JPH0725066A - 印字装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 複雑な文字、図柄等や、微小な文字等をマス
ク材に容易に形成することができ、しかも文字等のパタ
ーンが途中で分断されることのない完全な形の印字を行
なうことができ、さらにマスクに対するパターンの形成
が容易で、必要なパターンを確実、連続的にレーザ光の
光路上に位置させることができる印字装置の提供を目的
とする。 【構成】 レーザ光Ｌ１はマスクベース４を透過し、マ
スクベース４上のパターン表示１０を印字面２０Ｍに投
影して印字を行なう。マスクベース４にはインクジェッ
トヘッド６によってパターン表示１０が形成される。マ
スクベース４が矢印９１方向に巻き取られ、移動するこ
とによって、パターン表示１０は順次、レーザ光Ｌ１の
光路上に位置する。炭酸ガスレーザを用いた場合は、マ
スクベース４としてポリイミドを使用するとよい。ま
た、インクジェットヘッド６の代りに、感熱ヘッド、熱
転写リボン等を用いることもできる。さらに、パターン
表示として微小な文字等を形成することもできる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は印字用マスクに対してレ
ーザ光を照射し、当該パターン表示に対応する表示を印
字対象部に印字する印字装置の構造に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来の印字装置の概略を説明する。図１
２は炭酸ガスレーザを用いた印字装置を示している。炭
酸ガスレーザ２が発するレーザ光Ｌ８は、ビームエキス
パンダ３０が備えるレンズ３１、３２によって拡張さ
れ、マスク７０を照射する。

【０００３】このマスク７０には文字等のパターンが形
成されており、マスク７０を透過したレーザ光Ｌ８は結
像レンズ３３で集光され、対象物２０の印字面２０Ｍに
導かれる。レーザ光Ｌ８によって、印字面２０Ｍにはマ
スク７０のパターンに対応した文字等が投影され、レー
ザ光による発熱等によって文字等が印字面２０Ｍに焼き
付けられる。

【０００４】マスク７０ａの正面図を図１２Ｂに示す。
このマスク７０ａは、ステンレス等の金属板にパターン
をエッチング等により形成している。図中、斜線部分が
金属部であり、空白部分が抜き部である。このようにエ
ッチング等による抜き部の形成によってマスク７０ａを
得ているため、閉曲線を有するようなパターンに関して
は、図に示すようにブリッジ７１を設け、内側片７１Ｎ
を保持するようにしている。

【０００５】また、一つのマスクに複数の文字等を形成
し、印字を行うものがある。このようなマスクでは、複
数の文字等をエッチング等によって抜き加工し、レーザ
光Ｌ８を透過させて印字面に印字を行う。

【０００６】さらに、レーザ光Ｌ８上に複数の文字等を
位置させるものとして、実開昭５５−７０２５２号公報
に記載されている印字装置がある。この印字装置のマス
ク機構は、図１３Ａに示すように３つの回転板７７、７
８、７９から構成されている。そして、図１３Ｂの側面
図に示すように、回転板７７、７８、７９の径は順次、
小さくなっており、各回転板の外周部にはそれぞれ抜き
加工によって数字のパターン７７ａ、７８ａ、７９ａが
形成されている（図１３Ａ）。この数字のパターンをレ
ーザ光が透過し、対象物の印字面に印字を行う。

【０００７】最も径の大きい回転板７７には２つのパタ
ーン窓７４が形成され、このパターン窓７４の部分に回
転板７８、７９のパターン７８ａ、７９ａが位置する。
回転板７７、７８、７９は、それぞれ独立に回転制御さ
れるようになっており、レーザ光の照射範囲Ｒ１に位置
するパターンが選択できるようになっている。パターン
の選択によって、所望の３桁の数字を印字する。さらに
多桁の数字等を印字するにはマスク用回転板が複数枚、
連設される。

【０００８】以上のようにマスクには種々のものがあ
り、マスクを通じて印字を行なった後、レーザ光Ｌ８の
光路上に位置するマスク７０を交換し、次のパターンの
印字を行なう。このように所望のパターンのマスク７０
を順次、選択し、連続的に交換して印字面２０Ｍへの印
字を行なう。なおマスク７０を交換する場合、対象物２
０を所定方向にずらし、次の文字等を印字する。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】上記従来の印字装置に
は次のような問題があった。図１２Ｂに示すマスク７０
ａは、エッチング等によるパターンの抜き加工によって
形成されており、閉曲線を有するようなパターンに関し
てはブリッジ７１が必要となる。このためマスクのパタ
ーンが途中で分断され、これに応じて印字面２０Ｍにも
不完全な形の文字等が印字されるという問題がある。

【００１０】また、ブリッジ７１が必要であるため、例
えば漢字、図柄等の複雑なパターンの形成、さらには一
つのマスクにおける複数の文字の形成等が非常に困難で
ある。このため、パターンの種類、形状が制限を受け、
印字の自由度が低下するという問題もある。さらに、エ
ッチング等による金属板の抜き加工に手間がかかり、マ
スクの作成に時間を要する。

【００１１】また、金属板等をマスクとして用いた場
合、金属板の厚み部分にレーザ光が回り込み、回折現象
が生じて印字面上で文字パターンにボケが生じるという
問題がある。特に図１３に示したマスク機構では、３つ
の回転板７７、７８、７９を重ね合わせてマスクを構成
しているめ、それぞれのパターン７７ａ、７８ａ、７９
ａの全てに対して焦点を合せることができない。このた
め、例えば中間の回転板７８のパターン７８ａに焦点を
合せると、パターン７７ａ、７９ａについては焦点ずれ
が生じることになる。さらに、多桁印字のため、マスク
回転板の枚数を増やす場合、桁数の増加とともに必然的
にこの焦点ずれも一層増大化し、印字文字がますます不
鮮明となるという問題が生じる。またさらには、駆動機
構も複雑となり、その設計、製作も非常に難しくなる。

【００１２】以上のようにマスクとして金属板を用いた
場合に生じる各問題を解決するため、特開昭６２−２３
７８６号公報に記載されているマスクが提案されてい
る。図１２Ｃに示すように、このマスク７０ｂはレーザ
光透過性を有するプレート上に、Ｆｅ、Ａｌ、Ｃｒ等の
レーザ光遮断性を有する薄膜を密着させ、この薄膜をパ
ターンに応じて部分的に除去する。図中、斜線部分が薄
膜のレーザ光遮断部であり、空白部分が薄膜が除去さ
れ、レーザ光透過性のプレートが露出した箇所である。
マスク７０ｂでは、マスク７０ａのようなブリッジ７１
は不要であり、薄膜が除去された部分をレーザ光が透過
して印字が行なわれる。

【００１３】このマスク７０ｂを用いる場合、予め印字
に必要なものを多数用意しておき、これらの中から所望
のマスクを順次、選択してレーザ光の光路上に位置させ
る。このように必要なマスク７０ｂを適正な順序で選択
し、連続的に交換するのは手間がかかり印字作業効率の
低下を招くという問題がある。

【００１４】そこで本発明は、複雑な文字、図柄等や、
レーザ光の光路上に複数個位置するような微小な文字等
をマスク材に容易に形成することができ、しかも文字等
のパターンが途中で分断されることのない完全な形の印
字を行なうことができ、さらにマスクに対するパターン
の形成が容易で、必要なパターンを確実、連続的にレー
ザ光の光路上に位置させることができる印字装置の提供
を目的とする。

【００１５】

【課題を解決するための手段】請求項１の印字装置は、
レーザ光透過性またはレーザ光遮断性を有するマスク
材、第１箇所において、マスク材に対し、レーザ光透過
性またはレーザ光遮断性を逆転させるパターン表示を行
なうパターン表示手段、第２箇所において、マスク材に
対しレーザ光を照射するレーザ光源、第１箇所から第２
箇所に向けてマスク材を移動させる移動手段、を備えた
印字装置であって、マスク材からのレーザ光の透過光ま
たは反射光を印字対象部に照射し、パターン表示に対応
する表示を当該印字対象部に印字する、ことを特徴とし
ている。

【００１６】請求項２の印字装置は、請求項１の印字装
置において、マスク材は円板形状を有しており、移動手
段は、マスク材を回転させることによって、第１箇所か
ら第２箇所に向けてマスク材を移動させ、第２箇所を経
たマスク材のパターン表示を消去するパターン表示消去
手段を備えている、ことを特徴としている。

【００１７】請求項３の印字装置は、請求項１の印字装
置において、パターン表示手段はレーザ光源からのレー
ザ光を取り込み波長を変化させ、変化した波長のレーザ
光によってマスク材に対しパターン表示を行なう、こと
を特徴としている。

【００１８】

【作用】請求項１の印字装置においては、パターン表示
手段はこのレーザ光透過性またはレーザ光遮断性を逆転
させてパターン表示を行なう。

【００１９】したがって、エッチング等によってパター
ン表示を形成する必要がなく、インク表示等その他の表
示手段を用いてパターン表示を行うことができる。

【００２０】また、マスク材はレーザ光透過性またはレ
ーザ光遮断性を有しており、パターン表示手段によっ
て、このレーザ光透過性またはレーザ光遮断性が逆転さ
れてパターン表示が行なわれる。そして、マスク材から
のレーザ光の透過光または反射光を印字対象部に照射す
ることによって、パターン表示に対応する表示を印字対
象部に印字する。

【００２１】したがって、閉曲線を有するパターン表示
に関しても内側片を保持するためのブリッジ部等を設け
る必要はない。

【００２２】さらに、パターン表示手段は、第１箇所に
おいてマスク材に対しパターン表示を行ない、レーザ光
源は、第２箇所においてマスク材に対しレーザ光を照射
する。そして、移動手段は、第１箇所から第２箇所に向
けてマスク材を移動させる。マスク材からのレーザ光の
透過光または反射光は印字対象部に照射され、パターン
表示に対応する表示が印字対象部に印字される。

【００２３】したがって、マスク材に対しパターン表示
を行ないつつ、レーザ光によって印字対象部に印字を行
なうことができる。

【００２４】請求項２の印字装置においては、マスク材
は円板形状を有しており、移動手段はマスク材を回転さ
せることによって、第１箇所から第２箇所に向けてマス
ク材を移動させる。そして、パターン表示消去手段は、
第２箇所を経たマスク材のパターン表示を消去する。

【００２５】このように、パターン表示消去手段によっ
てマスク材上のパターン表示が消去されるため、パター
ン表示済みのマスク材を取り替える必要がない。

【００２６】請求項３の印字装置においては、パターン
表示手段はレーザ光源からのレーザ光を取り込み波長を
変化させ、変化した波長のレーザ光によってマスク材に
対しパターン表示を行なう。

【００２７】このように、レーザ光源からのレーザ光を
利用してマスク材にパターン表示を行なうため、パター
ン表示専用の部品点数を削減することができる。

【００２８】

【実施例】本発明に係る印字装置の一実施例を図面に基
づいて説明する。まず、図１に第１の実施例を示す。レ
ーザ光源である炭酸ガスレーザ２からのレーザ光Ｌ１
は、ビームエキスパンダ３０によって拡張され、マスク
材としてのマスクベース４を照射する。マスクベース４
には印字表示であるパターン表示１０が形成されてお
り、このパターン表示１０の部分をレーザ光Ｌ１が透過
する。

【００２９】マスクベース４を透過したレーザ光Ｌ１
は、結像レンズ１２によって集光され印字対象部である
対象物２０の印字面２０Ｍに投射される。マスクベース
４上に形成されているパターン表示１０はレーザ光を遮
断するため、印字面２０Ｍにはパターン表示に対応した
文字等が投影される。そして、レーザ光Ｌ１による発熱
等によって印字面２０Ｍに文字等が焼き付けられる。

【００３０】ここでマスクベース４は、炭酸ガスレーザ
２の発するレーザ光の波長（１０．６μｍ）を透過する
ものであり、かつ耐熱性に優れたものでなければならな
い。このため、本実施例ではマスクベース４としてポリ
イミドフィルムを用いている。ポリイミドフィルムにお
ける、光線の波長と光線透過率との関係（波長依存性）
を図５に示す。図に示すように、炭酸ガスレーザ２の波
長１０．６μｍにおける透過率は約６４％と高く、また
耐熱性にも優れておりマスクベース４として用いるのに
適している。ポリイミドフィルムを使用することによっ
て、例えばゲルマニウム等でマスクを構成する場合に比
べ、コストを低く抑えることができる。マスクベース４
には、パターン表示手段であるインクジェットヘッド６
によってパターン表示が行なわれる。インクジェットヘ
ッド６によってマスクベース４に所望のパターン表示を
形成し、このパターン表示のインク部分でレーザ光Ｌ１
を遮断する。すなわち、マスクベース４の透過性を遮断
性に逆転させてパターン表示を行なう。なお、インクジ
ェットヘッド６によってパターン表示を行なう部分が第
１箇所Ｐ１であり、上述のレーザ光Ｌ１が透過する部分
が第２箇所Ｐ２である。

【００３１】図２にマスクベース４上に形成されたパタ
ーン表示を示す。図２Ａはパターンの部分をマスクベー
ス４上で白抜きに形成したものであり、図２Ｃは逆にパ
ターンの部分に表示を施したものである。図中、斜線部
がパターン表示の領域である。これらのマスクベースに
レーザ光Ｌ１を照射すると、斜線で示す部分でレーザ光
Ｌ１は遮断され、その他の部分をレーザ光Ｌ１が透過す
る。このため、印字面２０Ｍ上には、各々図２Ｂ、Ｄの
ようなパターンが印字される。いずれの形式で印字を行
なうかは任意に選択することができる。

【００３２】図１に示すように、マスクベース４は、両
端部においてロール状に巻き取られており、一方のロー
ル巻き取り部には移動手段としての巻き取りモータ８が
設けられている。この巻き取りモータ８の矢印９０方向
に回転駆動させることによって、マスクベース４を第１
箇所Ｐ１から第２箇所Ｐ２に向けて（矢印９１方向）移
動させることができる。なお、マスクベース４が移動
し、光路上でパターン表示１０が入れ替わる場合、対象
物２０も矢印９１方向にずれて次の文字等の印字が行な
われる。また、複数個の対象物２０に同じ文字等の印字
を行うロット生産では、ロット毎にマスクベースを移動
させ、パターン表示１０の入れ替えが行われる。さら
に、パターン表示１０を事前に多数形成して、第１箇所
Ｐ₁と第２箇所Ｐ₂間にて、パターン表示されたマスクベ
ース４のプールを行う構成にすることにより（図１１参
照）、パターン表示１０の変更時に即座に対応すること
も可能である。

【００３３】図４に、この印字装置の主要部のブロック
図を掲げる。バスライン６０にはＣＰＵ６１、ＲＯＭ６
２、ＲＡＭ６３が接続されており、ＣＰＵ６１はＲＯＭ
６２に格納されたプログラムにしたがって各部を制御す
る。所望のパターン表示は、キーボード６４を通じて入
力される。ＣＰＵ６１はこの入力に応じ、パターン表示
制御部を介してインクジェットヘッド６を制御し、上述
のようにマスクベース４にパターン表示１０を形成す
る。また、ＣＰＵ６１はモータドライバ６６を介して巻
き取りモータ８の駆動を制御し、マスクベース４を移動
させてパターン表示１０を光路上に位置させる。

【００３４】以上のように本実施例においては、マスク
ベース４を移動させ、インクジェトヘッド６によって形
成したパターン表示１０を順次、レーザ光Ｌ１の光路上
に位置させることができる。このため、パターン表示１
０を容易に形成することができ、所望のパターン表示１
０を確実、かつ連続的にレーザ光Ｌ１の光路上に次々と
位置させることができる。

【００３５】また、インクジェトヘッド６によってパタ
ーン表示を形成するため、複雑な文字、図柄等や、レー
ザ光の光路上に複数個位置するような微小な文字等をマ
スクベース４に容易に形成することができる。例えば、
図３に示すように、複数個の微小な文字６９をマスクベ
ース４に形成し、レーザ光Ｌ１の光路上に位置させるこ
とが可能になる。

【００３６】図６に第２の実施例を示す。この印字装置
はパターン表示手段として感熱ヘッド５を用いている。
すなわち、マスクベース４には熱転写リボン７が接して
おり、この熱転写リボン７に感熱ヘッド５からパターン
表示の形状が加熱され、マスクベース４にパターン表示
１０が形成される。熱転写リボン７も両端部がロール状
に保持されており、熱転写にしたがってマスクベース４
と共に矢印９１方向へ巻き取られる。なお、感熱ヘッド
５はパターン表示制御部６５を通じてＣＰＵ６１によっ
て制御される（図４参照）。その他の機構は図１に示す
印字装置と同様である。

【００３７】次に図７に基づいて第３の実施例を説明す
る。この実施例ではマスク材としてマスク円板１５が用
いられている。このマスク円板１５は、例えばゲルマニ
ウムやジンクセレン等、波長１０．６μｍを透過する材
料によって構成されており、回転モータ１７の駆動によ
って矢印９２方向に回転制御される。マスク円板１５上
にはインクジェットヘッド６（図１参照）が位置してお
り、第１箇所Ｐ１においてマスク円板１５にパターン表
示１０を形成する。なお、感熱ヘッド５、熱転写リボン
７（図６参照）を用いて、マスク円板１５にパターン表
示１０を形成してよい。

【００３８】マスク円板１５には第２箇所Ｐ２において
レーザ光Ｌ１が透過し、このレーザ光Ｌ１は結像レンズ
１２で集光されて印字面２０Ｍに投射される。マスク円
板１５上に形成されたパターン表示１０は光を遮断する
ため、印字面２０Ｍにはパターン表示１０に対応した文
字等が投影され、印字される。なお、回転モータ１７に
よってマスク円板１５は矢印９２方向に第１箇所Ｐ１か
ら第２箇所Ｐ２へ移動し、パターン表示１０が順次、光
路上に位置して印字が行なわれる。

【００３９】マスク円板１５上には、パターン表示消去
手段としての消去部１６も位置している。この消去部１
６は、インクジェットヘッド６等によって形成されたパ
ターン表示１０に、アセトン等の溶剤を噴き付け表示を
消去する。すなわち、第２箇所Ｐ２を経て矢印９２方向
に移動してきたパターン表示１０を消去部１６で消去
し、この部分に再びインクジェットヘッド６等でパター
ン表示１０を形成する。このような消去部１６を設ける
ことによって、単一のマスク円板１５を用いて繰り返し
パターン表示１０を形成することができる。なお、図７
においては炭酸ガスレーザ２、ビームエキスパンダ３０
（図１、図６参照）は省略されている。

【００４０】続いて図８に基づき第４の実施例を説明す
る。この実施例では、ＹＡＧレーザ８０が発するレーザ
光を分岐して利用し、マスクベース４にパターン表示を
形成する。ビームエキスパンダ３０を経たレーザ光Ｌ３
は分岐器５５に入射し、ここで分岐されたレーザ光Ｌ３
が取り出される。

【００４１】この分岐されたレーザ光Ｌ３は反射板５６
で反射し、波長変換器５７に入射する。波長変換器５７
は非線形光学結晶により構成されており、２次高調波、
３次高調波等を出力する。例えば、３次高調波を用いる
場合、波長変換器５７は取り込んだレーザ光Ｌ３の波長
を１．０６４μｍから３５５ｎｍに変換（レーザ光Ｌ
４）する。

【００４２】図９に、マスクベース４として用いられて
いるポリイミドフィルムの光線透過率（波長依存性）を
示す。この表に示すように波長４７０ｎｍ以下、すなわ
ち３５５ｎｍでは透過率は極めて低く、レーザ光Ｌ４を
照射することによってポリイミドフィルムにパターン表
示を焼き付けることができる。なお、波長変換器５７か
らのレーザ光Ｌ４は、ヘッド部５８に取り込まれ、この
ヘッド部５８が所定のパターンにしたがってマスクベー
ス４へパターン表示１０を形成する。ヘッド部５８は、
たとえばガルバノミラーを用いて構成される。

【００４３】次に、図１０に第５の実施例を示す。この
実施例においては、マスク材としてのマスクベース４が
反射性を有しており、レーザ光Ｌ１を反射して印字面２
０Ｍに印字を行なう。マスクベース４としてはアルミテ
ープや金またはアルミをコーティングした樹脂を用い
る。反射性を有するマスクベース４にインクジェットヘ
ッド６でパターン表示を形成し、このパターン表示の部
分を反射性からレーザ光遮断性に逆転させる。すなわ
ち、パターン表示に対応する部分は反射されず、印字面
２０Ｍにはパターン表示で示される文字等が印字され
る。

【００４４】なお、パターン表示の形成はインクジェッ
トヘッド６に限らず、図６で示した感熱ヘッド５、熱転
写リボン７を用いてもよい。また、図７で示したマスク
円板１５を反射面として構成し、図１０のように反射し
たレーザ光によって印字を行なうこともできる。

【００４５】上記各実施例においては、一文字をレーザ
光Ｌ１によって焼き付けるごとに、マスクベース４を移
動させて、次々と文字を焼き付ける構成を示した。しか
しながら、図１１に示すように、対象物２０に焼き付け
る複数の文字（たとえば製造年月日）を一度にレーザ光
Ｌ１によって焼き付けるようにしてもよい。

【００４６】また、インクジェットヘッド６等による印
字は、レーザ光Ｌ１による焼き付け動作に比べて時間を
要するので、ローラ１００等を用いて印字済のマスクベ
ース４を貯めておくプール機構１０２を設けてもよい。

【００４７】なお、図１１の実施例において、マスクベ
ース４は、対象物２０の製造ロットが変って焼き付ける
べき文字が変わるごとに、移動させればよい。ただし、
焼き付けるべき文字に変更がなくとも、焼き付けに用い
ている部分のマスクベース４が劣化した場合には、移動
を行うことが好ましい。

【００４８】上記実施例においては、レーザ光源として
炭酸ガスレーザやＹＡＧレーザを用いた例を掲げたが、
本発明はこれら特定のレーザ波長に限られるものではな
い。レーザ光を透過または反射し、かつ耐熱性を備えた
マスク材を用いる限り、どのようなレーザ波長であって
もよい。

【００４９】

【発明の効果】請求項１の印字装置においては、パター
ン表示手段はこのレーザ光透過性またはレーザ光遮断性
を逆転させてパターン表示を行なう。

【００５０】すなわち、エッチング等によってパターン
表示を形成する必要がなく、インク表示等その他の表示
手段を用いてパターン表示を行うことができる。したが
って、複雑な文字、図柄等や、レーザ光の光路上に複数
個位置するような微小な文字等をマスク材に容易に形成
することができるので、高速印字が可能となる。

【００５１】また、マスク材はレーザ光透過性またはレ
ーザ光遮断性を有しており、パターン表示手段によっ
て、このレーザ光透過性またはレーザ光遮断性が逆転さ
れてパターン表示が行なわれる。そして、マスク材から
のレーザ光の透過光または反射光を印字対象部に照射す
ることによって、パターン表示に対応する表示を印字対
象部に印字する。

【００５２】すなわち、閉曲線を有するパターン表示に
関しても内側片を保持するためのブリッジ部等を設ける
必要はない。したがって、印字が途中で分断されること
はなく、完全な形の印字を行なうことができる。

【００５３】さらに、パターン表示手段は、第１箇所に
おいてマスク材に対しパターン表示を行ない、レーザ光
源は、第２箇所においてマスク材に対しレーザ光を照射
する。そして、移動手段は、第１箇所から第２箇所に向
けてマスク材を移動させる。マスク材からのレーザ光の
透過光または反射光は印字対象部に照射され、パターン
表示に対応する表示が印字対象部に印字される。

【００５４】すなわち、マスク材に対しパターン表示を
行ないつつ、レーザ光によって印字対象部に印字を行な
うことができる。したがって、マスク材に対するパター
ン表示の形成が容易で、必要なパターン表示を確実、連
続的にレーザ光の光路上に位置させることができる。

【００５５】請求項２の印字装置においては、マスク材
は円板形状を有しており、移動手段はマスク材を回転さ
せることによって、第１箇所から第２箇所に向けてマス
ク材を移動させる。そして、パターン表示消去手段は、
第２箇所を経たマスク材のパターン表示を消去する。

【００５６】このように、パターン表示消去手段によっ
てマスク材上のパターン表示が消去されるため、パター
ン表示済みのマスク材を取り替える必要がない。したが
って、マスク材を繰り返し使用することができ、印字に
必要な費用を削減することができる。

【００５７】請求項３の印字装置においては、パターン
表示手段はレーザ光源からのレーザ光を取り込み波長を
変化させ、変化した波長のレーザ光によってマスク材に
対しパターン表示を行なう。

【００５８】このように、レーザ光源からのレーザ光を
利用してマスク材にパターン表示を行なうため、パター
ン表示専用の部品点数を削減することができる。したが
って、装置の構成を簡易にすることができ、コストを低
下させることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る印字装置の第１の実施例を示す斜
視図である。

【図２】マスクベース上に形成されるパターン表示、お
よび各マスクベースによって印字面に印字される表示を
示す図である。

【図３】マスクベース上に形成される他のパターン表示
の例を示す図である。

【図４】図１に示す印字装置の主要部のブロック図であ
る。

【図５】ポリイミドフィルムにおける光線の波長と光線
透過率（波長依存性）との関係を示す図である。

【図６】本発明に係る印字装置の第２の実施例を示す斜
視図である。

【図７】本発明に係る印字装置の第３の実施例を示す斜
視図である。

【図８】本発明に係る印字装置の第４の実施例を示す斜
視図である。

【図９】ポリイミドフィルムにおける光線の波長と光線
透過率（波長依存性）との関係を示す図である。

【図１０】本発明に係る印字装置の第５の実施例を示す
斜視図である。

【図１１】他の実施例による印字装置を示す斜視図であ
る。

【図１２】従来の印字装置を示す図である。

【図１３】従来の他の印字装置を示す図である。

【符号の説明】

２・・・・・炭酸ガスレーザ ４・・・・・マスクベース ５・・・・・感熱ヘッド ６・・・・・インクジェットヘッド ７・・・・・熱転写リボン ８・・・・・巻き取りモータ １０・・・・・パターン表示 １５・・・・・マスク円板 １６・・・・・消去部 １７・・・・・回転モータ ５５・・・・・分岐器 ５７・・・・・波長変換器 ５８・・・・・ヘッド部 Ｐ１・・・・・第１箇所 Ｐ２・・・・・第２箇所 ８０・・・・・ＹＡＧレーザ

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】レーザ光透過性またはレーザ光遮断性を有
   するマスク材、 第１箇所において、マスク材に対し、レーザ光透過性ま
   たはレーザ光遮断性を逆転させるパターン表示を行なう
   パターン表示手段、 第２箇所において、マスク材に対しレーザ光を照射する
   レーザ光源、 第１箇所から第２箇所に向けてマスク材を移動させる移
   動手段、 を備えた印字装置であって、 マスク材からのレーザ光の透過光または反射光を印字対
   象部に照射し、パターン表示に対応する表示を当該印字
   対象部に印字する、 ことを特徴とする印字装置。
2. 【請求項２】請求項１の印字装置において、 マスク材は円板形状を有しており、 移動手段は、マスク材を回転させることによって、第１
   箇所から第２箇所に向けてマスク材を移動させ、 第２箇所を経たマスク材のパターン表示を消去するパタ
   ーン表示消去手段を備えている、 ことを特徴とする印字装置。
3. 【請求項３】請求項１の印字装置において、 パターン表示手段はレーザ光源からのレーザ光を取り込
   み波長を変化させ、変化した波長のレーザ光によってマ
   スク材に対しパターン表示を行なう、 ことを特徴とする印字装置。