JPH07238044A - ビスインドリルマレイミドの改良合成法 - Google Patents
ビスインドリルマレイミドの改良合成法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D487/00—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, not provided for by groups C07D451/00 - C07D477/00
- C07D487/22—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, not provided for by groups C07D451/00 - C07D477/00 in which the condensed system contains four or more hetero rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C43/00—Ethers; Compounds having groups, groups or groups
- C07C43/02—Ethers
- C07C43/03—Ethers having all ether-oxygen atoms bound to acyclic carbon atoms
- C07C43/14—Unsaturated ethers
- C07C43/17—Unsaturated ethers containing halogen
- C07C43/174—Unsaturated ethers containing halogen containing six-membered aromatic rings
- C07C43/1745—Unsaturated ethers containing halogen containing six-membered aromatic rings having more than one ether bound
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C43/00—Ethers; Compounds having groups, groups or groups
- C07C43/02—Ethers
- C07C43/03—Ethers having all ether-oxygen atoms bound to acyclic carbon atoms
- C07C43/14—Unsaturated ethers
- C07C43/178—Unsaturated ethers containing hydroxy or O-metal groups
- C07C43/1785—Unsaturated ethers containing hydroxy or O-metal groups having more than one ether bound
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D498/00—Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms
- C07D498/22—Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms in which the condensed system contains four or more hetero rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D513/00—Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for in groups C07D463/00, C07D477/00 or C07D499/00 - C07D507/00
- C07D513/22—Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for in groups C07D463/00, C07D477/00 or C07D499/00 - C07D507/00 in which the condensed system contains four or more hetero rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Preparation Of Compounds By Using Micro-Organisms (AREA)
- Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 本発明は、以下の式(II):
【化1】
で示される化合物およびこの化合物の製造方法を提供す
る。 【効果】 本発明の式(II)で示される化合物をビスイン
ドリルマレイミドとカップリングさせることにより、強
力かつ効果的なPKC阻害物質である大員環のビスイン
ドリルマレイミドを製造することができる。
る。 【効果】 本発明の式(II)で示される化合物をビスイン
ドリルマレイミドとカップリングさせることにより、強
力かつ効果的なPKC阻害物質である大員環のビスイン
ドリルマレイミドを製造することができる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、本明細書中に記載した
式(II)で示される化合物およびこの化合物の製造方法を
提供するものである。
式(II)で示される化合物およびこの化合物の製造方法を
提供するものである。
【0002】
【従来の技術】治療学的に、プロテインキナーゼC(P
KC)に対するキナーゼ選択性およびPKCアイソザイ
ム選択性の両方をもつアンタゴニストは、潜在的に有用
な薬理物質である[Hartenstein, J.H.ら、「医薬化学に
おける展望」, 99-118 (1993),VHC Publishers, New Yor
k]。このようなプロテインキナーゼCのアンタゴニス
トはPKCが関係している疾患を治療するのに有用であ
ろう[Lester, D.S.ら、「プロテインキナーゼC:現在
の概念および将来の展望」 Ellis Horwood New York (19
92)]。プロテインキナーゼCの特異的アイソザイム
は、癌[Ahmedら、Mol.Pharma., 43, 858-86 (199
3)]、アルツハイマー病のようなCNS疾患[Demaersc
halckら、Biochem.Biophys.Acta., 1181, 214-218 (199
3)]、心臓血管疾患[Natarajanら、Mol.Cell.Endo., 1
01, 59-66 (1994)]、および糖尿病合発症[Kingら、Pr
oc.Nat.Acad.Sciences (USA), 88:22, 11059-63 (199
2)]に関係している。
KC)に対するキナーゼ選択性およびPKCアイソザイ
ム選択性の両方をもつアンタゴニストは、潜在的に有用
な薬理物質である[Hartenstein, J.H.ら、「医薬化学に
おける展望」, 99-118 (1993),VHC Publishers, New Yor
k]。このようなプロテインキナーゼCのアンタゴニス
トはPKCが関係している疾患を治療するのに有用であ
ろう[Lester, D.S.ら、「プロテインキナーゼC:現在
の概念および将来の展望」 Ellis Horwood New York (19
92)]。プロテインキナーゼCの特異的アイソザイム
は、癌[Ahmedら、Mol.Pharma., 43, 858-86 (199
3)]、アルツハイマー病のようなCNS疾患[Demaersc
halckら、Biochem.Biophys.Acta., 1181, 214-218 (199
3)]、心臓血管疾患[Natarajanら、Mol.Cell.Endo., 1
01, 59-66 (1994)]、および糖尿病合発症[Kingら、Pr
oc.Nat.Acad.Sciences (USA), 88:22, 11059-63 (199
2)]に関係している。
【0003】最近、式:
【化8】 で示されるビスインドリルマレイミドがPKC選択物質
として認識されており、PKCが関係する疾患を治療す
る治療物質としての有望性が示されている[Bitら、J.M
ed.Chem., 36:21 (1993);Wikinson S.E.ら、Biochem
J., 299, 335 (1993);Toullec, D.ら、J.Biol.Chem.,
266, 15771 (1991);Davis, P.D.ら、J.Med.Chem., 35,
177 (1992)]。
として認識されており、PKCが関係する疾患を治療す
る治療物質としての有望性が示されている[Bitら、J.M
ed.Chem., 36:21 (1993);Wikinson S.E.ら、Biochem
J., 299, 335 (1993);Toullec, D.ら、J.Biol.Chem.,
266, 15771 (1991);Davis, P.D.ら、J.Med.Chem., 35,
177 (1992)]。
【0004】式(I):
【化9】 で示される一群の化合物は、強力かつ効果的なPKCの
阻害物質である。これら化合物は、ビスインドリルマレ
イミドを式(II):
阻害物質である。これら化合物は、ビスインドリルマレ
イミドを式(II):
【化10】 で示されるリンカーとカップリングさせてNとNを結合
させたビスインドリルマレイミドを形成させることによ
って製造する。
させたビスインドリルマレイミドを形成させることによ
って製造する。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、式(II)で示
される新規な化合物およびこれら化合物の立体選択的合
成法を提供する。好ましい条件下、高価なクロマトグラ
フィー分離を利用せずかつ高収率で化合物を製造する。
この合成法は、式(I)の化合物を製造する立体選択的経
路をさらに提供するので、特に有益である。
される新規な化合物およびこれら化合物の立体選択的合
成法を提供する。好ましい条件下、高価なクロマトグラ
フィー分離を利用せずかつ高収率で化合物を製造する。
この合成法は、式(I)の化合物を製造する立体選択的経
路をさらに提供するので、特に有益である。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、式:
【化11】 [式中、R2はN3、NH−保護基、アミン保護基、また
はヒドロキシ保護基であり;L1は独立して脱離基であ
り;Zは−(CH2)n−であり;そしてnは独立して1、
2、または3である]で示される化合物を提供する。
はヒドロキシ保護基であり;L1は独立して脱離基であ
り;Zは−(CH2)n−であり;そしてnは独立して1、
2、または3である]で示される化合物を提供する。
【0007】本発明はさらに、これら化合物の立体選択
的な製造方法であって、 (a)式(III):
的な製造方法であって、 (a)式(III):
【化12】 で示される化合物を、リチウムアセチリド、セリウムア
セチリド、またはビニルカプレート、ビニルアルミニウ
ム、ビニルスズ、ビニルリチウム、もしくはビニルグリ
ニャールから選択されるビニル有機金属試薬でアルキル
化して、式(IV):
セチリド、またはビニルカプレート、ビニルアルミニウ
ム、ビニルスズ、ビニルリチウム、もしくはビニルグリ
ニャールから選択されるビニル有機金属試薬でアルキル
化して、式(IV):
【化13】 で示される化合物を調製し; (b)式(IV)で示される化合物を、式:
【化14】 [式中、R3はハロ、保護されたヒドロキシであるか、
または隣接炭素と結合してオレフィンを形成しており;
R4はクロロ、ブロモ、またはヨードである]で示され
る化合物と反応させて、式(V):
または隣接炭素と結合してオレフィンを形成しており;
R4はクロロ、ブロモ、またはヨードである]で示され
る化合物と反応させて、式(V):
【化15】 で示される化合物を調製し; (c)式(V)で示される化合物を式(II)の化合物に変換
する;ことから成る方法を提供する。
する;ことから成る方法を提供する。
【0008】化合物(II)は、強力なPKC阻害物質であ
る式(I)の化合物を製造するのに有用である。
る式(I)の化合物を製造するのに有用である。
【0009】上記のように、本発明は式(II):
【化16】 で示される化合物の製造のための新規な合成法を提供す
る。特に好ましい式(II)の化合物は、L1とL1が同じで
ありかつメシルまたはヨードであり;nが1であり;そ
してR2が−O−トリチルまたは−O−モノもしくはジ
メトキシトリチルである;場合である。
る。特に好ましい式(II)の化合物は、L1とL1が同じで
ありかつメシルまたはヨードであり;nが1であり;そ
してR2が−O−トリチルまたは−O−モノもしくはジ
メトキシトリチルである;場合である。
【0010】化合物(II)は、式(I):
【化17】 [式中、Zは−(CH2)n−であり;Rは独立して水
素、ハロ、C1〜C4アルキル、ヒドロキシ、C1〜C4ア
ルコキシ、ハロアルキル、ニトロ、NR5R6、または−
NHCO(C1〜C4アルキル)であり;R1はC1〜C4ア
ルキル、C1〜C4アルコキシ、(CH2)mアリール、(C
H2)mアリールオキシ、ヒドロキシ、カルボキシ、−C
OO(C1〜C4アルキル)、−COO((CH2)mアリー
ル)、−CO(C1〜C4アルキル)、−NR5R6、−(NR
5R6)(OR5)、−NH(CH2)mアリール、−NH(C
H2)mピリジル、−CONH((CH2)mアリール)、−C
ONH(C1〜C4アルキル)、−NHCO(C1〜C4アル
キル)、−NHCO(CH2)mアリール、−OCONH(C
1〜C4アルキル)、−OCONH(CH2)mアリール、−
NHCOO(アルキル)、−NHCOO(ベンジル)、−N
HSO2(C1〜C4アルキル)、−NHSO2(CH2)mアリ
ール、−CN、−SH、−S(C1〜C4アルキル)、−S
(アリール)、−SO2(NR5R6)、−SO2(C1〜C4ア
ルキル)、または−SO(C1〜C4アルキル)であり;R
5およびR6は独立して水素、メチル、フェニル、ベンジ
ルであるか、またはそれらが結合している窒素に結合し
て飽和または不飽和の5もしくは6員環を形成してお
り;そしてmは独立して0、1、2、または3である]
で示される化合物の製造に有用である。
素、ハロ、C1〜C4アルキル、ヒドロキシ、C1〜C4ア
ルコキシ、ハロアルキル、ニトロ、NR5R6、または−
NHCO(C1〜C4アルキル)であり;R1はC1〜C4ア
ルキル、C1〜C4アルコキシ、(CH2)mアリール、(C
H2)mアリールオキシ、ヒドロキシ、カルボキシ、−C
OO(C1〜C4アルキル)、−COO((CH2)mアリー
ル)、−CO(C1〜C4アルキル)、−NR5R6、−(NR
5R6)(OR5)、−NH(CH2)mアリール、−NH(C
H2)mピリジル、−CONH((CH2)mアリール)、−C
ONH(C1〜C4アルキル)、−NHCO(C1〜C4アル
キル)、−NHCO(CH2)mアリール、−OCONH(C
1〜C4アルキル)、−OCONH(CH2)mアリール、−
NHCOO(アルキル)、−NHCOO(ベンジル)、−N
HSO2(C1〜C4アルキル)、−NHSO2(CH2)mアリ
ール、−CN、−SH、−S(C1〜C4アルキル)、−S
(アリール)、−SO2(NR5R6)、−SO2(C1〜C4ア
ルキル)、または−SO(C1〜C4アルキル)であり;R
5およびR6は独立して水素、メチル、フェニル、ベンジ
ルであるか、またはそれらが結合している窒素に結合し
て飽和または不飽和の5もしくは6員環を形成してお
り;そしてmは独立して0、1、2、または3である]
で示される化合物の製造に有用である。
【0011】最も好ましい式(I)の化合物は、Rが水素
であり;R1がNR5R6であり;nが1であり;mが1
であり;そしてR5およびR6がメチルである;化合物で
ある。
であり;R1がNR5R6であり;nが1であり;mが1
であり;そしてR5およびR6がメチルである;化合物で
ある。
【0012】PKC阻害物質として、式Iの化合物は、
プロテインキナーゼCが病理に役割を示している症状、
例えば、虚血、炎症、中枢神経系疾患、心臓血管疾患、
皮膚疾患、癌、および特に、糖尿病を治療するのに有用
である。
プロテインキナーゼCが病理に役割を示している症状、
例えば、虚血、炎症、中枢神経系疾患、心臓血管疾患、
皮膚疾患、癌、および特に、糖尿病を治療するのに有用
である。
【0013】本明細書中で用いる用語「ハロ」は、フッ
素、塩素、臭素、またはヨウ素を表す。
素、塩素、臭素、またはヨウ素を表す。
【0014】用語「C1〜C4アルキル」は、1〜4個の
炭素原子を有するシクロ、直鎖または分枝鎖アルキル
基、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロ
ピル、シクロプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−
ブチル、t−ブチルなどを表す。「ハロアルキル」は、
1またはそれ以上のハロ原子、好ましくは1〜3個のハ
ロ原子で置換された上記アルキルのいずれかである。ハ
ロアルキルの例はトリフルオロメチルである。「C1〜
C4アルコキシ」は−O−結合によって共有結合された
C1〜C4アルキル基である。
炭素原子を有するシクロ、直鎖または分枝鎖アルキル
基、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロ
ピル、シクロプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−
ブチル、t−ブチルなどを表す。「ハロアルキル」は、
1またはそれ以上のハロ原子、好ましくは1〜3個のハ
ロ原子で置換された上記アルキルのいずれかである。ハ
ロアルキルの例はトリフルオロメチルである。「C1〜
C4アルコキシ」は−O−結合によって共有結合された
C1〜C4アルキル基である。
【0015】用語「アリール」は置換または未置換のフ
ェニルまたはナフチルを表す。所望によりアリールは、
ヒドロキシ、カルボキシ、C1〜C4アルコキシ、C1〜
C4アルキル、ハロアルキル、ニトロ、−NR5R6、−
NHCO(C1〜C4アルキル)、−NHCO(ベンジル)、
−NHCO(フェニル)、SH、S(C1〜C4アルキル)、
−OCO(C1〜C4アルキル)、−SO2(NR5R6)、−
SO2(C1〜C4アルキル)、-SO2(フェニル)、またはハ
ロから独立して選択される、1つか2つの基で置換され
ていてもよい。用語「アリールオキシ」は、−O−結合
によって共有結合された上記アリールのいずれかであ
る。用語「(CH2)mアリール」は、好ましくはベンジル
またはフェニルである。
ェニルまたはナフチルを表す。所望によりアリールは、
ヒドロキシ、カルボキシ、C1〜C4アルコキシ、C1〜
C4アルキル、ハロアルキル、ニトロ、−NR5R6、−
NHCO(C1〜C4アルキル)、−NHCO(ベンジル)、
−NHCO(フェニル)、SH、S(C1〜C4アルキル)、
−OCO(C1〜C4アルキル)、−SO2(NR5R6)、−
SO2(C1〜C4アルキル)、-SO2(フェニル)、またはハ
ロから独立して選択される、1つか2つの基で置換され
ていてもよい。用語「アリールオキシ」は、−O−結合
によって共有結合された上記アリールのいずれかであ
る。用語「(CH2)mアリール」は、好ましくはベンジル
またはフェニルである。
【0016】本明細書中で用いる用語「脱離基」は当業
者によって理解されている。通常、脱離基は、置換のた
めに結合している原子の求電子性を強める、あらゆる基
または原子である。好ましい脱離基はトリフレート、メ
シレート、トシレート、イミデート、塩素、臭素、およ
びヨウ素である。
者によって理解されている。通常、脱離基は、置換のた
めに結合している原子の求電子性を強める、あらゆる基
または原子である。好ましい脱離基はトリフレート、メ
シレート、トシレート、イミデート、塩素、臭素、およ
びヨウ素である。
【0017】本明細書中で用いる用語「ヒドロキシ保護
基」は、化合物上の他の官能基において反応を行う間、
ヒドロキシ基をブロックまたは保護するために普通に使
用される、ヒドロキシ基のエーテルまたはエステル誘導
体の1つを指す。使用されるヒドロキシ保護基の種類
は、誘導されたヒドロキシ基が後の反応の条件に安定で
あり、分子の残りの部分を破壊することなく適当な時点
で除去し得る限り限定的ではない。T.W.GreeneとP.
Wuts[Protective Groups in Organic Synthesis, Joh
n Wiley and Sons, New York, N.Y., 1991]は、通常使
用される保護基のリストを提供している。好ましいヒド
ロキシ保護基はtert−ブチルジフェニルシリルオキキシ
(TBDPS)、tert−ブチルジメチルシリルオキシ(T
BDMS)、トリフェニルメチル(トリチル)、モノも
しくはジメトキシトリチル、またはアルキルもしくはア
リールエステルである。関連用語「保護されたヒドロキ
シ」はヒドロキシ保護基を指す。
基」は、化合物上の他の官能基において反応を行う間、
ヒドロキシ基をブロックまたは保護するために普通に使
用される、ヒドロキシ基のエーテルまたはエステル誘導
体の1つを指す。使用されるヒドロキシ保護基の種類
は、誘導されたヒドロキシ基が後の反応の条件に安定で
あり、分子の残りの部分を破壊することなく適当な時点
で除去し得る限り限定的ではない。T.W.GreeneとP.
Wuts[Protective Groups in Organic Synthesis, Joh
n Wiley and Sons, New York, N.Y., 1991]は、通常使
用される保護基のリストを提供している。好ましいヒド
ロキシ保護基はtert−ブチルジフェニルシリルオキキシ
(TBDPS)、tert−ブチルジメチルシリルオキシ(T
BDMS)、トリフェニルメチル(トリチル)、モノも
しくはジメトキシトリチル、またはアルキルもしくはア
リールエステルである。関連用語「保護されたヒドロキ
シ」はヒドロキシ保護基を指す。
【0018】本明細書中で用いる用語「アミノ保護基」
は、化合物上の他の官能基が反応している間、アミノ官
能基をブロックまたは保護するために普通に使用され
る、アミノ基の置換基を指す。使用されるアミノ保護基
の種類は、誘導されたアミノ基が後の反応の条件に安定
であり、分子の残りの部分を破壊することなく適当な時
点で除去し得る限り限定的ではない。T.W.Greeneと
P.Wuts[Protective Groups in Organic Synthesis,
第7章]は、通常使用される保護基のリストを提供して
いる。また、J.W.Barton[Protective Groups in Or
ganic Chemistry,第2章]をも参照。好ましいアミノ保
護基は、t−ブトキシカルボニル、フタルイミド、環式
アルキル、およびベンジルオキシカルボニルである。関
連用語「保護されたアミノ」は、先に定義したように、
アミノ保護基で置換されたアミノ基と定義する。
は、化合物上の他の官能基が反応している間、アミノ官
能基をブロックまたは保護するために普通に使用され
る、アミノ基の置換基を指す。使用されるアミノ保護基
の種類は、誘導されたアミノ基が後の反応の条件に安定
であり、分子の残りの部分を破壊することなく適当な時
点で除去し得る限り限定的ではない。T.W.Greeneと
P.Wuts[Protective Groups in Organic Synthesis,
第7章]は、通常使用される保護基のリストを提供して
いる。また、J.W.Barton[Protective Groups in Or
ganic Chemistry,第2章]をも参照。好ましいアミノ保
護基は、t−ブトキシカルボニル、フタルイミド、環式
アルキル、およびベンジルオキシカルボニルである。関
連用語「保護されたアミノ」は、先に定義したように、
アミノ保護基で置換されたアミノ基と定義する。
【0019】本明細書中で用いる用語「−NH保護基」
は、化合物上の他の官能基が反応している間、−NH官
能基をブロックまたは保護するために普通に使用され
る、アミノ保護基のサブクラスを指す。使用される保護
基の種類は、誘導されたアミノ基が後の反応の条件に安
定であり、分子の残りの部分を破壊することなく適当な
時点で除去し得る限り限定的ではない。T.W.Greene
とP. Wuts[ProtectiveGroups in Organic Synthesi
s, 第7章,362-385頁]は、通常使用される保護基のリ
ストを提供している。好ましい−NH保護基はカルバメ
ート、アミド、アルキルまたはアリールスルホンアミド
である。関連用語「保護された−NH」は、定義したよ
うに、−NH保護基で置換された基と定義する。
は、化合物上の他の官能基が反応している間、−NH官
能基をブロックまたは保護するために普通に使用され
る、アミノ保護基のサブクラスを指す。使用される保護
基の種類は、誘導されたアミノ基が後の反応の条件に安
定であり、分子の残りの部分を破壊することなく適当な
時点で除去し得る限り限定的ではない。T.W.Greene
とP. Wuts[ProtectiveGroups in Organic Synthesi
s, 第7章,362-385頁]は、通常使用される保護基のリ
ストを提供している。好ましい−NH保護基はカルバメ
ート、アミド、アルキルまたはアリールスルホンアミド
である。関連用語「保護された−NH」は、定義したよ
うに、−NH保護基で置換された基と定義する。
【0020】式Iの大員環の合成を以下の反応式1のよ
うに実施する。
うに実施する。
【化18】 上記反応式において、R7はメチルまたは水素である。
Rおよびmは上記定義と同じである。反応式1に示す反
応はグリニャール反応と称されることが多い。この反応
はBrennerらによって一般的に記述されている[Tetrah
edron, 44, 2887-2892 (1988)]。通常、反応式1の反
応は、ベンゼン、トルエン、テトラヒドロフラン、また
はエーテルのような不活性溶媒中、室温から反応混合物
の還流温度の間の温度で実施される。好ましくは、化合
物(VII)を、当該技術分野において既知の方法により、
インドールおよびハロゲン化アルキルマグネシウム(例
えば、臭化エチルマグネシウムまたはヨウ化エチルマグ
ネシウム)からその場で調製する。
Rおよびmは上記定義と同じである。反応式1に示す反
応はグリニャール反応と称されることが多い。この反応
はBrennerらによって一般的に記述されている[Tetrah
edron, 44, 2887-2892 (1988)]。通常、反応式1の反
応は、ベンゼン、トルエン、テトラヒドロフラン、また
はエーテルのような不活性溶媒中、室温から反応混合物
の還流温度の間の温度で実施される。好ましくは、化合
物(VII)を、当該技術分野において既知の方法により、
インドールおよびハロゲン化アルキルマグネシウム(例
えば、臭化エチルマグネシウムまたはヨウ化エチルマグ
ネシウム)からその場で調製する。
【0021】最も重要なことは、反応式1の反応は溶媒
条件に依存するということである。トルエン:THF:エ
ーテル溶媒系で実施したときには、反応式1の反応によ
って化合物VIIIが80%以上の収率かつ95%以上の純
度で得られる。生成物を反応混合物から塩化アンモニウ
ム(NH4Cl)で沈澱させる。
条件に依存するということである。トルエン:THF:エ
ーテル溶媒系で実施したときには、反応式1の反応によ
って化合物VIIIが80%以上の収率かつ95%以上の純
度で得られる。生成物を反応混合物から塩化アンモニウ
ム(NH4Cl)で沈澱させる。
【0022】式(I)で示される大員環のリンカー部分を
反応式2に従って調製する。
反応式2に従って調製する。
【化19】 z、R2、R3、R4、およびnは上記定義と同じであ
る。反応式2は大員環のリンカー部分の立体選択的合成
法を示すものである。S−鏡像異性体が上に示されてい
るが、当業者は相補的な鏡像異性体または鏡像異性体の
混合物を同様の方法で調製し得ることを認識しているで
あろう。
る。反応式2は大員環のリンカー部分の立体選択的合成
法を示すものである。S−鏡像異性体が上に示されてい
るが、当業者は相補的な鏡像異性体または鏡像異性体の
混合物を同様の方法で調製し得ることを認識しているで
あろう。
【0023】エポキシド{化合物(III)}の位置選択的
な開環は、式(III):
な開環は、式(III):
【化20】 で示される化合物を、リチウムアセチリド、セリウムア
セチリド、またはビニルカプレート、ビニルアルミニウ
ム、ビニルスズ、ビニルリチウム、もしくはビニルグリ
ニャールから選ばれる有機金属試薬でアルキル化するこ
とによって行われる。好ましくは、ビニル有機金属試薬
は、式:ビニルMgBr、ビニルMgCl、ビニルLi、ビ
ニル(チエニル)Cu(CN)Li2、ビニル(チエニル)Cu
(CN)LiMgBr、またはリチウムアセチレン:EDTA
錯体で示される化合物である。
セチリド、またはビニルカプレート、ビニルアルミニウ
ム、ビニルスズ、ビニルリチウム、もしくはビニルグリ
ニャールから選ばれる有機金属試薬でアルキル化するこ
とによって行われる。好ましくは、ビニル有機金属試薬
は、式:ビニルMgBr、ビニルMgCl、ビニルLi、ビ
ニル(チエニル)Cu(CN)Li2、ビニル(チエニル)Cu
(CN)LiMgBr、またはリチウムアセチレン:EDTA
錯体で示される化合物である。
【0024】エポキシド(III)と有機金属の間の反応
は、当分野で認められている条件下で起こる。触媒カプ
レート(銅酸塩)の存在下でのビニルグリニャールとエ
ポキシドの間の反応は、Tius M.A.ら[J.Am.Chem.So
c. 108(5): 1035-1039 (1986)]およびDeCampshuda
A.ら[Synthesis-Stuttgart (4), 309-312 (1986)]に
よって記述されている。同様に、Gillet J.P.ら[Synt
hesis-stuttgart (5), 355-360 (1986)]は、エポキシ
ドを開環するためのルイス酸の存在下でのビニルリチウ
ム試薬の使用を記述している。Lipshutz B.H.ら[Te
trahedron Lett.29(8): 893-896 (1988)]はビニルエポ
キシドを開環するための高次カプレート(銅酸塩)を開
示している。Behling J.R.[Tetrahedron Lett. 30
(1): 27-30 (1989)]はエポキシドを開環するのに有用
なスタンニルまたはビニルスズ試薬を開示している。A
lexakis A.ら[Tetrahedron Lett. 45(19): 6197-6202
(1989)]はエポキシドを開環するためのアルミン酸ビ
ニルの使用を開示している。エポキシドのリチウムアセ
チリド還元はSynthesis[139-141 (1987)]に開示され
ている。リチウムアセチリドまたはセリウムアセチリド
で実施する場合、H2/リンドラー触媒での付加還元が、
アリル(化合物IV)を調製するために必要である。
は、当分野で認められている条件下で起こる。触媒カプ
レート(銅酸塩)の存在下でのビニルグリニャールとエ
ポキシドの間の反応は、Tius M.A.ら[J.Am.Chem.So
c. 108(5): 1035-1039 (1986)]およびDeCampshuda
A.ら[Synthesis-Stuttgart (4), 309-312 (1986)]に
よって記述されている。同様に、Gillet J.P.ら[Synt
hesis-stuttgart (5), 355-360 (1986)]は、エポキシ
ドを開環するためのルイス酸の存在下でのビニルリチウ
ム試薬の使用を記述している。Lipshutz B.H.ら[Te
trahedron Lett.29(8): 893-896 (1988)]はビニルエポ
キシドを開環するための高次カプレート(銅酸塩)を開
示している。Behling J.R.[Tetrahedron Lett. 30
(1): 27-30 (1989)]はエポキシドを開環するのに有用
なスタンニルまたはビニルスズ試薬を開示している。A
lexakis A.ら[Tetrahedron Lett. 45(19): 6197-6202
(1989)]はエポキシドを開環するためのアルミン酸ビ
ニルの使用を開示している。エポキシドのリチウムアセ
チリド還元はSynthesis[139-141 (1987)]に開示され
ている。リチウムアセチリドまたはセリウムアセチリド
で実施する場合、H2/リンドラー触媒での付加還元が、
アリル(化合物IV)を調製するために必要である。
【0025】好ましくは、反応を、CuIまたはCuBr
のような触媒カプレートの存在下、ビニルMgBrまたは
MgClを用いて実施する。この反応を、不活性溶媒中、
約−80℃から反応混合物の還流温度の間の温度で実施
する。好ましくは、温度は−20〜30℃である。この
反応によって化合物(IV)が得られ、これを精製すること
なくさらに反応させることができる。
のような触媒カプレートの存在下、ビニルMgBrまたは
MgClを用いて実施する。この反応を、不活性溶媒中、
約−80℃から反応混合物の還流温度の間の温度で実施
する。好ましくは、温度は−20〜30℃である。この
反応によって化合物(IV)が得られ、これを精製すること
なくさらに反応させることができる。
【0026】アルコールをハロゲン化アルキルまたはア
リルにカップリングするために、当分野で認められてい
る条件下で、化合物IVをアルキル化またはアリル化し、
式:
リルにカップリングするために、当分野で認められてい
る条件下で、化合物IVをアルキル化またはアリル化し、
式:
【化21】 で示されるエーテル{化合物(V)}を得る。この反応は
普通ウィリアムソン合成法として知られている。この反
応はハロゲン化物イオン(R4)によるアルコキシドイオ
ンの求核置換を包含する。好ましくは、アルコキシドイ
オンを、塩基、例えば、NaOH、KOH、またはNaH
の存在下、非プロトン性溶媒、例えば、DMSO、TH
F、DMF、エーテル、またはトルエン中で生成させ
る。
普通ウィリアムソン合成法として知られている。この反
応はハロゲン化物イオン(R4)によるアルコキシドイオ
ンの求核置換を包含する。好ましくは、アルコキシドイ
オンを、塩基、例えば、NaOH、KOH、またはNaH
の存在下、非プロトン性溶媒、例えば、DMSO、TH
F、DMF、エーテル、またはトルエン中で生成させ
る。
【0027】化合物(V)は、当分野で認められている技
術によって化合物(II)に変換される。例えば、R3がオ
レフィン(例えば、=CR8R9;ここでR8およびR9は
独立して水素、アリール、またはC1〜C4アルキルであ
る)である場合、低温でオゾンを用いて処理することに
よって、化合物(V)をオゾニドに変換する。次いで、こ
のオゾニドをNaBH4、LiAlH4、BH3での還元また
は過剰H2での触媒水素化で還元し、ヒドロキシ部分を
生成させる。このヒドロキシを脱離基L1に容易に変換
することができる。例えば、トリエチルアミン中でヒド
ロキシを塩化メタンスルホニルと反応させることによっ
て、メシル脱離基を調製する。別法として、例えばトリ
フェニルホスフィン中でCBr4を用いて、遊離ヒドロキ
シをヨウ化または臭化脱離基に変換する。
術によって化合物(II)に変換される。例えば、R3がオ
レフィン(例えば、=CR8R9;ここでR8およびR9は
独立して水素、アリール、またはC1〜C4アルキルであ
る)である場合、低温でオゾンを用いて処理することに
よって、化合物(V)をオゾニドに変換する。次いで、こ
のオゾニドをNaBH4、LiAlH4、BH3での還元また
は過剰H2での触媒水素化で還元し、ヒドロキシ部分を
生成させる。このヒドロキシを脱離基L1に容易に変換
することができる。例えば、トリエチルアミン中でヒド
ロキシを塩化メタンスルホニルと反応させることによっ
て、メシル脱離基を調製する。別法として、例えばトリ
フェニルホスフィン中でCBr4を用いて、遊離ヒドロキ
シをヨウ化または臭化脱離基に変換する。
【0028】当業者なら、反応式2の反応はR4が=C
H2であるときに特に有利であることを認識するであろ
う。両方の二重結合がオゾニドに変換され、同時に還元
されてジオールが得られ、このジオールは両方のL1部
分が同じ脱離基である化合物(II)に容易に変換される。
H2であるときに特に有利であることを認識するであろ
う。両方の二重結合がオゾニドに変換され、同時に還元
されてジオールが得られ、このジオールは両方のL1部
分が同じ脱離基である化合物(II)に容易に変換される。
【0029】記述した方法による化合物(II)の調製は、
高収率で化合物(II)を調製するのに有利な方法である。
この方法は大スケールで行う場合に効果的であり、かつ
適している。この合成法はR2が保護されたヒドロキ
シ、特にO−トリチルである際にとりわけ有利である。
R2がO−トリチルである場合、化合物IIを反応混合物
から結晶化することができるので、高価なクロマトグラ
フィー工程を避けることができる。R2がTBDPSま
たは他の保護基である場合、結晶化および精製はより困
難かつ高価である。高価なクロマトグラフィー工程なし
で高純度かつ高収率で結晶化合物を与える能力は、化合
物(II)を合成する他の方法よりも明らかに有利である。
高収率で化合物(II)を調製するのに有利な方法である。
この方法は大スケールで行う場合に効果的であり、かつ
適している。この合成法はR2が保護されたヒドロキ
シ、特にO−トリチルである際にとりわけ有利である。
R2がO−トリチルである場合、化合物IIを反応混合物
から結晶化することができるので、高価なクロマトグラ
フィー工程を避けることができる。R2がTBDPSま
たは他の保護基である場合、結晶化および精製はより困
難かつ高価である。高価なクロマトグラフィー工程なし
で高純度かつ高収率で結晶化合物を与える能力は、化合
物(II)を合成する他の方法よりも明らかに有利である。
【0030】下記の反応式3のように化合物(II)を化合
物(VIII)にカップリングする。
物(VIII)にカップリングする。
【化22】 反応式3に示された反応は、N−置換インドールを調製
する既知方法のいずれかによって行われる。通常、この
反応は、約等モル量の2つの試薬を用いるが、他の比率
(特に、アルキル化試薬が過剰である比率)も用い得
る。当分野で認められているように、この反応はアルカ
リ金属塩を用いて極性非プロトン性溶媒中で、または他
のこのようなアルキル化条件を用いて行うのが最良であ
る。脱離基がブロモまたはクロロである場合、触媒量の
ヨウ化カリウムのようなヨウ素塩を加えて反応を速めて
もよい。反応条件としては、ジメチルホルムアミドまた
はテトラヒドロフラン中のヘキサメチルジシラザン化カ
リウム、ジメチルホルムアミド中の水素化ナトリウムが
含まれる。
する既知方法のいずれかによって行われる。通常、この
反応は、約等モル量の2つの試薬を用いるが、他の比率
(特に、アルキル化試薬が過剰である比率)も用い得
る。当分野で認められているように、この反応はアルカ
リ金属塩を用いて極性非プロトン性溶媒中で、または他
のこのようなアルキル化条件を用いて行うのが最良であ
る。脱離基がブロモまたはクロロである場合、触媒量の
ヨウ化カリウムのようなヨウ素塩を加えて反応を速めて
もよい。反応条件としては、ジメチルホルムアミドまた
はテトラヒドロフラン中のヘキサメチルジシラザン化カ
リウム、ジメチルホルムアミド中の水素化ナトリウムが
含まれる。
【0031】好ましくは、アセトニトリル、ジメチルホ
ルムアミド(DMF)、またはテトラヒドロフラン(T
HF)のいずれか中、炭酸セシウムの緩慢逆添加の下で
反応を実施する。緩慢逆添加は、化合物(VIII)およびア
ルキル化物質(II)の混合物と塩基とを約0.1〜2.0ml/
時の速度で混合することからなる。混合物中の各試薬の
濃度は約1.5〜0.001Mである。緩慢逆添加によっ
て、約0.01μM〜1.5Mの反応容器中の試薬濃度を
得る。当業者なら、この反応において、より速い添加速
度のときにより低い試薬濃度を用い得ることを認識する
であろう。同様に、この反応において、より低い添加速
度のときにより高い試薬濃度を用いることができる。好
ましくは、この化合物を、約0.14ml/時で、0.37
Mのアルキル化物質および化合物と共に加える。Cs2C
O3を過剰に加えるのが好ましく、最も好ましくはCs2
CO3:アルキル化物質が4:1の比率である。好まし
い極性非プロトン性溶媒はアセトニトリル、ジメチルホ
ルムアミド(DMF)、アセトン、ジメチルスルホキシ
ド(DMSO)、ジオキサン、ジエチレングリコールメ
チルエーテル(ジグリム)、テトラヒドロフラン(TH
F)、または試薬が可溶である他の極性非プロトン性溶
媒である。この反応を約0℃〜還流の温度範囲で行う。
ルムアミド(DMF)、またはテトラヒドロフラン(T
HF)のいずれか中、炭酸セシウムの緩慢逆添加の下で
反応を実施する。緩慢逆添加は、化合物(VIII)およびア
ルキル化物質(II)の混合物と塩基とを約0.1〜2.0ml/
時の速度で混合することからなる。混合物中の各試薬の
濃度は約1.5〜0.001Mである。緩慢逆添加によっ
て、約0.01μM〜1.5Mの反応容器中の試薬濃度を
得る。当業者なら、この反応において、より速い添加速
度のときにより低い試薬濃度を用い得ることを認識する
であろう。同様に、この反応において、より低い添加速
度のときにより高い試薬濃度を用いることができる。好
ましくは、この化合物を、約0.14ml/時で、0.37
Mのアルキル化物質および化合物と共に加える。Cs2C
O3を過剰に加えるのが好ましく、最も好ましくはCs2
CO3:アルキル化物質が4:1の比率である。好まし
い極性非プロトン性溶媒はアセトニトリル、ジメチルホ
ルムアミド(DMF)、アセトン、ジメチルスルホキシ
ド(DMSO)、ジオキサン、ジエチレングリコールメ
チルエーテル(ジグリム)、テトラヒドロフラン(TH
F)、または試薬が可溶である他の極性非プロトン性溶
媒である。この反応を約0℃〜還流の温度範囲で行う。
【0032】当業者は、化合物とアルキル化物質の混合
物の比率が限定的ではないことを認識するであろう。し
かし、これら試薬を互いの0.5:3等量の比率で混合
するのが好ましい。最も好ましくは、これら試薬を1:
1で混合する。溶解用溶媒中の化合物の濃度は飽和から
約0.01Mである。
物の比率が限定的ではないことを認識するであろう。し
かし、これら試薬を互いの0.5:3等量の比率で混合
するのが好ましい。最も好ましくは、これら試薬を1:
1で混合する。溶解用溶媒中の化合物の濃度は飽和から
約0.01Mである。
【0033】化合物(XIII)は、当分野で既知のアルカリ
加水分解によって、対応する無水物を経て式Iの化合物
に変換される。アルカリ加水分解は、C1〜C4アルコー
ル(好ましくはエタノール)、DMSO/水、ジオキサ
ン/水、またはアセトニトリル/水において、約25°C
から好ましくは還流温度までの温度範囲で、化合物(XII
I)を塩基と、例えば、水酸化ナトリウムまたは水酸化カ
リウムと反応させることからなる。反応物質の濃度は限
定的ではない。
加水分解によって、対応する無水物を経て式Iの化合物
に変換される。アルカリ加水分解は、C1〜C4アルコー
ル(好ましくはエタノール)、DMSO/水、ジオキサ
ン/水、またはアセトニトリル/水において、約25°C
から好ましくは還流温度までの温度範囲で、化合物(XII
I)を塩基と、例えば、水酸化ナトリウムまたは水酸化カ
リウムと反応させることからなる。反応物質の濃度は限
定的ではない。
【0034】無水物を、アンモノリシスによって式Iの
マレイミドに変換する。アンモノリシスは、DMFのよ
うな極性非プロトン性溶媒中、室温で、無水物を過剰の
ヘキサメチルジシラザンまたはアンモニウム塩(酢酸、
臭化、または塩化アンモニウム)およびC1〜C4アルコ
ール(好ましくはメタノール)と反応させることからな
る。好ましくは、ヘキサメチルジシラザンまたはアンモ
ニウム塩を無水物の約5:1当量以上の比率で反応させ
る。
マレイミドに変換する。アンモノリシスは、DMFのよ
うな極性非プロトン性溶媒中、室温で、無水物を過剰の
ヘキサメチルジシラザンまたはアンモニウム塩(酢酸、
臭化、または塩化アンモニウム)およびC1〜C4アルコ
ール(好ましくはメタノール)と反応させることからな
る。好ましくは、ヘキサメチルジシラザンまたはアンモ
ニウム塩を無水物の約5:1当量以上の比率で反応させ
る。
【0035】所望のR1部分へのR2の変換は、アミンま
たはヒドロキシを脱保護するための当分野で既知の技術
によって実施される。例えば、R2が−O−トリチルで
あるとき、この化合物を塩化メチレン中、HClガスで
脱トリチル化する。次いで、得られたヒドロキシまたは
アミンを標準条件下でR1の種々の置換基に変換するこ
とができる。例えば、R2がヒドロキシであるとき、R2
をTHF中、MS2Oおよびピリジンを用いてメシレー
トに変換し、次いでジメチルアミンまたは他のアミン置
換基に変換する。
たはヒドロキシを脱保護するための当分野で既知の技術
によって実施される。例えば、R2が−O−トリチルで
あるとき、この化合物を塩化メチレン中、HClガスで
脱トリチル化する。次いで、得られたヒドロキシまたは
アミンを標準条件下でR1の種々の置換基に変換するこ
とができる。例えば、R2がヒドロキシであるとき、R2
をTHF中、MS2Oおよびピリジンを用いてメシレー
トに変換し、次いでジメチルアミンまたは他のアミン置
換基に変換する。
【0036】前述のように、本方法は式Iの化合物を調
製するのに有用である。式Iの化合物はPKC阻害物質
であり、PKCの関係する疾患を治療するのに有用であ
る。式Iの化合物は、100μm以下のIC50でPKC
を阻害する。さらに、この化合物はβ−1およびβ−2
PKCアイソザイムを選択的に阻害し、これらアイソザ
イムに対して10μm以下のIC50値をもつ。化合物の
投与量は哺乳動物においてPKC活性を阻害できる量で
ある。本発明に従って投与される化合物の特定の用量
は、もちろん、その症例を取り巻く特定の事情、例え
ば、投与される化合物、投与経路、治療される特定の症
状、および同様の考慮事項によって決定されるであろ
う。式Iの化合物は種々の経路、例えば、経口、直腸、
経皮、皮下、局所、静脈内、筋肉内、または鼻孔内経路
によって投与することができる。全症候について、通常
の1日用量は約0.01〜20mg/kgの本発明の活性化合
物を含有するであろう。好ましい1日用量は約0.05
〜10mg/kgであり、理想的には約0.1〜5mg/kgであ
ろう。しかし、局所投与のための通常の投与量は、罹患
組織1cm2につき約1〜500μgの化合物である。好ま
しくは、化合物の適用量は約30〜300μg/cm2であ
り、より好ましくは約50〜200μg/cm2であり、最
も好ましくは約60〜100μg/cm2の範囲であろう。
製するのに有用である。式Iの化合物はPKC阻害物質
であり、PKCの関係する疾患を治療するのに有用であ
る。式Iの化合物は、100μm以下のIC50でPKC
を阻害する。さらに、この化合物はβ−1およびβ−2
PKCアイソザイムを選択的に阻害し、これらアイソザ
イムに対して10μm以下のIC50値をもつ。化合物の
投与量は哺乳動物においてPKC活性を阻害できる量で
ある。本発明に従って投与される化合物の特定の用量
は、もちろん、その症例を取り巻く特定の事情、例え
ば、投与される化合物、投与経路、治療される特定の症
状、および同様の考慮事項によって決定されるであろ
う。式Iの化合物は種々の経路、例えば、経口、直腸、
経皮、皮下、局所、静脈内、筋肉内、または鼻孔内経路
によって投与することができる。全症候について、通常
の1日用量は約0.01〜20mg/kgの本発明の活性化合
物を含有するであろう。好ましい1日用量は約0.05
〜10mg/kgであり、理想的には約0.1〜5mg/kgであ
ろう。しかし、局所投与のための通常の投与量は、罹患
組織1cm2につき約1〜500μgの化合物である。好ま
しくは、化合物の適用量は約30〜300μg/cm2であ
り、より好ましくは約50〜200μg/cm2であり、最
も好ましくは約60〜100μg/cm2の範囲であろう。
【0037】以下に実施例および製造例を挙げるが、こ
れらは単に本発明をさらに詳しく説明するためのもので
ある。本発明の範囲は、単に以下の実施例から構成され
るものとは解釈されない。以下の実施例および製造例に
おいて、融点、核磁気共鳴スペクトル、質量スペクト
ル、シリカゲルの高圧液体クロマトグラフィー、N,N
−ジメチルホルムアミド、パラジウム−炭素、テトラヒ
ドロフラン、および酢酸エチルは、それぞれM.Pt.、
NMR、MS、HPLC、DMF、Pd/C、THF、お
よびEtOAcと省略する。用語「NMR」および「M
S」は、スペクトルが所望の構造と合致したことを指
す。
れらは単に本発明をさらに詳しく説明するためのもので
ある。本発明の範囲は、単に以下の実施例から構成され
るものとは解釈されない。以下の実施例および製造例に
おいて、融点、核磁気共鳴スペクトル、質量スペクト
ル、シリカゲルの高圧液体クロマトグラフィー、N,N
−ジメチルホルムアミド、パラジウム−炭素、テトラヒ
ドロフラン、および酢酸エチルは、それぞれM.Pt.、
NMR、MS、HPLC、DMF、Pd/C、THF、お
よびEtOAcと省略する。用語「NMR」および「M
S」は、スペクトルが所望の構造と合致したことを指
す。
【0038】製造例1 ジクロロ−N−メチルマレイミ
ド マグネティックスターラーバー、デジタル熱電対/温度
計、窒素パージおよび固体添加漏斗を取り付けた3Lの
3首フラスコに、ジクロロマレイン酸無水物(450
g、269.5mol)、メチルアミン塩酸塩(191g、2
82.8mol)および酢酸(1.6L)を入れた。次い
で、この反応混合物を10°Cに冷却し、10〜12°
Cの温度を保ちながら1時間かけて固体添加漏斗からN
aOMe(160g)を加えた。この反応液を室温で42
時間撹拌し(24時間で十分である)、次いで100°
Cに3時間加熱した。この時のHPLC分析によって、
全出発原料が消失していることが示された。この反応液
を室温まで冷却し、水(2L)を加えた。次いで、この
混合物を3〜10°Cに1時間冷却し、4°Cで濾過し
た。次いで、この固体を冷却した脱イオン水(2L)で
すすいだ。この淡黄色の固体を一晩空気オーブン中で乾
燥させ、360g(75%)収量の標記化合物を得た。
ド マグネティックスターラーバー、デジタル熱電対/温度
計、窒素パージおよび固体添加漏斗を取り付けた3Lの
3首フラスコに、ジクロロマレイン酸無水物(450
g、269.5mol)、メチルアミン塩酸塩(191g、2
82.8mol)および酢酸(1.6L)を入れた。次い
で、この反応混合物を10°Cに冷却し、10〜12°
Cの温度を保ちながら1時間かけて固体添加漏斗からN
aOMe(160g)を加えた。この反応液を室温で42
時間撹拌し(24時間で十分である)、次いで100°
Cに3時間加熱した。この時のHPLC分析によって、
全出発原料が消失していることが示された。この反応液
を室温まで冷却し、水(2L)を加えた。次いで、この
混合物を3〜10°Cに1時間冷却し、4°Cで濾過し
た。次いで、この固体を冷却した脱イオン水(2L)で
すすいだ。この淡黄色の固体を一晩空気オーブン中で乾
燥させ、360g(75%)収量の標記化合物を得た。
【0039】製造例2 (S)−トリチルグリシドール N2下で塩化トリチル(2866g、10.3mol)をCH
2Cl2(7L)に溶解した。トリエチルアミン(118
9g、1638ml、11.8mol)を加え、次いですすぎ
液としてCH2Cl2(1L)を用いて(R)−(−)−グリ
シドール(795.0g、10.6mol)を加えた。反応溶
液を穏やかな還流温度(42°C)まで3〜4時間加熱
した。反応液を室温まで冷却し、次いで塩水(3L)を
加えた。有機層をNa2SO4(600g)で乾燥させ、真
空下で蒸発させて、標記化合物をオイルとして得、これ
をエタノールから再結晶させて2354g(70%)の
標記化合物を固体として得た。
2Cl2(7L)に溶解した。トリエチルアミン(118
9g、1638ml、11.8mol)を加え、次いですすぎ
液としてCH2Cl2(1L)を用いて(R)−(−)−グリ
シドール(795.0g、10.6mol)を加えた。反応溶
液を穏やかな還流温度(42°C)まで3〜4時間加熱
した。反応液を室温まで冷却し、次いで塩水(3L)を
加えた。有機層をNa2SO4(600g)で乾燥させ、真
空下で蒸発させて、標記化合物をオイルとして得、これ
をエタノールから再結晶させて2354g(70%)の
標記化合物を固体として得た。
【0040】製造例3 2,3−ビス−(1H−インドー
ル−3−イル)−N−メチルマレイミド インドール(157.4g、1.343mol、2.2eq.)、
トルエン(2.28L)、およびTHF(412ml)
を、機械スターラー、熱電対/Hastelloyプローブ、温
度調節器、加熱マントル、コンデンサー、500mlの添
加漏斗、および窒素入口を装備した12Lの反応フラス
コに入れた。窒素下、周囲温度でこの無色溶液を短時間
撹拌した。
ル−3−イル)−N−メチルマレイミド インドール(157.4g、1.343mol、2.2eq.)、
トルエン(2.28L)、およびTHF(412ml)
を、機械スターラー、熱電対/Hastelloyプローブ、温
度調節器、加熱マントル、コンデンサー、500mlの添
加漏斗、および窒素入口を装備した12Lの反応フラス
コに入れた。窒素下、周囲温度でこの無色溶液を短時間
撹拌した。
【0041】Et2O中の3.0M EtMgBr溶液(45
2ml、1.36mol、2.2eq.)を添加漏斗に入れ、30
分かけてインドール溶液に滴下した。この間に53°C
までの発熱が観察された。この淡緑色の溶液を60°C
まで加熱し、そのまま1時間保持した。
2ml、1.36mol、2.2eq.)を添加漏斗に入れ、30
分かけてインドール溶液に滴下した。この間に53°C
までの発熱が観察された。この淡緑色の溶液を60°C
まで加熱し、そのまま1時間保持した。
【0042】トルエン(578ml)中のジクロロ−N−
メチルマレイミド(110.0g、0.611mol、1.0e
q.)の溶液を調製し、反応混合物に5〜10分かけて注
ぐように加えた。この間に67°Cまでの発熱と暗色の
不均質混合物が生じた。この混合物を穏やかな還流温度
(88°C)まで加熱し、HPLCによって完了するま
でそのまま一晩保持した。
メチルマレイミド(110.0g、0.611mol、1.0e
q.)の溶液を調製し、反応混合物に5〜10分かけて注
ぐように加えた。この間に67°Cまでの発熱と暗色の
不均質混合物が生じた。この混合物を穏やかな還流温度
(88°C)まで加熱し、HPLCによって完了するま
でそのまま一晩保持した。
【0043】この反応混合物を20〜30°Cに冷却し
た。塩化アンモニウム飽和溶液(1.76L)を、35
〜40°Cまで発熱がおさまるまで最初は滴下して加
え、この時点で暗色の不均質混合物は赤色スラリーに変
化した。このスラリーを25〜30°Cで2〜4時間撹
拌した。この生成物を濾過によって単離し、水とトルエ
ンですすぎ、次いで真空オーブン中50°Cで乾燥させ
た。168g(80%)の生成物を得た。
た。塩化アンモニウム飽和溶液(1.76L)を、35
〜40°Cまで発熱がおさまるまで最初は滴下して加
え、この時点で暗色の不均質混合物は赤色スラリーに変
化した。このスラリーを25〜30°Cで2〜4時間撹
拌した。この生成物を濾過によって単離し、水とトルエ
ンですすぎ、次いで真空オーブン中50°Cで乾燥させ
た。168g(80%)の生成物を得た。
【0044】製造例4 1-(tert-ブチルジメチルシリ
ルオキシ)-4-(tert-ブチルジフェニルシリルオキシ)-
ブタン-2-オール 3-ブテン-1-オール(15g、0.21mol)の無水CH2
Cl2(110ml)溶液に、イミダゾール(28.6g、0.4
2mol、2eq.)、次いで塩化tert-ブチルジメチルシリル
(32g、0.22mol)を加えた。90分後、TLC(10
%EtOAc/ヘキサン)により示されたように反応は完
了した。CH2Cl2溶液を分離漏斗に移し、CH2Cl
2(110ml)で希釈し、水(200ml)および塩水(200
ml)で洗浄した。有機層を集め、MgSO4で乾燥し、濾
過した。溶媒を除去してオイル(1-(O-TBDMS)-3
-ブテン)を得、これを取り、次の反応に供した。MS。
ルオキシ)-4-(tert-ブチルジフェニルシリルオキシ)-
ブタン-2-オール 3-ブテン-1-オール(15g、0.21mol)の無水CH2
Cl2(110ml)溶液に、イミダゾール(28.6g、0.4
2mol、2eq.)、次いで塩化tert-ブチルジメチルシリル
(32g、0.22mol)を加えた。90分後、TLC(10
%EtOAc/ヘキサン)により示されたように反応は完
了した。CH2Cl2溶液を分離漏斗に移し、CH2Cl
2(110ml)で希釈し、水(200ml)および塩水(200
ml)で洗浄した。有機層を集め、MgSO4で乾燥し、濾
過した。溶媒を除去してオイル(1-(O-TBDMS)-3
-ブテン)を得、これを取り、次の反応に供した。MS。
【0045】上記のオイルを、アセトン(400ml)と水
(50ml)の混合物中に溶解した。次いでN-メチルモル
ホリン-N-オキシド(85.2g、0.63mol、3eq.)を
加えた。得られたスラリーを0℃に冷却し、10分後に
触媒量のOsO4(0.3g)を加えた。得られたスラリーを
一晩撹拌し、徐々に室温に暖めた。TLC(25%EtO
Ac/ヘキサン)は、反応が完了したことを示した。反応
混合物を重亜硫酸ナトリウムで失活させ、エーテル(1
L)で希釈し、水(400ml)および塩水(400ml)で洗
浄した。有機層を集めた。水層をエーテル(2×500m
l)で抽出した。混合した有機層を乾燥し、濾過し、そし
て濃縮して4-(O-TBDMS)-1,2-ブタンジオール
をオイルとして得、これを取り、次の反応に供した。
(50ml)の混合物中に溶解した。次いでN-メチルモル
ホリン-N-オキシド(85.2g、0.63mol、3eq.)を
加えた。得られたスラリーを0℃に冷却し、10分後に
触媒量のOsO4(0.3g)を加えた。得られたスラリーを
一晩撹拌し、徐々に室温に暖めた。TLC(25%EtO
Ac/ヘキサン)は、反応が完了したことを示した。反応
混合物を重亜硫酸ナトリウムで失活させ、エーテル(1
L)で希釈し、水(400ml)および塩水(400ml)で洗
浄した。有機層を集めた。水層をエーテル(2×500m
l)で抽出した。混合した有機層を乾燥し、濾過し、そし
て濃縮して4-(O-TBDMS)-1,2-ブタンジオール
をオイルとして得、これを取り、次の反応に供した。
【0046】上記のオイルを無水CH2Cl2(250ml)
に溶解した。イミダゾール(30g、0.44mol、2.5e
q.)をこの溶液に固体として撹拌しながら加えた。得ら
れた溶液を0℃に冷却した。15分間冷却した後に、塩
化tert-ブチルジフェニルシリル(50g、0.18mol、
1eq.)のCH2Cl2(50ml)溶液を45分かけて滴下し
た。添加が完了した後に、撹拌を0℃で2.5時間継続
した。溶液を分離漏斗に移し、CH2Cl2(250ml)で
希釈し、水、塩水で洗浄し、MgSO4で乾燥して濾過し
た。溶媒を減圧下で除去して粗生成物をオイルとして得
た。粗生成物はシリカゲルの短いカラムを用いて溶離
(10%EtOAc/ヘキサン)することにより精製した。
溶離溶媒を真空下で除去して標記中間体の粘稠なオイル
を得た。(78.1g;総収率93%)。MS。
に溶解した。イミダゾール(30g、0.44mol、2.5e
q.)をこの溶液に固体として撹拌しながら加えた。得ら
れた溶液を0℃に冷却した。15分間冷却した後に、塩
化tert-ブチルジフェニルシリル(50g、0.18mol、
1eq.)のCH2Cl2(50ml)溶液を45分かけて滴下し
た。添加が完了した後に、撹拌を0℃で2.5時間継続
した。溶液を分離漏斗に移し、CH2Cl2(250ml)で
希釈し、水、塩水で洗浄し、MgSO4で乾燥して濾過し
た。溶媒を減圧下で除去して粗生成物をオイルとして得
た。粗生成物はシリカゲルの短いカラムを用いて溶離
(10%EtOAc/ヘキサン)することにより精製した。
溶離溶媒を真空下で除去して標記中間体の粘稠なオイル
を得た。(78.1g;総収率93%)。MS。
【0047】
【化23】 実施例1 (S)−13−[(ジメチルアミノ)メチル]−1
0,11,14,15−テトラヒドロ−4,9:16−21
−ジメテノ−1H,13H−ジベンゾ[E,K]ピロロ[3,
4−H][1,4,13]オキサジアザシクロヘキサデシン
−1,3(2H)−ジオン 2,3−ビス−(1H−インドール−3−イル)−N−メ
チルマレイミド(114.7g、0.336mol)および
(S)−3−[2−[(メチルスルホニル)オキシ]エトキシ]
−4−(トリフェニルメトキシ)−1−ブタノール メタ
ンスルホネート(220.0g、0.401mol、1.2e
q.)をDMF(4.3L)に溶解した。次いで、この試
薬溶液を、50°CのDMF(7L)中の炭酸セシウム
(437.8g、1.34mol、4.0eq.)のスラリーに7
0時間かけてゆっくり加えた(約1ml/分で)。70〜
72時間後、この反応液を冷却し、濾過して、DMFを
真空下で除去して残渣を得、これをCH2Cl2(4.6
L)に溶解した。この有機層を1N HCl水溶液(1.
15L)で抽出し、次いで塩水(4.6L)で抽出し
た。混合した水層をCH2Cl2(1.1L)で逆抽出し
た。混合した有機層を乾燥させ(Na2SO4)、濾過し
た。溶媒の大部分を真空下で除去し、得られた溶液を、
追加のCH2Cl2(4〜5ガロン)を用いてシリカゲル
(2kg)に通して濾過し、基本原料を除去した。溶媒を
真空下で除去し、得られた紫色固体を7倍量のアセトニ
トリル{粗(S)−10,11,14,15−テトラヒドロ
−2−メチル−13−[(トリフェニルメトキシ)メチル]
−4,9:16,21−ジメテノ−1H,13H−ジベンゾ
[E,K]ピロロ[3,4−H][1,4,13]オキサジアザシ
クロヘキサデシン−1,3(2H)−ジオンの重量を基に
した}でトリチュレートし、乾燥後に150.2g(57
%)の(S)−10,11,14,15−テトラヒドロ−2
−メチル−13−[(トリフェニルメトキシ)メチル]−
4,9:16,21−ジメテノ−1H,13H−ジベンゾ
[E,K]ピロロ[3,4−H][1,4,13]−オキサジアザ
シクロヘキサデシン−1,3(2H)−ジオンを得た(標
準に対するHPLCにより89%純粋)。
0,11,14,15−テトラヒドロ−4,9:16−21
−ジメテノ−1H,13H−ジベンゾ[E,K]ピロロ[3,
4−H][1,4,13]オキサジアザシクロヘキサデシン
−1,3(2H)−ジオン 2,3−ビス−(1H−インドール−3−イル)−N−メ
チルマレイミド(114.7g、0.336mol)および
(S)−3−[2−[(メチルスルホニル)オキシ]エトキシ]
−4−(トリフェニルメトキシ)−1−ブタノール メタ
ンスルホネート(220.0g、0.401mol、1.2e
q.)をDMF(4.3L)に溶解した。次いで、この試
薬溶液を、50°CのDMF(7L)中の炭酸セシウム
(437.8g、1.34mol、4.0eq.)のスラリーに7
0時間かけてゆっくり加えた(約1ml/分で)。70〜
72時間後、この反応液を冷却し、濾過して、DMFを
真空下で除去して残渣を得、これをCH2Cl2(4.6
L)に溶解した。この有機層を1N HCl水溶液(1.
15L)で抽出し、次いで塩水(4.6L)で抽出し
た。混合した水層をCH2Cl2(1.1L)で逆抽出し
た。混合した有機層を乾燥させ(Na2SO4)、濾過し
た。溶媒の大部分を真空下で除去し、得られた溶液を、
追加のCH2Cl2(4〜5ガロン)を用いてシリカゲル
(2kg)に通して濾過し、基本原料を除去した。溶媒を
真空下で除去し、得られた紫色固体を7倍量のアセトニ
トリル{粗(S)−10,11,14,15−テトラヒドロ
−2−メチル−13−[(トリフェニルメトキシ)メチル]
−4,9:16,21−ジメテノ−1H,13H−ジベンゾ
[E,K]ピロロ[3,4−H][1,4,13]オキサジアザシ
クロヘキサデシン−1,3(2H)−ジオンの重量を基に
した}でトリチュレートし、乾燥後に150.2g(57
%)の(S)−10,11,14,15−テトラヒドロ−2
−メチル−13−[(トリフェニルメトキシ)メチル]−
4,9:16,21−ジメテノ−1H,13H−ジベンゾ
[E,K]ピロロ[3,4−H][1,4,13]−オキサジアザ
シクロヘキサデシン−1,3(2H)−ジオンを得た(標
準に対するHPLCにより89%純粋)。
【0048】(S)−10,11,14,15−テトラヒド
ロ−2−メチル−13−[(トリフェニルメトキシ)メチ
ル]−4,9:16,21−ジメテノ−1H,13H−ジベ
ンゾ[E,K]ピロロ[3,4−H][1,4,13]−オキサジ
アザシクロヘキサデシン−1,3(2H)−ジオン(32.
7g、46.9mol)をエタノール(1.6L)と10NK
OH(1.6L)に懸濁した。この反応混合物を穏やか
な還流温度(78°C)で19時間加熱した。ほとんど
の固体は還流到達で溶解した。この反応溶液を10〜1
5°Cに冷却し、10N HCl水溶液(1.2L)を<
15°Cでゆっくり加え、pH=1の酸性に調節した。
赤色スラリーが酸性化により現れた。反応混合物をCH
2Cl2(500ml)で希釈し、20分間撹拌し、濾過し
てほとんどの塩を除去した。この塩を追加のCH2Cl2
(1.5L)で洗浄し、濾液を水(1L)で2回抽出し
た。混合した水層をCH2Cl2(1L)で逆抽出し、有
機層を乾燥させた(MgSO4)。溶媒を真空下で除去
し、36.0g(>100%)の(S)−10,11,14,
15−テトラヒドロ−13−[(トリフェニルメトキシ)
メチル]−4,9:16,21−ジメテノ−13H−ジベン
ゾ[E,K]フロ[3,4−H][1,4,13]−オキサジアザ
シクロヘキサデシン−1,3−ジオンを紫色の固体とし
て得た(HPLC面積により80%純粋)。
ロ−2−メチル−13−[(トリフェニルメトキシ)メチ
ル]−4,9:16,21−ジメテノ−1H,13H−ジベ
ンゾ[E,K]ピロロ[3,4−H][1,4,13]−オキサジ
アザシクロヘキサデシン−1,3(2H)−ジオン(32.
7g、46.9mol)をエタノール(1.6L)と10NK
OH(1.6L)に懸濁した。この反応混合物を穏やか
な還流温度(78°C)で19時間加熱した。ほとんど
の固体は還流到達で溶解した。この反応溶液を10〜1
5°Cに冷却し、10N HCl水溶液(1.2L)を<
15°Cでゆっくり加え、pH=1の酸性に調節した。
赤色スラリーが酸性化により現れた。反応混合物をCH
2Cl2(500ml)で希釈し、20分間撹拌し、濾過し
てほとんどの塩を除去した。この塩を追加のCH2Cl2
(1.5L)で洗浄し、濾液を水(1L)で2回抽出し
た。混合した水層をCH2Cl2(1L)で逆抽出し、有
機層を乾燥させた(MgSO4)。溶媒を真空下で除去
し、36.0g(>100%)の(S)−10,11,14,
15−テトラヒドロ−13−[(トリフェニルメトキシ)
メチル]−4,9:16,21−ジメテノ−13H−ジベン
ゾ[E,K]フロ[3,4−H][1,4,13]−オキサジアザ
シクロヘキサデシン−1,3−ジオンを紫色の固体とし
て得た(HPLC面積により80%純粋)。
【0049】(S)−10,11,14,15−テトラヒド
ロ−13−[(トリフェニルメトキシ)メチル]−4,9:1
6,21−ジメテノ−13H−ジベンゾ[E,K]フロ[3,
4−H][1,4,13]−オキサジアザシクロヘキサデシ
ン−1,3−ジオン(36.0g、推定46.9mmol)を窒
素下で乾燥DMF(320ml)に溶解し、予め混合した
1,1,1,3,3,3−ヘキサメチルジシラザン(99m
l、75.7g、0.469mol、10eq.)およびメタノー
ル(9.5ml、7.51g、0.235mol、5eq.)の溶液
で処理した。得られた溶液を45°Cで7時間加熱し
た。この反応をHPLCによってモニターすることがで
きる。ほとんどのDMFを真空下で除去し、得られた残
渣を酢酸エチル(200ml)中に抽出して、水(200
ml)で洗浄し、そして5%LiCl水溶液(100ml)で
2回洗浄した。水層を酢酸エチル(100ml)で逆抽出
した。混合した有機層を塩化アンモニウム飽和水溶液
(200ml)で洗浄した。この混合した有機層を乾燥
(MgSO4)および真空下で蒸発させて35.9g(>1
00%)の粗(S)−10,11,14,15−テトラヒド
ロ−13−[(トリフェニルメトキシ)メチル]−4,
9:16,21−ジメテノ−1H;13H−ジベンゾ[E,
K]ピロロ[3,4−H][1,4,13]−オキサジアザシク
ロヘキサデシン−1,3(2H)−ジオンを紫色固体とし
て得た。この粗(S)−10,11,14,15−テトラヒ
ドロ−13−[(トリフェニルメトキシ)メチル]−4,9:
16,21−ジメテノ−1H;13H−ジベンゾ[E,K]
ピロロ[3,4−H][1,4,13]−オキサジアザシクロ
ヘキサデシン−1,3(2H)−ジオン(35.9g)をア
セトン(350ml)に溶解し、フッ化セシウム(4.0
g、26.3mol、0.5eq.)を加え、そして得られた混
合物を1.5時間撹拌し、(S)−10,11,14,15
−テトラヒドロ−13−[(トリフェニルメトキシ)メチ
ル]−4,9:16,21−ジメテノ−1H;13H−ジベ
ンゾ[E,K]ピロロ[3,4−H][1,4,13]−オキサジ
アザシクロヘキサデシン−1,3(2H)−ジオンのN−
シリル誘導体を除去した。この反応混合物を濾過し、セ
シウム塩をアセトンで洗浄した。溶媒を真空下で除去し
た。得られた残渣(941g)を酢酸エチル(300m
l)で希釈し、水(150ml)と塩水(25ml)で抽出
し、層分離を改善した。次いで、有機層を水(150ml
以上)で洗浄し、混合した有機層を塩水(100ml)で
洗浄し、乾燥させ(MgSO4)、そして溶媒を真空下で
除去して34.2g(>100%)の(S)−10,11,1
4,15−テトラヒドロ−13−[(トリフェニルメトキ
シ)メチル]−4,9:16,21−ジメテノ−1H;13H
−ジベンゾ[E,K]ピロロ[3,4−H][1,4,13]−オ
キサジアザシクロヘキサデシン−1,3(2H)−ジオン
を紫色固体として得た(HPLC面積により90%純
粋)。
ロ−13−[(トリフェニルメトキシ)メチル]−4,9:1
6,21−ジメテノ−13H−ジベンゾ[E,K]フロ[3,
4−H][1,4,13]−オキサジアザシクロヘキサデシ
ン−1,3−ジオン(36.0g、推定46.9mmol)を窒
素下で乾燥DMF(320ml)に溶解し、予め混合した
1,1,1,3,3,3−ヘキサメチルジシラザン(99m
l、75.7g、0.469mol、10eq.)およびメタノー
ル(9.5ml、7.51g、0.235mol、5eq.)の溶液
で処理した。得られた溶液を45°Cで7時間加熱し
た。この反応をHPLCによってモニターすることがで
きる。ほとんどのDMFを真空下で除去し、得られた残
渣を酢酸エチル(200ml)中に抽出して、水(200
ml)で洗浄し、そして5%LiCl水溶液(100ml)で
2回洗浄した。水層を酢酸エチル(100ml)で逆抽出
した。混合した有機層を塩化アンモニウム飽和水溶液
(200ml)で洗浄した。この混合した有機層を乾燥
(MgSO4)および真空下で蒸発させて35.9g(>1
00%)の粗(S)−10,11,14,15−テトラヒド
ロ−13−[(トリフェニルメトキシ)メチル]−4,
9:16,21−ジメテノ−1H;13H−ジベンゾ[E,
K]ピロロ[3,4−H][1,4,13]−オキサジアザシク
ロヘキサデシン−1,3(2H)−ジオンを紫色固体とし
て得た。この粗(S)−10,11,14,15−テトラヒ
ドロ−13−[(トリフェニルメトキシ)メチル]−4,9:
16,21−ジメテノ−1H;13H−ジベンゾ[E,K]
ピロロ[3,4−H][1,4,13]−オキサジアザシクロ
ヘキサデシン−1,3(2H)−ジオン(35.9g)をア
セトン(350ml)に溶解し、フッ化セシウム(4.0
g、26.3mol、0.5eq.)を加え、そして得られた混
合物を1.5時間撹拌し、(S)−10,11,14,15
−テトラヒドロ−13−[(トリフェニルメトキシ)メチ
ル]−4,9:16,21−ジメテノ−1H;13H−ジベ
ンゾ[E,K]ピロロ[3,4−H][1,4,13]−オキサジ
アザシクロヘキサデシン−1,3(2H)−ジオンのN−
シリル誘導体を除去した。この反応混合物を濾過し、セ
シウム塩をアセトンで洗浄した。溶媒を真空下で除去し
た。得られた残渣(941g)を酢酸エチル(300m
l)で希釈し、水(150ml)と塩水(25ml)で抽出
し、層分離を改善した。次いで、有機層を水(150ml
以上)で洗浄し、混合した有機層を塩水(100ml)で
洗浄し、乾燥させ(MgSO4)、そして溶媒を真空下で
除去して34.2g(>100%)の(S)−10,11,1
4,15−テトラヒドロ−13−[(トリフェニルメトキ
シ)メチル]−4,9:16,21−ジメテノ−1H;13H
−ジベンゾ[E,K]ピロロ[3,4−H][1,4,13]−オ
キサジアザシクロヘキサデシン−1,3(2H)−ジオン
を紫色固体として得た(HPLC面積により90%純
粋)。
【0050】(S)−10,11,14,15−テトラヒド
ロ−13−[(トリフェニルメトキシ)メチル]−4,9:1
6,21−ジメテノ−1H;13H−ジベンゾ[E,K]ピ
ロロ[3,4−H][1,4,13]−オキサジアザシクロヘ
キサデシン−1,3(2H)−ジオン(34.0、推定4
6.8mmol)をCH2Cl2(350ml)に溶解し、N2の
下で−25°Cまで冷却した。無水HClガスを<0°
Cで約1〜2分間、反応溶液中に吹き込んだ。得られた
スラリーを室温まで温め、1時間撹拌した。この反応を
HPLCによってモニターすることができる。スラリー
を濾過し、固体をCH2Cl2(200ml)で洗浄した。
この固体を真空オーブン中50°Cで乾燥させ、18.
6g(90%)の(S)−10,11,14,15−テトラヒ
ドロ−13−(ヒドロキシメチル)−4,9:16,21−
ジメテノ−1H,13H−ジベンゾ[E,K]ピロロ[3,4
−H][1,4,13]−オキサジアザシクロヘキサデシン
−1,3(2H)−ジオンを紫色固体として得た(HPL
C面積により93%純粋)。
ロ−13−[(トリフェニルメトキシ)メチル]−4,9:1
6,21−ジメテノ−1H;13H−ジベンゾ[E,K]ピ
ロロ[3,4−H][1,4,13]−オキサジアザシクロヘ
キサデシン−1,3(2H)−ジオン(34.0、推定4
6.8mmol)をCH2Cl2(350ml)に溶解し、N2の
下で−25°Cまで冷却した。無水HClガスを<0°
Cで約1〜2分間、反応溶液中に吹き込んだ。得られた
スラリーを室温まで温め、1時間撹拌した。この反応を
HPLCによってモニターすることができる。スラリー
を濾過し、固体をCH2Cl2(200ml)で洗浄した。
この固体を真空オーブン中50°Cで乾燥させ、18.
6g(90%)の(S)−10,11,14,15−テトラヒ
ドロ−13−(ヒドロキシメチル)−4,9:16,21−
ジメテノ−1H,13H−ジベンゾ[E,K]ピロロ[3,4
−H][1,4,13]−オキサジアザシクロヘキサデシン
−1,3(2H)−ジオンを紫色固体として得た(HPL
C面積により93%純粋)。
【0051】THF(900ml)中の(S)−10,11,
14,15−テトラヒドロ−13−(ヒドロキシメチル)
−4,9:16,21−ジメテノ−1H,13H−ジベンゾ
[E,K]ピロロ[3,4−H][1,4,13]−オキサジアザ
シクロヘキサデシン−1,3(2H)−ジオン(18.2
g、41.2mmol)の懸濁液をピリジン(9.78g、1
0.0ml、0.124mmol、3eq.)および無水メタンス
ルホン酸(14.3g、80.4mmol、2eq.)で処理し、
N2下で16時間、還流温度(67°C)まで加熱し
た。この反応をHPLCによってモニターすることがで
きる。次いで、この反応液を冷却し、酢酸エチル(60
0ml)で希釈して、1N HCl(300ml)で2回、お
よび水(600ml)で1回抽出した。この水層を酢酸エ
チル(300ml)で逆抽出し、有機層を乾燥させた(M
gSO4)。溶媒を真空下で除去し19.0の(S)−10,
11,14,15−テトラヒドロ−13−[(メチルスルホ
ニル)オキシ]メチル]−4,9:16,21−ジメテノ−1
H,13H−ジベンゾ[E,K]ピロロ[3,4−H][1,4,
13]−オキサジアザシクロヘキサデシン−1,3(2H)
−ジオンを得、これを熱い(40°C)CH2Cl2(1
90ml)でトリチュレートして、熱濾過し、室温の追加
のCH2Cl2(100ml)で洗浄して、17.3g(81
%)の(S)−10,11,14,15−テトラヒドロ−1
3−[(メチルスルホニル)オキシ]メチル]−4,9:16,
21−ジメテノ−1H,13H−ジベンゾ[E,K]ピロロ
[3,4−H][1,4,13]−オキサジアザシクロヘキサ
デシン−1,3(2H)−ジオンを紫色固体として得た
(HPLC面積により96%純粋)。
14,15−テトラヒドロ−13−(ヒドロキシメチル)
−4,9:16,21−ジメテノ−1H,13H−ジベンゾ
[E,K]ピロロ[3,4−H][1,4,13]−オキサジアザ
シクロヘキサデシン−1,3(2H)−ジオン(18.2
g、41.2mmol)の懸濁液をピリジン(9.78g、1
0.0ml、0.124mmol、3eq.)および無水メタンス
ルホン酸(14.3g、80.4mmol、2eq.)で処理し、
N2下で16時間、還流温度(67°C)まで加熱し
た。この反応をHPLCによってモニターすることがで
きる。次いで、この反応液を冷却し、酢酸エチル(60
0ml)で希釈して、1N HCl(300ml)で2回、お
よび水(600ml)で1回抽出した。この水層を酢酸エ
チル(300ml)で逆抽出し、有機層を乾燥させた(M
gSO4)。溶媒を真空下で除去し19.0の(S)−10,
11,14,15−テトラヒドロ−13−[(メチルスルホ
ニル)オキシ]メチル]−4,9:16,21−ジメテノ−1
H,13H−ジベンゾ[E,K]ピロロ[3,4−H][1,4,
13]−オキサジアザシクロヘキサデシン−1,3(2H)
−ジオンを得、これを熱い(40°C)CH2Cl2(1
90ml)でトリチュレートして、熱濾過し、室温の追加
のCH2Cl2(100ml)で洗浄して、17.3g(81
%)の(S)−10,11,14,15−テトラヒドロ−1
3−[(メチルスルホニル)オキシ]メチル]−4,9:16,
21−ジメテノ−1H,13H−ジベンゾ[E,K]ピロロ
[3,4−H][1,4,13]−オキサジアザシクロヘキサ
デシン−1,3(2H)−ジオンを紫色固体として得た
(HPLC面積により96%純粋)。
【0052】(S)−10,11,14,15−テトラヒド
ロ−13−[(メチルスルホニル)オキシ]メチル]−4,
9:16,21−ジメテノ−1H,13H−ジベンゾ[E,
K]ピロロ[3,4−H][1,4,13]−オキサジアザシク
ロヘキサデシン−1,3(2H)−ジオン(9.50g、1
8.3mmol)をTHF(475ml)に溶解し、40%ジ
メチルアミン水溶液(172ml、0.173mol、75e
q.)を加え、得られた溶液を65°Cで密閉反応器(8
〜10psi.)中にて19時間加熱した。この反応液を冷
却し、酢酸エチル(900ml)で希釈し、有機層を水
(450ml)で2回および塩水(200ml)で1回抽出
した。水層を追加の酢酸エチル(250ml)で逆抽出
し、有機層を乾燥させ(MgSO4)、溶媒を真空下で除
去して7.82g(91%)の(S)−13−[(ジメチルア
ミノ)メチル]−10,11,14,15−テトラヒドロ−
4,9:16,21−ジメテノ−1H,13H−ジベンゾ
[E,K]ピロロ[3,4−H][1,4,13]−オキサジアザ
シクロヘキサデシン−1,3(2H)−ジオンを得た。
ロ−13−[(メチルスルホニル)オキシ]メチル]−4,
9:16,21−ジメテノ−1H,13H−ジベンゾ[E,
K]ピロロ[3,4−H][1,4,13]−オキサジアザシク
ロヘキサデシン−1,3(2H)−ジオン(9.50g、1
8.3mmol)をTHF(475ml)に溶解し、40%ジ
メチルアミン水溶液(172ml、0.173mol、75e
q.)を加え、得られた溶液を65°Cで密閉反応器(8
〜10psi.)中にて19時間加熱した。この反応液を冷
却し、酢酸エチル(900ml)で希釈し、有機層を水
(450ml)で2回および塩水(200ml)で1回抽出
した。水層を追加の酢酸エチル(250ml)で逆抽出
し、有機層を乾燥させ(MgSO4)、溶媒を真空下で除
去して7.82g(91%)の(S)−13−[(ジメチルア
ミノ)メチル]−10,11,14,15−テトラヒドロ−
4,9:16,21−ジメテノ−1H,13H−ジベンゾ
[E,K]ピロロ[3,4−H][1,4,13]−オキサジアザ
シクロヘキサデシン−1,3(2H)−ジオンを得た。
【0053】(S)−13−[(ジメチルアミノ)メチル]−
10,11,14,15−テトラヒドロ−4,9:16,21
−ジメテノ−1H,13H−ジベンゾ[E,K]ピロロ[3,
4−H][1,4,13]−オキサジアザシクロヘキサデシ
ン−1,3(2H)−ジオン(3.0g、6.40mmol)を3
A型エタノール(60ml)に再懸濁し、N2下で−10
°Cに冷却した。無水HClガスを<10°Cで約1分
間、反応液中に吹き込み、得られたスラリーを温めて、
室温で2時間撹拌した。このスラリーを濾過し、固体を
エタノール(30ml)で洗浄して、乾燥後に3.04g
(94%)の(S)−13−[(ジメチルアミノ)メチル]−
10,11,14,15−テトラヒドロ−4,9:16,21
−ジメテノ−1H,13H−ジベンゾ[E,K]ピロロ[3,
4−H][1,4,13]−オキサジアザシクロヘキサデシ
ン−1,3(2H)−ジオン・一塩酸塩を得た。1H NM
R:(d6−DMSO):δ2.1(m,1H);2.35
(m,1H);2.68(s,6H);3.2(m,1H);3.3
3(m,1H);3.66(br.t,1H);3.8(br.t,1
H);3.85(m,1H);4.17(m,1H);4.2−
4.4(m,3H);7.1(d,1H);7.13(d,1H);
7.2(m,2H);7.44(s,1H);7.48(s,1
H);7.5(d,1H);7.56(d,1H);7.82(br.
t,2H);10.59(br.,1H);10.96(s,1
H)。
10,11,14,15−テトラヒドロ−4,9:16,21
−ジメテノ−1H,13H−ジベンゾ[E,K]ピロロ[3,
4−H][1,4,13]−オキサジアザシクロヘキサデシ
ン−1,3(2H)−ジオン(3.0g、6.40mmol)を3
A型エタノール(60ml)に再懸濁し、N2下で−10
°Cに冷却した。無水HClガスを<10°Cで約1分
間、反応液中に吹き込み、得られたスラリーを温めて、
室温で2時間撹拌した。このスラリーを濾過し、固体を
エタノール(30ml)で洗浄して、乾燥後に3.04g
(94%)の(S)−13−[(ジメチルアミノ)メチル]−
10,11,14,15−テトラヒドロ−4,9:16,21
−ジメテノ−1H,13H−ジベンゾ[E,K]ピロロ[3,
4−H][1,4,13]−オキサジアザシクロヘキサデシ
ン−1,3(2H)−ジオン・一塩酸塩を得た。1H NM
R:(d6−DMSO):δ2.1(m,1H);2.35
(m,1H);2.68(s,6H);3.2(m,1H);3.3
3(m,1H);3.66(br.t,1H);3.8(br.t,1
H);3.85(m,1H);4.17(m,1H);4.2−
4.4(m,3H);7.1(d,1H);7.13(d,1H);
7.2(m,2H);7.44(s,1H);7.48(s,1
H);7.5(d,1H);7.56(d,1H);7.82(br.
t,2H);10.59(br.,1H);10.96(s,1
H)。
【0054】実施例2 (S)−3−[2−[(メチルスル
ホニル)オキシ]エトキシ]−4−(トリフェニルメトキ
シ)−1−ブタノール メタンスルホネート 臭化ビニルマグネシウムの1M THF溶液(5.76
L、5.76mol、1.96eq.)をN2下で−20°Cに
冷却し、触媒量のヨウ化銅(28.2g、0.148mol、
0.05eq.)を加えた。得られた混合物を−20°Cで
5分間撹拌し、次いで乾燥THF(3.2L)中の(S)
−トリチル−グリシドール(929.0g、2.94mol)
の溶液を−20°Cで1.5時間かけて滴下した。この
反応混合物を−20°Cで1時間撹拌した。反応混合物
を−30°Cに冷却することによってこの反応を停止さ
せ、塩化アンモニウム飽和水溶液(5L)をゆっくり加
えた。次いで、有機層を10%(重量/容量)エチレン
ジアミン四酢酸二ナトリウム二水和物(EDTA)の溶
液(1L)で2回抽出し、あらゆる金属を除去した。有
機層を塩水(2L)で洗浄し、乾燥させ(MgSO4)、
真空下で蒸発させて1061g(96%)の(S)−1−
(トリフェニルメトキシ)−4−ペンテン−2−オールを
オイルとして得た。
ホニル)オキシ]エトキシ]−4−(トリフェニルメトキ
シ)−1−ブタノール メタンスルホネート 臭化ビニルマグネシウムの1M THF溶液(5.76
L、5.76mol、1.96eq.)をN2下で−20°Cに
冷却し、触媒量のヨウ化銅(28.2g、0.148mol、
0.05eq.)を加えた。得られた混合物を−20°Cで
5分間撹拌し、次いで乾燥THF(3.2L)中の(S)
−トリチル−グリシドール(929.0g、2.94mol)
の溶液を−20°Cで1.5時間かけて滴下した。この
反応混合物を−20°Cで1時間撹拌した。反応混合物
を−30°Cに冷却することによってこの反応を停止さ
せ、塩化アンモニウム飽和水溶液(5L)をゆっくり加
えた。次いで、有機層を10%(重量/容量)エチレン
ジアミン四酢酸二ナトリウム二水和物(EDTA)の溶
液(1L)で2回抽出し、あらゆる金属を除去した。有
機層を塩水(2L)で洗浄し、乾燥させ(MgSO4)、
真空下で蒸発させて1061g(96%)の(S)−1−
(トリフェニルメトキシ)−4−ペンテン−2−オールを
オイルとして得た。
【0055】鉱油中の60%水素化ナトリウムの懸濁液
(268.9g、6.72mol、1.5eq.)をN2下で乾燥
THF(2.8L)に懸濁し、乾燥THF(5.6L)中
の(S)−1−(トリフェニルメトキシ)−4−ペンテン−
2−オール(1543g、4.48mol)の溶液を室温で
加えた。この反応混合物を室温で1.5時間撹拌し、次
いで新たに蒸留した臭化アリル(770ml、8.89mo
l、2.0eq.)を20分かけて加えた。この反応液を4
5°Cで1〜2時間加熱した。この反応混合物を15〜
20°Cに冷却し、塩化アンモニウム飽和水溶液(2
L)をゆっくり加えて過剰の塩基を失活させた。得られ
た混合物を酢酸エチル(1L)と水(1L)で希釈し、
有機層を単離した。水層を酢酸エチル(500ml)で逆
抽出し、混合した有機層を乾燥させ(MgSO4)、真空
下で蒸発させて1867g(98%)の(S)-1,1',1"
−[[[2−(2−プロペニルオキシ)−4−ペンテニル]オ
キシ]メチリジン]トリス[ベンゼン]を黄色のオイルとし
て得た。
(268.9g、6.72mol、1.5eq.)をN2下で乾燥
THF(2.8L)に懸濁し、乾燥THF(5.6L)中
の(S)−1−(トリフェニルメトキシ)−4−ペンテン−
2−オール(1543g、4.48mol)の溶液を室温で
加えた。この反応混合物を室温で1.5時間撹拌し、次
いで新たに蒸留した臭化アリル(770ml、8.89mo
l、2.0eq.)を20分かけて加えた。この反応液を4
5°Cで1〜2時間加熱した。この反応混合物を15〜
20°Cに冷却し、塩化アンモニウム飽和水溶液(2
L)をゆっくり加えて過剰の塩基を失活させた。得られ
た混合物を酢酸エチル(1L)と水(1L)で希釈し、
有機層を単離した。水層を酢酸エチル(500ml)で逆
抽出し、混合した有機層を乾燥させ(MgSO4)、真空
下で蒸発させて1867g(98%)の(S)-1,1',1"
−[[[2−(2−プロペニルオキシ)−4−ペンテニル]オ
キシ]メチリジン]トリス[ベンゼン]を黄色のオイルとし
て得た。
【0056】(S)-1,1',1"−[[[2−(2−プロペニ
ルオキシ)−4−ペンテニル]オキシ]メチリジン]トリス
[ベンゼン](1281g、3.33mol)を無水メチルア
ルコール(4L)およびCH2Cl2(3.6L)の溶液に
溶解し、粘稠な反応溶液にN2を吹き込みながら−50
〜−40°Cに冷却した。SudanIII指示薬を反応液に
加え、反応液が桃色から明るい黄緑色に変わるまで、−
50〜−35°Cで13時間、オゾンを反応混合物に吹
き込んだ。得られた反応混合物をN2下で0°Cまで温
め、次いで反応温度を30°C以下に保ちながら、エタ
ノール(2.5L)/水(2.5L)中の水素化ホウ素ナ
トリウム(754g、19.9mol、6eq.)の溶液に40
分かけてゆっくりと加えた。次いで、この反応液を室温
で一晩撹拌した。この反応をHPLCによってモニター
することができる。この反応混合物を10〜15°Cに
冷却し、<20°Cで塩化アンモニウム飽和水溶液(4
L)にゆっくりと加えた。次いで、反応を停止させた混
合物を濾過し、この固体をCH2Cl2(3L)で洗浄し
た。有機層を単離し、塩化アンモニウム飽和水溶液(3
L)で洗浄し、水層をCH2Cl2(1L)で逆抽出し
た。この混合した有機層を乾燥させ(MgSO4)、真空
下で蒸発させて1361g(>100%)の(S)−3−
(2−ヒドロキシエトキシ)−4−(トリフェニルメトキ
シ)−1−ブタノールをオイルとして得た。
ルオキシ)−4−ペンテニル]オキシ]メチリジン]トリス
[ベンゼン](1281g、3.33mol)を無水メチルア
ルコール(4L)およびCH2Cl2(3.6L)の溶液に
溶解し、粘稠な反応溶液にN2を吹き込みながら−50
〜−40°Cに冷却した。SudanIII指示薬を反応液に
加え、反応液が桃色から明るい黄緑色に変わるまで、−
50〜−35°Cで13時間、オゾンを反応混合物に吹
き込んだ。得られた反応混合物をN2下で0°Cまで温
め、次いで反応温度を30°C以下に保ちながら、エタ
ノール(2.5L)/水(2.5L)中の水素化ホウ素ナ
トリウム(754g、19.9mol、6eq.)の溶液に40
分かけてゆっくりと加えた。次いで、この反応液を室温
で一晩撹拌した。この反応をHPLCによってモニター
することができる。この反応混合物を10〜15°Cに
冷却し、<20°Cで塩化アンモニウム飽和水溶液(4
L)にゆっくりと加えた。次いで、反応を停止させた混
合物を濾過し、この固体をCH2Cl2(3L)で洗浄し
た。有機層を単離し、塩化アンモニウム飽和水溶液(3
L)で洗浄し、水層をCH2Cl2(1L)で逆抽出し
た。この混合した有機層を乾燥させ(MgSO4)、真空
下で蒸発させて1361g(>100%)の(S)−3−
(2−ヒドロキシエトキシ)−4−(トリフェニルメトキ
シ)−1−ブタノールをオイルとして得た。
【0057】(S)−3−(2−ヒドロキシエトキシ)−4
−(トリフェニルメトキシ)−1−ブタノール(500
g、1.27mol)をCH2Cl2(4.8L)に溶解し、N2
下で0°Cまで冷却し、トリエチルアミン(386.4
g、532ml、3.81mol、3.0eq.)を加えた。次い
で、塩化メタンスルホニル(396.3g、268ml、
3.46mol、2.7eq.)を<5°Cで30分かけて滴下し
た。得られた反応混合物を0〜5°Cで1〜2時間撹拌
し、HPLCによってモニターした。この反応混合物を
追加のCH2Cl2で希釈し、水(2L)および塩化アン
モニウム飽和水溶液(2L)で2回洗浄した。水層をC
H2Cl2(1L)で逆抽出し、混合した有機層を乾燥さ
せ(MgSO4)、真空下で蒸発させて粗固体を得、これ
を1/1 ヘプタン/酢酸エチルから再結晶させて、3回
の回収で615g(88%)の(S)−3−[2−[(メチル
スルホニル)オキシ]エトキシ]−4−(トリフェニルメト
キシ)−1−ブタノール メタンスルホネートを固体とし
て得た。NMR。MS。
−(トリフェニルメトキシ)−1−ブタノール(500
g、1.27mol)をCH2Cl2(4.8L)に溶解し、N2
下で0°Cまで冷却し、トリエチルアミン(386.4
g、532ml、3.81mol、3.0eq.)を加えた。次い
で、塩化メタンスルホニル(396.3g、268ml、
3.46mol、2.7eq.)を<5°Cで30分かけて滴下し
た。得られた反応混合物を0〜5°Cで1〜2時間撹拌
し、HPLCによってモニターした。この反応混合物を
追加のCH2Cl2で希釈し、水(2L)および塩化アン
モニウム飽和水溶液(2L)で2回洗浄した。水層をC
H2Cl2(1L)で逆抽出し、混合した有機層を乾燥さ
せ(MgSO4)、真空下で蒸発させて粗固体を得、これ
を1/1 ヘプタン/酢酸エチルから再結晶させて、3回
の回収で615g(88%)の(S)−3−[2−[(メチル
スルホニル)オキシ]エトキシ]−4−(トリフェニルメト
キシ)−1−ブタノール メタンスルホネートを固体とし
て得た。NMR。MS。
【0058】実施例3 3−[2−ヨードエトキシ]−4
−(トリフェニルメトキシ−ヨードブトン) 塩化トリチル(175.2g、0.616mol)をN2下で
CH2Cl2(500ml)に溶解した。トリエチルアミン
(71.9g、100ml、0.710mol)を加え、次いで
R,S−グリシドール(50.0g、0.648mol)を加
え、この反応溶液を穏やかな還流温度(42°C)で4
時間加熱した。この反応液を室温まで冷却し、塩化アン
モニウム飽和水溶液(250ml)で2回抽出し、次いで
塩水(250ml)で抽出した。水層をCH2Cl2(10
0ml)で逆抽出し、有機層を乾燥させ(MgSO4)、真
空下で蒸発させてトリチル−グリシドールをオイルとし
て得、これをエタノールから再結晶させて104.4g
(54%)のトリチル−グリシドールを固体として得
た。
−(トリフェニルメトキシ−ヨードブトン) 塩化トリチル(175.2g、0.616mol)をN2下で
CH2Cl2(500ml)に溶解した。トリエチルアミン
(71.9g、100ml、0.710mol)を加え、次いで
R,S−グリシドール(50.0g、0.648mol)を加
え、この反応溶液を穏やかな還流温度(42°C)で4
時間加熱した。この反応液を室温まで冷却し、塩化アン
モニウム飽和水溶液(250ml)で2回抽出し、次いで
塩水(250ml)で抽出した。水層をCH2Cl2(10
0ml)で逆抽出し、有機層を乾燥させ(MgSO4)、真
空下で蒸発させてトリチル−グリシドールをオイルとし
て得、これをエタノールから再結晶させて104.4g
(54%)のトリチル−グリシドールを固体として得
た。
【0059】臭化ビニルマグネシウムの1M THF溶
液(50ml、50mmol、2.0eq.)をN2下で−20°
Cまで冷却し、触媒量のヨウ化銅(0.24g、1.26m
mol、0.05eq.)を加えた。得られた混合物を−20
°Cで5分間撹拌し、次いで乾燥THF(40ml)中の
トリチル−グリシドール(7.91g、25.0mmol)の溶
液を−20°Cで15分かけて滴下した。反応混合物を
−20°Cで3時間撹拌し、次いで室温まで温め、15
分間撹拌した。この反応混合物を−30°Cまで冷却し
て反応を停止させ、塩化アンモニウム飽和水溶液(12
5ml)をゆっくりと加えた。得られた混合物を酢酸エチ
ル(200ml)で抽出した。次いで、脱イオン水(12
5ml)中のエチレンジアミン四酢酸二ナトリウム二水和
物(EDTA)(0.93g、2.50mmol、0.1eq.)
の水溶液で有機層を抽出して、あらゆる金属を除去し
た。水層を酢酸エチル(50ml)で逆抽出し、混合した
有機層を塩水(100ml)で洗浄して、乾燥させ(Mg
SO4)、真空下で蒸発させてオイルを得、これを3/1
ヘキサン/酢酸エチル(1.2L)を用いてシリカ(7
6g)で濾過した。この濾液を真空下で蒸発させて9.0
7g(100%)の1−(トリフェニルメトキシ)−4−
ペンテン−2−オールを明るい黄色のオイルとして得
た。
液(50ml、50mmol、2.0eq.)をN2下で−20°
Cまで冷却し、触媒量のヨウ化銅(0.24g、1.26m
mol、0.05eq.)を加えた。得られた混合物を−20
°Cで5分間撹拌し、次いで乾燥THF(40ml)中の
トリチル−グリシドール(7.91g、25.0mmol)の溶
液を−20°Cで15分かけて滴下した。反応混合物を
−20°Cで3時間撹拌し、次いで室温まで温め、15
分間撹拌した。この反応混合物を−30°Cまで冷却し
て反応を停止させ、塩化アンモニウム飽和水溶液(12
5ml)をゆっくりと加えた。得られた混合物を酢酸エチ
ル(200ml)で抽出した。次いで、脱イオン水(12
5ml)中のエチレンジアミン四酢酸二ナトリウム二水和
物(EDTA)(0.93g、2.50mmol、0.1eq.)
の水溶液で有機層を抽出して、あらゆる金属を除去し
た。水層を酢酸エチル(50ml)で逆抽出し、混合した
有機層を塩水(100ml)で洗浄して、乾燥させ(Mg
SO4)、真空下で蒸発させてオイルを得、これを3/1
ヘキサン/酢酸エチル(1.2L)を用いてシリカ(7
6g)で濾過した。この濾液を真空下で蒸発させて9.0
7g(100%)の1−(トリフェニルメトキシ)−4−
ペンテン−2−オールを明るい黄色のオイルとして得
た。
【0060】鉱油中の60%水素化ナトリウム懸濁液
(6.13g、0.153mol、1.5eq.)を乾燥THF
(175ml)に懸濁して、室温で加えた。得られた混合
物を室温で1.5時間撹拌し、次いで新たに蒸留した臭
化アリル(17.7ml、0.204mmol、2.0eq.)をシ
リンジで加えた。この反応液を45°Cで1時間加熱し
た。この反応をTLCまたはHPLCによってモニター
することができる。反応混合物を0°Cに冷却し、塩化
アンモニウム飽和水溶液(400ml)をゆっくりと加え
て、過剰の塩基を失活させた。得られた混合物を酢酸エ
チル(800ml)で抽出し、有機層を水(500ml)で
洗浄した。水層を酢酸エチル(100ml)で逆抽出し、
混合した有機層を塩水(200ml)で洗浄して、乾燥さ
せ(MgSO4)、真空下で蒸発させて41.5g(>10
0%)の1,1',1"−[[[2−(2−プロペニルオキシ)
−4−ペンテニル]オキシ]メチリジン]トリス[ベンゼ
ン]を黄色のオイルとして得た。
(6.13g、0.153mol、1.5eq.)を乾燥THF
(175ml)に懸濁して、室温で加えた。得られた混合
物を室温で1.5時間撹拌し、次いで新たに蒸留した臭
化アリル(17.7ml、0.204mmol、2.0eq.)をシ
リンジで加えた。この反応液を45°Cで1時間加熱し
た。この反応をTLCまたはHPLCによってモニター
することができる。反応混合物を0°Cに冷却し、塩化
アンモニウム飽和水溶液(400ml)をゆっくりと加え
て、過剰の塩基を失活させた。得られた混合物を酢酸エ
チル(800ml)で抽出し、有機層を水(500ml)で
洗浄した。水層を酢酸エチル(100ml)で逆抽出し、
混合した有機層を塩水(200ml)で洗浄して、乾燥さ
せ(MgSO4)、真空下で蒸発させて41.5g(>10
0%)の1,1',1"−[[[2−(2−プロペニルオキシ)
−4−ペンテニル]オキシ]メチリジン]トリス[ベンゼ
ン]を黄色のオイルとして得た。
【0061】1,1',1"−[[[2−(2−プロペニルオキ
シ)−4−ペンテニル]オキシ]メチリジン]トリス[ベン
ゼン](39.3g、0.102mol)を無水メチルアルコ
ール(390ml)およびCH2Cl2(60ml)の溶液に
溶解し、粘稠な反応溶液にN2を吹き込みながら−50
〜−40℃まで冷却した。次いで、反応液が淡青色に変
わるまで、−50〜−40°Cで80分間、オゾンを反
応混合物に吹き込んだ。得られた反応混合物をN2下で
0°Cまで温め、次いで反応温度を10°C以下に保ち
ながら、エタノール(85ml)/水(85ml)中の水素
化ホウ素ナトリウム(23.15g、0.612mol、6e
q.)の溶液をゆっくりと加えて反応を停止させた。この
反応液を氷浴中で30分間撹拌し、次いで室温まで温め
て一晩撹拌した。温めたときに温度が31°Cまで上昇
した。この反応混合物を塩化アンモニウム飽和水溶液
(400ml)で希釈し、酢酸エチル(800ml)で抽出
した。有機層を水(400ml)で洗浄し、水層を酢酸エ
チル(150ml)で逆抽出した。この混合した有機層を
塩水(200ml)で洗浄し、乾燥させ(MgSO4)、真
空下で蒸発させて曇ったオイルを得た。このオイルを2
/1 ヘキサン/酢酸エチルから再結晶させ、3回の回収
で28.9g(72%)の3−(2−ヒドロキシエトキシ)
−4−(トリフェニルメトキシ)−1−ブトノールを得
た。
シ)−4−ペンテニル]オキシ]メチリジン]トリス[ベン
ゼン](39.3g、0.102mol)を無水メチルアルコ
ール(390ml)およびCH2Cl2(60ml)の溶液に
溶解し、粘稠な反応溶液にN2を吹き込みながら−50
〜−40℃まで冷却した。次いで、反応液が淡青色に変
わるまで、−50〜−40°Cで80分間、オゾンを反
応混合物に吹き込んだ。得られた反応混合物をN2下で
0°Cまで温め、次いで反応温度を10°C以下に保ち
ながら、エタノール(85ml)/水(85ml)中の水素
化ホウ素ナトリウム(23.15g、0.612mol、6e
q.)の溶液をゆっくりと加えて反応を停止させた。この
反応液を氷浴中で30分間撹拌し、次いで室温まで温め
て一晩撹拌した。温めたときに温度が31°Cまで上昇
した。この反応混合物を塩化アンモニウム飽和水溶液
(400ml)で希釈し、酢酸エチル(800ml)で抽出
した。有機層を水(400ml)で洗浄し、水層を酢酸エ
チル(150ml)で逆抽出した。この混合した有機層を
塩水(200ml)で洗浄し、乾燥させ(MgSO4)、真
空下で蒸発させて曇ったオイルを得た。このオイルを2
/1 ヘキサン/酢酸エチルから再結晶させ、3回の回収
で28.9g(72%)の3−(2−ヒドロキシエトキシ)
−4−(トリフェニルメトキシ)−1−ブトノールを得
た。
【0062】3−(2−ヒドロキシエトキシ)−4−(ト
リフェニルメトキシ)−1−ブトノール(14.0g、3
5.7mmol)をCH2Cl2(140ml)に溶解し、N2下
で0°Cまで冷却し、トリエチルアミン(10.8g、1
4.9ml、0.107mol、3.0eq.)を加えた。次い
で、塩化メタンスルホニル(11.0g、7.46ml、9
6.4mmol、2.7eq.)を<5°Cで滴下した。得られ
た反応混合物を追加のCH2Cl2(300ml)で希釈
し、水(200ml)および塩化アンモニウム飽和水溶液
(200ml)で洗浄した。水層をCH2Cl2(50ml)
で逆抽出し、混合した有機層を塩水(100ml)で洗浄
し、乾燥させ(MgSO4)、真空下で蒸発させて18.
4g(94%)の3−(2−[(メチルスルホニル)オキシ]
エトキシ]−4−トリフェニルメトキシ)−1−ブタノー
ル メタンスルホネートを白色固体として得た。
リフェニルメトキシ)−1−ブトノール(14.0g、3
5.7mmol)をCH2Cl2(140ml)に溶解し、N2下
で0°Cまで冷却し、トリエチルアミン(10.8g、1
4.9ml、0.107mol、3.0eq.)を加えた。次い
で、塩化メタンスルホニル(11.0g、7.46ml、9
6.4mmol、2.7eq.)を<5°Cで滴下した。得られ
た反応混合物を追加のCH2Cl2(300ml)で希釈
し、水(200ml)および塩化アンモニウム飽和水溶液
(200ml)で洗浄した。水層をCH2Cl2(50ml)
で逆抽出し、混合した有機層を塩水(100ml)で洗浄
し、乾燥させ(MgSO4)、真空下で蒸発させて18.
4g(94%)の3−(2−[(メチルスルホニル)オキシ]
エトキシ]−4−トリフェニルメトキシ)−1−ブタノー
ル メタンスルホネートを白色固体として得た。
【0063】試薬級アセトン(500ml)中の3−(2
−[(メチルスルホニル)オキシ]エトキシ]−4−トリフ
ェニルメトキシ)−1−ブタノール メタンスルホネート
(5.0g、9.10mmol)を炭酸水素ナトリウム(0.0
770g、0910mmol、0.1eq.)およびヨウ化ナト
リウム(34.2g、0.228mol、25eq.)で処理し
た。得られた混合物をN2下に50°Cで約16時間撹
拌した。この反応をHPLCによってモニターすること
ができる。アセトンを反応混合物から真空下で除去し、
得られた固体を酢酸エチル(300ml)/水(200m
l)の混合物中に抽出した。有機層を水(200ml以
上)で洗浄し、混合した水層を追加の酢酸エチル(10
0ml)で逆抽出した。この混合した有機層を10%亜硫
酸ナトリウム水溶液(200ml)で洗浄し(この洗浄に
よって黄色が消える)、塩水(100ml)で洗浄して、
乾燥させ(MgSO4)、そして真空下で蒸発させて5.
45g(98%)の3−[2−ヨードエトキシ]−4−(ト
リフェニルメトキシ−ヨードブトンを透明オイルとして
得た。MS。NMR。
−[(メチルスルホニル)オキシ]エトキシ]−4−トリフ
ェニルメトキシ)−1−ブタノール メタンスルホネート
(5.0g、9.10mmol)を炭酸水素ナトリウム(0.0
770g、0910mmol、0.1eq.)およびヨウ化ナト
リウム(34.2g、0.228mol、25eq.)で処理し
た。得られた混合物をN2下に50°Cで約16時間撹
拌した。この反応をHPLCによってモニターすること
ができる。アセトンを反応混合物から真空下で除去し、
得られた固体を酢酸エチル(300ml)/水(200m
l)の混合物中に抽出した。有機層を水(200ml以
上)で洗浄し、混合した水層を追加の酢酸エチル(10
0ml)で逆抽出した。この混合した有機層を10%亜硫
酸ナトリウム水溶液(200ml)で洗浄し(この洗浄に
よって黄色が消える)、塩水(100ml)で洗浄して、
乾燥させ(MgSO4)、そして真空下で蒸発させて5.
45g(98%)の3−[2−ヨードエトキシ]−4−(ト
リフェニルメトキシ−ヨードブトンを透明オイルとして
得た。MS。NMR。
【0064】実施例4 1-(tert-ブチルジメチルシリ
ルオキシ)-2-(3-ヨードプロピルオキシ)-4-(tert-ブ
チルジフェニルシリルオキシ)-ブタン 製造例4のアルコールの塩化メチレン(20ml)/シクロ
ヘキサン(100ml)溶液に、アリルトリクロロアセトイ
ミデート(17.82g、88mmol、2.2eq.)を窒素バル
ーン下で加え、次いでトリフルオロメタンスルホン酸
(出発原料の50μl/g、0.92ml)を加えた。20時間
後、溶液を濾過し、濾液をNaHCO3飽和水溶液、水、
次いで塩水で洗浄した。有機層を集めてMgSO4で乾燥
した。溶媒を除去してオイルを得、これをフラッシュ・
クロマトグラフィー(シリカゲル;ヘキサンで溶離し、
移動層の極性を数リットルにわたりヘキサン中の5%酢
酸エチルに上昇させる)により精製し、19.27g(収
率97%)のアルキルエーテルを明るい茶色のオイルと
して得た。MS。
ルオキシ)-2-(3-ヨードプロピルオキシ)-4-(tert-ブ
チルジフェニルシリルオキシ)-ブタン 製造例4のアルコールの塩化メチレン(20ml)/シクロ
ヘキサン(100ml)溶液に、アリルトリクロロアセトイ
ミデート(17.82g、88mmol、2.2eq.)を窒素バル
ーン下で加え、次いでトリフルオロメタンスルホン酸
(出発原料の50μl/g、0.92ml)を加えた。20時間
後、溶液を濾過し、濾液をNaHCO3飽和水溶液、水、
次いで塩水で洗浄した。有機層を集めてMgSO4で乾燥
した。溶媒を除去してオイルを得、これをフラッシュ・
クロマトグラフィー(シリカゲル;ヘキサンで溶離し、
移動層の極性を数リットルにわたりヘキサン中の5%酢
酸エチルに上昇させる)により精製し、19.27g(収
率97%)のアルキルエーテルを明るい茶色のオイルと
して得た。MS。
【0065】上記のアリルエーテル(14.16g、28.
38mmol、1eq.)のTHF(60ml)溶液に、9-BBN
(9-ボラビシクロ[3.3.1]ノナン、THF中の0.5
M溶液、60ml、30mmol、1.1eq.)を窒素下で滴下
した。3時間後、反応液のTLC(ヘキサン中10%Et
OAc)は、出発原料が消費されたことを示した。この溶
液に、3M NaOH水溶液(10.41ml、31.22mmo
l、1.1eq.)を加え、次いで30%過酸化水素(10.3
ml、90.82mmol、3.2eq.)をゆっくり(1.5時間)
滴下した。過酸化物クエンチ中の反応温度は50℃以下
に保った(氷浴)。
38mmol、1eq.)のTHF(60ml)溶液に、9-BBN
(9-ボラビシクロ[3.3.1]ノナン、THF中の0.5
M溶液、60ml、30mmol、1.1eq.)を窒素下で滴下
した。3時間後、反応液のTLC(ヘキサン中10%Et
OAc)は、出発原料が消費されたことを示した。この溶
液に、3M NaOH水溶液(10.41ml、31.22mmo
l、1.1eq.)を加え、次いで30%過酸化水素(10.3
ml、90.82mmol、3.2eq.)をゆっくり(1.5時間)
滴下した。過酸化物クエンチ中の反応温度は50℃以下
に保った(氷浴)。
【0066】30分後に、溶液が飽和するまで塩化ナト
リウムを加えた。有機層を除去し、水層をエーテルで抽
出し、合わせた有機層を乾燥して濾過し;濾液を濃縮し
てオイルを得た。粗オイルをフラッシュ・クロマトグラ
フィー(シリカゲル;10%EtOAc/ヘキサンで溶離
し、溶媒約1.5Lの後に極性を20%EtOAc/ヘキ
サンに上昇させる)により精製し、9.53g(収率65
%)の明るい黄色のオイルを得た。MS。
リウムを加えた。有機層を除去し、水層をエーテルで抽
出し、合わせた有機層を乾燥して濾過し;濾液を濃縮し
てオイルを得た。粗オイルをフラッシュ・クロマトグラ
フィー(シリカゲル;10%EtOAc/ヘキサンで溶離
し、溶媒約1.5Lの後に極性を20%EtOAc/ヘキ
サンに上昇させる)により精製し、9.53g(収率65
%)の明るい黄色のオイルを得た。MS。
【0067】上記のアルコールの無水0℃エーテル(1
50ml)溶液に、トリエチルアミン(2.93g、28.9
1mmol、1.5eq.)を加え、次いで塩化メシル(3.31
g、28.91mmol、1.5eq.)を勢いよく撹拌しながら
滴下した。0℃で3時間後に、TLC(ヘキサン中10
%EtOAc)は、出発原料が消費されたことを示した。
反応液をエーテルで希釈し、水、塩水で洗浄し、MgS
O4で乾燥し、溶媒を除去した。得られたオイルをシリ
カのパッド(25%EtOAc/ヘキサンで溶離)を通し、
溶離液を濃縮した。得られたオイルのアセトン(200m
l)溶液にNaHCO3(0.17g、1.93mmol、0.1e
q.)およびNaI(28.88g、192.7mmol、10eq.)
を加えた。窒素雰囲気下、室温で30分間の撹拌後に、
反応液を水浴を用いて50℃に加熱した。2.5時間
後、TLC(ヘキサン中10%EtOAc)は、メシレート
が消費されたことを示した。反応混合物をエーテル(5
00ml)で希釈し、冷Na2SO3飽和水溶液、水、塩水で
洗浄し、乾燥させ(MgSO4)、溶媒を除去した。得られ
たオイルをシリカのパッド(ヘキサン中5%EtOAcで
溶離)を通し、10.3g(収率85%)の精製した標記
化合物を無色オイルとして得た。
50ml)溶液に、トリエチルアミン(2.93g、28.9
1mmol、1.5eq.)を加え、次いで塩化メシル(3.31
g、28.91mmol、1.5eq.)を勢いよく撹拌しながら
滴下した。0℃で3時間後に、TLC(ヘキサン中10
%EtOAc)は、出発原料が消費されたことを示した。
反応液をエーテルで希釈し、水、塩水で洗浄し、MgS
O4で乾燥し、溶媒を除去した。得られたオイルをシリ
カのパッド(25%EtOAc/ヘキサンで溶離)を通し、
溶離液を濃縮した。得られたオイルのアセトン(200m
l)溶液にNaHCO3(0.17g、1.93mmol、0.1e
q.)およびNaI(28.88g、192.7mmol、10eq.)
を加えた。窒素雰囲気下、室温で30分間の撹拌後に、
反応液を水浴を用いて50℃に加熱した。2.5時間
後、TLC(ヘキサン中10%EtOAc)は、メシレート
が消費されたことを示した。反応混合物をエーテル(5
00ml)で希釈し、冷Na2SO3飽和水溶液、水、塩水で
洗浄し、乾燥させ(MgSO4)、溶媒を除去した。得られ
たオイルをシリカのパッド(ヘキサン中5%EtOAcで
溶離)を通し、10.3g(収率85%)の精製した標記
化合物を無色オイルとして得た。
【0068】
【化24】 実施例5 3,4-[(N,N'-1,1'-((2''-エトキシ)-
3'''(O)-4'''(ヒドロキシ)-ブタン)-ビス-(3,3'-
インドリル)]-1(H)-ピロール-2,5-ジオン ビス-(3,3'-インドリル)-1-(メチル)-ピロール-2,
5-ジオン(17.9g、52.5mmol、3eq.)のジメチル
ホルムアミド(250ml)溶液に、炭酸セシウム(68.4
g、4eq.)を窒素下で加えた。得られた懸濁液に、ヨウ
化物、1-(tert-ブチルジメチルシリルオキシ)-3-(2-
ヨードエトキシ)-4-(tert-ブチルジフェニルシリルオ
キシ)-ブタン(10.7g、17.5mmol)を加えた。反応
液を室温で18時間撹拌した。TLC(5%酢酸エチル
/ヘキサン)は、ヨウ化物の消失を示した。反応液を酢
酸エチル(1200ml)中に注ぎ、1N HCl(400ml)
で洗浄し、次いで酢酸エチル(2×)で逆洗浄した。混合
した酢酸エチル部分を重炭酸ナトリウム飽和溶液、塩水
(2×)で洗浄し、乾燥し(MgSO4)、濾過して真空下で
濃縮した。キシレンと共沸させることによりジメチルホ
ルメートを除去した。得られた赤色ゴム状物質をジクロ
ロメタンおよびアセトニトリル中でスラリーにして固体
懸濁液を得た。これを濃縮し、さらにジクロロメタンを
加え、冷却し、濾過して赤色固体を得た。ジクロロメタ
ン次いで酢酸エチル中での別のトリチュレーションによ
り、一部の所望の生成物をこの固体から抽出した。濾液
を真空下で濃縮し、得られた残渣をシリカ上に吸収させ
て大きなフラッシュ・カラムに適用した。5ヘキサン/
1酢酸エチルを用いた溶離によりジアルキル化副産物を
除去し、次いで3ヘキサン/1酢酸エチルを用いた生成
物の溶離により、8.2g(57%)のモノアルキル化生
成物、3-[(N-1-(2-エトキシ)-(3'''-(O)-4'''-
(tert-ブチルジフェニルシリルオキシ)-1'''-(tert-ブ
チルジメチルシリルオキシ)-ブタン))-インドール-3-
イル]-4-[インドール-3-イル]-1N(メチル)-ピロー
ル-2,5-ジオンを得た。
3'''(O)-4'''(ヒドロキシ)-ブタン)-ビス-(3,3'-
インドリル)]-1(H)-ピロール-2,5-ジオン ビス-(3,3'-インドリル)-1-(メチル)-ピロール-2,
5-ジオン(17.9g、52.5mmol、3eq.)のジメチル
ホルムアミド(250ml)溶液に、炭酸セシウム(68.4
g、4eq.)を窒素下で加えた。得られた懸濁液に、ヨウ
化物、1-(tert-ブチルジメチルシリルオキシ)-3-(2-
ヨードエトキシ)-4-(tert-ブチルジフェニルシリルオ
キシ)-ブタン(10.7g、17.5mmol)を加えた。反応
液を室温で18時間撹拌した。TLC(5%酢酸エチル
/ヘキサン)は、ヨウ化物の消失を示した。反応液を酢
酸エチル(1200ml)中に注ぎ、1N HCl(400ml)
で洗浄し、次いで酢酸エチル(2×)で逆洗浄した。混合
した酢酸エチル部分を重炭酸ナトリウム飽和溶液、塩水
(2×)で洗浄し、乾燥し(MgSO4)、濾過して真空下で
濃縮した。キシレンと共沸させることによりジメチルホ
ルメートを除去した。得られた赤色ゴム状物質をジクロ
ロメタンおよびアセトニトリル中でスラリーにして固体
懸濁液を得た。これを濃縮し、さらにジクロロメタンを
加え、冷却し、濾過して赤色固体を得た。ジクロロメタ
ン次いで酢酸エチル中での別のトリチュレーションによ
り、一部の所望の生成物をこの固体から抽出した。濾液
を真空下で濃縮し、得られた残渣をシリカ上に吸収させ
て大きなフラッシュ・カラムに適用した。5ヘキサン/
1酢酸エチルを用いた溶離によりジアルキル化副産物を
除去し、次いで3ヘキサン/1酢酸エチルを用いた生成
物の溶離により、8.2g(57%)のモノアルキル化生
成物、3-[(N-1-(2-エトキシ)-(3'''-(O)-4'''-
(tert-ブチルジフェニルシリルオキシ)-1'''-(tert-ブ
チルジメチルシリルオキシ)-ブタン))-インドール-3-
イル]-4-[インドール-3-イル]-1N(メチル)-ピロー
ル-2,5-ジオンを得た。
【0069】tert-ブチルジメチルシリルエーテル、3-
[(N-1-(2-エトキシ-(3'''-(O)-4'''-(tert-ブチ
ルジフェニルシリルオキシ)-1'''-(tert-ブチルジメチ
ルシリルオキシ)-ブタン))-インドール-3-イル]-4-
[インドール-3-イル]-1N(メチル)-ピロール-2,5-
ジオン(8.2g、9.9mmol)のメタノール(450ml)溶
液にp-トルエンスルホン酸一水和物(0.16g、.08
5eq.)を窒素下、5℃で加えた。2時間後、TLC(5
0%酢酸エチル/ヘキサン)は、反応がほとんど完了し
たことを示した。反応を固体重炭酸ナトリウム(0.14
g)で停止させた。メタノールを真空下で除去した。得ら
れた残渣を酢酸エチル中に溶解し、0.1N水酸化ナト
リウム、塩水(2×)で洗浄し、乾燥させ(MgSO4)、濾
過し、真空下で濃縮して赤色泡状物を得た。この物質を
シリカ上に吸収させ、シリカパッド上に置いた。2ヘキ
サン/1酢酸エチルによる溶離は、残りの出発原料を除
去し、次いで1ヘキサン/1酢酸エチルおよび1ヘキサ
ン/2酢酸エチルを用いた溶離により、6.4g(91
%)のアルコール、3-[(N-1-(2-エトキシ-(3'''-
(O)-4'''-(tert-ブチルジフェニルシリルオキシ)-
1'''-(ヒドロキシ)-ブタン))-インドール-3-イル]-4-
[インドール-3-イル]-1N(メチル)-ピロール-2,5-
ジオンを得た。
[(N-1-(2-エトキシ-(3'''-(O)-4'''-(tert-ブチ
ルジフェニルシリルオキシ)-1'''-(tert-ブチルジメチ
ルシリルオキシ)-ブタン))-インドール-3-イル]-4-
[インドール-3-イル]-1N(メチル)-ピロール-2,5-
ジオン(8.2g、9.9mmol)のメタノール(450ml)溶
液にp-トルエンスルホン酸一水和物(0.16g、.08
5eq.)を窒素下、5℃で加えた。2時間後、TLC(5
0%酢酸エチル/ヘキサン)は、反応がほとんど完了し
たことを示した。反応を固体重炭酸ナトリウム(0.14
g)で停止させた。メタノールを真空下で除去した。得ら
れた残渣を酢酸エチル中に溶解し、0.1N水酸化ナト
リウム、塩水(2×)で洗浄し、乾燥させ(MgSO4)、濾
過し、真空下で濃縮して赤色泡状物を得た。この物質を
シリカ上に吸収させ、シリカパッド上に置いた。2ヘキ
サン/1酢酸エチルによる溶離は、残りの出発原料を除
去し、次いで1ヘキサン/1酢酸エチルおよび1ヘキサ
ン/2酢酸エチルを用いた溶離により、6.4g(91
%)のアルコール、3-[(N-1-(2-エトキシ-(3'''-
(O)-4'''-(tert-ブチルジフェニルシリルオキシ)-
1'''-(ヒドロキシ)-ブタン))-インドール-3-イル]-4-
[インドール-3-イル]-1N(メチル)-ピロール-2,5-
ジオンを得た。
【0070】アルコール、3-[(N-1-(2-エトキシ-
(3'''-(O)-4'''-(tert-ブチルジフェニルシリルオキ
シ)-1'''-(ヒドロキシ)-ブタン))-インドール-3-イ
ル]-4-[インドール-3-イル]-1N(メチル)-ピロール-
2,5-ジオン(6.36g、8.9mmol)の無水エーテル(5
00ml)溶液に、トリエチルアミン(1.9ml、1.5eq.)
および塩化メタンスルホニル(1.0ml、1.5eq.)を窒
素下、5℃で加えた。3時間後、さらにトリエチルアミ
ン(1.25ml、1.0eq.)および塩化メタンスルホニル
(0.7ml、1.0eq.)を加えた。1時間後、反応が完了
したことがTLC(50%酢酸エチル/ヘキサン)により
示された。反応液をエーテル(250ml)で希釈し、水、
0.1N HClおよび塩水(2×)で洗浄した。エーテル
を乾燥させ(MgSO4)、濾過し、真空下で濃縮して7.
0gのメシレート、3-[(N-1-(2-エトキシ-(3'''-
(O)-4'''-(tert-ブチルジフェニルシリルオキシ)-
1'''-(メタンスルホニルオキシ)-ブタン))-インドール-
3-イル]-4-[インドール-3-イル]-1N(メチル)-ピロ
ール-2,5-ジオン(7.0g)を得た。
(3'''-(O)-4'''-(tert-ブチルジフェニルシリルオキ
シ)-1'''-(ヒドロキシ)-ブタン))-インドール-3-イ
ル]-4-[インドール-3-イル]-1N(メチル)-ピロール-
2,5-ジオン(6.36g、8.9mmol)の無水エーテル(5
00ml)溶液に、トリエチルアミン(1.9ml、1.5eq.)
および塩化メタンスルホニル(1.0ml、1.5eq.)を窒
素下、5℃で加えた。3時間後、さらにトリエチルアミ
ン(1.25ml、1.0eq.)および塩化メタンスルホニル
(0.7ml、1.0eq.)を加えた。1時間後、反応が完了
したことがTLC(50%酢酸エチル/ヘキサン)により
示された。反応液をエーテル(250ml)で希釈し、水、
0.1N HClおよび塩水(2×)で洗浄した。エーテル
を乾燥させ(MgSO4)、濾過し、真空下で濃縮して7.
0gのメシレート、3-[(N-1-(2-エトキシ-(3'''-
(O)-4'''-(tert-ブチルジフェニルシリルオキシ)-
1'''-(メタンスルホニルオキシ)-ブタン))-インドール-
3-イル]-4-[インドール-3-イル]-1N(メチル)-ピロ
ール-2,5-ジオン(7.0g)を得た。
【0071】メシレート、3-[(N-1-(2-エトキシ)-
(3'''-(O)-4'''-(tert-ブチルジフェニルシリルオキ
シ)-1'''-(メタンスルホニルオキシ)-ブタン))-インド
ール-3-イル]-4-[インドール-3-イル]-1N(メチル)
-ピロール-2,5-ジオン(7.0g、8.9mmol)のアセトン
(200ml)溶液に、ヨウ化ナトリウム(13.3g、10e
q.)および重炭酸ナトリウム(75mg、0.1eq.)を窒素
下で加えた。混合物を50℃で13時間撹拌した。反応
液を真空下で濃縮し、残渣をエーテルに溶解し、10%
亜硫酸ナトリウム溶液で洗浄した。層を分離し、エーテ
ル部分を10%亜硫酸ナトリウム溶液、水、塩水(2×)
で洗浄し、乾燥させ、そして真空下で濃縮した。残渣を
シリカパッドで1ヘキサン/1酢酸エチルおよび1ヘキ
サン/2酢酸エチルを用いて溶離して7.6gのヨウ化
物、3-[(N-1-(2-エトキシ-(3'''-(O)-4'''-(ter
t-ブチルジフェニルシリルオキシ)-1'''-(ヨード)-ブ
タン))-インドール-3-イル]-4-[インドール-3-イル]
-1N(メチル)-ピロール-2,5-ジオン(2工程に対する
収量)を赤色固体として得た。
(3'''-(O)-4'''-(tert-ブチルジフェニルシリルオキ
シ)-1'''-(メタンスルホニルオキシ)-ブタン))-インド
ール-3-イル]-4-[インドール-3-イル]-1N(メチル)
-ピロール-2,5-ジオン(7.0g、8.9mmol)のアセトン
(200ml)溶液に、ヨウ化ナトリウム(13.3g、10e
q.)および重炭酸ナトリウム(75mg、0.1eq.)を窒素
下で加えた。混合物を50℃で13時間撹拌した。反応
液を真空下で濃縮し、残渣をエーテルに溶解し、10%
亜硫酸ナトリウム溶液で洗浄した。層を分離し、エーテ
ル部分を10%亜硫酸ナトリウム溶液、水、塩水(2×)
で洗浄し、乾燥させ、そして真空下で濃縮した。残渣を
シリカパッドで1ヘキサン/1酢酸エチルおよび1ヘキ
サン/2酢酸エチルを用いて溶離して7.6gのヨウ化
物、3-[(N-1-(2-エトキシ-(3'''-(O)-4'''-(ter
t-ブチルジフェニルシリルオキシ)-1'''-(ヨード)-ブ
タン))-インドール-3-イル]-4-[インドール-3-イル]
-1N(メチル)-ピロール-2,5-ジオン(2工程に対する
収量)を赤色固体として得た。
【0072】炭酸セシウム(12.0g、4eq.)のジメチ
ルホルムアミド(1L)懸濁液に、ヨウ化物、3-[(N-1
-(2-エトキシ-(3'''-(O)-4'''-(tert-ブチルジフェ
ニルシリルオキシ)-1'''-(ヨード)-ブタン))-インドー
ル-3-イル]-4-[インドール-3-イル]-1N(メチル)-
ピロール-2,5-ジオン(7.6g、9.2mmol)を窒素下で
加え、ジメチルホルムアミド(25ml)にシリンジポンプ
により65時間かけて溶解した。添加完了の3時間後、
反応液を真空下で濃縮した。残渣を酢酸エチル(700m
l)に溶解し、水(2×300ml)で洗浄し、水層を酢酸エ
チル(2×200ml)で逆抽出した。混合した酢酸エチル
部分を塩水(2×200ml)で洗浄し、乾燥させ(MgSO
4)、濾過し、真空下で濃縮して紫色の残渣を得た。この
物質をシリカ上に吸収させてフラッシュ・カラムに適用
した。3ヘキサン/1酢酸エチル、次いで1ヘキサン/
1酢酸エチルで溶離して5.2g(82%)の大員環、
3,4-[(N,N'-1,1'-((2''-エトキシ)-3'''(O)-
4'''-(tert-ブチルジフェニルシリルオキシ)-ブタン)-
ビス-(3,3'-インドリル)]-1(H)-ピロール-2,5-ジ
オンを得た。
ルホルムアミド(1L)懸濁液に、ヨウ化物、3-[(N-1
-(2-エトキシ-(3'''-(O)-4'''-(tert-ブチルジフェ
ニルシリルオキシ)-1'''-(ヨード)-ブタン))-インドー
ル-3-イル]-4-[インドール-3-イル]-1N(メチル)-
ピロール-2,5-ジオン(7.6g、9.2mmol)を窒素下で
加え、ジメチルホルムアミド(25ml)にシリンジポンプ
により65時間かけて溶解した。添加完了の3時間後、
反応液を真空下で濃縮した。残渣を酢酸エチル(700m
l)に溶解し、水(2×300ml)で洗浄し、水層を酢酸エ
チル(2×200ml)で逆抽出した。混合した酢酸エチル
部分を塩水(2×200ml)で洗浄し、乾燥させ(MgSO
4)、濾過し、真空下で濃縮して紫色の残渣を得た。この
物質をシリカ上に吸収させてフラッシュ・カラムに適用
した。3ヘキサン/1酢酸エチル、次いで1ヘキサン/
1酢酸エチルで溶離して5.2g(82%)の大員環、
3,4-[(N,N'-1,1'-((2''-エトキシ)-3'''(O)-
4'''-(tert-ブチルジフェニルシリルオキシ)-ブタン)-
ビス-(3,3'-インドリル)]-1(H)-ピロール-2,5-ジ
オンを得た。
【0073】5N KOH(150ml)およびエタノール
(300ml)中のN-メチルマレイミド、3,4-[(N,N'-
1,1'-((2''-エトキシ)-3'''(O)-4'''-(tert-ブチ
ルジフェニルシリルオキシ)-ブタン)-ビス-(3,3'-イ
ンドリル)]-1(H)-ピロール-2,5-ジオンの懸濁液を室
温で65時間、次いで60℃で1時間撹拌した。反応液
を真空下で濃縮し(150ml)、残渣を水に懸濁し、5℃
に冷却し、濃塩酸で酸性(pH3)にした。赤色水性懸濁
液を酢酸エチル(4×200ml)で抽出し、乾燥させ、真
空下で濃縮して3.3gの粗無水アルコール、2,3-
[(N,N'-1,1'-((2''-エトキシ)-3'''(O)-4'''-
(ヒドロキシ)-ブタン)-ビス-(3,3'-インドリル)]-フ
ラン-1,4-ジオンを紫色の固体として得た。
(300ml)中のN-メチルマレイミド、3,4-[(N,N'-
1,1'-((2''-エトキシ)-3'''(O)-4'''-(tert-ブチ
ルジフェニルシリルオキシ)-ブタン)-ビス-(3,3'-イ
ンドリル)]-1(H)-ピロール-2,5-ジオンの懸濁液を室
温で65時間、次いで60℃で1時間撹拌した。反応液
を真空下で濃縮し(150ml)、残渣を水に懸濁し、5℃
に冷却し、濃塩酸で酸性(pH3)にした。赤色水性懸濁
液を酢酸エチル(4×200ml)で抽出し、乾燥させ、真
空下で濃縮して3.3gの粗無水アルコール、2,3-
[(N,N'-1,1'-((2''-エトキシ)-3'''(O)-4'''-
(ヒドロキシ)-ブタン)-ビス-(3,3'-インドリル)]-フ
ラン-1,4-ジオンを紫色の固体として得た。
【0074】無水物、2,3-[(N,N'-1,1'-((2''-
エトキシ)-3'''(O)-4'''-(ヒドロキシ)-ブタン)-ビ
ス-(3,3'-インドリル)]-フラン-1,4-ジオン(3.3
g、7.5mmol)のジメチルホルムアミド(250ml)溶液
に、1,1,1,3,3,3-ヘキサメチルジシラザン(32m
l、2eq.)およびメタノール(3ml、10eq.)を窒素下で
加えた。反応液を室温で16時間撹拌し、次いで60℃
で2時間加熱した。ジメチルホルムアミドを真空下で除
去し、そして得られた残渣をアセトニトリル(250ml)
に溶解した。1N HCl(50ml)を加えた。反応液を1
5分間撹拌した。反応液を濃縮し、酢酸エチル(1L)と
水(250ml)の間に分配した。生成物は沈殿した固体で
あり、アルコールマレイミド、3,4-[(N,N'-1,1'-
((2''-エトキシ)-3'''(O)-4'''-(ヒドロキシ)-ブタ
ン)-ビス-(3,3'-インドリル)]-1(H)-ピロール-2,
5-ジオン(生成物の0.92、28%)が得られた。少量
(50mg)をシリカ上に吸収させてフラッシュ・カラムに
適用した。ジクロロメタン、5%アセトニトリル/ジク
ロロメタン、次いで10%アセトニトリル/ジクロロメ
タンで溶離して、38mgの分析的に純粋な物質を得た。
酢酸エチルを濃縮して、クロマトグラフに付し、さらに
8%の粗生成物を得た。MS。1H NMR(d6-DMS
O):δ1.96(1H,m)、2.09(1H,m)、3.31
(1H,m)、3.40(1H,m)、3.51(1H,m)、3.6
2(1H,m)、3.89(1H,m)、4.18(3H,m)、4.
35(1H,m)、4.68(1H,t,J=2Hz)、7.11
(2H,m)、7.19(2H,m)、7.44(1H,s)、7.4
6(1H,d,J=9Hz)、7.51(1H,s)、7.53(1
H,d,J=9Hz)、7.79(1H,d,J=8Hz)、7.8
3(1H,d,J=8Hz)、10.91(1H,s)。
エトキシ)-3'''(O)-4'''-(ヒドロキシ)-ブタン)-ビ
ス-(3,3'-インドリル)]-フラン-1,4-ジオン(3.3
g、7.5mmol)のジメチルホルムアミド(250ml)溶液
に、1,1,1,3,3,3-ヘキサメチルジシラザン(32m
l、2eq.)およびメタノール(3ml、10eq.)を窒素下で
加えた。反応液を室温で16時間撹拌し、次いで60℃
で2時間加熱した。ジメチルホルムアミドを真空下で除
去し、そして得られた残渣をアセトニトリル(250ml)
に溶解した。1N HCl(50ml)を加えた。反応液を1
5分間撹拌した。反応液を濃縮し、酢酸エチル(1L)と
水(250ml)の間に分配した。生成物は沈殿した固体で
あり、アルコールマレイミド、3,4-[(N,N'-1,1'-
((2''-エトキシ)-3'''(O)-4'''-(ヒドロキシ)-ブタ
ン)-ビス-(3,3'-インドリル)]-1(H)-ピロール-2,
5-ジオン(生成物の0.92、28%)が得られた。少量
(50mg)をシリカ上に吸収させてフラッシュ・カラムに
適用した。ジクロロメタン、5%アセトニトリル/ジク
ロロメタン、次いで10%アセトニトリル/ジクロロメ
タンで溶離して、38mgの分析的に純粋な物質を得た。
酢酸エチルを濃縮して、クロマトグラフに付し、さらに
8%の粗生成物を得た。MS。1H NMR(d6-DMS
O):δ1.96(1H,m)、2.09(1H,m)、3.31
(1H,m)、3.40(1H,m)、3.51(1H,m)、3.6
2(1H,m)、3.89(1H,m)、4.18(3H,m)、4.
35(1H,m)、4.68(1H,t,J=2Hz)、7.11
(2H,m)、7.19(2H,m)、7.44(1H,s)、7.4
6(1H,d,J=9Hz)、7.51(1H,s)、7.53(1
H,d,J=9Hz)、7.79(1H,d,J=8Hz)、7.8
3(1H,d,J=8Hz)、10.91(1H,s)。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ウィリアム・フランシス・ヒース・ジュニ ア アメリカ合衆国46038インディアナ州フィ ッシャーズ、タフトン・ストリート11214 番 (72)発明者 マイケル・ロバート・ジローセク アメリカ合衆国46236インディアナ州イン ディアナポリス、フォーン・リッジ・レイ ン10342番 (72)発明者 ジョン・ハンプトン・マクドナルド・ザ・ サード アメリカ合衆国46032インディアナ州カー メル、ポーツマス・コート433番 (72)発明者 クリストファー・ジョン・リトー アメリカ合衆国46158インディアナ州ムー レスビル、アーリントン581番 (72)発明者 レオナルド・ラリー・ウィナーロスキー・ ジュニア アメリカ合衆国46241インディアナ州イン ディアナポリス、ミルハウス・コート5902 番
Claims (4)
- 【請求項1】 式: 【化1】 [式中、R2はN3、NH−保護基、アミン保護基、また
はヒドロキシ保護基であり;L1は独立して脱離基であ
り;Zは−(CH2)n−であり;そしてnは独立して1、
2、または3である]で示される化合物。 - 【請求項2】 式: 【化2】 で示される請求項1に記載の化合物。
- 【請求項3】 式: 【化3】 で示される請求項1に記載の化合物。
- 【請求項4】 請求項1〜3のいずれかに記載の化合物
の製造方法であって、 (a)式(III): 【化4】 で示される化合物を、リチウムアセチリド、セリウムア
セチリド、またはビニルカプレート、ビニルアルミニウ
ム、ビニルスズ、ビニルリチウム、もしくはビニルグリ
ニャールから選択される有機金属試薬でアルキル化し
て、 式(IV): 【化5】 で示される化合物を調製し; (b)式(IV)で示される化合物を、式: 【化6】 [式中、R3はハロ、保護されたヒドロキシであるか、
または隣接炭素と結合してオレフィンを形成しており;
R4はクロロ、ブロモ、またはヨードである]で示され
る化合物と反応させて、式: 【化7】 で示される化合物を調製し; (c)式(V)で示される化合物を請求項1〜3のいずれ
かに記載の化合物に変換する;ことから成る方法。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US16306093A | 1993-12-07 | 1993-12-07 | |
US163060 | 1993-12-07 | ||
US08/317,140 US5541347A (en) | 1993-12-07 | 1994-10-03 | Synthesis of bisindolylmaleimides |
US317140 | 1994-10-03 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07238044A true JPH07238044A (ja) | 1995-09-12 |
Family
ID=26859319
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6299401A Ceased JPH07238044A (ja) | 1993-12-07 | 1994-12-02 | ビスインドリルマレイミドの改良合成法 |
Country Status (13)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US5614647A (ja) |
EP (1) | EP0657411B1 (ja) |
JP (1) | JPH07238044A (ja) |
AT (1) | ATE181049T1 (ja) |
BR (1) | BR9404830A (ja) |
CA (1) | CA2137205A1 (ja) |
DE (1) | DE69418978T2 (ja) |
DK (1) | DK0657411T3 (ja) |
ES (1) | ES2134910T3 (ja) |
FI (1) | FI945705A (ja) |
GR (1) | GR3030722T3 (ja) |
HU (1) | HUT69164A (ja) |
IL (1) | IL111851A (ja) |
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---|---|---|---|---|
EP2181999A1 (en) | 2008-11-03 | 2010-05-05 | Zentiva, A.S. | Method of manufacturing ruboxistarin |
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WO1997040830A1 (en) | 1996-05-01 | 1997-11-06 | Eli Lilly And Company | Therapeutic treatment for vegf related diseases |
UA54427C2 (uk) * | 1996-05-01 | 2003-03-17 | Елі Ліллі Енд Компані | Спосіб лікування очних захворювань, які пов'язані з фактором васкулярного ендотеліального росту |
US6232299B1 (en) | 1996-05-01 | 2001-05-15 | Eli Lilly And Company | Use of protein kinase C inhibitors to enhance the clinical efficacy of oncolytic agents and radiation therapy |
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KR100610127B1 (ko) * | 1998-01-30 | 2006-08-09 | 다이소 가부시키가이샤 | 부탄트리올 유도체의 제조 방법 |
US6291446B1 (en) | 1998-03-05 | 2001-09-18 | Eli Lilly And Company | Therapeutic treatment for cytomegalovirus infection |
US6225301B1 (en) | 1998-03-05 | 2001-05-01 | Eli Lilly And Company | Therapeutic treatment for renal dysfunction |
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