JPH07277893A - アルミナ単結晶の製法 - Google Patents

アルミナ単結晶の製法

Info

Publication number
JPH07277893A
JPH07277893A JP6732494A JP6732494A JPH07277893A JP H07277893 A JPH07277893 A JP H07277893A JP 6732494 A JP6732494 A JP 6732494A JP 6732494 A JP6732494 A JP 6732494A JP H07277893 A JPH07277893 A JP H07277893A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
melt
single crystal
convection
crystal
magnetic field
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP6732494A
Other languages
English (en)
Inventor
Shoji Morita
章二 森田
Masahiro Funayama
正宏 舩山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Heavy Industries Ltd filed Critical Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Priority to JP6732494A priority Critical patent/JPH07277893A/ja
Publication of JPH07277893A publication Critical patent/JPH07277893A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 組成的過冷却現象を抑え、光学的特性に優れ
た、チタンやクロムなどの添加元素を含む酸化アルミニ
ウム単結晶を製造する方法を提供しようとするものであ
る。 【構成】 遷移金属を添加して酸化アルミニウム単結晶
を溶融固化法で製造する方法において、融液に磁場を印
加するか、酸素分圧を10-2気圧以下に雰囲気ガスを制
御することにより、融液の対流を促進しながら結晶を育
成することを特徴とする酸化アルミニウム単結晶の製造
方法である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、固体レーザ材料や光学
用窓材料などの光学用途に適した酸化アルミニウム単結
晶の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】現在実用化されている酸化物単結晶系の
固体レーザやシンチレータのほとんどは、母結晶に光学
活性元素を添加したものである。最も典型的な固体レー
ザ材料であるNd:YAGは、母結晶であるY3 Al5
12のイットリウム格子点の一部を光学活性元素である
ネオジウムで置換したものである。
【0003】酸化アルミニウム単結晶は、その熱的特性
や化学的安定性などの点で光学材料用母結晶としての資
質を備えており、チタンを添加した酸化アルミニウム単
結晶は、広帯域波長可変固体レーザ材料として活発な開
発が行われている。そして、光学材料としての酸化物単
結晶の多くは、結晶の品質や口径などの観点から、溶融
固化法、特に、回転引き上げ法によって育成されてい
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の回転引
き上げ法で、添加元素を含む酸化アルミニウム単結晶を
育成するときには、育成条件により添加元素が偏析した
り、気泡が発生するなど、光学材料としての特性が著し
く低下することがあった。このような欠陥は、添加元素
の濃度が高い場合や、育成速度が大きい場合に特に発生
し易い。この現象は、成長界面付近で添加元素濃度が不
均一になり、結晶成長の駆動力である過冷却度が局所的
に不均一となる組成的過冷却に伴うセル成長に起因して
いる。
【0005】酸化アルミニウムにチタンやクロムなどを
添加して単結晶を育成する場合、チタン又はクロムの実
効偏析係数が0.1〜0.2と小さいため、組成的過冷
却現象による添加元素の偏析や微小の気泡が生じ易い。
添加元素の偏析や気泡は、光散乱源となるため、固体レ
ーザのような光学用途目的に対しては致命的な特性低下
をもたらす。
【0006】組成的過冷却現象の緩和対策には育成速度
を低下させる方法があり、ある程度の効果はあるが、育
成速度の低下は生産性及び引き上げ速度の精度や耐火物
の耐火性などの育成装置側の条件との兼ね合いから、実
用的には限界があり、組成的過冷却現象を積極的かつ根
本的に解決することにはならない。
【0007】そこで、本発明では、上記の欠点を解消
し、組成的過冷却現象を抑え、光学的特性に優れた、チ
タンやクロムなどの遷移金属元素を含む酸化アルミニウ
ム単結晶を製造する方法を提供しようとするものであ
る。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、遷移金属を添
加して酸化アルミニウム単結晶を溶融固化法、特に、回
転引き上げ法で製造する方法において、融液の対流を促
進させながら単結晶を育成することを特徴とする酸化ア
ルミニウム単結晶の製造方法である。
【0009】本発明において、融液対流を促進する方法
としては、融液に磁場、特に垂直磁場を印加する方法、
育成雰囲気の酸素分圧を10-2気圧以下に制御する方
法、又は、それらを併用する方法などを採用することが
できる。
【0010】
【作用】本発明者等は、これまでの基礎研究の中で、酸
化アルミニウムや酸化チタンなどの酸化物融液に垂直磁
場を印加したり、育成雰囲気の酸素分圧を低下させる
と、融液対流が著しく促進されることを見いだし、これ
らの融液対流促進法を、遷移金属元素を含む酸化物単結
晶を融液から育成する方法に適用することにより、組成
的過冷却現象を抑え、光学特性の優れた酸化物単結晶の
製造に成功した。
【0011】半導体融液に磁場を印加すると、融液対流
が抑制されることが報告されているが、酸化アルミニウ
ムや酸化チタン等の酸化物融液に最大2.0テスラの垂
直磁場を印加すると、半導体融液とは異なり、渦状の対
流が誘起されることを見いだした。磁場によって誘起さ
れる対流速度は、磁場の強度の増大とともに大きくなる
傾向がある。この渦状の対流速度は、磁場強度の他に、
磁場印加前の自然対流の速度、融液の電気伝導率及び粘
性係数などの融液の物性に依存するものと考えられる。
この渦状の対流は、結晶成長において、るつぼの回転に
より誘起される強制対流と同様の効果がある。
【0012】そこで、育成する結晶を磁場誘起による渦
状の対流とは反対方向に回転することにより、磁場を印
加しない従来の育成方法に比べ、見掛け上、自然対流が
強い条件での結晶育成が可能になる。そして、成長界面
付近の強い対流による攪拌効果は、添加元素の分布をよ
り均一化することができ、組成的過冷却現象を抑制する
育成環境を整えることができる。
【0013】また、酸化物の融液を形成するときに、雰
囲気の酸素分圧を10-3気圧以下に低下させると、見掛
け上自然対流が著しく促進される。これは、表面張力の
不均一性に伴うマランゴニ対流によるものと考えられ
る。表面張力に不均一を生ずるのは、るつぼ内の温度勾
配に起因する自然対流で、るつぼの底から沸き上がって
きた融液が表面でるつぼ壁側からるつぼ中央に向けて流
れる間に、還元され、若干組成変化を生ずるためであ
る。この表面張力の組成依存性に基づくマランゴニ対流
は、表面張力の温度依存性に基づくマランゴニ対流に比
べて極めて強い。
【0014】雰囲気の酸素分圧を低下させる手段として
は、窒素やアルゴンなどの不活性ガスに、水素又は一酸
化炭素を混合したガスを雰囲気ガスとして用いるか、グ
ラファイトでるつぼ又はその周辺の耐火物を構成する方
法がある。雰囲気の酸素分圧を低下させ、かつ、融液対
流を促進させた状態で結晶成長を行うと、強い融液対流
による攪拌効果のため、添加元素の分布が均一化され、
組成的過冷却現象が生じにくい成長環境を整えることが
できる。
【0015】本発明では、磁場印加及び/又は雰囲気の
酸素分圧制御による融液対流を促進させながら、遷移金
属を添加する酸化アルミニウム融液を徐々に固化するこ
とにより、光学的特性の優れた単結晶を高い成長速度で
育成することができるようになった。
【0016】図1は、本発明の方法を実施するための磁
場印加型回転引き上げ装置の概念図である。るつぼ1内
には、遷移金属を添加した酸化アルミニウム融液2が収
容されており、るつぼ1の周囲にはワークコイル5が配
置され、これらを収容するチャンバー6の周囲には超伝
導マグネット7が配置され、融液2に強制対流を付与し
た状態で軸4を引き上げ、単結晶3を育成するものであ
る。
【0017】
【実施例】
(実施例1)図1の磁場印加型回転引き上げ装置を用い
て、Tiを含むAl2 3 単結晶を育成した。出発原料
としては、純度99.999%のAl2 3 粉末(住友化学
製)及び純度99.99 %のTiO2 粉末(高純度化学製)
を用いた。予め灼熱減量を測定した両粉末を、TiO2
が2.0重量%になるように秤量し、エタノールを加え
て36時間ボールミルで混合した。その後、エタノール
を分離し、乾燥した粉末240gを4000kg/cm
2 の圧力で冷間静水圧プレスで成型した後、大気中で1
500℃で24時間焼成して育成原料とした。
【0018】単結晶の育成には、直径50mm、高さ5
0mm、厚さ1.5mmのイリジウムるつぼを用いた。
るつぼの底には、Ir−Ir/Rh熱電対を配置してる
つぼ温度をモニターした。るつぼの周囲には酸化ジルコ
ニウム製耐火物を配置して断熱保温した。るつぼの上方
には、融液の温度勾配制御及び育成結晶の保温の目的
で、イリジウム製アフターヒータを配置した。上記のホ
ットゾーンの周囲は、真空排気及び雰囲気制御の可能な
ステンレス製チャンバーで包囲した。
【0019】上記の育成原料をるつぼに充填した後、真
空ポンプでチャンバー内を1.0×10-3Torrまで
真空排気した後、雰囲気ガスとして、窒素に0.5体積
%の水素を混合したガスを毎分2リットルの流速でチャ
ンバーに導入した。次いで、ワークコイルには周波数約
20kHzの高周波電力を徐々に印加してるつぼを加熱
し、約18時間かけて高周波電力を約6kwまで上昇さ
せて、るつぼ内の原料を完全に溶融させた。この時、る
つぼ底の熱電対の測定温度は約1980℃であった。融
液表面には、融液対流に起因すると考えられるスポーク
パターンが観察された。スポークパターンの動きは、毎
秒5mm程度であり、比較的緩やかであった。また、ス
ポークパターンの移動方向は、融液表面において、基本
的にるつぼ壁側からるつぼ中心に向かう方向であった。
【0020】この状態で超伝導マグネットで徐々に垂直
磁場を印加したところ、約0.3テスラの磁場で融液対
流が渦状に変化し始めた。渦状の対流の回転方向は、融
液を上方から見て時計回りであった。その後、磁場強度
の増大とともに渦状の対流速度が増大するとともに、対
流の中心対称性が向上する傾向が認められた。磁場強度
を1.5テスラで約6時間融液を保持したが、渦状の対
流は安定しており、経時的な変化は認められなかった。
【0021】引き続き結晶成長を行った。種結晶は、a
軸方向に切りだした5×5×40mmの純粋なAl2
3 単結晶を用い、育成条件は、引き上げ速度を毎時1.
5mm、結晶回転速度を毎分20回転、回転方向は磁場
による渦状の対流とは反対方向とした。結晶育成開始直
後は、融液温度を僅かに上昇させて結晶径を細める、い
わゆるネッキング操作を行い、結晶径を約3mmまで細
め、そのまま約8mm成長させた。次いで、高周波電力
を徐々に低下させ、結晶の肩部を形成した。肩部の開き
角は約600 とした。肩部に続いて直胴部を形成した。
直胴部の直径はロードセルを用いた重量法により、直径
20mmを目標に制御した。25時間直胴部を形成した
後、手動で約30mm引き上げて結晶を融液から切り離
した。育成した結晶はアフターヒータ内に保持して20
時間かけて室温まで冷却した。
【0022】得られた単結晶は、直径20mm、直胴部
の長さ約45mmであった。結晶のテイル部は約20m
mにわたって融液側に突出しており、相対的に自然対流
優勢の状況での結晶成長であったことが分かる。また、
結晶は透明なピンク色を呈しており、クラックや気泡な
どの巨視的な欠陥は全く認められなかった。育成した結
晶から成長方向に垂直に厚さ3.0mmのウエハを数枚
切り出し、両端を研磨して吸収スペクトルを測定したと
ころ、いずれもTi3+に起因する吸収が同様に存在して
おり、場所による吸収スペクトルの差異は認められなか
った。したがって、結晶内のTiの分布が極めて均一で
あることが分かる。
【0023】比較のために、磁場を印加せずに従来の回
転引き上げ法で、その他の条件は上記と同様にして結晶
を育成した。得られた結晶の色は、磁場を印加した上記
の結晶とほぼ同じであった。結晶のテイル部の融液側へ
の突出は約7mmであり、磁場を印加した上記の結晶に
比べ、相対的に自然対流が弱い状況での成長であること
が分かった。また、結晶内には、中心軸にそって光学顕
微鏡で確認できる程度の微小な気泡が多数存在してい
た。
【0024】(実施例2)雰囲気の酸素分圧を制御する
回転引き上げ法で、Tiを含むAl2 3 単結晶を育成
した。結晶育成装置は、実施例1で用いたものと基本的
に同じ装置を用い、超伝導マグネットは作動させず、育
成雰囲気の酸素分圧を制御するために、イリジウム製ア
フターヒータを載せる耐火物をグラファイト製とした。
育成原料は、実施例1と同じものを用いた。また、雰囲
気ガスとしては、アルゴンに5体積%の水素を混合した
ガスを毎分2.5リットルの流速でチャンバーに導入し
た。
【0025】加熱操作も実施例1と同様にして18時間
かけて高周波電力を約6kwまで上昇させて、るつぼ内
の原料を完全に溶融させた。融液表面に観察されるスポ
ークパターンは、実施例1に比べてコントラストが極め
て強く、その移動速度は毎秒15mmと速かった。スポ
ークパターンの移動方向は、融液表面においてるつぼ壁
側からるつぼ中心に向かう方向であった。
【0026】融液形成後、約5時間そのまま保持した
後、結晶成長を行った。種結晶、結晶育成の手順及び要
領は実施例1と同様して結晶を育成した。得られた単結
晶は、直径20mm、直胴部の長さ約45mmであっ
た。結晶のテイル部は約15mmにわたって融液側に突
出しており、相対的に自然対流優勢の状況での結晶成長
であったことが分かる。また、結晶は透明なピンク色を
呈しており、クラックや気泡などの巨視的な欠陥は全く
認められなかった。
【0027】比較のために、雰囲気ガスとして水素を含
まない純粋なアルゴンを用い、かつグラファイト製の耐
火物を使用しないホットゾーンで、その他の条件は上記
と同様にして結晶を育成した。融液表面のスポークパタ
ーンは、雰囲気に水素を混合した場合に比べてコントラ
ストが弱く、極めて不鮮明であった。また、スポークパ
ターンの動きは非常に緩慢であり、ほとんど停滞してい
る状況であった。得られた結晶は、青みがかった白色を
呈していた。気泡やTiの偏析と考えられる欠陥が無数
に発生しており、結晶は不透明であった。
【0028】
【発明の効果】本発明は、上記の構成を採用し、磁場に
より誘起される渦状の対流及び/又は低酸素分圧雰囲気
で誘起されるマランゴニ対流の攪拌効果を利用すること
により、組成的過冷却現象を抑制し、成長界面付近の添
加元素の分布を均一化し、高濃度の添加元素を含む光学
的均質性の優れた酸化アルミニウム単結晶を、従来より
大きな成長速度で育成することのできるようになった。
特に、回転引き上げ法の特徴を損なうことなく、大口径
で高品質の単結晶を育成することが可能になった。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明を実施するための磁場印加型回転引き上
げ装置の概念図である。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 遷移金属を添加して酸化アルミニウム単
    結晶を溶融固化法で製造する方法において、融液の対流
    を促進させながら単結晶を育成することを特徴とする酸
    化アルミニウム単結晶の製造方法。
  2. 【請求項2】 遷移金属を添加して酸化アルミニウム単
    結晶を回転引き上げ法で製造する方法において、融液の
    対流を促進させながら単結晶を育成することを特徴とす
    る酸化アルミニウム単結晶の製造方法。
  3. 【請求項3】 結晶育成に際し、融液に磁場を印加して
    融液の対流を促進することを特徴とする請求項1又は2
    記載の酸化アルミニウム単結晶の製造方法。
  4. 【請求項4】 雰囲気の酸素分圧を10-2気圧以下に制
    御して融液の対流を促進することを特徴とする請求項1
    又は2又は3記載の酸化アルミニウム単結晶の製造方
    法。
JP6732494A 1994-04-05 1994-04-05 アルミナ単結晶の製法 Withdrawn JPH07277893A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6732494A JPH07277893A (ja) 1994-04-05 1994-04-05 アルミナ単結晶の製法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6732494A JPH07277893A (ja) 1994-04-05 1994-04-05 アルミナ単結晶の製法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH07277893A true JPH07277893A (ja) 1995-10-24

Family

ID=13341736

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6732494A Withdrawn JPH07277893A (ja) 1994-04-05 1994-04-05 アルミナ単結晶の製法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH07277893A (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007091540A (ja) * 2005-09-29 2007-04-12 Sumitomo Metal Mining Co Ltd サファイア単結晶の育成方法
JP2007197230A (ja) * 2006-01-24 2007-08-09 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 酸化アルミニウム単結晶の製造方法及びこの方法を用いて得られる酸化アルミニウム単結晶
JP2008169069A (ja) * 2007-01-11 2008-07-24 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 酸化アルミニウム単結晶の製造方法
JP2008260640A (ja) * 2007-04-10 2008-10-30 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 酸化アルミニウム単結晶の製造方法
US7585365B2 (en) 2004-02-18 2009-09-08 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Corundum crystal formed body
US7674334B2 (en) 2004-02-18 2010-03-09 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Artificial corundum crystal

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7585365B2 (en) 2004-02-18 2009-09-08 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Corundum crystal formed body
US7674334B2 (en) 2004-02-18 2010-03-09 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Artificial corundum crystal
JP2007091540A (ja) * 2005-09-29 2007-04-12 Sumitomo Metal Mining Co Ltd サファイア単結晶の育成方法
JP2007197230A (ja) * 2006-01-24 2007-08-09 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 酸化アルミニウム単結晶の製造方法及びこの方法を用いて得られる酸化アルミニウム単結晶
JP2008169069A (ja) * 2007-01-11 2008-07-24 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 酸化アルミニウム単結晶の製造方法
JP2008260640A (ja) * 2007-04-10 2008-10-30 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 酸化アルミニウム単結晶の製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101858779B1 (ko) 500 ㎜ 이하의 직경을 갖는 도핑된 석류석 구조 단결정의 제조 방법
JP4560216B2 (ja) 結晶成長工程に使用される溶融シリコンのバリウムドーピング
Osiko et al. Synthesis of refractory materials by skull melting technique
JP2011195423A (ja) サファイア単結晶の製造方法
JP2008007354A (ja) サファイア単結晶の育成方法
US8268077B2 (en) Upper heater, single crystal production apparatus, and method for producing single crystal
CN107881550A (zh) 一种大尺寸晶体的熔体法晶体生长方法
EP1169496B1 (en) Strontium doping of molten silicon for use in crystal growing process
JP2011121840A (ja) 磁気光学素子用酸化テルビウム結晶
JPH07277893A (ja) アルミナ単結晶の製法
JPS62212298A (ja) 結晶成長雰囲気を制御することによるTi:Al↓2O↓3同調可能レ−ザ結晶けい光を向上するための方法
JP2010059031A (ja) 酸化アルミニウム単結晶、及び、その製造方法
JP4904862B2 (ja) 酸化アルミニウム単結晶の製造方法及び得られる酸化アルミニウム単結晶
EP1076120A1 (en) Method for producing silicon single crystal
JPH0789797A (ja) テルビウムアルミニウムガーネット単結晶の製造方法
JP2017222537A (ja) るつぼ並びに単結晶の育成装置及び育成方法
JPS61242984A (ja) シリコン単結晶引上げ用ルツボ
JPH09278592A (ja) チタンを含む酸化アルミニウム単結晶の製造方法
JPH06199597A (ja) 酸化アルミニウム単結晶の製造方法
JP2004238239A (ja) 単結晶の製造方法
Morris et al. High temperature solution growth of yttrium aluminium garnet crystals using accelerated crucible rotation
JPH07149599A (ja) Tb含有Al酸化物単結晶
JPH0782075A (ja) 酸化物単結晶の育成方法
JP3152322B2 (ja) 無双晶(Nd,La)GaO3単結晶およびその製造方法
JPH10251090A (ja) 酸化物単結晶およびその育成方法

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20010605