JPH072584A - 疎水性及び疎油性層を備える固体並びに前記層の塗膜方法 - Google Patents
疎水性及び疎油性層を備える固体並びに前記層の塗膜方法Info
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- JPH072584A JPH072584A JP15794A JP15794A JPH072584A JP H072584 A JPH072584 A JP H072584A JP 15794 A JP15794 A JP 15794A JP 15794 A JP15794 A JP 15794A JP H072584 A JPH072584 A JP H072584A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ペルフルオロアルキルハロシラン又はペルフ
ルオロアルキルアルコキシシランを有機溶媒混合物中の
希釈溶液として出発し、使用される有機シランに固有の
臨界温度Ｔｃ以下の温度に全反応工程を維持することに
より、再現可能で良好な品質のグラフティングを実現す
る。 【構成】 式： 【化１】 （式中、Ｒ1，Ｒ2及びＲ3は同一又は異なり、各々ハロ
ゲン原子、１〜３個の炭素原子を含むアルコキシ基、又
は１もしくは２個の炭素原子を含むアルキル基を表し、
Ｒ1，Ｒ2及びＲ3基の少なくとも１個はハロゲン原子又
はアルコキシ基であり、ａは１〜１０の数であり、ｂは
０〜２の数であり、Ｑは直接結合又は２価結合基であ
る）の有機シランの有機溶液による固体の水和表面のシ
ラン化方法であって、前記有機シランの臨界温度Ｔｃよ
りも低い温度で実施することを特徴とする方法。
ルオロアルキルアルコキシシランを有機溶媒混合物中の
希釈溶液として出発し、使用される有機シランに固有の
臨界温度Ｔｃ以下の温度に全反応工程を維持することに
より、再現可能で良好な品質のグラフティングを実現す
る。 【構成】 式： 【化１】 （式中、Ｒ1，Ｒ2及びＲ3は同一又は異なり、各々ハロ
ゲン原子、１〜３個の炭素原子を含むアルコキシ基、又
は１もしくは２個の炭素原子を含むアルキル基を表し、
Ｒ1，Ｒ2及びＲ3基の少なくとも１個はハロゲン原子又
はアルコキシ基であり、ａは１〜１０の数であり、ｂは
０〜２の数であり、Ｑは直接結合又は２価結合基であ
る）の有機シランの有機溶液による固体の水和表面のシ
ラン化方法であって、前記有機シランの臨界温度Ｔｃよ
りも低い温度で実施することを特徴とする方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は疎水性及び疎油性層で被
覆された固体支持体並びにその製造方法に係る。
覆された固体支持体並びにその製造方法に係る。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】単分子
層の堆積による固体表面の改質は種々の産業でますます
注目されつつある。ガラス、セラミック、金属又はメタ
ロイドのような種々の支持体を疎水性又は疎油性又は絶
縁性にする処理は多くの適用範囲がある。
層の堆積による固体表面の改質は種々の産業でますます
注目されつつある。ガラス、セラミック、金属又はメタ
ロイドのような種々の支持体を疎水性又は疎油性又は絶
縁性にする処理は多くの適用範囲がある。
【０００３】エレクトロニクスの分野では、超薄型電気
絶縁層を作成できることが必要である。また、例えば道
路用車両又は建築物のガラスの氷結防止処理や、例えば
船舶の防汚処理も求められている。この種の表面改質を
得るための手段の１つとして、炭化水素又はペルフルオ
ロ長鎖を水和固体表面に化学的にグラフトする方法があ
る。このグラフティングはハロシラン型の基、より特定
的にはトリクロロシラン又はアルコキシシラン、特にト
リアルコキシシランを反応させることにより行われる。
「シラン化（ｓｉｌａｎｉｚａｔｉｏｎ）」なる用語は
一般にこの種の表面処理を指称するために使用される。
シラン化の原理は文献中に広く記載されており、例えば
Ｉ．Ｍ．Ｔｉｄｓｗｅｌｌら，Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｐｈｙ
ｓ．， ９５（４）， ２８５４ （１９９１）；Ｒ．
Ｍａｏｚら，Ｊ．ＣｏｌｌｏｉｄＩｎｔｅｒｆａｃｅ
Ｓｃｉ．， １００（２）， ４６５（１９９１）；Ｆ
Ｒ２ ６３５ ３１９；ＪＰ ６２１５３１４７；ＪＰ
５８１４２９５８を参照されたい。
絶縁層を作成できることが必要である。また、例えば道
路用車両又は建築物のガラスの氷結防止処理や、例えば
船舶の防汚処理も求められている。この種の表面改質を
得るための手段の１つとして、炭化水素又はペルフルオ
ロ長鎖を水和固体表面に化学的にグラフトする方法があ
る。このグラフティングはハロシラン型の基、より特定
的にはトリクロロシラン又はアルコキシシラン、特にト
リアルコキシシランを反応させることにより行われる。
「シラン化（ｓｉｌａｎｉｚａｔｉｏｎ）」なる用語は
一般にこの種の表面処理を指称するために使用される。
シラン化の原理は文献中に広く記載されており、例えば
Ｉ．Ｍ．Ｔｉｄｓｗｅｌｌら，Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｐｈｙ
ｓ．， ９５（４）， ２８５４ （１９９１）；Ｒ．
Ｍａｏｚら，Ｊ．ＣｏｌｌｏｉｄＩｎｔｅｒｆａｃｅ
Ｓｃｉ．， １００（２）， ４６５（１９９１）；Ｆ
Ｒ２ ６３５ ３１９；ＪＰ ６２１５３１４７；ＪＰ
５８１４２９５８を参照されたい。
【０００４】シラン化方法はＪ．Ｓａｇｉｖ，Ｊ．Ａ
ｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．， １０２，（１）， ９２
（１９８０）に詳細に記載されている。
ｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．， １０２，（１）， ９２
（１９８０）に詳細に記載されている。
【０００５】ペルフルオロアルキルハロシラン又はペル
フルオロアルキルアルコキシシランを使用する公知方法
では良好な品質と良好な経時挙動とを有する層を再現可
能に得ることはできず、更に、一般には使用前に熱処理
が必要である（この点についてはＵＳ ４９９７６８４
及びＪＰ ５８１４２９５８を参照されたい）。
フルオロアルキルアルコキシシランを使用する公知方法
では良好な品質と良好な経時挙動とを有する層を再現可
能に得ることはできず、更に、一般には使用前に熱処理
が必要である（この点についてはＵＳ ４９９７６８４
及びＪＰ ５８１４２９５８を参照されたい）。
【０００６】
【課題を解決するための手段】ペルフルオロアルキルハ
ロシラン又はペルフルオロアルキルアルコキシシランか
ら出発するグラフティングは、使用される有機シランに
固有の臨界温度Ｔｃ以下の温度でグラフティングを行っ
た場合に再現可能であり且つ良好な品質を呈することが
ここに知見された。
ロシラン又はペルフルオロアルキルアルコキシシランか
ら出発するグラフティングは、使用される有機シランに
固有の臨界温度Ｔｃ以下の温度でグラフティングを行っ
た場合に再現可能であり且つ良好な品質を呈することが
ここに知見された。
【０００７】これらの層は時間の経過によく耐える顕著
な疎油性及び疎水性を示す。これらの層は適切に洗浄及
び水和された表面に、該表面にグラフトするために使用
することが所望される有機シランの有機溶液を塗布する
ことにより得られる。被覆済み支持体を臨界温度Ｔｃよ
りも高い温度で事後使用する場合にもこれらの利点は保
たれる。本発明に従ってグラフティングを行う場合に
は、従来技術で推奨されているように使用前に被覆済み
支持体をわざわざ熱処理する必要がない。
な疎油性及び疎水性を示す。これらの層は適切に洗浄及
び水和された表面に、該表面にグラフトするために使用
することが所望される有機シランの有機溶液を塗布する
ことにより得られる。被覆済み支持体を臨界温度Ｔｃよ
りも高い温度で事後使用する場合にもこれらの利点は保
たれる。本発明に従ってグラフティングを行う場合に
は、従来技術で推奨されているように使用前に被覆済み
支持体をわざわざ熱処理する必要がない。
【０００８】本発明のシラン化処理は水和固体表面に適
用することができ、従って、表面にヒドロキシル基を含
む固体に適用することができる。支持体として使用可能
な固体の例としては、ガラス、セラミック（好ましくは
酸化物型のセラミック）、金属（特にアルミニウム）又
はメタロイド（例えば酸化硅素）を挙げることができ
る。
用することができ、従って、表面にヒドロキシル基を含
む固体に適用することができる。支持体として使用可能
な固体の例としては、ガラス、セラミック（好ましくは
酸化物型のセラミック）、金属（特にアルミニウム）又
はメタロイド（例えば酸化硅素）を挙げることができ
る。
【０００９】本発明で使用される有機シランは構造：
【００１０】
【化３】
【００１１】［式中、Ｒ1，Ｒ2及びＲ3は同一又は異な
り、各々ハロゲン原子（好ましくは塩素原子）、１〜３
個の炭素原子を含むアルコキシ基（好ましくはメトキシ
又はエトキシ）、又は１もしくは２個の炭素原子を含む
アルキル基を表し、Ｒ1，Ｒ2及びＲ3基の少なくとも１
個はハロゲン原子又はアルコキシ基を表し、ａは１〜１
０の数、好ましくは５〜９であり、ｂは０〜２の数であ
り、Ｑは直接結合（換言するならばＱは基として存在し
ない）又は、ｂが０以外であるという条件下で例えばエ
ーテル、エステル又はチオエーテル基のような２価結合
基である］を有する。
り、各々ハロゲン原子（好ましくは塩素原子）、１〜３
個の炭素原子を含むアルコキシ基（好ましくはメトキシ
又はエトキシ）、又は１もしくは２個の炭素原子を含む
アルキル基を表し、Ｒ1，Ｒ2及びＲ3基の少なくとも１
個はハロゲン原子又はアルコキシ基を表し、ａは１〜１
０の数、好ましくは５〜９であり、ｂは０〜２の数であ
り、Ｑは直接結合（換言するならばＱは基として存在し
ない）又は、ｂが０以外であるという条件下で例えばエ
ーテル、エステル又はチオエーテル基のような２価結合
基である］を有する。
【００１２】使用される有機シランの臨界温度は上記ａ
及びｂの関数であり、臨界温度（℃）は式：Ｔｃ（℃）
＝５×（ａ＋１）＋３．５×ｂ−４０を使用して計算す
ることができる。従って、臨界温度は±３℃の近似値と
して得られる。
及びｂの関数であり、臨界温度（℃）は式：Ｔｃ（℃）
＝５×（ａ＋１）＋３．５×ｂ−４０を使用して計算す
ることができる。従って、臨界温度は±３℃の近似値と
して得られる。
【００１３】臨界温度以下の温度でグラフティングを実
施すると適切である。臨界温度の計算値よりも数度、例
えば３℃低い温度にすると好ましい。臨界温度は実験に
より裏付けることができる。このためには、グラフティ
ング温度が表面の疎水性又は疎油性に及ぼす作用を測定
すればよい。その結果、層がＴｃよりも低い温度でグラ
フトされた場合には表面品質が良好であり且つ実質的に
グラフティング温度から独立していることを確認するこ
とができる。
施すると適切である。臨界温度の計算値よりも数度、例
えば３℃低い温度にすると好ましい。臨界温度は実験に
より裏付けることができる。このためには、グラフティ
ング温度が表面の疎水性又は疎油性に及ぼす作用を測定
すればよい。その結果、層がＴｃよりも低い温度でグラ
フトされた場合には表面品質が良好であり且つ実質的に
グラフティング温度から独立していることを確認するこ
とができる。
【００１４】有機シランはミセルの形成を避けるよう
に、表面処理に使用される有機溶液中に低濃度（１×１
０-4〜１×１０-2ｍｏｌ／ｌ）で導入することが好まし
い。この溶液は更に、１種以上の非極性炭化水素溶媒
（例えばｎ−アルカン）と、１種以上の極性溶媒（例え
ばジクロロメタン、トリクロロメタン、トリクロロエタ
ン、トリクロロエチレン、トリクロロトリフルオロエタ
ン及び四塩化炭素のような塩素化溶媒）とから構成され
る有機溶媒系も含む。溶媒系は好ましくは少なくとも７
０容量％の非極性溶媒と好ましくは少なくとも５容量％
の極性溶媒とを含む。溶媒に関するこれらの条件が満た
されるならば、臨界温度Ｔｃは溶媒の種類から独立し、
使用される有機シランの種類のみに依存する。
に、表面処理に使用される有機溶液中に低濃度（１×１
０-4〜１×１０-2ｍｏｌ／ｌ）で導入することが好まし
い。この溶液は更に、１種以上の非極性炭化水素溶媒
（例えばｎ−アルカン）と、１種以上の極性溶媒（例え
ばジクロロメタン、トリクロロメタン、トリクロロエタ
ン、トリクロロエチレン、トリクロロトリフルオロエタ
ン及び四塩化炭素のような塩素化溶媒）とから構成され
る有機溶媒系も含む。溶媒系は好ましくは少なくとも７
０容量％の非極性溶媒と好ましくは少なくとも５容量％
の極性溶媒とを含む。溶媒に関するこれらの条件が満た
されるならば、臨界温度Ｔｃは溶媒の種類から独立し、
使用される有機シランの種類のみに依存する。
【００１５】本発明の方法の最低適用温度はシラン化溶
液の凝固温度に対応する。
液の凝固温度に対応する。
【００１６】有機シラン組成物を支持体に塗布する前
に、表面を洗浄して有機及び無機汚染物を除去し、グラ
フティングに適切なように表面を水和させることが望ま
しい。洗浄にはあらゆる適法を使用することができる。
非限定的な例としては、溶媒及び／又は洗剤溶液及び／
又はオゾンによる光化学処理を利用することができる。
前記光化学処理の場合には、処理すべき表面を酸素雰囲
気中で紫外線照射する。
に、表面を洗浄して有機及び無機汚染物を除去し、グラ
フティングに適切なように表面を水和させることが望ま
しい。洗浄にはあらゆる適法を使用することができる。
非限定的な例としては、溶媒及び／又は洗剤溶液及び／
又はオゾンによる光化学処理を利用することができる。
前記光化学処理の場合には、処理すべき表面を酸素雰囲
気中で紫外線照射する。
【００１７】洗浄直後に所望の温度で有機シラン組成物
を塗布しなければならない。浴が完全に乾くために十分
な時間、即ち数分間、一般には約１０分間、組成物を作
用させる。
を塗布しなければならない。浴が完全に乾くために十分
な時間、即ち数分間、一般には約１０分間、組成物を作
用させる。
【００１８】使用される有機シランの感湿性に応じて、
シラン化溶液を保護するために必要な処置を講じる。例
えば、本発明の方法の全工程を通して窒素又はアルゴン
の不活性雰囲気下に溶液を維持する。他方、シラン化後
は、グラフトした層は耐湿性であるため、被覆済み固体
を周囲の空気に再び暴露してもよい。
シラン化溶液を保護するために必要な処置を講じる。例
えば、本発明の方法の全工程を通して窒素又はアルゴン
の不活性雰囲気下に溶液を維持する。他方、シラン化後
は、グラフトした層は耐湿性であるため、被覆済み固体
を周囲の空気に再び暴露してもよい。
【００１９】上記方法は有機シランの加水分解反応を利
用し、処理済み支持体の表面を式：
用し、処理済み支持体の表面を式：
【００２０】
【化４】
【００２１】の有機硅素基で被覆するものである。上記
式中、上記Ｒ1，Ｒ2又はＲ3基がアルキル基を表す場合
に限り、残りの硅素原子の不帰属原子価は必然的に前記
Ｒ1，Ｒ2又はＲ3基に結合したままである。Ｒ1，Ｒ2又
はＲ3がハロゲン原子又はアルコキシ基を表す場合に
は、これらの基は支持体のヒドロキシル基と部分的に反
応している。コーティングが周囲空気又は水和媒体に再
び暴露されると、支持体の表面と反応していないＳｉ−
ハロゲン又はＳｉ−アルコキシ結合は水分子と反応し、
Ｓｉ−ＯＨ結合を形成する。これらのヒドロキシル基は
大部分が縮合し、相隣接する有機硅素基間にＳｉ−Ｏ−
Ｓｉ橋を形成する。
式中、上記Ｒ1，Ｒ2又はＲ3基がアルキル基を表す場合
に限り、残りの硅素原子の不帰属原子価は必然的に前記
Ｒ1，Ｒ2又はＲ3基に結合したままである。Ｒ1，Ｒ2又
はＲ3がハロゲン原子又はアルコキシ基を表す場合に
は、これらの基は支持体のヒドロキシル基と部分的に反
応している。コーティングが周囲空気又は水和媒体に再
び暴露されると、支持体の表面と反応していないＳｉ−
ハロゲン又はＳｉ−アルコキシ結合は水分子と反応し、
Ｓｉ−ＯＨ結合を形成する。これらのヒドロキシル基は
大部分が縮合し、相隣接する有機硅素基間にＳｉ−Ｏ−
Ｓｉ橋を形成する。
【００２２】従って、この方法は、ａ）酸素原子を介し
て式：
て式：
【００２３】
【化５】
【００２４】の有機硅素基を支持体の表面に結合し、
ｂ）前記有機硅素基が反応前に２個以上のハロゲン又は
アルコキシ基を含んでいた場合には、酸素原子を介して
前記有機硅素基を他の硅素基と結合し、ｃ）硅素原子に
結合した低比率のＯＨヒドロキシル基を形成するもので
ある。
ｂ）前記有機硅素基が反応前に２個以上のハロゲン又は
アルコキシ基を含んでいた場合には、酸素原子を介して
前記有機硅素基を他の硅素基と結合し、ｃ）硅素原子に
結合した低比率のＯＨヒドロキシル基を形成するもので
ある。
【００２５】被覆済み表面を特性決定するためには、所
与の液体の液滴縁部と前記表面との接触角度を測定す
る。特に、ｎ−アルカンの同族列を使用し、表面張力γ
lvの関数としてこれらの液体の接触角度θのコサインを
プロットするＺｉｓｍａｎの方法（Ｗ．Ａ．Ｚｉｓｍａ
ｎ， Ａｄｖ．Ｃｈｅｍ．Ｓｅｒｉｅｓ， ４３，
１， １９６４； Ｉｎｄ．Ｅｎｇ．Ｃｈｅｍ．， ５
５，１９，１９６３）を適用することにより、臨界表面
張力γcを決定する。直線をｃｏｓθ＝１に外挿する
と、γcが得られる。いずれの場合も２５℃で平衡とな
る角度を使用する。
与の液体の液滴縁部と前記表面との接触角度を測定す
る。特に、ｎ−アルカンの同族列を使用し、表面張力γ
lvの関数としてこれらの液体の接触角度θのコサインを
プロットするＺｉｓｍａｎの方法（Ｗ．Ａ．Ｚｉｓｍａ
ｎ， Ａｄｖ．Ｃｈｅｍ．Ｓｅｒｉｅｓ， ４３，
１， １９６４； Ｉｎｄ．Ｅｎｇ．Ｃｈｅｍ．， ５
５，１９，１９６３）を適用することにより、臨界表面
張力γcを決定する。直線をｃｏｓθ＝１に外挿する
と、γcが得られる。いずれの場合も２５℃で平衡とな
る角度を使用する。
【００２６】疎油性はこうして測定される臨界表面張力
が低ければ低いほど高い。使用する有機シランを考慮す
ると、本発明の方法では１２ｍＮ／ｍ未満といった極め
て低い値が得られる。
が低ければ低いほど高い。使用する有機シランを考慮す
ると、本発明の方法では１２ｍＮ／ｍ未満といった極め
て低い値が得られる。
【００２７】得られる層の疎水性は、水滴の縁部と支持
体の表面に堆積された層との接触角度を測定することに
より特性決定される。特に、層はこの接触角度が１００
°以上の場合に氷結防止特性を示す。これらの測定は２
５℃で行われる。
体の表面に堆積された層との接触角度を測定することに
より特性決定される。特に、層はこの接触角度が１００
°以上の場合に氷結防止特性を示す。これらの測定は２
５℃で行われる。
【００２８】経時挙動は促進老化、例えば被覆済み支持
体を沸騰水に浸漬することにより測定することができ
る。その後、前記老化がコーティングの疎水性又は疎油
性に及ぼす影響を観測する。
体を沸騰水に浸漬することにより測定することができ
る。その後、前記老化がコーティングの疎水性又は疎油
性に及ぼす影響を観測する。
【００２９】以下、非限定的な実施例により本発明を説
明する。
明する。
【００３０】
【実施例】実施例１ 顕微鏡用ガラススライドを支持体として使用した。１．
クロロホルムで数分間脱脂し、２．塩酸（濃度３７容量
％）５０容量％及び９５％エタノール５０容量％を含有
する溶液に含浸させ、３．新たに蒸留した水で順次濯
ぎ、４．１００℃でオーブン乾燥することからなる手順
に従ってスライドの表面を洗浄した。
クロロホルムで数分間脱脂し、２．塩酸（濃度３７容量
％）５０容量％及び９５％エタノール５０容量％を含有
する溶液に含浸させ、３．新たに蒸留した水で順次濯
ぎ、４．１００℃でオーブン乾燥することからなる手順
に従ってスライドの表面を洗浄した。
【００３１】洗浄直後に、約８℃の臨界温度を有する式
Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2Ｓ（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＥｔ）3のフッ
素化トリエトキシシラン１×１０-3ｍｏｌ／ｌを含有す
る溶液にスライドを１０分間浸漬した。この溶液の溶媒
系はｎ−ヘプタン８０容量％及び四塩化炭素２０容量％
から構成するものとした。
Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2Ｓ（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＥｔ）3のフッ
素化トリエトキシシラン１×１０-3ｍｏｌ／ｌを含有す
る溶液にスライドを１０分間浸漬した。この溶液の溶媒
系はｎ−ヘプタン８０容量％及び四塩化炭素２０容量％
から構成するものとした。
【００３２】反応後、スライドを溶液から取り出し完全
に乾燥した。グラフティング温度の関数としてγcの測
定値を下記表にまとめる。測定は２回行った。
に乾燥した。グラフティング温度の関数としてγcの測
定値を下記表にまとめる。測定は２回行った。
【００３３】
【表１】
【００３４】グラフティングを臨界温度よりも低い温度
で行った場合には、臨界表面張力は実質的にグラフティ
ング温度から独立し、著しく低く、１２ｍＮ／ｍ未満で
あった。
で行った場合には、臨界表面張力は実質的にグラフティ
ング温度から独立し、著しく低く、１２ｍＮ／ｍ未満で
あった。
【００３５】実施例２ 実施例１のエトキシシランの代わりに約８℃の臨界温度
を有するトリメトキシシランＣ8Ｆ17（ＣＨ2）2Ｓ（Ｃ
Ｈ2）2Ｓｉ（ＯＭｅ）3を同一濃度で使用した以外は、
実施例１と同一の操作条件下で操作した。結果を下記表
にまとめる。
を有するトリメトキシシランＣ8Ｆ17（ＣＨ2）2Ｓ（Ｃ
Ｈ2）2Ｓｉ（ＯＭｅ）3を同一濃度で使用した以外は、
実施例１と同一の操作条件下で操作した。結果を下記表
にまとめる。
【００３６】
【表２】
【００３７】臨界温度よりも低い温度でグラフティング
を行った場合には、臨界表面張力は実質的にグラフティ
ング温度から独立し、著しく低く、１２ｍＮ／ｍ未満で
あった。
を行った場合には、臨界表面張力は実質的にグラフティ
ング温度から独立し、著しく低く、１２ｍＮ／ｍ未満で
あった。
【００３８】実施例３ 表面酸化したシリコンディスクを支持体として使用し
た。表面はシラン化に必要なヒドロキシル基を含む。
１．クロロホルムで数分間脱脂し、２．酸素雰囲気下で
ＵＶ照射により光化学処理し、３．硫酸７０容量％及び
過酸化水素３０容量％からなる溶液を新たに調製し、１
５０℃に加熱した中に含浸させることにより表面を数分
間化学的に酸化させ、４．新たに蒸留した水で順次濯
ぎ、５．１００℃でオーブン乾燥し、６．２の光化学処
理を再度行うことからなる手順によりディスクを洗浄し
た。
た。表面はシラン化に必要なヒドロキシル基を含む。
１．クロロホルムで数分間脱脂し、２．酸素雰囲気下で
ＵＶ照射により光化学処理し、３．硫酸７０容量％及び
過酸化水素３０容量％からなる溶液を新たに調製し、１
５０℃に加熱した中に含浸させることにより表面を数分
間化学的に酸化させ、４．新たに蒸留した水で順次濯
ぎ、５．１００℃でオーブン乾燥し、６．２の光化学処
理を再度行うことからなる手順によりディスクを洗浄し
た。
【００３９】洗浄直後に、約２℃の臨界温度を有する式
Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2ＳｉＣｌ3のフッ素化トリクロロシラ
ン１×１０-3ｍｏｌ／ｌを含有する溶液にディスクを１
０分間浸漬した。この溶液の溶媒系はｎ−オクタン８０
容量％及び四塩化炭素２０容量％から構成するものとし
た。
Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2ＳｉＣｌ3のフッ素化トリクロロシラ
ン１×１０-3ｍｏｌ／ｌを含有する溶液にディスクを１
０分間浸漬した。この溶液の溶媒系はｎ−オクタン８０
容量％及び四塩化炭素２０容量％から構成するものとし
た。
【００４０】結果を下記表にまとめる。
【００４１】
【表３】
【００４２】グラフティングを−３及び０℃（Ｔｃ未
満）で実施すると、臨界表面張力は著しく低く、１２ｍ
Ｎ／ｍ未満であった。
満）で実施すると、臨界表面張力は著しく低く、１２ｍ
Ｎ／ｍ未満であった。
【００４３】実施例４ アルミニウムシートを支持体として使用した。段階３の
代わりに室温で発煙硝酸溶液に５分間含浸させた以外は
実施例３に記載した手順に従ってシートを洗浄した。
代わりに室温で発煙硝酸溶液に５分間含浸させた以外は
実施例３に記載した手順に従ってシートを洗浄した。
【００４４】洗浄直後に、式Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2ＳｉＣ
ｌ3のフッ素化トリクロロシラン１×１０-3ｍｏｌ／ｌ
を含有する溶液にシートを１０分間浸漬した。この溶液
の溶媒系はｎ−オクタン８０容量％及び四塩化炭素２０
容量％から構成するものとした。
ｌ3のフッ素化トリクロロシラン１×１０-3ｍｏｌ／ｌ
を含有する溶液にシートを１０分間浸漬した。この溶液
の溶媒系はｎ−オクタン８０容量％及び四塩化炭素２０
容量％から構成するものとした。
【００４５】実施例３と同様の結果が得られた。
【００４６】実施例５ 実施例３と同一条件下で一方は−３℃、他方は１２℃で
Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2ＳｉＣｌ3によりグラフトした２つの
酸化硅素ディスクを支持体として使用し、水滴の接触角
度を測定した。
Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2ＳｉＣｌ3によりグラフトした２つの
酸化硅素ディスクを支持体として使用し、水滴の接触角
度を測定した。
【００４７】結果を下記表にまとめる。
【００４８】
【表４】
【００４９】Ｔｃ（Ｔｃ＝２℃、実施例３参照）よりも
低い温度である−３℃で形成されたコーティングのほう
が高疎水性であり、顕著な氷結防止性を示す。
低い温度である−３℃で形成されたコーティングのほう
が高疎水性であり、顕著な氷結防止性を示す。
【００５０】実施例６ 実施例２の条件下で一方は５℃、他方は２０℃でＣ8Ｆ
17（ＣＨ2）2Ｓ（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＭｅ）3によりグラ
フトした２つのガラススライドを支持体として使用し、
水滴の接触角度を測定した。
17（ＣＨ2）2Ｓ（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＭｅ）3によりグラ
フトした２つのガラススライドを支持体として使用し、
水滴の接触角度を測定した。
【００５１】結果を下記表にまとめる。
【００５２】
【表５】
【００５３】Ｔｃ（Ｔｃ＝８℃、実施例２参照）よりも
低い温度である５℃で形成されたコーティングのほうが
高疎水性であり、顕著な氷結防止性を示す。
低い温度である５℃で形成されたコーティングのほうが
高疎水性であり、顕著な氷結防止性を示す。
【００５４】実施例７ シランＣ10Ｆ21（ＣＨ2）2−ＳｉＣｌ3を使用して実施
例３と同様に操作した。結果を下記表にまとめる。
例３と同様に操作した。結果を下記表にまとめる。
【００５５】
【表６】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ０５Ｄ 7/24 ３０２ Ｚ 8720−4Ｄ Ｙ 8720−4Ｄ Ｃ０３Ｃ 17/30 Ｃ２３Ｃ 22/02 (72)発明者 ジヤン−マルク・コルパール フランス国、95110・サノア、アレ・ド ウ・コルメイユ、60 (72)発明者 フランシス・ロンデレ フランス国、92260・フオントネー−オ− ローズ、ブールバール・ドウ・ラ・レピユ ブリツク、28 (72)発明者 ジヤン−ブリユノ・ブルゾスカ フランス国、31100・トウールーズ、プラ ス・ドユ・モルバン、８、アパルトマン・ 36
Claims (12)
- 【請求項１】 式： 【化１】 （式中、Ｒ1，Ｒ2及びＲ3は同一又は異なり、各々ハロ
ゲン原子、１〜３個の炭素原子を含むアルコキシ基、又
は１もしくは２個の炭素原子を含むアルキル基を表し、
Ｒ1，Ｒ2及びＲ3基の少なくとも１個はハロゲン原子又
はアルコキシ基であり、ａは１〜１０の数であり、ｂは
０〜２の数であり、Ｑは直接結合又は２価結合基であ
る）の有機シランの有機溶液による固体の水和表面のシ
ラン化方法であって、前記有機シランの臨界温度Ｔｃよ
りも低い温度で実施することを特徴とする前記方法。 - 【請求項２】 Ｒ1，Ｒ2及びＲ3の各々が塩素原子、メ
トキシもしくはエトキシ基、又は１もしくは２個の炭素
原子を含むアルキル基を表し、Ｒ1，Ｒ2及びＲ3基の少
なくとも１個が塩素原子又はメトキシもしくはエトキシ
基であり、ａが５〜９であり、ｂが０又は２であり、Ｑ
がエーテル、エステルもしくはチオエーテル基又は直接
結合を表すことを特徴とする請求項１に記載の方法。 - 【請求項３】 有機シランの濃度が有機溶媒系中の溶液
として１×１０-2〜１×１０-4ｍｏｌ／ｌであることを
特徴とする請求項１又は２に記載の方法。 - 【請求項４】 有機溶媒系が少なくとも５容量％の少な
くとも１種の極性有機溶媒と少なくとも７０容量％の少
なくとも１種の非極性炭化水素溶媒とを含むことを特徴
とする請求項３に記載の方法。 - 【請求項５】 非極性炭化水素溶媒の少なくとも１種が
ｎ−アルカン型であることを特徴とする請求項４に記載
の方法。 - 【請求項６】 極性溶媒の少なくとも１種が塩素化溶媒
であることを特徴とする請求項４又は５に記載の方法。 - 【請求項７】 式： 【化２】 （式中、ａは１〜１０の数であり、ｂは０〜２の数であ
り、Ｑは直接結合又は２価結合基であり、硅素の残りの
原子価は酸素原子を介して１もしくは２個の炭素原子を
含むアルキル基、ＯＨ基又は他の同様の有機硅素基に結
合しており、これらの原子価の少なくとも１個は酸素原
子を介して支持体に結合している）の有機硅素基からな
る単層で被覆された支持体から構成される固体であっ
て、臨界表面張力が１２ｍＮ／ｍ未満であることを特徴
とする固体。 - 【請求項８】 ａが５〜９であり、ｂが０又は２であ
り、Ｑがエーテル基、硫黄原子又は直接結合を表すこと
を特徴とする請求項７に記載の固体。 - 【請求項９】 支持体が金属、好ましくはアルミニウム
から構成されることを特徴とする請求項７又は８に記載
の固体。 - 【請求項１０】 支持体がメタロイド、好ましくは酸化
硅素から構成されることを特徴とする請求項７又は８に
記載の固体。 - 【請求項１１】 支持体が、好ましくは酸化物型のセラ
ミックから構成されることを特徴とする請求項７又は８
に記載の固体。 - 【請求項１２】 支持体がガラスから構成されることを
特徴とする請求項７又は８に記載の固体。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR9300020 | 1993-01-05 | ||
| FR9300020 | 1993-01-05 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH072584A true JPH072584A (ja) | 1995-01-06 |
Family
ID=9442821
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15794A Pending JPH072584A (ja) | 1993-01-05 | 1994-01-05 | 疎水性及び疎油性層を備える固体並びに前記層の塗膜方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0606174A1 (ja) |
| JP (1) | JPH072584A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008136464A1 (ja) * | 2007-05-01 | 2008-11-13 | Bec Co., Ltd. | 塗装方法 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19731416C1 (de) * | 1997-07-22 | 1998-09-17 | Vetrotech Saint Gobain Int Ag | Brandschutzverglasung |
| GB2351098B (en) | 1999-06-18 | 2004-02-04 | Sofitech Nv | Water based wellbore fluids |
| EP1771394B1 (en) * | 2004-07-23 | 2012-09-05 | Arçelik Anonim Sirketi | Fiber optic moisture sensor |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63220420A (ja) * | 1987-03-09 | 1988-09-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 記録媒体およびその製造方法 |
| JP2912694B2 (ja) * | 1990-09-07 | 1999-06-28 | 松下電器産業株式会社 | 記録再生装置 |
| US5240774A (en) * | 1990-10-25 | 1993-08-31 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Fluorocarbon-based coating film and method of manufacturing the same |
| EP0484746B1 (en) * | 1990-10-25 | 1996-09-18 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Chemically adsorbed monomolecular lamination film and method of manufacturing the same |
| JP2637869B2 (ja) * | 1990-12-10 | 1997-08-06 | 松下電器産業株式会社 | 吸着単分子膜及びその製造方法 |
| EP0492545B1 (en) * | 1990-12-25 | 1998-03-25 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Transparent substrate with monomolecular film thereon and method of manufacturing the same |
| EP0497204B1 (en) * | 1991-01-28 | 2001-04-18 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Medical member and method of manufacturing the same |
| EP0499977B1 (en) * | 1991-02-19 | 1995-12-20 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method of manufacturing a chemically adsorbed film |
| EP0501298B1 (en) * | 1991-02-27 | 1996-06-05 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Self-lubricating device |
| DE69220717T2 (de) * | 1991-04-30 | 1997-11-06 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd., Kadoma, Osaka | Chemisch adsorbierte Schicht und Verfahren zu deren Herstellung |
| EP0672779A3 (en) * | 1991-07-26 | 1996-08-28 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Process for hydrophobizing and oleophobicizing substrate surfaces. |
| US5372851A (en) * | 1991-12-16 | 1994-12-13 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method of manufacturing a chemically adsorbed film |
-
1994
- 1994-01-03 EP EP94400006A patent/EP0606174A1/fr not_active Withdrawn
- 1994-01-05 JP JP15794A patent/JPH072584A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008136464A1 (ja) * | 2007-05-01 | 2008-11-13 | Bec Co., Ltd. | 塗装方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0606174A1 (fr) | 1994-07-13 |
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