JPH07286135A - シリカ系被膜形成用組成物 - Google Patents
シリカ系被膜形成用組成物Info
- Publication number
- JPH07286135A JPH07286135A JP6078597A JP7859794A JPH07286135A JP H07286135 A JPH07286135 A JP H07286135A JP 6078597 A JP6078597 A JP 6078597A JP 7859794 A JP7859794 A JP 7859794A JP H07286135 A JPH07286135 A JP H07286135A
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- film
- silica
- tetramethoxysilane
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 安定性、膜特性に優れたシリカ系被膜形成用
組成物を得る。 【構成】 A.モノマー含有率が1重量%であるテトラ
メトキシシランの部分加水分解物 B.脂肪族一価のアルコール C.水 D.pKaが2.0を越えてかつ5.5以下の有機カル
ボン酸を必須成分とするシリカ系被膜形成用組成物。
組成物を得る。 【構成】 A.モノマー含有率が1重量%であるテトラ
メトキシシランの部分加水分解物 B.脂肪族一価のアルコール C.水 D.pKaが2.0を越えてかつ5.5以下の有機カル
ボン酸を必須成分とするシリカ系被膜形成用組成物。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はシリカ系被膜形成用組成
物に関するものであり、組成物として保存安定性が良好
で、これを用いることにより厚膜であり透明でクラック
がなく表面硬度が高いシリカ被膜が得られる。
物に関するものであり、組成物として保存安定性が良好
で、これを用いることにより厚膜であり透明でクラック
がなく表面硬度が高いシリカ被膜が得られる。
【0002】
【従来の技術】各種シリケートを原料にゾルゲル法を用
いて樹脂、金属やセラミックをはじめ各種基材表面にシ
リカ被膜を形成することが各分野で行なわれている。こ
れらは、基盤の傷発生の防止、電気の絶縁、水分や各種
薬品による侵食防止などを主な目的とする。シラン化合
物を含む溶液の基盤上への塗布・造膜は、含浸法、ディ
ッピング法、スピンコーティング法、スプレー法などで
行なわれる。
いて樹脂、金属やセラミックをはじめ各種基材表面にシ
リカ被膜を形成することが各分野で行なわれている。こ
れらは、基盤の傷発生の防止、電気の絶縁、水分や各種
薬品による侵食防止などを主な目的とする。シラン化合
物を含む溶液の基盤上への塗布・造膜は、含浸法、ディ
ッピング法、スピンコーティング法、スプレー法などで
行なわれる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、シラン
系の塗布液は保存性と両立のため分子量の制御が難し
い。そのため低分子量で安定性を優先し膜厚は重ね塗り
することにより回避してきた。
系の塗布液は保存性と両立のため分子量の制御が難し
い。そのため低分子量で安定性を優先し膜厚は重ね塗り
することにより回避してきた。
【0004】
【課題を解決するための手段】そこで本発明者らはこれ
らの従来の問題点に対し鋭意検討した結果、シリカ系被
膜形成用塗布液として下記の成分を必須成分とてなる組
成物が、保存安定性に優れ、これを用いることにより厚
膜であり透明でクラックがなく表面硬度の高いシリカ被
膜が得られることを見だし、本願発明に到達した。
らの従来の問題点に対し鋭意検討した結果、シリカ系被
膜形成用塗布液として下記の成分を必須成分とてなる組
成物が、保存安定性に優れ、これを用いることにより厚
膜であり透明でクラックがなく表面硬度の高いシリカ被
膜が得られることを見だし、本願発明に到達した。
【0005】(A)モノマー含有率が1重量%以下であ
るテトラメトキシシランの部分加水分解物 (B)脂肪族一価のアルコール (C)水 (D)pKaが2.0を超えてかつ5.5以下の有機カ
ルボン酸 以下に本発明の詳細を説明する。
るテトラメトキシシランの部分加水分解物 (B)脂肪族一価のアルコール (C)水 (D)pKaが2.0を超えてかつ5.5以下の有機カ
ルボン酸 以下に本発明の詳細を説明する。
【0006】本発明で用いられるA成分は、加水分解反
応自体は公知の方法によることができ、例えば、上記テ
トラメトキシシランに所定量の水を加えて酸触媒存在下
で、副生するメタノールを留去しながら通常、室温から
100℃で反応させる。この反応によりメトキシシラン
は加水分解し、さらにこれにつづく縮合反応によりヒド
ロキシル基を分子中に2以上有する液状の分解物(平均
重合度2〜8、好ましくは3〜6)として得られる。加
水分解の程度は、使用する水の量により適宜調節するこ
とができるが、本発明においては通常40〜90%程
度、さらに好ましくは60〜80%程度から選ばれる。
こうして得られたテトラメトキシシランのオリゴマーに
はモノマーが通常2〜10%程度含有されている。さら
に、オリゴマーを煮沸し、モノマーを気化させ不活性ガ
スとともにモノマーを除去することにより、モノマー含
量が1%以下、好ましくは0.3%以下にする。もし、
モノマーが多量に含有されていると塗布液としての保存
安定性に欠け、保存中に増粘し、塗布工程で厚みが均一
な膜の塗布が困難となるほか、さらに増粘すると塗膜の
形成自体が困難となる。
応自体は公知の方法によることができ、例えば、上記テ
トラメトキシシランに所定量の水を加えて酸触媒存在下
で、副生するメタノールを留去しながら通常、室温から
100℃で反応させる。この反応によりメトキシシラン
は加水分解し、さらにこれにつづく縮合反応によりヒド
ロキシル基を分子中に2以上有する液状の分解物(平均
重合度2〜8、好ましくは3〜6)として得られる。加
水分解の程度は、使用する水の量により適宜調節するこ
とができるが、本発明においては通常40〜90%程
度、さらに好ましくは60〜80%程度から選ばれる。
こうして得られたテトラメトキシシランのオリゴマーに
はモノマーが通常2〜10%程度含有されている。さら
に、オリゴマーを煮沸し、モノマーを気化させ不活性ガ
スとともにモノマーを除去することにより、モノマー含
量が1%以下、好ましくは0.3%以下にする。もし、
モノマーが多量に含有されていると塗布液としての保存
安定性に欠け、保存中に増粘し、塗布工程で厚みが均一
な膜の塗布が困難となるほか、さらに増粘すると塗膜の
形成自体が困難となる。
【0007】本発明のB成分の脂肪族一価のアルコール
は特に限定されるものではなく、A成分のメトキシシラ
ンのオリゴマーを均一に溶解させうるものであればよ
い。具体的には、メタノール、エタノール、イソプロピ
ルアルコール、ブタノール、あるいは2−メトキシエタ
ノール、2−エトキシエタノール、2−(2−エトキシ
エトキシ)エタノール、2−(2−メトキシエトキシ)
エタノール、2−ブトキシエタノール、2−(2−ブト
キシエトキシ)エタノール等が挙げられる。これらのア
ルコールはA成分であるメトキシシランの加水分解物の
溶解性に優れている。B成分として例示した上記の溶媒
の中から1種類または2種類以上を混合して用いる以外
に、これらの溶媒に一般的な他の溶媒を混合して用いて
もよい。他の溶媒として具体的には、エチルエーテル、
ブチルエーテル等のエーテル類、エチレングリコール、
プロピレングリコール等の多価アルコール類、アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等の
ケトン類、酢酸エチル、アセト酢酸エチル等のエステル
類が挙げられる。ただし、脂肪族一価のアルコールに対
するこれらの溶媒の使用量は、得られる膜の均一性の面
からアルコール100重量部に対し50重量部以下とす
ることが好ましい。B成分のA成分に対する好適な量
は、A成分100重量部に対し溶媒50〜1000重量
部が好ましい。溶媒量が50重量部以下の場合、液の基
材への展開性が悪く、厚みが均一な塗布が困難なものと
なる。一方、溶媒量が1000重量部より多いと、極端
に厚みが小さい膜しか得られず、さらにリコートするな
どの必要性が生じる。
は特に限定されるものではなく、A成分のメトキシシラ
ンのオリゴマーを均一に溶解させうるものであればよ
い。具体的には、メタノール、エタノール、イソプロピ
ルアルコール、ブタノール、あるいは2−メトキシエタ
ノール、2−エトキシエタノール、2−(2−エトキシ
エトキシ)エタノール、2−(2−メトキシエトキシ)
エタノール、2−ブトキシエタノール、2−(2−ブト
キシエトキシ)エタノール等が挙げられる。これらのア
ルコールはA成分であるメトキシシランの加水分解物の
溶解性に優れている。B成分として例示した上記の溶媒
の中から1種類または2種類以上を混合して用いる以外
に、これらの溶媒に一般的な他の溶媒を混合して用いて
もよい。他の溶媒として具体的には、エチルエーテル、
ブチルエーテル等のエーテル類、エチレングリコール、
プロピレングリコール等の多価アルコール類、アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等の
ケトン類、酢酸エチル、アセト酢酸エチル等のエステル
類が挙げられる。ただし、脂肪族一価のアルコールに対
するこれらの溶媒の使用量は、得られる膜の均一性の面
からアルコール100重量部に対し50重量部以下とす
ることが好ましい。B成分のA成分に対する好適な量
は、A成分100重量部に対し溶媒50〜1000重量
部が好ましい。溶媒量が50重量部以下の場合、液の基
材への展開性が悪く、厚みが均一な塗布が困難なものと
なる。一方、溶媒量が1000重量部より多いと、極端
に厚みが小さい膜しか得られず、さらにリコートするな
どの必要性が生じる。
【0008】本発明のC成分の水はA成分のメトキシシ
ランに残存するメトキシ基の加水分解反応を進行させる
ために必要である。水の必要量は原料として用いるA成
分そのものの残りのメトキシ基の加水分解率に応じて異
なるものであるが、加水分解率100%当量に対し、
0.5倍量以上が好ましい。もし、水の量が少ない場合
には、塗布後に高温焼成して得られる膜の極端に厚みが
小さくなるばかりでなく、膜表面の平坦性が著しく損な
われるなどの問題が生じる。
ランに残存するメトキシ基の加水分解反応を進行させる
ために必要である。水の必要量は原料として用いるA成
分そのものの残りのメトキシ基の加水分解率に応じて異
なるものであるが、加水分解率100%当量に対し、
0.5倍量以上が好ましい。もし、水の量が少ない場合
には、塗布後に高温焼成して得られる膜の極端に厚みが
小さくなるばかりでなく、膜表面の平坦性が著しく損な
われるなどの問題が生じる。
【0009】本発明のD成分のpKaが2.0を超えて
かつ5.5以下の有機カルボン酸は、A成分のメトキシ
シランに残存するメトキシ基の加水分解反応の進行とそ
れに続く縮合・硬化反応に必要な触媒である。pKaが
2.0を超えてかつ5.5以下の有機カルボン酸でアル
コール/水系溶媒に溶解するものであれば特に限定され
るものではないが、具体的には、フマル酸、酢酸、ピバ
リン酸等が挙げられる。一般にシリケートオリゴマーの
加水分解および縮合反応の触媒には、有機カルボン酸の
以外の酸または塩基触媒の使用が可能であるが、特にp
Kaが2.0を超えてかつ5.5以下の有機カルボン酸
は他の触媒に比べて被膜の厚みの点で優れている。好ま
しい添加量はA成分のメトキシシラン100重量部に対
して0.3重量部以上である。D成分の量がこれ未満の
組成で被膜を形成すると、得られる膜の厚みは極端に小
さいものとなる。
かつ5.5以下の有機カルボン酸は、A成分のメトキシ
シランに残存するメトキシ基の加水分解反応の進行とそ
れに続く縮合・硬化反応に必要な触媒である。pKaが
2.0を超えてかつ5.5以下の有機カルボン酸でアル
コール/水系溶媒に溶解するものであれば特に限定され
るものではないが、具体的には、フマル酸、酢酸、ピバ
リン酸等が挙げられる。一般にシリケートオリゴマーの
加水分解および縮合反応の触媒には、有機カルボン酸の
以外の酸または塩基触媒の使用が可能であるが、特にp
Kaが2.0を超えてかつ5.5以下の有機カルボン酸
は他の触媒に比べて被膜の厚みの点で優れている。好ま
しい添加量はA成分のメトキシシラン100重量部に対
して0.3重量部以上である。D成分の量がこれ未満の
組成で被膜を形成すると、得られる膜の厚みは極端に小
さいものとなる。
【0010】本発明は上記A〜Dの4成分を主成分とす
るが、その配合方法は室温でアルコールを含む溶媒にテ
トラメトキシシランの部分加水分解物を溶解した後、次
いで水、有機カルボン酸を添加するのが一般的である。
こうして得られた本発明の組成物を各種塗布法にてセラ
ミック、金属等の基材に造膜し、次いで、溶媒を揮発後
に400℃以上で加熱硬化することで、硬化に優れたシ
リカ被膜を得ることができる。
るが、その配合方法は室温でアルコールを含む溶媒にテ
トラメトキシシランの部分加水分解物を溶解した後、次
いで水、有機カルボン酸を添加するのが一般的である。
こうして得られた本発明の組成物を各種塗布法にてセラ
ミック、金属等の基材に造膜し、次いで、溶媒を揮発後
に400℃以上で加熱硬化することで、硬化に優れたシ
リカ被膜を得ることができる。
【0011】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳細に説
明する、 (合成例)攪拌機と還流用コンデンサーおよび温度計を
つけた500mlの3つ底フラスコに、テトラメトキシ
シラン234gとメタノール74gを加えて混合した後
に、0.05%塩酸22.2gを加え、液温65℃で2
時間加水分解反応を行なった。
明する、 (合成例)攪拌機と還流用コンデンサーおよび温度計を
つけた500mlの3つ底フラスコに、テトラメトキシ
シラン234gとメタノール74gを加えて混合した後
に、0.05%塩酸22.2gを加え、液温65℃で2
時間加水分解反応を行なった。
【0012】ついでコンデンサーを抽出管に取り替え、
液温が150℃になるまで昇温し、メタノールで抽出さ
せさらに150℃、3時間加熱し縮合を行なった。この
様にして加水分解物を得た。重合度は3〜6で一分子中
のヒドロキシル基は10以上であった。このテトラメト
キシシランオリゴマー中のモノマー量は5%であった。
引き続き、100〜150℃に加熱したジャケットにテ
トラメトキシシランオリゴマーで煮沸させて気化したモ
ノマーを不活性ガスとともに系外に排出し、モノマー量
が0.2%であるテトラメトキシシラン部分加水分解物
Aを得た。
液温が150℃になるまで昇温し、メタノールで抽出さ
せさらに150℃、3時間加熱し縮合を行なった。この
様にして加水分解物を得た。重合度は3〜6で一分子中
のヒドロキシル基は10以上であった。このテトラメト
キシシランオリゴマー中のモノマー量は5%であった。
引き続き、100〜150℃に加熱したジャケットにテ
トラメトキシシランオリゴマーで煮沸させて気化したモ
ノマーを不活性ガスとともに系外に排出し、モノマー量
が0.2%であるテトラメトキシシラン部分加水分解物
Aを得た。
【0013】実施例1 エタノール62.1gに上記合成例により得られたテト
ラメトキシシランの部分加水分解物A31.0gを混合
し、室温下で攪拌し均一に溶解させた。これに水6.6
gとフマル酸(pKa=3.02)0.31gをこの順
序で加え、フマル酸が溶解するまでさらに攪拌してシリ
カ系被膜形成用塗布液の組成物を得た。この溶液は23
℃で30日放置してもゲル化することはなかった。この
組成物にガラスを漬けた後、23℃、相対湿度55%で
ガラスを300mm/minで引き上げ120℃の熱風
オーブンにて2分間溶媒を揮発させた後、さらに熱風オ
ーブンにて450℃、30分加熱硬化した。膜は透明で
クラックは見あたらなかった。得られた膜の特性につい
て表1に示す。
ラメトキシシランの部分加水分解物A31.0gを混合
し、室温下で攪拌し均一に溶解させた。これに水6.6
gとフマル酸(pKa=3.02)0.31gをこの順
序で加え、フマル酸が溶解するまでさらに攪拌してシリ
カ系被膜形成用塗布液の組成物を得た。この溶液は23
℃で30日放置してもゲル化することはなかった。この
組成物にガラスを漬けた後、23℃、相対湿度55%で
ガラスを300mm/minで引き上げ120℃の熱風
オーブンにて2分間溶媒を揮発させた後、さらに熱風オ
ーブンにて450℃、30分加熱硬化した。膜は透明で
クラックは見あたらなかった。得られた膜の特性につい
て表1に示す。
【0014】実施例2 実施例1で使用したフマル酸の代わりにギ酸(pKa=
3.75)を用いた以外は実施例1と同じ様に液を作製
した。膜は透明でクラックは見あたらなかった。得られ
た膜の特性について表1に示す。
3.75)を用いた以外は実施例1と同じ様に液を作製
した。膜は透明でクラックは見あたらなかった。得られ
た膜の特性について表1に示す。
【0015】実施例3 実施例1で使用したフマル酸の代わりにコハク酸(pK
a=4.00)を用いた以外は実施例1と同じ様に液を
作製した。膜は透明でクラックは見あたらなかった。得
られた膜の特性について表1に示す。
a=4.00)を用いた以外は実施例1と同じ様に液を
作製した。膜は透明でクラックは見あたらなかった。得
られた膜の特性について表1に示す。
【0016】実施例4 実施例1で使用したフマル酸の代わりに酢酸(pKa=
4.75)を用いた以外は実施例1と同じ様に液を作製
した。膜は透明でクラックは見あたらなかった。得られ
た膜の特性について表1に示す。
4.75)を用いた以外は実施例1と同じ様に液を作製
した。膜は透明でクラックは見あたらなかった。得られ
た膜の特性について表1に示す。
【0017】比較例1 合成例に示したテトラメトキシシランの部分加水分解物
に関し、加水分解および縮合反応後にモノマーを系外に
排出しない、モノマーを5%含むオリゴマーをテトラメ
トキシシランの部分加水分解物の代わりに用いた以外は
実施例1と同じ条件で配合した。調液後25日で増粘度
が認められ、実施例と同じ条件で造膜できなかった。
に関し、加水分解および縮合反応後にモノマーを系外に
排出しない、モノマーを5%含むオリゴマーをテトラメ
トキシシランの部分加水分解物の代わりに用いた以外は
実施例1と同じ条件で配合した。調液後25日で増粘度
が認められ、実施例と同じ条件で造膜できなかった。
【0018】比較例2 テトラメトキシシランの部分加水分解物の代わりに、テ
トラエトキシシランの部分加水分解物を用いたこと以外
は実施例1と同じ条件で調液し、組成物を得た。膜は透
明でクラックは見あたらなかった。得られた膜の特性に
ついて表1に示す。
トラエトキシシランの部分加水分解物を用いたこと以外
は実施例1と同じ条件で調液し、組成物を得た。膜は透
明でクラックは見あたらなかった。得られた膜の特性に
ついて表1に示す。
【0019】比較例3 2−エトキシエタノール66.7gにテトラメトキシシ
ラン部分加水分解物A33.3gを溶解し、水を加えず
に酢酸0.34gを加えた以外は実施例と同じ条件で調
液し、組成物を得た。実施例1と同様に被膜を形成し
た。膜の厚みは低くかつむらが大きかった。得られた膜
の特性について表1に示す。
ラン部分加水分解物A33.3gを溶解し、水を加えず
に酢酸0.34gを加えた以外は実施例と同じ条件で調
液し、組成物を得た。実施例1と同様に被膜を形成し
た。膜の厚みは低くかつむらが大きかった。得られた膜
の特性について表1に示す。
【0020】比較例4 フマル酸の代わりにヒドラジン(pKa=7.97)を
同量用いた以外は実施例1と同条件で調液したところ、
4成分混合物1時間で液が増粘、白濁してしまい、透明
で均一な厚みの膜は得られなかった。
同量用いた以外は実施例1と同条件で調液したところ、
4成分混合物1時間で液が増粘、白濁してしまい、透明
で均一な厚みの膜は得られなかった。
【0021】
【表1】 (1)鉛筆硬度はJIS K5651に準拠した。表か
らも明らかなように本発明の組成物を用いることによ
り、厚膜であり透明でクラックがなく表面硬度の高いシ
リカ被膜が得られる。
らも明らかなように本発明の組成物を用いることによ
り、厚膜であり透明でクラックがなく表面硬度の高いシ
リカ被膜が得られる。
【0022】
【発明の効果】本発明により、組成物として保存安定性
が良好で、これを用いることにより厚みの厚膜であり透
明でクラックがなく表面硬度の高いシリカ被膜が得られ
る。
が良好で、これを用いることにより厚みの厚膜であり透
明でクラックがなく表面硬度の高いシリカ被膜が得られ
る。
Claims (1)
- 【請求項1】 (A)モノマー含有率が1重量%以下で
あるテトラメトキシシランの部分加水分解物 (B)脂肪族一価のアルコール (C)水 及び (D)pKaが2.0を超えてかつ5.5以下の有機カ
ルボン酸 を必須成分とするシリカ系被膜形成用組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6078597A JPH07286135A (ja) | 1994-04-18 | 1994-04-18 | シリカ系被膜形成用組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6078597A JPH07286135A (ja) | 1994-04-18 | 1994-04-18 | シリカ系被膜形成用組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07286135A true JPH07286135A (ja) | 1995-10-31 |
Family
ID=13666316
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6078597A Pending JPH07286135A (ja) | 1994-04-18 | 1994-04-18 | シリカ系被膜形成用組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07286135A (ja) |
-
1994
- 1994-04-18 JP JP6078597A patent/JPH07286135A/ja active Pending
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
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