JPH07282467A - 光記録媒体及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 記録と消去とを繰り返す書換型光記録媒体に
おいて、ピット消し残りによる記録特性劣化を生じない
光記録媒体及びその製造方法を提供する。 【構成】 トラッキング領域とトラッキング領域との間
に記録領域が挟まれてなる記録層を有する光記録媒体に
おいて、前記記録領域が記録光に対する感度が異なる少
なくとも２種の記録領域からなり、記録光に対する感度
の高い第１記録領域が記録光に対する感度が低い第２記
録領域に挟まれ、且つ第１記録領域の幅が記録光のビー
ムスポット径よりも小さいことを特徴とする光記録媒
体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、光記録媒体とその製造
方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、光記録媒体の製造方法は、基板上
にフォーマッティングを行い、その上に、塗布、界面重
合法、蒸着法、スパッタ法、ＬＢ法等の手段により、吸
収層、反射層等の記録層、保護層及びその他各種層を積
層する方法が行われていた。

【０００３】しかしながら、これらの方法は、使用目的
に応じて基板にフォーマッティングを行い、任意に選択
した記録層を有する光記録媒体を製造するためには、個
別の積層工程により各媒体を形成する必要があった。

【０００４】このような煩雑さを解消する方法として、
物性常数の異なる２つ以上の層を、積層してなる積層体
を積層面に対して非平行方向に切断して記録層とする光
記録媒体の製造方法が特開昭６２−２８１１３５号に提
案されている。この提案の中ではトラック層／記録層／
トラック層の順で繰り返し積層した後、切断面が積層面
に対して非平行になるように切り出された切断片を記録
層とすることが記載されている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、記録層
の平面がトラック層／記録層／トラック層の繰り返しに
なっている従来の光記録媒体を使用して、記録及び消去
を繰り返す書換型記録を行うと、記録されたピットの両
脇部に消し残りが生じ、これが記録特性の劣化を招く、
という問題があった。

【０００６】本発明は、上記従来例に鑑みて、記録と消
去とを繰り返す書換型光記録媒体において、記録ピット
の消し残りによる記録特性劣化がない光記録媒体及びそ
の製造方法を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者は上記目的を達
成するため鋭意研究を行い、前記特開昭６２−２８１１
３５号に係る発明を改良して、トラック層とトラック層
とに挟まれる記録層の構成を新規なものとすることによ
り本発明を完成するに至った。

【０００８】即ち、本発明は、トラッキング領域とトラ
ッキング領域との間に記録領域が挟まれてなる記録層を
有する光記録媒体において、前記記録領域が記録光に対
する感度が異なる少なくとも２種の記録領域からなり、
記録光に対する感度の高い第１記録領域が記録光に対す
る感度が低い第２記録領域に挟まれ、且つ第１記録領域
の幅が記録光のビームスポット径よりも小さいことを特
徴とする光記録媒体である。

【０００９】また本発明は、トラッキング層、記録光に
対する感度の低い第２記録層、記録光に対する感度の高
い第１記録層、前記第２記録層及びトラッキング層を順
次積層してなるユニットの一又は繰り返しからなる積層
体を形成し、積層面に対して非平行に切断して記録層薄
片を取り出し、この記録層薄片を基板に接着して記録層
を形成する光記録媒体の製造方法である。

【００１０】さらに本発明の製造方法は、基板に接着さ
れた記録層上に、反射層を蒸着し、該反射層上に保護層
を接着することも含むものである。

【００１１】

【作用】本発明において、「記録光に対する感度」の高
低は第１記録層（第１記録領域）と第２記録層（第２記
録領域）との間における相対的なものであり、「感度の
高い第１記録層（第１記録領域）」とは、第２記録層
（第２記録領域）よりも感度が高く光照射によって選択
的に第１記録層（第１記録領域）が変化するに十分な感
度であればよい。「感度の低い第２記録層（第２記録領
域）」とは、第１記録層（第１記録領域）よりも感度が
低く、第１記録層（第１記録領域）が光照射により変化
するときに変化しない感度であればよい。

【００１２】また、本発明において「記録光」とは記
録、再生又は消去に利用される光を意味する。

【００１３】以下、図面に基づいて、本発明を説明す
る。

【００１４】図１は本発明に係る製造方法の概要を示す
工程図である。本発明においては、まず、トラッキング
層２上に第２記録層１ｂ、第１記録層１ａ、第２記録層
１ｂ、トラッキング層２を順次積層し、必要によりこの
ユニットを繰り返し積層して積層体３を形成する。

【００１５】積層体の作製は、一般に成膜法として用い
られる塗布法、界面重合法、スパッタ法、ＬＢ法等によ
り行うことができる。

【００１６】トラッキング層２としては通常の材料が使
用できる。

【００１７】第１記録層としては、レーザービームによ
って記録再生及び消去が行える光記録材料に用いられる
材料であれば如何なるものでもよく、有機染料系記録材
料、金属系記録材料等が使用できる。

【００１８】また記録面上での第１記録領域の幅は、記
録光、特に消去レーザーのビームスポット径よりも小さ
いことが必要で、一般的にはスポット径の５０〜１００
％とすることが好ましい。更に良好な記録コントラスト
を得て、且つピットの消し残りを確実に防ぐという観点
から、スポット径の５０〜７０％とすることがより好ま
しい。

【００１９】第２記録層としては、第１記録層と比較し
てレーザー記録感度が低い材料であれば如何なるもので
もよい。レーザーに感度のある有機系記録材料、金属系
記録材料の様な記録材料でもよいし、または、レーザー
に感度のない、金属、樹脂材料でもよい。また、第２記
録層の反射率は、第１記録層に形成された記録ピットの
再生コントラストに影響のない反射率であることが望ま
しい。

【００２０】次に、積層面に対して非平行に切断して記
録層薄片４を切り出す。このとき積層面と切断面とのな
す角αを０゜＜α≦９０゜とする。

【００２１】切断方法は、超薄切片を切り出すことので
きるミクロトーム等により行われる。

【００２２】上記のごとく作製した記録層薄片４を基板
に積層することにより光記録媒体を作製することができ
る。光記録媒体の構成としては、レーザー読み出し面に
光学的に記録再生可能な基板を使用し、これに記録層薄
片を積層すればよく、必要であれば、反射層、接着層、
保護層を所望の位置に積層することが可能である。

【００２３】図１における（ｂ）は上記のごとく作製し
た記録層薄片４を用いた光記録媒体の１例を示す模式図
であり、基板５上に、記録層薄片４、反射層６、接着層
８及び保護層７が順次積層されている。

【００２４】基板５としては、光学的に記録再生可能な
ものであれば如何なる材料のものでもよく、例えば、ガ
ラス板あるいはポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポ
リメチルメタクリレート等のプラスチック樹脂基板等を
挙げることができる。

【００２５】反射層６としては、従来知られている通常
の反射層が使用できる。例えば、Ｂｉ、Ａｌ、Ｔｅ等の
金属や合金系の反射率の高いものが使用できる。

【００２６】接着層８としては、従来知られている通常
の接着剤が使用できる。例えば、酢酸ビニル、アクリル
酸エステル、塩化ビニル、エチレン、アクリル酸、アク
リルアミド等のビニルモノマーの重合体及び共重合体、
ポリアミド、ポリエステル、エポキシ系、等の熱可塑性
接着剤、アミノ樹脂（ユリア樹脂、メラミン樹脂）、フ
ェノール樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、熱硬化性
ビニル樹脂等の接着剤、天然ゴム、ニトリルゴム、クロ
ロゴム、シリコンゴム等のゴム系接着剤が使用される。

【００２７】保護層７としては、記録層を機械的に保護
できるものが好ましく、例えば、プラスチック、ガラス
板、金属、セラミックス、紙あるいはこれらの複合材料
を使用することができる。

【００２８】上記のごとく作製された本発明の光記録媒
体は、記録層の記録面において、トラッキング領域とト
ラッキング領域との間の記録領域の中央部が記録光に対
する感度が高く、記録領域の両端部が記録光に対する感
度が低いので、記録光が照射された場合、記録感度の高
い領域のみで記録ピットが形成され、感度の低い記録領
域は変化せず書き込みがなされない。従って、従来例で
は繰り返し消去で記録ピットの消え残りが生じていたピ
ット端部においての書き込みがなされないので、繰り返
し消去を何度行っても記録特性が劣化することはない。

【００２９】

【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。

【００３０】実施例１ ガラス基板上に、第２記録層として酸化アルミニウムの
ターゲットをスパッタリングし３μｍの膜を形成した。
次いで、第１記録層として、Ｇｅ、Ｓｂ、Ｔｅをターゲ
ットにスパッタリングし、３μｍの膜を形成し、次いで
前記酸化アルミニウムの第２記録層３μｍを再度形成し
た。

【００３１】この上にトラッキング層として５％ポリメ
チルメタクリレートの１，２ジクロロエタン溶液をバー
コーターで３μｍの厚さに塗布した。

【００３２】以上の１連の操作を繰り返して厚さ約３ｃ
ｍの積層体を得た。

【００３３】この積層体を予め液体窒素で冷却しておい
たミクロトーム（ＬＫＢ社製超ミクロトームＩＶ型）に
より、積層面に対して垂直（α＝９０゜）に切断し、膜
厚約１μｍの記録層薄片を得た。

【００３４】この記録層薄片を接着剤を塗布した厚さ
０．４ｍｍの透明ポリメチルメタクリレート基板上に移
し取り、９０℃で２０分間処理し接着した。

【００３５】基板に接着した記録層薄片上に反射層とし
てＡｕを蒸着し、ホットメルト系の接着剤を介して厚さ
０．３ｍｍのポリ塩化ビニル保護基板と接着し、光記録
媒体を得た。

【００３６】得られた光記録媒体の記録層は、幅３μｍ
のトラッキング領域並びに幅３μｍの第１記録領域が幅
３μｍの第２記録領域によって両端を挟まれた記録領域
９μｍ、即ち１２μｍのピッチ幅を持つ。

【００３７】得られた光記録媒体を波長８３０ｎｍのレ
ーザーを持つ記録再生装置で、記録及び消去を交互に１
０万回繰り返し、記録及び消去１０万回後のＣ／Ｎ比を
測定した結果、４８ｄＢであった。

【００３８】比較例１ トラッキング溝を形成した厚さ０．４ｍｍのポリメチル
メタクリレート基板に記録層として、Ｇｅ、Ｓｂ、Ｔｅ
をターゲットに９μｍの厚さにスパッタリングした。こ
れにホットメルト系の接着剤を介して厚さ０．３ｍｍの
ポリ塩化ビニル保護基板を積層し、光記録媒体を得た。

【００３９】得られた光記録媒体を波長８３０ｎｍのレ
ーザーを持つ記録再生装置で、記録及び消去を交互に１
０万回繰り返し、記録及び消去１０万回後のＣ／Ｎ比を
測定した結果、２０ｄＢであった。

【００４０】上記実験結果により、本発明に係る光記録
媒体は記録と消去とを多数繰り返した後も高いＣ／Ｎ比
を示すことがわかる。

【００４１】

【発明の効果】本発明によれば、書換型光記録媒体にお
いて、記録と消去とを繰り返しても記録ピットの消し残
りが発生しないので、記録特性が劣化せず、繰り返し記
録に対する耐久性が飛躍的に向上する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る光記録媒体の製造方法の１例を示
す工程図である。

【図２】本発明に係る光記録媒体の記録層の平面構造の
１例を示す平面図である。

【図３】従来の光記録媒体の記録層の平面構造を示す平
面図である。

【符号の説明】

１ 記録層 ２ トラッキング層 ３ 積層体 ４ 記録層薄片 ５ 基板 ６ 反射層 ７ 保護層 ８ 接着層 ９ 光記録媒体 １０ ビームスポット １１ 記録ピット変化部分

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 トラッキング領域とトラッキング領域と
   の間に記録領域が挟まれてなる記録層を有する光記録媒
   体において、前記記録領域が記録光に対する感度が異な
   る少なくとも２種の記録領域からなり、記録光に対する
   感度の高い第１記録領域が記録光に対する感度が低い第
   ２記録領域に挟まれ、且つ第１記録領域の幅が記録光の
   ビームスポット径よりも小さいことを特徴とする光記録
   媒体。
2. 【請求項２】 トラッキング層、記録光に対する感度の
   低い第２記録層、記録光に対する感度の高い第１記録
   層、前記第２記録層及びトラッキング層を順次積層して
   なるユニットの一又は繰り返しからなる積層体を形成
   し、積層面に対して非平行に切断して記録層薄片を取り
   出し、この記録層薄片を基板に接着して記録層を形成す
   る光記録媒体の製造方法。
3. 【請求項３】 基板に接着された記録層上に、反射層を
   蒸着し、該反射層上に保護層を接着する請求項２に記載
   の製造方法。