JP2820182B2 - 液晶ガラスのレーザマーキング方法 - Google Patents

液晶ガラスのレーザマーキング方法

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JP2820182B2
JP2820182B2 JP4223408A JP22340892A JP2820182B2 JP 2820182 B2 JP2820182 B2 JP 2820182B2 JP 4223408 A JP4223408 A JP 4223408A JP 22340892 A JP22340892 A JP 22340892A JP 2820182 B2 JP2820182 B2 JP 2820182B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば液晶テレビのデ
ィスプレイに用いられる液晶ガラスにマーキングを施す
レーザマーキング方法に関する。
【従来の技術】近年、液晶ガラスは、液晶テレビやパー
ソナルコンピュータのディスプレイ等に広く用いられて
おり、生産管理上の必要から液晶ガラスに所要のマーキ
ングを施すことが行われている。そして、従来一般に、
液晶ガラスは、ガラス基板とそのガラス基板を被覆した
透明電極膜とを備えており、このような構成の液晶ガラ
スにマーキングを施す技術として次のようなものが知ら
れている。すなわち、第1のマーキング方法は、透明電
極膜の表面にインクを用いてマーキングする方法であ
り、第2のマーキング方法は、炭酸ガスレーザやYAG
レーザを液晶ガラスに照射して、上記透明電極膜を熱に
よって塑性変形させてマーキングする方法であり、さら
に第3のマーキング法は、液晶ガラスの表面にシールを
貼付するものである。
【発明が解決しようとする課題】しかるに、上述した第
1の方法においては、マーキング後に行う液晶ガラスの
洗浄作業工程において、インクで付したマークが消えて
しまうという欠点がある。また、上記第2の方法におい
ては、透明電極膜を熱によって塑性変形させることに伴
って、透明電極膜の表面が削り取られることになるの
で、マーキングを施す際に塵埃が発生するという欠点が
ある。さらに、上記第3のマーキング方法では、シール
によって液晶ガラスの表面に凹凸が生じるので、シール
貼付後の液晶ガラスの取り扱いに支障をきたすという欠
点がある。
【課題を解決するための手段】このような事情に鑑み、
本発明は、ガラス基板と、酸化インジウムおよび酸化ス
ズとの混合物からなり上記ガラス基板を被覆した透明電
極膜とを備えた液晶ガラスに、エキシマレーザを照射
し、上記透明電極膜を構成する酸化インジウムおよび酸
化スズに還元反応を生じさせて、該透明電極膜に所要の
マーキングを施すことを特徴とする液晶ガラスのレーザ
マーキング方法を提供するものである。
【作用】このような方法によれば、透明電極膜にエキシ
マレーザを照射することによって、エキシマレーザが照
射された箇所の酸化インジウムおよび酸化インジウムに
還元反応が生じ、当該箇所の酸化インジウムおよび酸化
インジウムが備えていた酸素元素が一部、分離する様に
なる。そして、このような還元反応が生じたのちには、
それまで透明であった透明電極膜は、エキシマレーザが
照射された箇所だけ黒色に変色し、それによって鮮明な
マーキングを施すことができる。このように、マーキン
グを施すに当たって透明電極膜を削り取ることがないの
でマーキング時に塵埃が生じることがなく、しかも透明
電極膜自身が発色するために、マーキング後の液晶ガラ
スの洗浄工程において透明電極膜に施したマークが消え
るようなことがない。
【実施例】以下図示実施例について本発明の方法を説明
すると、図1において、1はレーザ光線Lを放射するレ
ーザ発振器であり、このレーザ発振器1から放射された
レーザ光線Lの光路上には、所要の印字パターンを穴開
けしたマスク2を配置している。レーザ発振器1から放
射されたレーザ光線Lは、上記マスク2を透過した後、
ミラー3に反射されて集光レンズ4に導かれるようにな
っており、さらに集光レンズ4によって集光されたレー
ザ光線Lは、所定の加工位置に保持した被加工物として
の液晶ガラス5に照射されて該液晶ガラス5に所要の印
字パターンをマーキングするようにしている。より詳細
に説明すると、上記液晶ガラス5は、液晶テレビやパー
ソナルコンピュータのディスプレイに使用されるもので
あり、図2に拡大して示すように、ガラス基板6と、そ
のガラス基板6上に均一に散布したSiOxからなるパ
シベーション層7と、さらにこのパシベーション層7を
被覆した透明電極膜8とから構成している。上記透明電
極膜8は、酸化インジウム(In23 )および酸化ス
ズ(SnO2 )の混合物からなり、透明である。また、
本実施例では、レーザ発振器1としてエキシマレーザを
発振するレーザ発振器を用いており、上述した構成の液
晶ガラス5にエキシマレーザを照射して上記透明電極膜
8に還元反応を生じさせ、それによって液晶ガラス5に
所要の印字パターンのマーキングを施すようにしてい
る。すなわち、被加工物としての上記液晶ガラス5を大
気中における所定の加工位置に保持した状態において、
液晶ガラス5にレーザ光線Lを照射する。レーザ光線L
は、液晶ガラス5における最も外方側に位置する透明電
極膜8に照射されることになり、それによって、透明電
極膜8におけるレーザ光線Lが照射された箇所は、レー
ザ光線Lを吸収して次のような還元反応が生じる。 In23 +e → In2 O+O2 SnO2 +e → SnO+O このような還元反応が行われた後には、レーザ光線Lの
照射前まで透明であった透明電極膜8は、レーザ光線L
が照射された箇所だけ、つまり還元反応が行われた箇所
だけ黒く発色し、それによって鮮明なマーキングを施す
ことができる。このように、本実施例では、エキシマレ
ーザ発振器1から液晶ガラス5にレーザ光線Lを照射
し、上記透明電極膜8そのものを黒く発色させているの
で、マーキングを施す際に塵埃が生じない。このような
本実施例に対して、レーザ光線Lの熱によって透明電極
膜8を塑性変形させてマーキングする従来の技術におい
ては、透明電極膜8の表面を削ってマーキングすること
になるので、マーキングの際に塵埃が生じていたもので
ある。また、上記本実施例によれば、透明電極膜8自身
が還元反応によって発色するために、マーキング完了後
に液晶ガラス5を洗浄しても液晶ガラス5に付したマー
クが消えるようなことがない。上記マーキングを行う際
のエキシマレーザのエネルギ密度は500mJ/cm2
ないし900mJ/cm2 が適当であり、この場合には
透明電極膜8に鮮明な黒色のマーキングを施すことがで
きた。また、ArFエキシマレーザ(発振波長193n
m)、KrFエキシマレーザ(発振波長248nm)お
よびXeFエキシマレーザ(発振波長357nm)を液
晶ガラス5に照射しても、透明電極膜8に鮮明な黒色の
マーキングを施すことができた。なお、レーザ光線のエ
ネルギ密度が900mJ/cm2 よりも大きな場合に
は、透明電極膜8に照射したレーザ光線Lによって透明
電極膜8そのものが吹き飛ばされてしまいマーキングを
施すことは出来なかった。また、レーザ光線Lの出力を
上げすぎると、透明電極膜8が黒色に変色しないままレ
ーザ光線Lによってガラス基板6が損傷して不適当であ
った。さらに、CO2 レーザを上記液晶ガラス5に照射
した場合には、透明電極膜8は発色しなかった。また上
記実施例においては液晶ガラス5を大気中に配置した状
態においてマーキングを施す様にしているが、還元ガス
を介在させた中に液晶ガラス5を設置し、その状態にお
いて上述のようにマーキングしても良い。この場合に
は、上述した実施例の場合に比較して透明電極膜8の還
元反応がより一層促進されるので、透明電極膜8の発色
が早くなり、マーキングに要する作業時間を短縮するこ
とができる。
【発明の効果】以上のように本発明によれば、マーキン
グを施す際に塵埃が生じることがなく、しかもマーキン
グ後の液晶ガラスの洗浄工程においてマークが消えるよ
うなことがないという効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例を示す概略の構成図
【図2】図1に示す液晶ガラスの拡大断面図
【符号の説明】
1 レーザ発振器 5 液晶ガラス 6 ガラス基板 8 透明電極膜 L レーザ光線

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ガラス基板と、酸化インジウムおよび酸
    化スズとの混合物からなり上記ガラス基板を被覆した透
    明電極膜とを備えた液晶ガラスに、エキシマレーザを照
    射し、上記透明電極膜を構成する酸化インジウムおよび
    酸化スズに還元反応を生じさせて、該透明電極膜に所要
    のマーキングを施すことを特徴とする液晶ガラスのレー
    ザマーキング方法。
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RU2481608C1 (ru) 2009-04-30 2013-05-10 Шарп Кабусики Кайся Способ изготовления жидкокристаллической панели, стеклянная подложка для жидкокристаллической панели и жидкокристаллическая панель, включающая в себя стеклянную подложку
BRPI1016198A2 (pt) 2009-04-30 2016-04-19 Sharp Kk método de fabricação de painel de cristal líquido, substrato de vidro para painel de cristal líquido, e painel de cristal líquido incluindo o mesmo.
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