はλ／４、その上層のＺｒＯ2 層はλ／２、
最上層のＳｉＯ2 層はλ／４である（λ=５２０ｎ
ｍ）。次に分子式
【００２０】
【化７】
【００２１】で表される化合物を、外形１８ｍｍ×高さ
７ｍｍ、肉厚２ｍｍの円筒形の銅製の容器に約０．１ｇ
充填したものを撥水処理材の蒸発源とした。それを電子
銃（日本電子株式会社製、ＪＥＢＧ１０２）を用いて、
エミッション電流５ｍＡ、アンプリチュード１０の条件
で２分間加熱・蒸発させた。蒸発のモニターは真空度の
変化及び光学モニターの動きによって行った。
７ｍｍ、肉厚２ｍｍの円筒形の銅製の容器に約０．１ｇ
充填したものを撥水処理材の蒸発源とした。それを電子
銃（日本電子株式会社製、ＪＥＢＧ１０２）を用いて、
エミッション電流５ｍＡ、アンプリチュード１０の条件
で２分間加熱・蒸発させた。蒸発のモニターは真空度の
変化及び光学モニターの動きによって行った。
【００２２】蒸発終了後、基板を取り出し基板の水に対
する撥水角を接触角計（協和界面科学株式会社製、ＦＡ
ＣＥＣＡ−Ｚ型）を用いて測定した。測定値は、５回測
定し最大値と最小値を消去して残りの３値を平均したも
のを結果とした。また、蒸着直後に測定した値と、測定
後アセトンを含ませたクリーニングペーパー（商品名ダ
スパー）を用いて軽く拭き上げたあとの測定値を比較し
た。
する撥水角を接触角計（協和界面科学株式会社製、ＦＡ
ＣＥＣＡ−Ｚ型）を用いて測定した。測定値は、５回測
定し最大値と最小値を消去して残りの３値を平均したも
のを結果とした。また、蒸着直後に測定した値と、測定
後アセトンを含ませたクリーニングペーパー（商品名ダ
スパー）を用いて軽く拭き上げたあとの測定値を比較し
た。
【００２３】（実施例２）実施例１で作成した反射防止
膜付の眼鏡レンズに、実施例１で作成した撥水処理材を
蒸発源としてその撥水処理材をＴａ製ボートに乗せ、ボ
ート電源２２０Ａで３分３０秒間加熱・蒸発させた後、
実施例１と同じ方法で評価した。
膜付の眼鏡レンズに、実施例１で作成した撥水処理材を
蒸発源としてその撥水処理材をＴａ製ボートに乗せ、ボ
ート電源２２０Ａで３分３０秒間加熱・蒸発させた後、
実施例１と同じ方法で評価した。
【００２４】（実施例３）実施例１で作成した反射防止
膜付の眼鏡レンズに、実施例１で作成した撥水処理材を
蒸発源としてその撥水処理材をＴａ製ボートに乗せ、そ
の下約１ｃｍの所にハロゲンランプ（ウシオ電気株式会
社製、ＪＰＤ１００Ｖ−６５０Ｗ−Ｃ）を２本直列につ
なぎ熱源とし、１６０Ｖの電圧をかけて加熱・蒸発させ
た後、実施例１と同じ方法で評価した。
膜付の眼鏡レンズに、実施例１で作成した撥水処理材を
蒸発源としてその撥水処理材をＴａ製ボートに乗せ、そ
の下約１ｃｍの所にハロゲンランプ（ウシオ電気株式会
社製、ＪＰＤ１００Ｖ−６５０Ｗ−Ｃ）を２本直列につ
なぎ熱源とし、１６０Ｖの電圧をかけて加熱・蒸発させ
た後、実施例１と同じ方法で評価した。
【００２５】（実施例４）実施例１で作成した反射防止
膜付の眼鏡レンズを使用し、実施例１と同じ容器に分子
式
膜付の眼鏡レンズを使用し、実施例１と同じ容器に分子
式
【００２６】
【化８】
【００２７】で表される化合物を約０．１ｇ詰めたもの
を撥水処理材の蒸発源とした。それを実施例１と同じ電
子銃を用いて、エミッション電流８ｍＡ、アンプリチュ
ード１０の条件で２分間加熱・蒸発させた後、実施例１
と同じ方法で評価した。
を撥水処理材の蒸発源とした。それを実施例１と同じ電
子銃を用いて、エミッション電流８ｍＡ、アンプリチュ
ード１０の条件で２分間加熱・蒸発させた後、実施例１
と同じ方法で評価した。
【００２８】（比較例１）実施例１で作成した反射防止
膜付の眼鏡レンズを使用し、分子式
膜付の眼鏡レンズを使用し、分子式
【００２９】
【化９】
【００３０】で表される物質をエタノールで０．１％に
希釈した溶液中に２０秒間浸漬し引き上げた後、直ちに
水で洗浄常温で乾燥させた物について実施例と同じ方法
で評価を行い比較例１とした。
希釈した溶液中に２０秒間浸漬し引き上げた後、直ちに
水で洗浄常温で乾燥させた物について実施例と同じ方法
で評価を行い比較例１とした。
【００３１】（比較例２）実施例１で得られた撥水処理
前の反射防止膜付の眼鏡レンズを比較例２とした。
前の反射防止膜付の眼鏡レンズを比較例２とした。
【００３２】実施例１〜比較例２の評価結果を表１にま
とめて示す。
とめて示す。
【００３３】
【表１】
【００３４】
【発明の効果】本発明によれば、真空蒸着装置内で高品
質かつ安価な方法で、基板との密着性・耐久性にすぐれ
た光学素子の表面改質が可能になった。
質かつ安価な方法で、基板との密着性・耐久性にすぐれ
た光学素子の表面改質が可能になった。
【００３５】また、溶剤を使用する必要がないため、従
来方法で問題であった多量の希釈溶液による環境問題や
防災対策などを考える必要がなくなった。
来方法で問題であった多量の希釈溶液による環境問題や
防災対策などを考える必要がなくなった。
Claims (4)
- 【請求項１】 下記一般式（１）で示されるフルオロア
ルキル基を含むシロキサザン化合物を真空中で加熱・蒸
発させて、ガラス材料又はプラスチック材料からなる光
学素子の表面に付着反応させることを特徴とする光学素
子の表面改質方法。 【化１】 - 【請求項２】 前記一般式（１）で示されるフルオロア
ルキル基を含むシロキサザン化合物を真空中で加熱・蒸
発させて、無機又は有機のコート膜を有する光学素子の
該コート膜に付着反応させたことを特徴とする光学素子
の表面改質方法。 - 【請求項３】 前記コート膜が無機コート膜であること
を特徴とする請求項２記載の光学素子の表面改質方法。 - 【請求項４】 前記無機コート膜がＰＶＤ法により形成
された単層又は多層の反射防止膜であることを特徴とす
る請求項３記載の光学素子の表面改質法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6083410A JPH07294702A (ja) | 1994-04-21 | 1994-04-21 | 光学素子の表面改質方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6083410A JPH07294702A (ja) | 1994-04-21 | 1994-04-21 | 光学素子の表面改質方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07294702A true JPH07294702A (ja) | 1995-11-10 |
Family
ID=13801670
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6083410A Pending JPH07294702A (ja) | 1994-04-21 | 1994-04-21 | 光学素子の表面改質方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07294702A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007039694A (ja) * | 2006-08-21 | 2007-02-15 | Clariant Internatl Ltd | ハードコート膜を被覆したポリカーボネート製品及びその製法 |
| JP2011116182A (ja) * | 2009-12-01 | 2011-06-16 | Kojima Press Industry Co Ltd | 自動車用樹脂ガラス及びその製造方法 |
| US9096726B2 (en) | 2011-01-07 | 2015-08-04 | Cheil Industries, Inc. | Composition for forming silica based insulating layer, method for manufacturing composition for forming silica based insulating layer, silica based insulating layer and method for manufacturing silica based insulating layer |
-
1994
- 1994-04-21 JP JP6083410A patent/JPH07294702A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007039694A (ja) * | 2006-08-21 | 2007-02-15 | Clariant Internatl Ltd | ハードコート膜を被覆したポリカーボネート製品及びその製法 |
| JP2011116182A (ja) * | 2009-12-01 | 2011-06-16 | Kojima Press Industry Co Ltd | 自動車用樹脂ガラス及びその製造方法 |
| US8580378B2 (en) | 2009-12-01 | 2013-11-12 | Kojima Press Industry Co., Ltd. | Organic glass for automobile and process for producing the same |
| US9096726B2 (en) | 2011-01-07 | 2015-08-04 | Cheil Industries, Inc. | Composition for forming silica based insulating layer, method for manufacturing composition for forming silica based insulating layer, silica based insulating layer and method for manufacturing silica based insulating layer |
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