JPH07264494A - 電荷蓄積装置 - Google Patents

電荷蓄積装置

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JPH07264494A
JPH07264494A JP7044231A JP4423195A JPH07264494A JP H07264494 A JPH07264494 A JP H07264494A JP 7044231 A JP7044231 A JP 7044231A JP 4423195 A JP4423195 A JP 4423195A JP H07264494 A JPH07264494 A JP H07264494A
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    • HELECTRICITY
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    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144Devices controlled by radiation
    • H01L27/146Imager structures
    • H01L27/14643Photodiode arrays; MOS imagers

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Abstract

(57)【要約】 【目的】 電荷蓄積装置の蓄積素子の不完全な再充電の
問題を、導体総数を増大する必要なしに解消することに
ある。 【構成】 電荷蓄積素子3が行列配置され、列内の蓄積
素子が第1導体4に結合され、行内の各蓄積素子が第2
導体5に第1整流素子D1を経て結合されるとともに第
3導体6に第2整流素子D2を経て結合され、第1及び
第2整流素子が印加電圧により順方向バイアスされたと
きに電流を流すように構成されている。各蓄積素子行の
第3導体が隣接する蓄積素子行の第2導体も形成する。
一つ置きの行内の蓄積素子と関連する第1及び第2整流
素子を残りの行内の蓄積素子と関連する第1及び第2整
流素子に対し逆向きに配置する。選択行の蓄積素子に蓄
積されている電荷を読出すために選択された行の蓄積素
子と関連する整流素子のみを順方向バイアスする電圧を
第2及び第3導体に供給する手段7を設ける

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は電荷蓄積装置及びこのよ
うな装置を動作させる方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】図1はイメージセンサ100の形態の既
知の電荷蓄積装置の画素101の一例を示す。一般に、
イメージセンサ100は関連する行導体102及び列導
体103を有するN行M列の画素の二次元マトリクスを
具えるが、簡便のために一つの画素のみを図1に示す。
【0003】画素101は関連する行導体102及び関
連する列導体103間に直列に結合されたフォトセンシ
ティブダイオードPD及びスイッチングダイオードSD
を具える。図示の例では、スイッチングダイオードSD
及びフォトセンシティブダイオードPDはそれらのカソ
ードを相互結合して配置される。キャパシタCがフォト
センシティブダイオードPDの両端間に結合されてい
る。このキャパシタCはフォトセンシティブダイオード
PDの寄生キャパシタンスとすることができ、またイメ
ージセンサ100のダイナミックレンジを増大するため
に付加する追加のキャパシタとすることができる。各列
導体103は、その入力及び出力間に容量結合を有する
適当な電荷検出増幅器104に結合される。
【0004】このようなイメージセンサは、スイッチン
グダイオードSDの抵抗値をダイオード両端間の電圧が
低下するにつれて増大せしめるスイッチングダイオード
SDの非線形順方向抵抗により生ずるイメージラグを被
る。画素101のフォトセンシティブダイオードPDに
入射する光はフォトセンシティブダイオードPDのキャ
パシタンスCを放電させる。適当な電圧VR を関連する
行導体102に供給してスイッチングダイオードSDを
順方向バイアスすると、電流が流れはじめてフォトセン
シティブダイオードPDのキャパシタンスCを再充電
し、フォトセンシティブダイオードPDに蓄積された電
荷を電荷検出増幅器104により積分することができ
る。しかし、フォトセンシティブダイオードPDの両端
間電圧が上昇するにつれて、スイッチングダイオードS
Dの両端間電圧が減少するため、スイッチングダイオー
ドSDの順方向抵抗が増大する。従って、フォトセンシ
ティブダイオードキャパシタンスCの充電速度が低下
し、読出し期間の終了時に、フォトセンシティブダイオ
ードキャパシタンスCが完全に再充電されなくなる。行
電圧VR は読出パルスの終了時に低下し、スイッチング
ダイオードSDが再び逆バイアスになる。光が読出パル
ス間の積分期間においてフォトセンシティブダイオード
PDに入射しないときでも、次の読出パルスが行導体1
02に供給されると、スイッチングダイオードSDは再
び順方向バイアスになる。その理由は、フォトセンシテ
ィブダイオードキャパシタンスCの充電がその前の読出
パルス中に完了してないためである。従って、少量の電
流が流れ、フォトセンシティブダイオードキャパシタン
スCが少し充電される。この処理が次の数個の読出パル
スに対し繰り返され、その都度充電量が次第に小さくな
る。
【0005】図2aは行電圧VR の経時変化を示すとと
もに、第1読出パルスの直前から画素に光が入射しない
状態において瞬時t0 ,t1 ,t2 及びt3 に供給され
る4つの順次の読出パルスR0 ,R1 ,R2 及びR3
示す。図2bは4つの行電圧パルスが順次に供給される
期間におけるフォトセンシティブダイオードキャパシタ
ンスCの電圧VX の変化を示す。図2bから明らかなよ
うに、第1行電圧パルスR0 の前からフォトセンシティ
ブダイオードPDに光が入射しない場合でも、フォトセ
ンシティブダイオードPDのキャパシタンスは第1読出
パルスR0 中に完全に再充電されず、次の読出パルスR
1 ,R2 及びR3 中に少しづつ充電される。このとき流
れる電流が電荷検出増幅器104により積分される。図
2cは電荷検出増幅器104の出力電圧の変化を読出パ
ルスR0 〜R3 の時間スケールに亘って示し、時間
0 ,t1 ,t2 及びt3 は読出パルスR0 ,R1 ,R
2 及びR3 の印加開始瞬時を表す。出力電圧V0 は第1
読出パルスR0 の終了時に高電圧VH から低電圧VL
図2cに破線aで示すように低下する代わりに、電圧V
0 は実線bで示すようにもっとゆっくり低電圧VLに変
化する。その理由は、上述したように、フォトセンシテ
ィブダイオードキャパシタンスCが照明の除去後の第1
読出パルスR0 に続く読出パルス中も充電を続けるため
である。従って、検出イメージに”ラグ”を生じ、これ
は動く画像又は変化する画像がぼけることを意味する。
【0006】EP−A−233489には、電荷を蓄積
する蓄積素子のアレイを具え、これらの蓄積素子は行及
び列に配置され、列内の蓄積素子は第1導体に結合さ
れ、行内の蓄積素子は第2及び第3導体に結合された電
荷蓄積装置において、行内の各蓄積素子は関連する第2
導体に第1整流素子又は絶縁素子を経て結合するととも
に関連する第3導体に第2整流素子又は絶縁素子を経て
結合し、第1及び第2整流素子が印加電圧により順方向
バイアスされるときに電流を流すようにすることが記載
されている。
【0007】EP−A−233489に記載されている
ように、蓄積素子はフォトセンシティブダイオードを具
えるとともに、第1及び第2整流素子はスイッチングダ
イオードを具える。この装置の動作状態では、適当な電
圧が一行の蓄積素子と関連する第2及び第3導体に供給
され、一行の蓄積素子に電荷を蓄積する必要があるとき
は関連する第1及び第2整流素子を逆バイアスし、一行
の蓄積素子から電荷を読出す必要があるときは関連する
第1及び第2整流素子を順方向バイアスする。
【0008】従って、EP−A−233489はスイッ
チングダイオード又は整流素子SDを、2つの行導体間
に直列に結合された2つの整流素子と置き換え、フォト
センシティブダイオードPDを2つの整流素子の接続点
に結合している。この場合、画素は両整流素子又はスイ
ッチング素子を順方向バイアスする電圧を行導体に供給
して両スイッチングダイオードを経て電流を流すことに
より読み出され、このとき両スイッチングダイオードの
接続点の電圧は、両ダイオードが同一であれば2つの行
導体に供給された電圧の平均値に等しい値になる。この
ような電荷蓄積装置の動作状態では、画素が丁度読出し
終わり、フォトセンシティブダイオードのキャパシタン
スが充電されているとき、2つの行導体に適当な電圧が
供給され、両スイッチングダイオードが逆バイアスにな
る。光がフォトセンシティブダイオードPDに入射する
と、電荷が発生し、フォトセンシティブダイオードPD
の両端間電圧が低下する。次の読出パルスが2つの行導
体に供給され、両スイッチングダイオードが順方向バイ
アスされると、2つの行の電圧の平均値になるまで電流
がフォトセンシティブダイオードキャパシタンスCを経
て流れる。従って、フォトセンシティブダイオードキャ
パシタンスCを対応する読出パルス中に完全に再充電す
ることができ、従ってラグが僅かになり、或いは全く生
じなくなる。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】しかし、EP−A−2
33489に開示された電荷蓄積装置は電荷蓄積素子の
各行ごとに2つの行導体を必要とし、従って装置内の導
体により占められる面積が必然的に増大し、また行及び
列導体とこれらの導体に電圧を供給する対応する駆動回
路との間に極めて多数の接続を必要とする。
【0010】行導体の数の増大は必然的に装置内の導体
が占める面積を増大し、蓄積素子に使用しうる面積が犠
牲になる。この点は、この電荷蓄積装置をイメージセン
サとし、このイメージセンサをできるだけ透明にして、
例えばCRT(陰極線管)又はLCD(液晶デバイス)
ディスプレイのようなディスプレイをイメージセンサを
通して見えるようにする場合、又はこの電荷蓄積装置を
例えばX線診断用のイメージセンサとする場合のように
できるだけ大きなフォトセンシティブ領域を有するもの
とする必要がある場合に特に不利である。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明の第1の特徴は、
電荷蓄積用の蓄積素子のアレイを具え、これらの蓄積素
子は行及び列に配置され、列内の蓄積素子は第1導体に
結合され、行内の蓄積素子は第2及び第3導体に結合さ
れ、且つ行内の各蓄積素子は関連する第2導体に第1整
流素子を経て結合されるとともに、関連する第3導体に
第2整流素子を経て結合され、第1及び第2整流素子が
印加電圧により順方向バイアスされたときに電流を流す
ように構成された電荷蓄積装置にいて、各蓄積素子行の
第3導体が隣接する蓄積素子行の第2導体も形成し、一
つ置きの行内の蓄積素子と関連する第1及び第2整流素
子が残りの行内の蓄積素子と関連する第1及び第2整流
素子に対し逆向きに配置され、順方向バイアスのとき前
記一つ置きの行内の蓄積素子と関連する第1及び第2整
流素子が第2及び第3導体間に一方向に電流を流し、逆
バイアスのとき前記残りの行内の蓄積素子と関連する第
1及び第2整流素子が第2及び第3導体間に反対方向に
電流を流すように構成され、且つ選択された行の蓄積素
子に蓄積されている電荷を読出すために選択された行の
蓄積素子と関連する整流素子のみを順方向バイアスする
電圧を第2及び第3導体に供給する手段が設けられてい
る点にある。
【0012】ここで、”整流素子”とは一方向(逆方
向)にできるだけ低い電流を流すとともに他方向(順方
向)に所要の電流を流す非対称特性を有する任意の素子
を意味するものと理解されたい。
【0013】従って、本発明装置によれば、電荷蓄積素
子の不完全な再充電の問題を蓄積素子行と関連する導体
の総数を増大することなく低減することができる。各蓄
積素子は、一動作モードで入射光に応答して電荷を蓄積
するフォトセンシティブ素子を具えるものとすることが
できる。整流素子は薄膜技術により形成しうるダイオー
ドとすることができる。
【0014】各蓄積素子と関連する整流素子の一方をフ
ォトセンシティブ素子で構成し、且つ整流素子と蓄積素
子を同一の蓄積素子列内の一つの蓄積素子からの電荷の
読出し中における他の蓄積素子からのリーク電流が減少
するように配置することができる。
【0015】一例では、蓄積素子及び整流素子は接合ダ
イオードで構成し、各蓄積素子及び関連する第1及び第
2整流素子の一方をフォトセンシティブにし、整流素子
及び蓄積素子を、各蓄積素子及び関連する第1及び第2
整流素子に対し、 (CX +CY )IP =CP D ここで、CX ,CY 及びCP はフォトセンシティブ整流
素子、他方の整流素子及びフォトセンシティブ蓄積素子
の固有キャパシタンス、及びIP 及びID はフォトセン
シティブ蓄積素子及びフォトセンシティブ整流素子に入
射した光により発生される電流、となるように構成し、
同一の蓄積素子列の一つの蓄積素子からの電荷の読出し
中における他の蓄積素子からのリーク電流を低減する。
【0016】このような例では、各蓄積素子に対し、関
連する整流素子を所定の面積を有するものとし、蓄積素
子及びフォトセンシティブ整流素子は入射光に露光され
る第2の所定面積を有するものとし、整流素子及び蓄積
素子のそれぞれの面積を、 (ACD1 /2ADD1 )=(AC3/AD3) ここで、AD3及びADD1 は蓄積素子及び関連する整流素
子の面積、及びAC3及びACD1 は蓄積素子及び関連する
フォトセンシティブ整流素子の入射光に露光される第2
の所定面積、が成り立つように定める。
【0017】選択された行の蓄積素子に蓄積されている
電荷を読出すために選択された蓄積素子行と関連する整
流素子のみを順方向バイアスする電圧を第2及び第3導
体に供給する手段は、第2導体に電圧を供給する第1電
圧供給手段及び第3導体に電圧を供給する第2電圧供給
手段を具えるものとすることができる。この場合には電
圧供給手段が2つの異なる電圧を供給することができる
必要があるだけである。
【0018】本発明は本発明の第1の特徴を有する装置
を動作させる方法も提供するものであり、本発明の方法
は、読出すべき電荷蓄積素子を含む選択された行と関連
する第2及び第3導体の一方に第1電圧を、他方に第2
電圧を供給して関連する第1及び第2整流素子を順方向
バイアスし、且つ選択された行の前記他方の(第2)導
体に隣接する任意の第2導体に第3電圧を、選択された
行の前記一方の(第2)導体に隣接する任意の第2導体
に第4電圧を供給して選択された行に隣接する各電荷蓄
積素子行と関連する第1及び第2整流素子を逆バイアス
するとともに、残りの第2導体に交互に第2及び第3電
圧を供給して残りの電荷蓄積素子行と関連する第1及び
第2整流素子を逆バイアスすることにより一つの列の各
電荷蓄積素子に蓄積された電荷を逐次読出すことを特徴
とする。
【0019】一例では、第2電圧を大地電圧にし、第1
電圧を第2電圧に対し正にし、第3電圧を第2電圧に対
し負にし、第4電圧を第1電圧に対し正にする。他の駆
動方法も可能である。
【0020】
【実施例】以下図面を参照して本発明を実施例につき説
明するに、図面は実寸図示したものでなく、又同様な部
分を示すものには同じような参照番号を付して示してあ
る。図3〜図8を参照するに、これらの図に示す電荷蓄
積装置1は電荷蓄積用の蓄積素子3のアレイ2を具えて
おり、蓄積素子3は行列状に配置され、列の蓄積素子3
は第1導体4に結合され、行の蓄積素子3はそれぞれ第
2導体5a,5b及び第3導体6a,6bに結合され、
行の各蓄積素子3は第1整流素子D1を経て関連する第
2導体5a,5bに結合されると共に第2整流素子D2
を経て関連する第3導体6a,6bに接続されており、
第1及び第2整流素子D1及びD2が印加電圧により順
方向にバイアスされたとき電流を流す。
【0021】本発明では、蓄積素子3の各行の第3導体
6a,6bが蓄積素子3の任意の隣接行の第2導体5
a,5bも形成し、一つ置きの行N−2,N,N+2,
N+4,..(N+2n,ここでnは整数)内の蓄積素
子3aと関連する第1及び第2整流素子D1’及びD
2’を残りの行N−1,N+1,N+3,N+5,..
(N+(2n+1),ここでnは整数)内の蓄積素子3
bと関連する第1及び第2整流素子D1”及びD2”に
対し逆向きに配置し、順方向バイアスのとき前記一つ置
きの行N−2,N,N+2,N+4,..内の蓄積素子
3aと関連する第1及び第2整流素子D1’及びD2’
が第2及び第3導体5a及び6b間に一方向に電流を流
し、逆バイアスのとき前記残りの行N−1,N+1,N
+3,N+5,..内の蓄積素子3bと関連する第1及
び第2整流素子D1”及びD2”が第2及び第3導体5
b及び6a間に反対方向に電流を流すように構成し、且
つ選択された行の蓄積素子に蓄積されている電荷を読出
すために選択された行の蓄積素子3と関連する整流素子
D1及び2のみを順方向バイアスする電圧を第2及び第
3導体5a,5b及び6a,6bに供給する手段7を設
ける。
【0022】従って、本発明による装置では蓄電素子3
の行に関連する導体総数を増やす必要なく、蓄積素子3
の不完全な再充電問題を低減することができる。図3は
本発明による電荷蓄積装置1の一例を概略的に示した線
図である。本例の電荷蓄積装置1はイメージセンサであ
る。イメージセンサ1は行と列に配置された画素2aの
アレイ2を具えている。アレイ2の境界を図3では破線
にて示してある。図3には複数の画素2aから成る3列
8行のアレイしか示してないが、アレイは一般には画素
2aのもっと多数の行と列とで構成することは当業者に
明らかである。
【0023】各画素2aはフォトセンシティブダイオー
ド3を具えており、このダイオードは関連する第1、即
ち列導体4と、関連する第1及び第2スイッチングダイ
オードD1とD2の接続点Jとの間に結合させる。スイ
ッチングダイオードD1及びD2は関連する第2及び第
3導体5及び6間に直列に結合させる。
【0024】一つ置きの行N−2,N,N+2,N+
4,...(N+2n)内のスイッチングダイオードD
1’及びD2’は、第1スイッチングダイオードD1’
のアノードが関連する第2導体5aに結合され、スイッ
チングダイオードD2’のカソードが関連する第3導体
6bに結合される向きにする。残りの行N−1、N+
1,N+3,...(N+(2n−1))の画素2aと
関連するスイッチングダイオードD1”及びD2”はス
イッチングダイオードD1’及びD2’と反対の向きに
して、第1スイッチングダイオードD1”のカソードが
関連する第2導体5bに結合され、スイッチングダイオ
ードD2”のアノードが関連する第3導体6aに結合さ
れる。
【0025】各画素2aにおいて、フォトセンシティブ
ダイオード3は、そのカソードが対応する第1及び第2
スイッチングアノードD1及び2間の接続点Jに結合さ
れる向きにする。図3から明らかなように、第N行の画
素2aの第3導体6bが第N+1行の画素2aの第2導
体5bを形成するとともに、第N+1行の第3導体6a
が第N+2行の第2導体5aを形成する。
【0026】図3に示す例では、導体5及び6に適当な
電圧を供給する第1及び第2駆動回路7a及び7bを具
える。第1駆動回路7aは一つ置きの導体5a,6aに
適当な電圧を供給するよう配置され、第2駆動回路は残
りの導体5b,6bに適当な電圧を供給するよう配置さ
れる。
【0027】各行導体5a,6aは各別のスイッチング
トランジスタ71及び72を経て電圧供給ラインV+及
びV−に結合される。スイッチングトランジスタ71及
び72のゲート又は制御電極はシフトレジスタ兼デコー
ダ回路70aに結合される。第2行駆動回路7bも同様
に行導体5b,6bを電圧供給ラインVo及びV++に
それぞれ結合するスイッチングトランジスタ73及び7
4を具え、それらのゲート又は制御電極がシフトレジス
タ兼デコーダ回路70bに結合される。シフトレジスタ
兼デコーダ回路70a及び70bは既知のようにクロッ
ク信号の制御の下でトランジスタ71〜74を駆動し、
行導体5及び6に適当な電圧信号を適当な時間に供給し
うるように構成されている。
【0028】各列導体4は既知の形態の各別の電荷検出
増幅器8を経て出力シフトレジスタ兼デコーダ回路9に
結合され、この回路の出力端子Oからイメージ信号を適
当なメモリ又はディスプレイ(図示せず)に供給するこ
とができる。各電荷検出増幅器8は、その出力端子がキ
ャパシタC1を経てその負入力端子に結合され、蓄積電
荷の読出し中に関連する列導体4から供給される電流を
電圧出力に変換する。電荷検出増幅器8の正入力端子は
大地又は任意の適当な固定基準電位に結合する。固定基
準電位は、フォトセンシティブダイオードを常に逆バイ
アスする必要があるため、実際上行電圧により決まる。
【0029】イメージセンサ1は任意の適当な構成にす
ることができるが、本例ではイメージセンサ1を適当な
絶縁基板上に薄膜技術を用いて形成する。イメージセン
サ1を光が透過するようにする必要がある場合には、基
板を透明にする必要がある。行駆動回路7a,7b、電
荷検出増幅器8及び出力シフトレジスタ兼デコーダ回路
9はアレイ2と別の基板(又はその周縁部)上に形成す
ることができ、例えば多結晶薄膜トランジスタ回路の形
に形成することができる。
【0030】図4は図3に示したイメージセンサの一例
の互いに隣接する行N及びN+1の1つの画素のレイア
ウトを示し、図5は図4の第N行における画素2aのV
−V線上での断面図を示し、図6は同じ列におけるN及
びN+1行の2つの画素2aのVI−VI線上での断面図を
示す。
【0031】上述したように、イメージセンサ1は絶縁
性で、一般に透明の基板(これは適当なガラス又はプラ
スチック材料製とすることができる)の上に薄膜技法に
より形成する
【0032】第1の導電層、一般にはクロム層を絶縁性
基板10の上に堆積し、これを画成して行導体5,6の
少なくとも一部と、第1スイッチングダイオードD1′
及び第2スイッチングダイオードD2″のカソード電極
11a及び11bと、第2スイッチングダイオードD
2′及び第1スイッチングダイオードD1′のカソード
電極12a及び12bと、フォトセンティブダイオード
3のカソード電極13とを形成する。図4〜図6に示す
ように、カソード電極11a及び11bは、関連するフ
ォトセンシティブダイオード3のカソード電極13と一
体に形成すると共に、カソード電極12a及び12bは
関連する行導体5b,6bの少なくとも一部と一体に形
成する。
【0033】本例では、フォトセンシティブダイオード
3及びスイッチングダイオードD1とD2を、n導電形
と、真性導電形と、p導電形のアモルファスシリコン層
を順次堆積することによりアモルファスシリコンn−i
−pダイオードとして形成する。次いで、これらの層を
パターン化して図5及び図6に示すようなダイオード構
造にする。図面の明瞭化のために図5及び図6ではダイ
オード構造にクロスハッチを付してない。
【0034】次に、絶縁層、一般には窒化シリコン層を
堆積し、これをパターン化して絶縁分離領域14を形成
する。次いで第2導電層、一般にはクロム層を堆積し、
これをパターン化して第1スイッチングダイオードD
1′及び第2スイッチングダイオードD2″のアノード
を関連する行導体5a,6aにそれぞれ結合する第1の
相互接続部15a及び15bと、第1スイッチングダイ
オードD1′のカソードを関連する第2スイッチングダ
イオードD2′のアノードに結合すると共に第2スイッ
チングダイオードD2″のカソードを関連する第1スイ
ッチングダイオードD1″のアノードに結合する第2の
相互接続部16a及び16bと、列導体4の少なくとも
一部を形成する。こうして形成したものの上に、必要に
応じ、図示してはないが、ポリイミド層の如き透明の保
護絶縁層を堆積することができる。
【0035】図4から明らかなように、残りの行N−
1,N+1,N+3,----の画素2aのレイアウト構造
は列N−2,N,N+2,----の画素2aの実際上鏡面
像になる。イメージセンサのレイアウトは任意の適当な
パターンとすることができるが、図4示すように、列及
び行導体4,5及び6が長方形、一般には方形状格子を
画成し、スイッチングダイオードD1及びD2とフォト
センシティブダイオード3が画素2aを占める面積をで
きるだけ少なくして、イメージセンサをできるだけ透明
にすることにより、このイメージセンサをディスプレイ
の如き他の物の上に載せても、このディスプレイを不鮮
明にすることのないようにすることができる。勿論、最
大感度が要求される(例えばX線診断装置のような)場
合には、フォトセンシティブダイオード3の面積をでき
るだけ大きくすべきである。
【0036】上述した構成では、全ダイオードD1,D
2及び3をp−i−nダイオードとしてではなくn−i
−pダイオードとして形成して、全ダイオードを同時に
形成することができる。しかし、必要に応じ、ダイオー
ドのうちの適当なものをp−i−nダイオードとして形
成することもできる。この場合には相互接続部及び金属
化パターンを簡単に単純化することができる。実際に
は、一般にn−i−pダイオードはp−i−nダイオー
ドよりもフォトセンシティブダイオードとして優れてお
り、又p−i−nダイオードはn−i−pダイオードよ
りもスイッチングダイオードとして優れていることを記
憶に留めて、特定の用途に合った最適な形態のダイオー
ドを用いるようにする。
【0037】スイッチングダイオードD1及びD2はフ
ォトセンシティブダイオード3とは異なり、スイッチン
グダイオードのアノード及びカソードには入射光が当た
らないようにするのに対し、フォトセンシティブダイオ
ード3には勿論、図5及び6に示すように、そのアノー
ド側に入射光が当たるようにすることは当業者には明ら
かである。
【0038】次に上述したイメージセンサの動作を図7
〜8につき説明するが、これらの各図にはイメージセン
サの一部と、1つの画素の読出し中に印加される電圧が
示されている。図7は行Nの画素Xの読出し中の状態を
示し、図8は行N+1の画素Yの読出し中の状態を示
す。
【0039】先ず図7につき説明すると、行N内の画素
Xに予め蓄積されている電荷を読出すためには、第1又
は左の行駆動回路70aが画素行N−2,N+2,N+
4,...の行導体5aに結合されたトランジスタ71
を導通させるとともに、画素行Nの行導体5aに結合さ
れたトランジスタ72を導通させる。従って、画素行N
の行導体5aが電圧供給ラインV+に結合されるととも
に、画素行N−2,N+2,N+4,..(N+2n,
ここでn≠0)の行導体5aが電圧供給ラインV−に結
合される。同時に、第2又は右の駆動回路70bが画素
行N+1,N+3,N+5,..(N+2n−1),こ
こでn≠0)の行導体5bに結合されたトランジスタ7
3を導通するとともに画素行N−1の行導体5bに結合
されたトランジスタ74を導通させる。従って、画素行
N−1の行導体5bが電圧供給ラインV++に結合され
るとともに、画素行N+1,N+3,N+5,...の
行導体5bが電圧供給ラインVoに結合される。電圧V
++は電圧V+より正であり、V+は電圧Voより正で
あり、Voは電圧V−より正である。
【0040】従って、行N内の画素2aのスイッチング
ダイオードD1及びD2が順方向バイアスされるととも
に、行N以外の行内の画素2aのスイッチングダイオー
ドが逆バイアスされる。このとき電流が行Nの画素のフ
ォトセンシティブダイオードキャパシタンスCを経て流
れ、関連する電荷検出増幅器8がこの電流を積分し、そ
の出力信号を出力シフトレジスタ兼デコーダ回路9に供
給し、この回路9がその出力端子Oからイメージ信号を
適当なメモリ又はディスプレイ(図示せず)に供給する
ことができる。電流は行Nの画素のフォトセンシティブ
ダイオードキャパシタンスCを経て、関連する2つの行
導体の平均電圧に達するまで流れる。従って、フォトセ
ンシティブダイオードキャパシタンスCを対応する読出
パルス中に完全に再充電することができ、従ってラグを
完全に、又は少なくとも相当に低減することができる。
【0041】行N+1内の画素Yに予め蓄積されている
電荷を読出すためには、図8に示すように、第1又は左
の駆動回路70aが画素行N−2,N,N+4,..
(N+2n)の行導体5aに結合されたトランジスタ7
1を導通させるとともに、画素行N+2の行導体5aに
結合されたトランジスタ72を導通させる。従って、画
素行N+2の行導体5aが電圧供給ラインV+に結合さ
れるとともに、画素行N−2,N,N+4,..(N+
2n,ここでn≠1)の行導体5aが電圧供給ラインV
−に結合される。同時に、第2又は右の駆動回路70b
が画素行N−1,N+1,N+5,..(N+2n−
1),ここでn≠2)の行導体5bに結合されたトラン
ジスタ73を導通するとともに画素行N+3の行導体5
bに結合されたトランジスタ74を導通させる。従っ
て、画素行N+3の行導体5bが電圧供給ラインV++
に結合されるとともに、画素行N−1,N+1,N+
5,...の行導体5bが電圧供給ラインVoに結合さ
れる。
【0042】従って、行N+1内の画素2aのスイッチ
ングダイオードD1及びD2が順方向バイアスされると
ともに、行N+1以外の行内の画素2aのスイッチング
ダイオードが逆バイアスされる。このとき電流が行N+
1の画素のフォトセンシティブダイオードキャパシタン
スCを経て流れ、関連する電荷検出増幅器8がこの電流
を積分し、その出力信号を出力シフトレジスタ兼デコー
ダ回路9に供給し、この回路9がその出力端子Oからイ
メージ信号を適当なメモリ又はディスプレイ(図示せ
ず)に供給することができる。
【0043】この場合にも、電流は行N+1の画素のフ
ォトセンシティブダイオードキャパシタンスCを経て、
関連する2つの行導体の平均電圧になるまで流れる。従
って、フォトセンシティブダイオードキャパシタンスC
が対応する読出パルス中に完全に再充電することがで
き、従ってラグを完全に、又は少なくとも相当に低減す
ることができる。
【0044】このことは、イメージセンサに関連するノ
イズが低い場合に、このイメージセンサを低光量の状態
にて過度のラグ問題を生ずることなく動作させることが
できることを意味している。又、選択画素行のスイッチ
ングダイオードD1及びD2を順方向に強くバイアスす
ると共に画素キャパシタンスを迅速に再充電することが
できるため、画素を一層迅速に読取ることができる。さ
らに、所定のフレーム時間(即ち全イメージセンサを読
出す時間)中のイメージセンサの垂直方向クロストー
ク、即ち列導体間のクロストークが極めて少なくなる。
その理由は、このようなクロストークは画素行が選択さ
れる時間とフレーム時間との関数であり、本例の場合に
は行選択時間を短縮し得るからである。さらに、行導体
の数が図1に示したような通常のイメージセンサの行導
体の数の1/2となり、又EP−A−233489に記
載されている装置の行導体数の1/4となる。このこと
は、本発明によるイメージセンサは行導体を大きく離間
し得るためにEP−A−555907に記載されている
方法で他の同様なイメージセンサと一緒に共通の基板上
に取付けるのに特に好適であることを意味する。
【0045】更に、導体で占められないイメージセンサ
の有効面積が増大する結果、イメージセンサを一層透明
にすることができ、例えばイメージセンサをディスプレ
イ上に装着する必要がある場合に望ましい。或いはま
た、その結果として蓄積素子を大きくすることができ、
これは入力光レベルが低く高感度が要求されるX線診断
用に特に望ましい。
【0046】各画素行は適当な行導体5,6に適当な電
圧を印加することにより逐次読取ることができる。特定
の行の画素を読出す場合には、残りの画素の関連するス
イッチングダイオードD1及びD2が逆バイアスされ、
従ってこれら残りの画素は積分期間にあり、この期間内
では、画素に入射する光によりフォトセンシティブダイ
オードにおいて電荷キャリヤの光−生成により生じた電
荷が画素に蓄積される。従って、積分期間中に画素行に
蓄積された電荷は次の読出し期間に読出され、画素行は
逐次読出される。所要に応じ列を同時に、又は逐次読出
すこともできる。
【0047】図9は電荷検出増幅器8の出力電圧Vout
と、第1読出しパルス又はフレーム1の直前の積分期間
中にのみ照射された所定画素に印加された読出しパルス
の数又はフレーム数との間の関係をグラフにして示した
図である。太い破線40は図1に示したタイプの画素に
対する結果を示し、これから明らかなように、この場合
にはラグがあるが、本発明によるイメージセンサの画素
に対する結果を示している細い破線41の場合はラグは
極めて少なく、実際上ラグは殆どない。
【0048】電荷蓄積装置1はイメージセンサ以外に、
例えばメモリ装置又は温度検知装置とすることができ、
しかも上述した薄膜技法の代わりに任意の適当な方法を
用いて形成し得ることは勿論である。
【0049】これまでに述べた本発明によるイメージセ
ンサの例では、前述したように垂直方向のクロストーク
は通常の装置に比べてかなり低減するも、同じ列におけ
る選択画素を読出している時に、不所望な電流が非選択
画素2aから列導体4に流れることにより若干の垂直方
向クロストークが依然生ずることがある。この垂直方向
のクロストークがあると、選択画素に対する電荷検出増
幅器8からの積分出力には、その選択画素の列における
他の全ての画素からの影響が含まれることになる。不所
望な列電流の主たる原因は、その列における非選択画素
からの“ダイナミックリーク”にある。従って、画素が
光を検出すると、フォトセンシティブダイオード3内に
おける電荷キリャヤの光−生成によりフォトセンシティ
ブダイオード3の固有キャパシタンスが放電され、これ
によりスイッチングダイオードD1間の電圧が変化する
ことになる。つ2のスイッチングダイオードD1とD2
との中間点Jにおける電圧Vx が変化することにより、
スイッチングダイオードD1のキャパシタンスCD 、従
って関連する列導体4へ次のような電流I、即ち I=CD dVx /dt (1) が流れて、垂直方向のクロストークが生ずる。このクロ
ストークは画像からの情報を除去することになり、例え
ば白の背景上の黒テキストが白で現れ、見えなくなるこ
とが起こり得る。
【0050】図10は垂直方向クロストークを除去又は
少なくとも著しく低減するよう設計された本発明イメー
ジセンサの変形例1aの一つの画素2bを示す。この変
形イメージセンサ1aは上述したイメージセンサと、第
1整流素子又はダイオードD1’及びD1”(簡便のた
めに一つの画素のみを示すため、第1及び第2整流素子
又はダイオードを以後単にD1及びD2と言う)がフォ
トセンシティブに形成されている点が相違する。これ
は、図5及び図6に示す実施例において、電極15a及
び16bを検出すべき光に透明な部分を有するように形
成することにより達成することができる。これは、電極
15a及び16bに接点孔を形成するメタライゼーショ
ンエッチングマスクを変更することにより最も簡単に達
成される。図10に示すキャパシタンスCX 及びCY
ダイオードD1及びD2の固有キャパシタンスを表し、
キャパシタンスCP はフォトセンシティブダイオード3
の固有キャパシタンスを表す。
【0051】図11は図10に示す画素2bの等価回路
図である。図11では、フォトセンシティブスイッチン
グダイオードD1はキャパシタンスCX と並列の電流源
Dとして表され、フォトセンシティブダイオード3は
キャパシタンスCP と並列の電流源IP として表され
る。非フォトセンシティブスイッチングダイオードD2
は入射光に応答しないためキャパシタンスCX と並列の
単なるキャパシタンスC Y として表される。
【0052】他の画素の読出し中に画素2bが光検知中
である状態を考察する。図11から、キルヒホッフの法
則を用いると、この場合には非選択画素2bから列導体
4へ流れるリーク電流IL は:IY をキャパシタンスC
P を流れる電流とすると、 IP −IL =IY (2) になり、IX をキャパシタンスCX を流れる電流とする
と、 IL +ID =IX (3) になり、IX 、IY は、
【数1】 になる。
【0053】式2、3及び4から、IL を表す次式が得
られる。
【数2】 式5から、リーク電流を零にする条件は: (CX +CY )IP =CP D (6) になる。従って、 IP /CP =ID /(CX +CY ) (7) にすれば、IL が零になり、垂直方向クロストークが除
去される。
【0054】フォトセンシティブ電流IPHOTO はKAC
に等しい。ここでKは定数、AC はフォトダイオードの
露光面積(即ちフォトダイオードの不透明電極又は接
点、例えば図5のフォトダイオード3の電極4の孔の面
積)である。従って、無リーク電流条件はフォトセンシ
ティブダイオードD1及び3の幾何学寸法により決定す
ることができる。画素のスイッチングダイオードD1及
び2が等しい面積であり、且つ3つの全ダイオードD
1,D2及び3の厚さが同一であるものとすると、式7
は: (ACD1 /2ADD1 )=(AC3/AD3) になる。ここで、ADD1 及びAD3はスイッチングダイオ
ードD1及びフォトセンシティブダイオード3の面積で
あり、従ってそれらのそれぞれのキャパシタンスに比例
し、ACD1 及びAC3はスイッチングダイオードD1及び
フォトセンシティブダイオード3の露光面積であり、従
ってそれぞれのダイオードの入射光により発生される光
電流に比例する。ここで、ダイオードD1,D2及び3
に関連して使用する”面積”はダイオード電極にほぼ平
行な平面内のダイオードの面積、即ち図5及び図6にお
いてダイオードが形成される基板10の表面10aに平
行な平面内のダイオードの面積を意味する。ダイオード
の厚さは基板10の表面に垂直方向に測る。
【0055】従って、ダイオードD1,D2及び3の相
対幾何学寸法を適切に選択することにより、選択された
画素の列内の非選択画素からのリーク電流は非選択画素
のダイオードD1のキャパシタンス/光電流ループ内を
内部的に流れ、列導体4を流れないため、垂直クロスト
ークが除去又は少なくとも相当低減される。従って、例
えば、2つのフォトセンシティブダイオードの接点孔の
面積ACD1 及びAC3が等しい場合、零垂直クロストーク
のためにはフォトセンシティブダイオード3の面積AD3
をフォトセンシティブスイッチングダイオードD1の面
積ADD1 の2倍にする必要がある。
【0056】当業者であれば、他の駆動方法が可能であ
り、例えば4つの異なる電圧レベルを供給しうる適当な
駆動源が使用可能である場合には単一の行ドライバを使
用することができる。また、電圧を逆にするのが好まし
い場合には、フォトセンシティブダイオード3も逆向き
にしてそれらのアノードを第1及び第2スイッチングダ
イオードD1及びD2の接続点Jに接続することができ
る。
【0057】また、行及び列導体は必ずしも図面に示す
ように水平及び垂直に延在させる必要はない。行導体を
垂直に、列導体を水平に延在させてもよく、即ち図3〜
7に示す装置を90°回転させることもできる。同様
に、行及び列導体は必ずしも互いに直交させる必要はな
く、任意の適当な配置を採用するとができる。ダイオー
ドの向きを逆にすることができること勿論であるが、こ
の場合には装置の駆動に必要とされる電圧も適切に変化
させる必要があること勿論である。
【0058】整流素子は必ずしもダイオードにする必要
はなく、一方向(逆方向)にできるだけ低い電流を流
し、多方向(順方向)に所要の電流を流す非対称特性を
有する任意の形態の素子、一般に2端子素子、とするこ
とができる。同様に、フォトセンシティブ素子も必ずし
もダイオードとする必要はなく、照射されたときののみ
電流を流す他のタイプのフォトセンシティブデバイスと
することができる。従って、例えば、フォトセンシティ
ブダイオードは適当なキャパシタンスと直列の、例えば
酸化鉛からなる光導電導体と置き換えることができる。
【0059】以上の説明を読めば、当業者であれば他の
種々の変更及び変形が可能である。例えば、上述した各
構成要素と等価の構成要素や、従来既知の構成要素を用
いることができ、更に上述した実施例の構成要素の一部
を交換したり、構成要素を加えたりすることもできる。
特許請求の範囲は構成要素の組合せとして記載されてい
るが、本発明で解決すべき技術的問題の一部又は全部を
解決する、しないにかかわらず、本明細書に開示された
新規な構成又は構成要素の組合せも本発明の範囲に含ま
れるものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は既知の電荷蓄積装置の一画素の簡略回路
図である。
【図2】既知の電荷蓄積装置の動作説明用波形図であ
る。
【図3】本例ではイメージセンサである本発明の電荷蓄
積装置の回路レイアウト図である。
【図4】本発明のイメージセンサの一部分の可能なレイ
アウトを示す平面図である。
【図5】図4のV−V線上の断面図である。
【図6】図4のVI−VI線上の断面図である。
【図7】本発明イメージセンサの動作説明のためのその
一部分の回路図である。
【図8】本発明イメージセンサの動作説明のためのその
一部分の回路図である。
【図9】本発明電荷蓄積装置の画素と図1に示す画素の
ラグ特性の差を示すグラフである。
【図10】本発明イメージセンサの変形例の画素の回路
図である。
【図11】図10に示す画素の等価回路図である。
【符号の説明】
1 電荷蓄積装置 2 アレイ 2a、2b 画素 3 電荷蓄積素子 4 第1(列)導体 5 第2導体 6 第3導体 7 駆動回路 8 電荷検出増幅器 9 出力シフトレジスタ兼デコーダ回路 D1,D2 スイッチングダイオード
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ジェラード フランシス ハーキン イギリス国 ロンドン エスダブリュー17 8キュージー バルハム リサードン ロード 92 フラット 1 エイチ

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 電荷蓄積用の蓄積素子のアレイを具え、
    これらの蓄積素子は行及び列に配置され、列内の蓄積素
    子は第1導体に結合され、行内の蓄積素子は第2及び第
    3導体に結合され、且つ行内の各蓄積素子は関連する第
    2導体に第1整流素子を経て結合されるとともに、関連
    する第3導体に第2整流素子を経て結合され、第1及び
    第2整流素子が印加電圧により順方向バイアスされたと
    きに電流を流すように構成された電荷蓄積装置にいて、
    各蓄積素子行の第3導体が隣接する蓄積素子行の第2導
    体も形成し、一つ置きの行内の蓄積素子と関連する第1
    及び第2整流素子が残りの行内の蓄積素子と関連する第
    1及び第2整流素子に対し逆向きに配置され、順方向バ
    イアスのとき前記一つ置きの行内の蓄積素子と関連する
    第1及び第2整流素子が第2及び第3導体間に一方向に
    電流を流し、逆バイアスのとき前記残りの行内の蓄積素
    子と関連する第1及び第2整流素子が第2及び第3導体
    間に反対方向に電流を流すように構成され、且つ選択さ
    れた行の蓄積素子に蓄積されている電荷を読出すために
    選択された行の蓄積素子と関連する整流素子のみを順方
    向バイアスする電圧を第2及び第3導体に供給する手段
    が設けられていることを特徴とする電荷蓄積装置。
  2. 【請求項2】 各蓄積素子は、一動作モードにおいて入
    射光に応答して電荷を蓄積するフォトセンシティブ素子
    からなることを特徴とする請求項1記載の電荷蓄積装
    置。
  3. 【請求項3】 フォトセンシティブ素子はフォトセンシ
    ティブダイオードであることを特徴とする請求項2記載
    の電荷蓄積装置。
  4. 【請求項4】 各蓄積素子と関連する整流素子の一方が
    フォトセンシティブ素子で構成され、且つ整流素子と蓄
    積素子が、同一の蓄積素子列内の一つの蓄積素子からの
    電荷の読出し中における他の蓄積素子からのリーク電流
    が減少するように配置されていることを特徴とする請求
    項2又は3記載の電荷蓄積装置。
  5. 【請求項5】 整流素子はダイオードであることを特徴
    とする請求項1〜4のいずれかに記載の電荷蓄積装置。
  6. 【請求項6】 蓄積素子及び整流素子が接合ダイオード
    で構成され、各蓄積素子及び関連する第1及び第2整流
    素子の一方がフォトセンシティブであり、整流素子及び
    蓄積素子が、各蓄積素子及び関連する第1及び第2整流
    素子に対し、 (CX +CY )IP =CP D ここで、CX ,CY 及びCP はフォトセンシティブ整流
    素子、他方の整流素子及びフォトセンシティブ蓄積素子
    の固有キャパシタンス、及びIP 及びID はフォトセン
    シティブ蓄積素子及びフォトセンシティブ整流素子に入
    射した光により発生される電流、となるように配置され
    ていることを特徴とする請求項1記載の電荷蓄積装置。
  7. 【請求項7】 各蓄積素子に対し、関連する整流素子が
    所定の面積を有し、蓄積素子及びフォトセンシティブ整
    流素子が入射光に露光される第2の所定面積を有し、整
    流素子及び蓄積素子のそれぞれの面積が、 (ACD1 /2ADD1 )=(AC3/AD3) ここで、AD3及びADD1 は蓄積素子及び関連する整流素
    子の面積、及びAC3及びACD1 は蓄積素子及び関連する
    フォトセンシティブ整流素子の入射光に露光される第2
    の所定面積、の関係にあることを特徴とする請求項6記
    載の電荷蓄積装置。
  8. 【請求項8】 選択された行の蓄積素子に蓄積されてい
    る電荷を読出すために選択された蓄積素子行と関連する
    整流素子のみを順方向バイアスする電圧を第2及び第3
    導体に供給する手段が、第2導体に電圧を供給する第1
    電圧供給手段及び第3導体に電圧を供給する第2電圧供
    給手段を具えることを特徴とする請求項1〜7のいずれ
    かに記載の電荷蓄積装置。
  9. 【請求項9】 読出すべき電荷蓄積素子を含む選択され
    た行と関連する第2及び第3導体の一方に第1電圧を、
    他方に第2電圧を供給して関連する第1及び第2整流素
    子を順方向バイアスし、且つ選択された行の前記他方の
    (第2)導体に隣接する任意の第2導体に第3電圧を、
    選択された行の前記一方の(第2)導体に隣接する任意
    の第2導体に第4電圧を供給して選択された行に隣接す
    る各電荷蓄積素子行と関連する第1及び第2整流素子を
    逆バイアスするとともに、残りの第2導体に交互に第2
    及び第3電圧を供給して残りの電荷蓄積素子行と関連す
    る第1及び第2整流素子を逆バイアスすることにより一
    つの列の各電荷蓄積素子に蓄積された電荷を逐次読出す
    ことを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載の電荷
    蓄積装置の動作方法。
  10. 【請求項10】 第2電圧が大地電圧であり、第1電圧
    が第2電圧に対し正であり、第3電圧が第2電圧に対し
    負であり、第4電圧が第1電圧に対し正であることを特
    徴とする請求項9記載の方法。
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