JPH0729024A - 画像形成装置及びその方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 不等間隔の座標系を使って、文字と図形の形
成を、文字との距離相関が適正で、かつ高速に容易に行
なう事ができる文字と図形のレイアウト方式とその装置
を提供することを目的とする。 【構成】 文字の大きさと文字のレイアウトに関する各
種データを基準として、図形のレイアウト位置を決定し
描画する方法とその装置である。ステップＳ１５では、
文字の大きさ情報を入力し、ステップ２〜５では文字の
レイアウト情報を入力し、ステップ６〜１３では、入力
した文字の大きさ情報と文字のレイアウト情報を基準と
して、図形のレイアウトを決定し、文字と図形を描画す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えば文字と図形をレ
イアウトする装置と方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】文字と線や矩形等、図形をレイアウトし
描画させる方式では、まずレイアウトさせる面に対し、
各水平方向と垂直方向を等間隔に分割することにより、
面上に格子状の等しい区画を作ることにより各格子の点
に対する座標系を作り、この座標をベースに図形に対す
る位置を決定する。各格子点は従来、１／１０mm等単位
としてミリ(mm)系やインチ(inch)系など等間隔の距離を
持っている。図４は従来の等間隔の座標系を用いて、文
字列を描画した例である。

【０００３】また、図３は文字列に対し、黒の長方形の
図形を文字列上に描画する理想形を示している。一方、
第５図は、図３に描いた描画図と同じものを図４の等間
隔の座標系を使って描画したものである。図５の図形の
描画では、図３の描画の図形の上限よりも、高い位置ま
で図形が描画されている。これは、等間隔の座標系を使
っているため、その中のいずれかの座標点に拘束される
ためである。また、一般的に、大きさが違う文字の近傍
に図形を描画しようとするときに、適切な拘束点の間隔
を指定することはできない。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】以上説明したように、
一般的に等間隔の座標系を使って、文字と図形を混在さ
せて描画させるとき、座標点の間隔が広い場合は指定し
たい点に描画することができず、拘束点の間隔が狭い場
合には座標系の情報量が増える問題があった。

【０００５】本発明は上記従来例に鑑みてなされたもの
で、不等間隔の座標系を使って、文字と図形の形成を、
文字との距離相関が適正で、かつ高速に容易に行なう事
ができる文字と図形のレイアウト方式とその装置を提供
することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の文字と図形のレイアウト方式は以下の構成
を備える。即ち、文字自身の情報と、その文字のレイア
ウト情報と、図形のレイアウト位置を指定する工程と、
前記指定された文字自身の情報とその文字のレイアウト
情報によって、不等間隔の座標系を生成する工程と、前
記不等間隔の座標系を使って、図形のレイアウトを決め
る工程と、前記決定された図形のレイアウトに従って、
前記文字と前記図形を形成する工程とを備える。また、
別の発明は、文字自身の情報と、その文字のレイアウト
情報と、図形のレイアウト位置を指定する指定手段と、
前記指定された文字自身の情報とその文字のレイアウト
情報によって、不等間隔の座標系を生成する座標系生成
手段と、前記不等間隔の座標系を使って、前記指定され
た図形のレイアウトを決定する決定手段と、前記指定さ
れた文字のレイアウト情報と、前記決定された図形のレ
イアウトに従って、前記文字と前記図形を形成する形成
手段とを備える。

【作用】以上の構成において、指定工程では、文字自身
の情報と、その文字のレイアウト情報と、図形のレイア
ウト位置を指定し、不等間隔の座標系を生成する工程で
は、前記指定された文字自身の情報とその文字のレイア
ウト情報によって、不等間隔の座標系を生成し、図形の
レイアウトを決める工程では、前記不等間隔の座標系を
使って、図形のレイアウトを決め、形成する工程では、
前記決定された図形のレイアウトに従って、前記文字と
前記図形を形成する。また、別の発明は、文字自身の情
報と、その文字のレイアウト情報と、図形のレイアウト
位置を指定手段が指定し、前記指定された文字自身の情
報とその文字のレイアウト情報によって、座標系生成手
段が不等間隔の座標系を生成し、前記不等間隔の座標系
を使って、前記指定された図形のレイアウトを決定手段
が決定し、前記指定された文字のレイアウト情報と、前
記決定された図形のレイアウトに従って、形成手段は前
記文字と前記図形を形成する。

【０００７】

【実施例】図面を参照しながら、本発明の実施例を詳細
に説明する。本実施例では、従来の等間隔の座標系では
なく、文字の大きさと文字のレイアウトに関する各種デ
ータを基準として、図形のレイアウト位置を決定する方
法を説明している。

【０００８】以下、本実施例の説明を図１〜図９を用い
て説明する。

【０００９】図１は、本発明における動作の流れを示す
フローチャートである。図２は、本発明の一実施例であ
る非等間隔の拘束方式が適用される情報処理システムの
構成を示すブロック図である。このシステムは、中央処
理装置（Ｄ３）と主記憶装置（Ｄ４）と、形成装置（Ｄ
２）と、入力装置（Ｄ１）から、その主要部が構成され
ている。中央処理装置（Ｄ３）は、主記憶装置（Ｄ
４）、形成装置（Ｄ２）及び入力装置（Ｄ１）を制御す
る。主記憶装置（Ｄ４）は、この情報処理システムが情
報処理を行なう上で必要な情報を記憶し、必要に応じて
取り出すことができる。形成装置（Ｄ２）は図形や文字
等の処理した結果を形成するもので、例えば、ＣＲＴ装
置や液晶表示装置やプリンタ等があり、入力装置（Ｄ
１）は中央処理装置（Ｄ３）への種々の入力を行なうも
ので、例えば、キーボードやマウス等がある。図３は、
本実施例である非等間隔の拘束方式を適用して描画され
た図である。

【００１０】図１は、本実施例の文字とその文字のレイ
アウトデータを基準として、図形のレイアウトを決めて
描画する手順を示している。以下、各ステップの処理の
説明を行う。

【００１１】ステップＳ１では、入力装置（Ｄ１）から
ユーザコマンドを入力して、文字入力，図形入力，拘束
条件の設定，文字情報の設定など、どの処理を行なうか
を判別する。

【００１２】ステップＳ１４では、入力装置（Ｄ１）か
ら、文字情報を参考にした非等間隔の拘束を行うか否か
の指定を入力し、その指定フラグを主記憶装置（Ｄ４）
に保存する。

【００１３】ステップＳ１５では、入力する文字に関す
る情報、即ち、文字高，文字幅，行間隔，書式（センタ
リング，左寄せ等）等の入力を行ない、それらの情報を
主記憶装置（Ｄ４）に保存する。

【００１４】ステップＳ２では、文字を入力する場合、
その入力する文字位置の指定を入力装置（Ｄ１）から入
力し、主記憶装置（Ｄ４）に保存する。

【００１５】ステップＳ３では、入力装置（Ｄ１）から
文字列を入力し、主記憶装置（Ｄ４）に保存する。ま
た、ステップＳ１５で前もって設定されている文字情報
に従って、形成装置（Ｄ２）に表示する。

【００１６】ステップＳ４では、行頭の文字位置を計算
し、それを主記憶装置（Ｄ４）に保存する。

【００１７】ステップＳ５では、ステップＳ４で保存さ
れた行頭文字位置とステップＳ１５によって設定された
文字情報から、文字の外接枠を決定し、主記憶装置（Ｄ
４）に保存する。図６には、例えば、「東京特許許可
局」の文字列に対する外接枠を設定した例を示してい
る。

【００１８】ステップＳ６から始まるステップは、図形
を入力する場合の処理手順を示している。ステップＳ６
では、入力装置（Ｄ１）から、図形の描画位置を入力す
る。

【００１９】ステップＳ７では、ステップＳ１４で主記
憶装置（Ｄ４）に保存された、文字情報を参考にした拘
束を行うか否かの指定フラグをチェックし、拘束を行う
ように指定されていれば、ステップＳ８へ進み、文字情
報を参考にした拘束を行う一連の処理を行う。また、拘
束を行うように指定されていなければ、ステップＳ１３
へ進み、図形の描画を行う。

【００２０】ステップＳ８では、指定された図形の点座
標が、ステップＳ５で設定された文字の外接枠の中に入
っているかをチェックする。入っていれば、ステップＳ
９に進み、文字情報を参考にした拘束を行う一連の処理
を行う。また、入っていなければ、ステップＳ１３へ飛
び、指定された位置に図形の描画を行う。

【００２１】ステップＳ９では、指定された図形の点座
標がどの行上の位置であるか、ステップＳ１５で設定さ
れた文字情報とステップＳ４で保存された行頭文字位置
より特定する。図７は、この特定する様子を説明するも
のである。ここでは、２行の文字列が配置されている例
を示す。各行には、サイズの違う文字が配置されてい
る。そして、２行目の２つ目の文字枠内に図形の点座標
が指定されていることを示している。

【００２２】ステップＳ１０では、ステップＳ９で特定
された行について、ステップＳ４で保存された行頭文字
位置とステップＳ１５で設定された文字情報から各文字
位置を計算する。

【００２３】ステップＳ１１では、計算された文字位置
とステップＳ６で指定された位置のＸ座標の値及びステ
ップＳ１５で設定された文字情報から、入力した図形の
点座標が拘束されるＸ座標を計算する。ここで、図８
は、入力した図形の点座標が拘束される方法を示したも
のであり、まず、ステップＳ９で指定された行につい
て、文字幅，文字間隔共にＸ座標について１：２：１に
区分しており、その境界線を波線で示す。実線の枠は、
各文字枠を示す。一方、図９は、図８で生成された区分
波線を持つ各文字枠に対し、図形の点座標が入力された
時に、その点が、区分線を基準にして拘束される様子を
示している。ここで拘束される規則を説明する。まず、
文字枠１０１の領域９５に図形の点座標が指定された
時、この点は全てＸ座標９０に拘束される。また、領域
９６に図形の点座標が指定された場合、その領域の中央
点にあたるＸ座標９１に全て拘束される。さらに、領域
９７に図形の点座標が指定された場合、その領域の右端
のＸ座標９２に全て拘束される。一方、文字間隔１０２
では、文字間隔枠９８に図形の点座標が指定された場
合、その左端であるＸ座標９２に全て拘束される。ま
た、文字間隔枠９９に図形の点座標が指定された場合、
その中央点のＸ座標９３に全て拘束される。さらに、文
字間隔枠１００に図形の点座標が指定された場合、その
右端のＸ座標９４に全て拘束される。

【００２４】ステップＳ１２では、ステップＳ１１での
Ｘ座標に関する拘束方法と同様に、Ｙ座標についても、
不図示の分割線を基準にして拘束する。

【００２５】ステップＳ１３では、決定した位置に図形
の描画を行なう。ここで、もし、文字情報を参考にした
拘束が指定されていない場合は、その指定された位置に
図形の描画を行ない、指定されていれば、拘束された座
標に対して図形の描画を行う。

【００２６】以上説明したように、本実施例によれば以
下のような効果が得られる。即ち、図形の描画位置を、
例えば、設定された文字や文字間隔を基準にして決定す
ることができ、いたずらに、描画空間のデイメンジョン
を細かくして情報量を増やすことなく、設定された文字
や文字間隔に対して効果的な位置に容易に図形の描画位
置を設定できるという効果が得られる。

【００２７】（実施例２）次に、本発明の第２の実施例
である非等間隔の拘束方式を説明する。第１の実施例で
は、図形位置を指定する点座標の拘束方法は、レイアウ
トする水平方向と垂直方向共に同じ方法で行ったが、実
施例２では、水平方向は実施例と同様に決定し、垂直方
向は、文字のベースライン位置情報と、文字がレイアウ
トされた行内での最高文字高位置情報や文字の中心位置
情報を用いて、決定する方法について説明する。図１２
は、第２の実施例を説明するための図である。ここで
は、図形の指定点が複数の文字のレイアウト中に与えら
れたとき、対応する拘束点を求めるために用意される水
平・垂直方向の基準線を示している。ここで、文字枠は
実線の四角形で示し、図形の指定点が与えられた時、拘
束点は点線の交点で示している。Ｚ１，Ｚ１′，Ｚ１″
は行分割位置であり、行分割位置は各行のベースライン
位置（Ｚ３，Ｚ３′）と次の行の行内最高文字高位置
（その行内で一番文字高の高い文字の上端位置）（Ｚ
２，Ｚ２′）の中間位置とする。即ち、上段の行のベー
スライン位置Ｚ３と下段の行の行内最高文字高位置Ｚ
２′の中間の位置にある点線が上段の行と下段の行の行
分割位置Ｚ１′である。Ｘ２は文字の左端であり、Ｘ４
は文字の右端である。また、Ｘ１は左側の文字の右端と
注目している文字の左端との中間の位置であり、逆にＸ
５は注目している文字の右端と右側の文字の左端との中
間の位置である。Ｘ３はその文字の中心線である。

【００２８】次に、以上説明した文字に関する情報と文
字のレイアウト情報を使って、図形のレイアウトを決め
描画する処理手順を、図１０と図１１のフローチャート
にしたがって詳細に説明する。

【００２９】まず、図１０のフローチャートから、各ス
テップの処理の説明をする。

【００３０】ステップＳ１００では、入力装置（Ｄ１）
からユーザコマンドを入力して、文字入力，図形入力，
拘束条件の設定，文字情報の設定など、どの処理をおこ
なうかを判別する。

【００３１】ステップＳ１１３では、入力装置（Ｄ１）
から、文字情報を参考にした非等間隔の拘束を行うか否
かの指定を入力し、その指定フラグを主記憶装置（Ｄ
４）に保存する。

【００３２】ステップＳ１１４では、入力する文字に関
する情報、即ち、文字高，文字幅，行間隔，書式（セン
タリング，左寄せ等）等の入力を行ない、それらの情報
を主記憶装置（Ｄ４）に保存する。

【００３３】ステップＳ１０２では、文字を入力する場
合、その入力する文字位置の指定を入力装置（Ｄ１）か
ら入力し主記憶装置（Ｄ４）に保存する。

【００３４】ステップＳ１０３では、入力装置（Ｄ１）
から文字列を入力し、主記憶装置（Ｄ４）に保存する。
また、ステップＳ１１４により設定された文字情報に従
って各文字位置を決定する。この時に、入力された文字
列の各行のベースラインの位置を主記憶装置（Ｄ４）の
一次元の配列Ｍ２に保存し、各行内での最高の文字高位
置を主記憶装置（Ｄ４）の一次元の配列Ｍ３に保存し、
ベースライン位置Ｍ２と行内最高文字高位置Ｍ３から行
分割位置を一次元の配列Ｍ１に保存する。また、文字列
に外接する矩形の位置をメモリに保存する。

【００３５】ステップＳ１０４では、文字の配置に従っ
て、行毎にその行の文字の左端と右端の位置を主記憶装
置（Ｄ４）の２次元の配列Ｍ４に保存する。この２次元
の内第１の次元は、行番号を示し、第２の次元は、その
行での各文字の左端と右端の座標位置を示す。

【００３６】ステップＳ１０５では、文字毎に上端と左
端の位置を主記憶装置（Ｄ４）の３次元の配列Ｍ５に保
存する。

【００３７】ステップＳ１０６では、文字の配置に従っ
て形成装置に入力された文字列を形成する。

【００３８】ステップＳ１０７では、入力装置（Ｄ１）
により図形を描画する点Ｐ（Ｐｘ，Ｐｙ）を指定する。

【００３９】ステップＳ１０８では、ステップＳ１３で
文字情報を参考にした拘束が設定されているかどうかを
チェックする。そして、拘束が設定されていなければ、
ステップＳ１１２へ飛び、指定の位置に図形を描画す
る。拘束が設定されていなければ、ステップＳ１０９へ
進む。

【００４０】ステップＳ１０９では、指定された図形の
点座標が、設定された文字の外接枠の中に入っているか
をチェックする。入っていれば、ステップＳ１１０に進
み、文字情報を参考にした拘束を行う一連の処理を行
う。また、入っていなければ、ステップＳ１１２へ飛
び、指定された位置に図形の描画を行う。

【００４１】ステップＳ１１０では、指定された点Ｐ及
び行分割位置Ｍ１、ベースライン位置Ｍ２、行内での最
高文字高位置Ｍ３、左右端Ｍ４，上下端Ｍ５から、拘束
後の点Ｐ′（Ｐ′ｘ，Ｐ’ｙ）を計算するために、図１
１に示すサブルーチンを呼び出す。

【００４２】ステップＳ１１１では、計算された拘束後
の点Ｐ′の座標をＰに代入する。

【００４３】ステップＳ１１２では、決定した座標位置
に図形の描画を行なう。

【００４４】次に、ステップＳ１１０で、拘束点を求め
る方法の詳細を図１１のフローチャートを用いて説明す
る。

【００４５】図１１のフローチャートは、図１０のステ
ップＳ１１０から呼び出されて実行するサブルーチンの
形式となっている。

【００４６】ステップＳ１１５では、ステップＳ１０７
で指定された点Ｐが、どの行内にあるかを求めるため
に、点ＰのＹ座標Ｐｙが行分割位置の配列Ｍ１の値に対
して Ｍ１[ｙ]＜Ｐｙ＜Ｍ１[ｙ＋１] …式１ となるｙを求める。

【００４７】ステップＳ１１６では、点Ｐがどの文字も
しくは文字間にあるかを求めるために、点ＰのＸ座標Ｐ
ｘが文字の左右端の配列Ｍ４の値に対して、 Ｍ４[ｙ][ｘ]＜Ｐｘ＜Ｍ４[ｙ][ｘ＋１] …式２ となるｘを求める。ここで、求められたｘが偶数の場
合、Ｓ１０７で指定した点Ｐは文字を指定した事にな
り、奇数の場合、文字間を指定したことになる。図９
は、Ｍ４配列の値と各文字、文字間隔との対応と、図形
の点が与えられた時、どの文字枠、あるいは文字間隔に
指定されたかを判断する方法の理解を助けるものであ
る。図９で、２つの文字枠と点Ｂが指定された場合、点
ＢのＸ座標ＢｘはＭ４[ｙ][１]とＭ４[ｙ][２]の間にあ
り、ｘは奇数なので点Ｂは文字間を指定した事になる。

【００４８】ステップＳ１１７では、ステップＳ１０７
で指定した点ＰがＸ座標について、どの点に拘束される
かを決定するために以下の手順の計算を行う。

【００４９】まず、文字枠あるいは、文字間を４等分し
た時の距離αを次式で求める。

【００５０】 α＝（Ｍ４[ｙ][ｘ＋１]−Ｍ４[ｙ][ｘ]）/４ …式３ 次に、Ｘが偶数の場合は、文字枠の左端から点Ｐまでの
距離を計算し、この値をＰＤとする。また、Ｘが奇数の
場合は、文字枠の右端から、点Ｐまでの距離を計算し、
この値をＰＤとする。

【００５１】さらに、点Ｐが文字枠あるいは、文字間の
４等分された区間のどの区間に入るか求めるために、次
式を計算する。

【００５２】 β＝ＩＮＴ（ＰＤ／α） …式４ ここで、ＩＮＴは（）内の計算結果の整数部を取り出す
関数である。

【００５３】ステップＳ１１８では、式４の結果のβ値
によって、拘束点の処理を選択する。β＝０であれば、
ステップＳ１１９の処理で拘束Ｘ座標点を決める。ま
た、β＝１または２であれば、ステップＳ１２０の処理
で拘束Ｘ座標点を決める。また、β＝３であれば、ステ
ップＳ１２１の処理で拘束Ｘ座標点を決める。

【００５４】ステップＳ１１９では、領域２２０、即
ち、文字の左端２００と区分線２０１間の領域か、ある
いは、領域２２１、即ち、文字の右端２０４と区分線２
０５間の領域に点Ｐが存在すると判定できる。ここで、
区分線２０１は文字の中心線２０２と文字の左端２００
間の２等分線である。また、区分線２０５は文字間の中
心線２０６と文字の右端２０４間の２等分線である。従
って、拘束後の点Ｐ′のＸ座標Ｐ′ｘを次式で求める。

【００５５】Ｐ′ｘ＝Ｍ４［ｙ］［ｘ］ …式５ となる。

【００５６】ステップＳ１２０では、β＝１の場合は、
領域２２２、即ち、文字間の中心線２０２と区分線２０
１間の領域か、あるいは、領域２２３、即ち、文字間の
中心線２０６と区分線２０５間の領域に点Ｐが存在する
と判定できる。従って、拘束後の点Ｐ′のＸ座標Ｐ′ｘ
を次式で求める。

【００５７】 Ｐ′ｘ＝（Ｍ４[ｙ][ｘ＋１]−Ｍ４[ｙ][ｘ]）/２ …式６ となる。

【００５８】また、β＝２の場合、領域２２４、即ち、
文字の中心線２０２と区分線２０３間の領域か、あるい
は、領域２２５、即ち、文字間の中心線２０６と区分線
２０８間の領域に点Ｐが存在すると判定できる。ここ
で、区分線２０３は文字の中心線２０２と文字の右端２
０４間の２等分線である。また、区分線２０８は文字間
の中心線２０６と文字の左端２０７間の２等分線であ
る。従って、拘束後の点Ｐ′のＸ座標Ｐ′ｘを式６で求
める。

【００５９】ステップＳ１２１では、領域２２６、即
ち、文字の右端２０４と区分線２０３間の領域か、ある
いは、領域２２７、即ち、文字の左端２０７と区分線２
０８間の領域に点Ｐが存在すると判定できる。従って、
拘束後の点Ｐ′のＸ座標Ｐ′ｘは次式で求められる。

【００６０】Ｐ′ｘ＝Ｍ４[ｙ][ｘ＋１] …式７ ステップＳ１２２以降は、拘束後の点Ｐ′のＹ座標Ｐ′
ｙを求めるために処理である。

【００６１】ステップＳ１２２では、拘束後の点Ｐ′の
Ｙ座標Ｐ′ｙを求めるために、たとえ文字間を指定され
た点Ｐが示していても、どの文字の近傍を示しているの
かを判定する。そのため、ステップＳ１１６により求め
られたｘが偶数かどうか判断する。そして、偶数であれ
ば、指定された点Ｐは文字内を指定していた事になり、
ステップＳ１２６へ進む。また、ｘが偶数でなければ、
指定された点Ｐは文字間を指定していた事になり、ステ
ップＳ１２３へ進む。

【００６２】ステップＳ１２４では、その行で、左から
何番目の文字枠に点Ｐが指定されたかをチェックする。
即ち、各文字枠は左端座標と右端座標のペアで記述され
ているために、次式を計算することで、順番の数ｚを求
める。

【００６３】ｚ＝ｘ／２ …式８ ステップＳ１２３では、文字間に指定された点Ｐが、左
右どちらの文字に近いかを、βを用いて判断する。βが
２未満であれば、文字間の中心線２０６と左側の文字の
右端２０４間に、点Ｐが存在することになるので、ｚ順
番の文字近傍にあると判断し、ステップＳ１２４へ進
む。また、βが２以上であれば、右側の文字の左端２０
７と文字間の中心線２０６間に、点Ｐが存在することに
なり、ステップＳ１２５へ進む。

【００６４】ステップＳ１２５では、その行で、左から
何番目の文字枠に近いところに、点Ｐが指定されたか、
即ち、次式を計算することで順番の数ｚを求める。

【００６５】ｚ＝（ｘ＋１）／２ …式９ ステップＳ１２６では、ｚを使って、行分割位置を示す
Ｍ１[ｙ]とＭ１[ｙ＋１]と、ベースライン位置を示すＭ
２[ｙ]と、行内での最高文字高位置を示すＭ３[ｙ]と、
文字の下端を示すＭ５[ｙ][ｚ][０]と、文字の中心位置
を示す(Ｍ５[ｙ][ｚ][１]−Ｍ５[ｙ][ｚ][０])/２と、
文字の上端を示すＭ５[ｙ][ｚ][１]と、の中で点ＰのＹ
座標値と一番近いものを選択し、拘束後の点Ｐ′のＹ座
標Ｐ′ｙとする。

【００６６】尚、本発明は、複数の機器から構成される
システムに適用しても、１つの機器から成る装置に適用
しても良い。また、本発明はシステム或は装置にプログ
ラムを供給することによって達成される場合にも適用で
きることは言うまでもない。

【００６７】以上説明したように、本実施例によれば以
下のような効果が得られる。即ち、図形の描画位置を、
例えば、設定された文字や文字間隔を基準にして決定す
ることができ、いたずらに、描画空間のデイメンジョン
を細かくして情報量を増やすことなく、設定された文字
や文字間隔に対して効果的な位置に容易に図形の描画を
高速に行うことができる。

【００６８】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、不
等間隔の座標系を使って、文字と図形の形成を、文字と
の距離相関が適正で、かつ高速に容易に行なう事ができ
る文字と図形のレイアウト方式とその装置を提供するこ
とができる。

【００６９】

【図面の簡単な説明】

【図１】第１の実施例による拘束点の決定方式を示すフ
ローチャートの図である。

【図２】第１と第２の実施例による拘束点の決定方式を
実行するシステム構成の概念図である。

【図３】第１の実施例で、文字情報を基準にした非等間
隔の拘束の決定方式によって、文字近傍に描画を行なっ
た例を説明する図である。

【図４】小さな文字に合わせて従来の等間隔の拘束での
決定方式で、文字を描画した例を説明する例である。

【図５】図４の拘束点に従って、図形を描画した例を示
す図である。

【図６】文字列の外接矩形を形成した例を示す図であ
る。

【図７】大きさの違う文字が複数行ある例で、文字は四
角形枠で表現して、点線は行と行の区切りを表している
図である。

【図８】図７をもとにＸ座標について文字幅，文字間隔
を共に１：２：１で区分した例で、縦線の点線は区分さ
れた区切りを表すことを示す図である。

【図９】図８をもとにＸ座標において指定した点がどの
位置に拘束されるかを示し、×は指定した点であり、■
は拘束点のＸ座標であることを示す図である。

【図１０】第２の実施例で、図形の拘束点を求める処理
を示すフローチャート図である。

【図１１】第２の実施例で、図形の拘束点を求める処理
を示すフローチャート図である。

【図１２】第２の実施例で、配置された文字を基準にし
て、図形の拘束点を決めるための基準線を示す図であ
る。

【図１３】各文字と、その位置を格納する各配列との対
応を示す図である。

【図１４】水平軸に関して、図形の指定点の拘束位置を
決めるため、文字と文字間の間隔を各領域に分割したこ
とを示す図である。

【符号の説明】

Ｄ１ 入力装置 Ｄ２ 形成装置 Ｄ３ 中央処理演算装置 Ｄ４ 主記憶装置

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 文字自身の情報と、その文字のレイアウ
   ト情報と、図形のレイアウト位置を指定する工程と、 前記指定された文字自身の情報とその文字のレイアウト
   情報によって、不等間隔の座標系を生成する工程と、 前記不等間隔の座標系を使って、図形のレイアウトを決
   める工程と、 前記決定された図形のレイアウトに従って、前記文字と
   前記図形を形成する工程と、を備えることを特徴とする
   画像形成方法。
2. 【請求項２】 前記不等間隔の座標系を生成する工程
   は、 レイアウトされた文字の文字サイズと文字間隔と行間隔
   の少なくともいずれかによって、不等間隔の座標系を生
   成し、 前記図形のレイアウトを決める工程は、 前記指定された図形のレイアウト位置を前記不等間隔の
   座標系に変換して、座標データを決定することを特徴と
   する請求項１に記載の画像形成方法。
3. 【請求項３】 文字自身の情報と、その文字のレイアウ
   ト情報と、図形のレイアウト位置を指定する指定手段
   と、 前記指定された文字自身の情報とその文字のレイアウト
   情報によって、不等間隔の座標系を生成する座標系生成
   手段と、 前記不等間隔の座標系を使って、前記指定された図形の
   レイアウトを決定する決定手段と、 前記指定された文字のレイアウト情報と、前記決定され
   た図形のレイアウトに従って、前記文字と前記図形を形
   成する形成手段と、を備えることを特徴とする画像形成
   装置。
4. 【請求項４】 前記座標系生成手段は、 レイアウトされた文字の文字サイズと文字間隔、行間隔
   の少なくともいずれかによって、前記不等間隔の座標系
   を生成し、 前記図形のレイアウトを決定する決定手段は、 前記指定された図形のレイアウト位置を前記不等間隔の
   座標系に変換して、前記図形の座標を決定することを特
   徴とする請求項３に記載の画像形成装置。