JPH07291888A - ２，２−２置換−１，３−シクロヘキサンジオン誘導体およびその製造方法 - Google Patents
２，２−２置換−１，３−シクロヘキサンジオン誘導体およびその製造方法Info
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- JPH07291888A JPH07291888A JP6113571A JP11357194A JPH07291888A JP H07291888 A JPH07291888 A JP H07291888A JP 6113571 A JP6113571 A JP 6113571A JP 11357194 A JP11357194 A JP 11357194A JP H07291888 A JPH07291888 A JP H07291888A
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C403/00—Derivatives of cyclohexane or of a cyclohexene or of cyclohexadiene, having a side-chain containing an acyclic unsaturated part of at least four carbon atoms, this part being directly attached to the cyclohexane or cyclohexene or cyclohexadiene rings, e.g. vitamin A, beta-carotene, beta-ionone
- C07C403/02—Derivatives of cyclohexane or of a cyclohexene or of cyclohexadiene, having a side-chain containing an acyclic unsaturated part of at least four carbon atoms, this part being directly attached to the cyclohexane or cyclohexene or cyclohexadiene rings, e.g. vitamin A, beta-carotene, beta-ionone having side-chains containing only carbon and hydrogen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
- C07C2601/12—Systems containing only non-condensed rings with a six-membered ring
- C07C2601/14—The ring being saturated
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】天然物および生理活性物質の重要な中間体とし
て有用な、新規な２，２−２置換−１，３−シクロヘキ
サンジオン誘導体を提供する。 【構成】一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｒは置換されていても良い低級アルキル基を表
す。）で示される新規な２，２−２置換−１，３−シク
ロヘキサンジオン誘導体。
て有用な、新規な２，２−２置換−１，３−シクロヘキ
サンジオン誘導体を提供する。 【構成】一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｒは置換されていても良い低級アルキル基を表
す。）で示される新規な２，２−２置換−１，３−シク
ロヘキサンジオン誘導体。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はステロイド類合成の重要
な中間体としての、新規な２，２−２置換−１，３−シ
クロヘキサンジオン誘導体に関する。本発明により得ら
れる２，２−２置換−１，３−シクロヘキサンジオン誘
導体は、その末端二重結合部分を酸化してメチルケトン
に誘導後、不斉環化することにより、天然物および生理
活性物質の合成中間体として有用なウィーランド−ミー
シャーケトン（Ｗｉｅｌａｎｄ−Ｍｉｅｓｃｈｅｒ Ｋ
ｅｔｏｎｅ）の光学活性体に誘導可能である（Ｈ．Ｕｄ
ａら、シンセシス（Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ）、５３頁（１
９９０年）参照）。
な中間体としての、新規な２，２−２置換−１，３−シ
クロヘキサンジオン誘導体に関する。本発明により得ら
れる２，２−２置換−１，３−シクロヘキサンジオン誘
導体は、その末端二重結合部分を酸化してメチルケトン
に誘導後、不斉環化することにより、天然物および生理
活性物質の合成中間体として有用なウィーランド−ミー
シャーケトン（Ｗｉｅｌａｎｄ−Ｍｉｅｓｃｈｅｒ Ｋ
ｅｔｏｎｅ）の光学活性体に誘導可能である（Ｈ．Ｕｄ
ａら、シンセシス（Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ）、５３頁（１
９９０年）参照）。
【０００２】
【従来の技術】従来より２−１置換−１，３−シクロヘ
キサンジオン誘導体はステロイド類合成の中間体として
よく知られているが、２位に３−ブテニル基を有し、か
つ２位に置換基を有する２，２−２置換−１，３−シク
ロヘキサンジオン誘導体はこれまで知られていない。
キサンジオン誘導体はステロイド類合成の中間体として
よく知られているが、２位に３−ブテニル基を有し、か
つ２位に置換基を有する２，２−２置換−１，３−シク
ロヘキサンジオン誘導体はこれまで知られていない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、医薬
として有用なステロイド類の重要な中間体となる新規な
２，２−２置換−１，３−シクロヘキサンジオン誘導体
およびその製造方法を提供することである。
として有用なステロイド類の重要な中間体となる新規な
２，２−２置換−１，３−シクロヘキサンジオン誘導体
およびその製造方法を提供することである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、ステロイ
ド類の工業的に有利な製造方法について鋭意検討した結
果、一般式（II）
ド類の工業的に有利な製造方法について鋭意検討した結
果、一般式（II）
【０００５】
【化３】
【０００６】で示される２−（３’−ブテニル）−１，
３−シクロヘキサンジオン（以下、これをブテニルシク
ロヘキサンジオン（II）と略称することがある。）をア
ルキル化することにより製造される一般式（Ｉ）
３−シクロヘキサンジオン（以下、これをブテニルシク
ロヘキサンジオン（II）と略称することがある。）をア
ルキル化することにより製造される一般式（Ｉ）
【０００７】
【化４】
【０００８】（式中、Ｒは置換されていても良い低級ア
ルキル基を表す。）で示される２，２−２置換−１，３
−シクロヘキサンジオン誘導体（以下、これを２置換シ
クロヘキサンジオン誘導体（Ｉ）と略称することがあ
る。）を見出し、さらに、その製造方法を確立すること
により上記の目的を達成した。
ルキル基を表す。）で示される２，２−２置換−１，３
−シクロヘキサンジオン誘導体（以下、これを２置換シ
クロヘキサンジオン誘導体（Ｉ）と略称することがあ
る。）を見出し、さらに、その製造方法を確立すること
により上記の目的を達成した。
【０００９】２置換シクロヘキサンジオン誘導体（Ｉ）
の置換基Ｒは低級アルキル基を意味する。本明細書にお
いて「低級」とはこの語が付された基の炭素数が６個以
下であることを意味する。Ｒが表わすアルキル基として
は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ｉ−プ
ロピル基、ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ア
ミル基、ヘキシル基などが挙げられる。これらの低級ア
ルキル基は、フッ素原子；メトキシ基、エトキシ基等の
低級アルコキシ基；メチルチオ基、エチルチオ基等の低
級アルキルチオ基；フェニル基、トルイル基等のアリー
ル基などで置換されていてもよい。
の置換基Ｒは低級アルキル基を意味する。本明細書にお
いて「低級」とはこの語が付された基の炭素数が６個以
下であることを意味する。Ｒが表わすアルキル基として
は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ｉ−プ
ロピル基、ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ア
ミル基、ヘキシル基などが挙げられる。これらの低級ア
ルキル基は、フッ素原子；メトキシ基、エトキシ基等の
低級アルコキシ基；メチルチオ基、エチルチオ基等の低
級アルキルチオ基；フェニル基、トルイル基等のアリー
ル基などで置換されていてもよい。
【００１０】２置換シクロヘキサンジオン誘導体（Ｉ）
の代表例として、２−（３’−ブテニル）−２−メチル
−１，３−シクロヘキサンジオン［化合物１］、２−
（３’−ブテニル）−２−エチル−１，３−シクロヘキ
サンジオン［化合物２］、２−（３’−ブテニル）−２
−トリフルオロメチル−１，３−シクロヘキサンジオン
［化合物３］、２−（３’−ブテニル）−２−ベンジル
−１，３−シクロヘキサンジオン［化合物４］などを挙
げることができる。これらの化合物１〜４の構造式を以
下に示す。
の代表例として、２−（３’−ブテニル）−２−メチル
−１，３−シクロヘキサンジオン［化合物１］、２−
（３’−ブテニル）−２−エチル−１，３−シクロヘキ
サンジオン［化合物２］、２−（３’−ブテニル）−２
−トリフルオロメチル−１，３−シクロヘキサンジオン
［化合物３］、２−（３’−ブテニル）−２−ベンジル
−１，３−シクロヘキサンジオン［化合物４］などを挙
げることができる。これらの化合物１〜４の構造式を以
下に示す。
【００１１】
【化５】
【００１２】２置換シクロヘキサンジオン誘導体（Ｉ）
は、ブテニルシクロヘキサンジオン（II）を塩基性化合
物の存在下にアルキル化剤を用いてアルキル化すること
により製造することができる。
は、ブテニルシクロヘキサンジオン（II）を塩基性化合
物の存在下にアルキル化剤を用いてアルキル化すること
により製造することができる。
【００１３】好適なアルキル化剤としては、ヨウ化メチ
ル、臭化メチル、塩化メチル、ヨウ化エチル、臭化エチ
ル、臭化プロピル、臭化ｉ−プロピル、臭化ブチル、臭
化ｉ−ブチル、臭化ｔ−ブチル、臭化アミル、臭化ヘキ
シル、ヨウ化トリフルオロメチル等のハロゲン化低級ア
ルキル；塩化ベンジル、臭化ベンジル等のアリール基で
置換されたハロゲン化低級アルキル；臭化メトキシエチ
ル、臭化エトキシエチル等のアルコキシ基で置換された
ハロゲン化低級アルキル；臭化メチルチオエチル等のな
どアルキルチオ基で置換されたハロゲン化低級アルキ
ル；またはジメチル硫酸、ジエチル硫酸等のスルホン酸
エステルなどを挙げることができる。アルキル化剤の使
用量はブテニルシクロヘキサンジオン（II）に対して１
モル倍から１０モル倍、好ましくは１モル倍から２モル
倍である。
ル、臭化メチル、塩化メチル、ヨウ化エチル、臭化エチ
ル、臭化プロピル、臭化ｉ−プロピル、臭化ブチル、臭
化ｉ−ブチル、臭化ｔ−ブチル、臭化アミル、臭化ヘキ
シル、ヨウ化トリフルオロメチル等のハロゲン化低級ア
ルキル；塩化ベンジル、臭化ベンジル等のアリール基で
置換されたハロゲン化低級アルキル；臭化メトキシエチ
ル、臭化エトキシエチル等のアルコキシ基で置換された
ハロゲン化低級アルキル；臭化メチルチオエチル等のな
どアルキルチオ基で置換されたハロゲン化低級アルキ
ル；またはジメチル硫酸、ジエチル硫酸等のスルホン酸
エステルなどを挙げることができる。アルキル化剤の使
用量はブテニルシクロヘキサンジオン（II）に対して１
モル倍から１０モル倍、好ましくは１モル倍から２モル
倍である。
【００１４】好適な塩基性化合物としては、炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩；ナトリウ
ムメトキシド、ナトリウムエトキシド等のアルカリ金属
アルコキシド；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の
アルカリ金属水酸化物；または水素化ナトリウム等のア
ルカリ金属水素化物を挙げることができる。
ウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩；ナトリウ
ムメトキシド、ナトリウムエトキシド等のアルカリ金属
アルコキシド；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の
アルカリ金属水酸化物；または水素化ナトリウム等のア
ルカリ金属水素化物を挙げることができる。
【００１５】本反応は有機溶媒中で行なうのが好まし
い。好適な有機溶媒としては、ベンゼン、トルエン等の
芳香族炭化水素系溶媒；テトラヒドロフラン、ジメトキ
シエタン等のエーテル系溶媒、アセトン、メチルエチル
ケトン等のケトン類；エタノール、ブタノール等のアル
コール系溶媒などの有機溶媒またはそれらの混合溶媒を
使用することができる。
い。好適な有機溶媒としては、ベンゼン、トルエン等の
芳香族炭化水素系溶媒；テトラヒドロフラン、ジメトキ
シエタン等のエーテル系溶媒、アセトン、メチルエチル
ケトン等のケトン類；エタノール、ブタノール等のアル
コール系溶媒などの有機溶媒またはそれらの混合溶媒を
使用することができる。
【００１６】反応は使用するアルキル化剤、塩基性化合
物および溶媒によっても異なるが、通常室温または加熱
下に行なわれ、室温から１００℃までの範囲内の温度条
件下に実施するのが好ましい。
物および溶媒によっても異なるが、通常室温または加熱
下に行なわれ、室温から１００℃までの範囲内の温度条
件下に実施するのが好ましい。
【００１７】反応終了後、有機合成反応後に化合物を単
離する通常の操作に従い、生成物を得ることができる
が、必要に応じカラムクロマトグラフィー、蒸留などの
操作により精製することもできる。
離する通常の操作に従い、生成物を得ることができる
が、必要に応じカラムクロマトグラフィー、蒸留などの
操作により精製することもできる。
【００１８】ブテニルシクロヘキサンジオン（II）は、
一般式(III)
一般式(III)
【００１９】
【化６】
【００２０】で示されるγ−ケトエステルを塩基性化合
物の存在下に環化させることにより製造することができ
る。
物の存在下に環化させることにより製造することができ
る。
【００２１】本発明の２置換シクロヘキサンジオン誘導
体（Ｉ）は、パラジウム触媒の存在下に末端の二重結合
部分を酸化することによりメチルケトンに誘導し、次い
で光学活性なアミノ酸触媒の存在下に環化させることに
より、天然物および生理活性物質の合成中間体として有
用なウィーランド−ミーシャーケトン（Ｗｉｅｌａｎｄ
−Ｍｉｅｓｃｈｅｒ Ｋｅｔｏｎｅ）の光学活性体に変
換することができる。
体（Ｉ）は、パラジウム触媒の存在下に末端の二重結合
部分を酸化することによりメチルケトンに誘導し、次い
で光学活性なアミノ酸触媒の存在下に環化させることに
より、天然物および生理活性物質の合成中間体として有
用なウィーランド−ミーシャーケトン（Ｗｉｅｌａｎｄ
−Ｍｉｅｓｃｈｅｒ Ｋｅｔｏｎｅ）の光学活性体に変
換することができる。
【００２２】酸化反応はパラジウム触媒、再酸化剤を用
い、酸素雰囲気下あるいは空気中で実施するいわゆるワ
ッカー（Ｗａｃｋｅｒ）酸化により行なうことができ
る。好適な触媒としては塩化パラジウム、酢酸パラジウ
ム等を挙げることができる。好適な再酸化剤としては塩
化銅（II）、塩化銅（Ｉ）、硝酸銅（II）等を挙げるこ
とができる。反応は有機溶媒中で行うが、好適な溶媒と
して含水ジメチルホルムアミド、含水エタノ−ル等の均
一系溶媒、トルエン−水等の二相系溶媒を挙げることが
できる。反応終了後は通常の有機合成反応後に化合物を
単離する通常の操作に従い生成物を得ることができる
が、必要に応じカラムクロマトグラフィー、蒸留などの
操作により精製する。
い、酸素雰囲気下あるいは空気中で実施するいわゆるワ
ッカー（Ｗａｃｋｅｒ）酸化により行なうことができ
る。好適な触媒としては塩化パラジウム、酢酸パラジウ
ム等を挙げることができる。好適な再酸化剤としては塩
化銅（II）、塩化銅（Ｉ）、硝酸銅（II）等を挙げるこ
とができる。反応は有機溶媒中で行うが、好適な溶媒と
して含水ジメチルホルムアミド、含水エタノ−ル等の均
一系溶媒、トルエン−水等の二相系溶媒を挙げることが
できる。反応終了後は通常の有機合成反応後に化合物を
単離する通常の操作に従い生成物を得ることができる
が、必要に応じカラムクロマトグラフィー、蒸留などの
操作により精製する。
【００２３】また、この酸化反応はパラジウム触媒と過
酸化物の組合せによっても行なうことができる。好適な
パラジウム触媒としては塩化パラジウム、酢酸パラジウ
ム等を挙げることができ、好適な過酸化物として過酸化
水素水、ｔ−ブチルヒドロペルオキシド等を挙げること
ができる。過酸化物は通常過剰に用いるが、好ましくは
２当量から１０当量の範囲である。本反応は有機溶媒中
で行うのが望ましい。好適な溶媒としては塩化メチレ
ン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素系溶媒；ｔ−
ブタノール等のアルコール系溶媒；または酢酸エステル
および酢酸等を挙げることができる。反応は通常室温で
行なう。反応終了後は通常の有機合成反応後に化合物を
単離する通常の操作に従い生成物を得ることができる
が、必要に応じカラムクロマトグラフィー、蒸留などの
操作により精製する。
酸化物の組合せによっても行なうことができる。好適な
パラジウム触媒としては塩化パラジウム、酢酸パラジウ
ム等を挙げることができ、好適な過酸化物として過酸化
水素水、ｔ−ブチルヒドロペルオキシド等を挙げること
ができる。過酸化物は通常過剰に用いるが、好ましくは
２当量から１０当量の範囲である。本反応は有機溶媒中
で行うのが望ましい。好適な溶媒としては塩化メチレ
ン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素系溶媒；ｔ−
ブタノール等のアルコール系溶媒；または酢酸エステル
および酢酸等を挙げることができる。反応は通常室温で
行なう。反応終了後は通常の有機合成反応後に化合物を
単離する通常の操作に従い生成物を得ることができる
が、必要に応じカラムクロマトグラフィー、蒸留などの
操作により精製する。
【００２４】
【実施例】以下、実施例および参考例により本発明を詳
細に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定さ
れるものではない。
細に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定さ
れるものではない。
【００２５】参考例１ 蒸留装置、滴下漏斗、およびメカニカルスターラーを備
えた２Ｌ三頭フラスコに２８％ナトリウムメチラートメ
タノール溶液１１３ｇと乾燥したトルエン８００ｍｌを
入れ、１２５℃に加熱しメタノールを留去した。得られ
た無色懸濁液に、加熱を継続しながら３−オキソ−９−
デセン酸メチル１００ｇを３０分間かけて滴下した。滴
下終了後更に１０分間加熱を継続した後、室温まで放冷
した。反応混合物に１規定塩酸６００ｍｌを加え、トル
エンで抽出した。抽出液を水、飽和食塩水で順次洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥後に減圧下に溶媒を留去し
た。得られた淡黄白色固体を減圧乾燥し、２−（３’−
ブテニル）−１，３−シクロヘキサンジオン８２．２ｇ
を得る。 ↑1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ↓3 ）１．７
−２．７（１０Ｈ，ｍ），３．４（１Ｈ，ｍ），４．９
−５．１（２Ｈ，ｍ），５．７−５．９（１Ｈ，ｍ）
えた２Ｌ三頭フラスコに２８％ナトリウムメチラートメ
タノール溶液１１３ｇと乾燥したトルエン８００ｍｌを
入れ、１２５℃に加熱しメタノールを留去した。得られ
た無色懸濁液に、加熱を継続しながら３−オキソ−９−
デセン酸メチル１００ｇを３０分間かけて滴下した。滴
下終了後更に１０分間加熱を継続した後、室温まで放冷
した。反応混合物に１規定塩酸６００ｍｌを加え、トル
エンで抽出した。抽出液を水、飽和食塩水で順次洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥後に減圧下に溶媒を留去し
た。得られた淡黄白色固体を減圧乾燥し、２−（３’−
ブテニル）−１，３−シクロヘキサンジオン８２．２ｇ
を得る。 ↑1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ↓3 ）１．７
−２．７（１０Ｈ，ｍ），３．４（１Ｈ，ｍ），４．９
−５．１（２Ｈ，ｍ），５．７−５．９（１Ｈ，ｍ）
【００２６】実施例１ 還流冷却器およびメカニカルスターラーを備えた３００
ｍｌ三頭フラスコに参考例１で合成した２−（３’−ブ
テニル）−１，３−シクロヘキサンジオン１１．８ｇ、
炭酸カリウム１１．６ｇ、ヨウ化メチル５．４ｍｌおよ
びアセトン２００ｍｌを入れ、５時間加熱還流した。室
温まで冷却後、溶媒を減圧下に留去し、得られた残渣に
水を加え、これを酢酸エチルで抽出した。抽出液を水、
飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し
た。溶媒を減圧下に留去し、残渣を減圧蒸留し６９−７
２℃（０．１３ｍｍＨｇ）の留分として、２−（３’−
ブテニル）−２−メチル−１，３−シクロヘキサンジオ
ン１２．１ｇを得た。 ↑1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ↓3 ）１．２
（３Ｈ，ｓ），１．８−２．１（６Ｈ，ｍ），２．６−
２．８（４Ｈ，ｍ），４．９−５．１（２Ｈ，ｍ），
５．６−５．８（１Ｈ，ｍ）
ｍｌ三頭フラスコに参考例１で合成した２−（３’−ブ
テニル）−１，３−シクロヘキサンジオン１１．８ｇ、
炭酸カリウム１１．６ｇ、ヨウ化メチル５．４ｍｌおよ
びアセトン２００ｍｌを入れ、５時間加熱還流した。室
温まで冷却後、溶媒を減圧下に留去し、得られた残渣に
水を加え、これを酢酸エチルで抽出した。抽出液を水、
飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し
た。溶媒を減圧下に留去し、残渣を減圧蒸留し６９−７
２℃（０．１３ｍｍＨｇ）の留分として、２−（３’−
ブテニル）−２−メチル−１，３−シクロヘキサンジオ
ン１２．１ｇを得た。 ↑1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ↓3 ）１．２
（３Ｈ，ｓ），１．８−２．１（６Ｈ，ｍ），２．６−
２．８（４Ｈ，ｍ），４．９−５．１（２Ｈ，ｍ），
５．６−５．８（１Ｈ，ｍ）
【００２７】実施例２ 還流冷却器およびマグネチックスターラーを備えた１０
０ｍｌ三頭フラスコに参考例１で合成した２−（３’−
ブテニル）−１，３−シクロヘキサンジオン３．５ｇ、
炭酸カリウム３．４ｇ、ヨウ化エチル２ｍｌおよびアセ
トン７０ｍｌを入れ、６時間加熱還流した。反応混合物
を室温まで冷却後、減圧下に溶媒を留去し、水を加え、
これを酢酸エチルで抽出した。抽出液を水、飽和食塩水
で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減
圧下に留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマログラフ
ィ（ヘキサン／酢酸エチル＝９／１）により精製し、２
−（３’−ブテニル）−２−エチル−１，３−シクロヘ
キサンジオン２．２ｇを得た。 ↑1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ↓3 ）１．１
（３Ｈ，ｔ），１．６（２Ｈ，ｑ），１．８−２．１
（６Ｈ，ｍ），２．６−２．８（４Ｈ，ｍ），４．９−
５．１（２Ｈ，ｍ），５．６−５．８（１Ｈ，ｍ）
０ｍｌ三頭フラスコに参考例１で合成した２−（３’−
ブテニル）−１，３−シクロヘキサンジオン３．５ｇ、
炭酸カリウム３．４ｇ、ヨウ化エチル２ｍｌおよびアセ
トン７０ｍｌを入れ、６時間加熱還流した。反応混合物
を室温まで冷却後、減圧下に溶媒を留去し、水を加え、
これを酢酸エチルで抽出した。抽出液を水、飽和食塩水
で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減
圧下に留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマログラフ
ィ（ヘキサン／酢酸エチル＝９／１）により精製し、２
−（３’−ブテニル）−２−エチル−１，３−シクロヘ
キサンジオン２．２ｇを得た。 ↑1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ↓3 ）１．１
（３Ｈ，ｔ），１．６（２Ｈ，ｑ），１．８−２．１
（６Ｈ，ｍ），２．６−２．８（４Ｈ，ｍ），４．９−
５．１（２Ｈ，ｍ），５．６−５．８（１Ｈ，ｍ）
【００２８】実施例３ 還流冷却器およびマグネチックスターラーを備えた２０
０ｍｌ三頭フラスコに参考例１で合成した２−（３’−
ブテニル）−１，３−シクロヘキサンジオン４．１ｇ、
炭酸カリウム４．１ｇ、臭化ベンジル５．３ｇおよびア
セトン１２０ｍｌを入れ、８時間加熱還流した。反応混
合物を室温まで冷却後、減圧下に溶媒を留去し水を加
え、これを酢酸エチルで抽出した。抽出液を水、飽和食
塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒
を減圧下に留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマログ
ラフィ（ヘキサン／酢酸エチル＝１９／１）により精製
し、２−（３’−ブテニル）−２−ベンジル−１，３−
シクロヘキサンジオン３．５ｇを得た。 ↑1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ↓3 ）１．８
−２．１（６Ｈ，ｍ），２．６（２Ｈ，ｓ），２．６−
２．８（４Ｈ，ｍ），４．９−５．１（１Ｈ，ｍ），
７．１（５Ｈ，ｓ）
０ｍｌ三頭フラスコに参考例１で合成した２−（３’−
ブテニル）−１，３−シクロヘキサンジオン４．１ｇ、
炭酸カリウム４．１ｇ、臭化ベンジル５．３ｇおよびア
セトン１２０ｍｌを入れ、８時間加熱還流した。反応混
合物を室温まで冷却後、減圧下に溶媒を留去し水を加
え、これを酢酸エチルで抽出した。抽出液を水、飽和食
塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒
を減圧下に留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマログ
ラフィ（ヘキサン／酢酸エチル＝１９／１）により精製
し、２−（３’−ブテニル）−２−ベンジル−１，３−
シクロヘキサンジオン３．５ｇを得た。 ↑1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ↓3 ）１．８
−２．１（６Ｈ，ｍ），２．６（２Ｈ，ｓ），２．６−
２．８（４Ｈ，ｍ），４．９−５．１（１Ｈ，ｍ），
７．１（５Ｈ，ｓ）
【００２９】実施例４ 還流冷却器およびマグネチックスターラーを備えた１０
０ｍｌ三頭フラスコに参考例１で合成した２−（３’−
ブテニル）−１，３−シクロヘキサンジオン２．２ｇ、
炭酸カリウム２．２ｇ、ヨウ化トリフルオロメチル６．
５ｇおよびアセトン８０ｍｌを入れ、１０時間加熱還流
した。反応混合物を室温まで冷却後、減圧下に溶媒を留
去し水を加え、これを酢酸エチルで抽出した。抽出液を
水、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
した。溶媒を減圧下に留去し、残渣をシリカゲルカラム
クロマログラフィ（ヘキサン／酢酸エチル＝３９／１）
により精製し、２−（３’−ブテニル）−２−トリフル
オロメチル−１，３−シクロヘキサンジオン０．８ｇを
得た。 ↑1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ↓3 ）１．８
−２．２（６Ｈ，ｍ），２．６−２．８（４Ｈ，ｍ），
４．９−５．１（２Ｈ，ｍ），５．６−５．８（１Ｈ，
ｍ）
０ｍｌ三頭フラスコに参考例１で合成した２−（３’−
ブテニル）−１，３−シクロヘキサンジオン２．２ｇ、
炭酸カリウム２．２ｇ、ヨウ化トリフルオロメチル６．
５ｇおよびアセトン８０ｍｌを入れ、１０時間加熱還流
した。反応混合物を室温まで冷却後、減圧下に溶媒を留
去し水を加え、これを酢酸エチルで抽出した。抽出液を
水、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
した。溶媒を減圧下に留去し、残渣をシリカゲルカラム
クロマログラフィ（ヘキサン／酢酸エチル＝３９／１）
により精製し、２−（３’−ブテニル）−２−トリフル
オロメチル−１，３−シクロヘキサンジオン０．８ｇを
得た。 ↑1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ↓3 ）１．８
−２．２（６Ｈ，ｍ），２．６−２．８（４Ｈ，ｍ），
４．９−５．１（２Ｈ，ｍ），５．６−５．８（１Ｈ，
ｍ）
【００３０】参考例２ ５００ｍｌ三頭フラスコに塩化パラジウム１０７ｍｇ、
塩化第一銅９１０ｍｇ、水３０ｍｌおよびジメチルホル
ムアミド２４０ｍｌを入れ、激しく攪拌しながら空気を
導入した。２時間後、実施例１で合成した２−（３’−
ブテニル）−２−メチル−１，３−シクロヘキサンジオ
ン５．４ｇを３０分間かけて滴下し、滴下終了後さらに
３日間空気の導入と攪拌を継続した。反応終了後、反応
混合物を５００ｍｌの１規定塩酸に注ぎ、これを酢酸エ
チルで抽出した。抽出液を水、飽和食塩水で順次洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去
し、残渣をシリカゲルカラムクロマログラフィ（ヘキサ
ン／酢酸エチル＝９／１）により精製し、２−メチル−
２−（３’−オキソブチル）−１，３−シクロヘキサン
ジオン４．９ｇを得た。 ↑1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ↓3 ）１．３
（３Ｈ，ｓ），１．８−２．１（６Ｈ，ｍ），２．１
（３Ｈ，ｓ），２．３（２Ｈ，ｔ），２．６−２．８
（４Ｈ，ｍ）
塩化第一銅９１０ｍｇ、水３０ｍｌおよびジメチルホル
ムアミド２４０ｍｌを入れ、激しく攪拌しながら空気を
導入した。２時間後、実施例１で合成した２−（３’−
ブテニル）−２−メチル−１，３−シクロヘキサンジオ
ン５．４ｇを３０分間かけて滴下し、滴下終了後さらに
３日間空気の導入と攪拌を継続した。反応終了後、反応
混合物を５００ｍｌの１規定塩酸に注ぎ、これを酢酸エ
チルで抽出した。抽出液を水、飽和食塩水で順次洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去
し、残渣をシリカゲルカラムクロマログラフィ（ヘキサ
ン／酢酸エチル＝９／１）により精製し、２−メチル−
２−（３’−オキソブチル）−１，３−シクロヘキサン
ジオン４．９ｇを得た。 ↑1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ↓3 ）１．３
（３Ｈ，ｓ），１．８−２．１（６Ｈ，ｍ），２．１
（３Ｈ，ｓ），２．３（２Ｈ，ｔ），２．６−２．８
（４Ｈ，ｍ）
【００３１】
【発明の効果】本発明によれば、天然物および生理活性
物質の合成中間体として有用な２−（３’−ブテニル）
−１，３−シクロヘキサンジオン誘導体のおよびその製
造方法が提供される。
物質の合成中間体として有用な２−（３’−ブテニル）
−１，３−シクロヘキサンジオン誘導体のおよびその製
造方法が提供される。
Claims (2)
- 【請求項１】 一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｒは置換されていても良い低級アルキル基を表
す。）で示される新規な２，２−２置換−１，３−シク
ロヘキサンジオン誘導体。 - 【請求項２】 一般式（II） 【化２】 で示される２−（３’−ブテニル）−１，３−シクロヘ
キサンジオンをアルキル化することを特徴とする請求項
１記載の２，２−２置換−１，３−シクロヘキサンジオ
ン誘導体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11357194A JP3523328B2 (ja) | 1994-04-28 | 1994-04-28 | ２，２−２置換−１，３−シクロヘキサンジオン誘導体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11357194A JP3523328B2 (ja) | 1994-04-28 | 1994-04-28 | ２，２−２置換−１，３−シクロヘキサンジオン誘導体およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07291888A true JPH07291888A (ja) | 1995-11-07 |
| JP3523328B2 JP3523328B2 (ja) | 2004-04-26 |
Family
ID=14615623
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11357194A Expired - Fee Related JP3523328B2 (ja) | 1994-04-28 | 1994-04-28 | ２，２−２置換−１，３−シクロヘキサンジオン誘導体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3523328B2 (ja) |
-
1994
- 1994-04-28 JP JP11357194A patent/JP3523328B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3523328B2 (ja) | 2004-04-26 |
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