JPH0723020B2 - 光透過性を有する記録用シ−ト - Google Patents
光透過性を有する記録用シ−トInfo
- Publication number
- JPH0723020B2 JPH0723020B2 JP59265946A JP26594684A JPH0723020B2 JP H0723020 B2 JPH0723020 B2 JP H0723020B2 JP 59265946 A JP59265946 A JP 59265946A JP 26594684 A JP26594684 A JP 26594684A JP H0723020 B2 JPH0723020 B2 JP H0723020B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- radical
- recording sheet
- polymerizable monomer
- general formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
- B41M5/50—Recording sheets characterised by the coating used to improve ink, dye or pigment receptivity, e.g. for ink-jet or thermal dye transfer recording
- B41M5/52—Macromolecular coatings
- B41M5/529—Macromolecular coatings characterised by the use of fluorine- or silicon-containing organic compounds
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Duplication Or Marking (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はオーバーヘツドプロジエクターでの読み取りに
利用される記録用シートやジアゾコピー用紙箋等の用途
を有する記録用シートに関するものである。
利用される記録用シートやジアゾコピー用紙箋等の用途
を有する記録用シートに関するものである。
近年、電子写真複写機，感熱転写プリンター静電プリン
ターなどにより透明なプラスチツクシートに記録し、記
録した内容をオーバーヘツドプロジエクターで拡大映写
して読み取ることが行われている。
ターなどにより透明なプラスチツクシートに記録し、記
録した内容をオーバーヘツドプロジエクターで拡大映写
して読み取ることが行われている。
ところで、前記オーバーヘツドプロジエクターによる映
写に利用される記録用シートは、オーバーヘツドプロジ
エクターによる光透過性や印字適性を有することは勿論
であるが、各種のプリンターに掛けられ得る機械的強
度、各種のプリンター内でスムーズに走行し得る滑り
性、帯電による密着を避けるための帯電防止性、更に
は、感熱転写プリンター用の記録用シートの場合には耐
熱性等が要求される。
写に利用される記録用シートは、オーバーヘツドプロジ
エクターによる光透過性や印字適性を有することは勿論
であるが、各種のプリンターに掛けられ得る機械的強
度、各種のプリンター内でスムーズに走行し得る滑り
性、帯電による密着を避けるための帯電防止性、更に
は、感熱転写プリンター用の記録用シートの場合には耐
熱性等が要求される。
然して、機械的強度や堅牢性に優れ、かつ透明性に優れ
た性質を有する各種プラスチツクフイルムを記録用シー
トとして利用する試みがあるが、これらのプラスチツク
フイルムは総体的に滑り特性が悪く、プリンター内で引
つ掛かりが生じ、安定したプリント操作ができないばか
りか、印字適性も悪く、印字部分を指先で擦ると簡単に
印字部が剥離してしまうという欠点もある。
た性質を有する各種プラスチツクフイルムを記録用シー
トとして利用する試みがあるが、これらのプラスチツク
フイルムは総体的に滑り特性が悪く、プリンター内で引
つ掛かりが生じ、安定したプリント操作ができないばか
りか、印字適性も悪く、印字部分を指先で擦ると簡単に
印字部が剥離してしまうという欠点もある。
本発明の光透過性を有する記録用シートは、透明性を有
するプラスチックシートからなる基材シートの少なくと
も片面に、スリップ層もしくはスリップ層兼インキ受理
層を有するもので、該スリップ層もしくはスリップ層兼
インキ受理層が、オルガノポリシロキサンがブロック状
またはグラフト状に結合しているビニル系重合体［Ａ］
で形成されているものである。
するプラスチックシートからなる基材シートの少なくと
も片面に、スリップ層もしくはスリップ層兼インキ受理
層を有するもので、該スリップ層もしくはスリップ層兼
インキ受理層が、オルガノポリシロキサンがブロック状
またはグラフト状に結合しているビニル系重合体［Ａ］
で形成されているものである。
前記オルガノポリシロキサンがブロック状またはグラフ
ト状に結合しているビニル系重合体［Ａ］は、 （１）一般式 もしくは で表示されるシロキサン単位を分子中に少なくとも１個
以上有するオルガノポリシロキサンに、 一般式 で表示されるラジカル重合性単量体が重合されてなる重
合体［Ａ］からなる。
ト状に結合しているビニル系重合体［Ａ］は、 （１）一般式 もしくは で表示されるシロキサン単位を分子中に少なくとも１個
以上有するオルガノポリシロキサンに、 一般式 で表示されるラジカル重合性単量体が重合されてなる重
合体［Ａ］からなる。
かかるオルガノポリシロキサン単位がブロック状または
グラフト状に結合しているビニル系重合体［Ａ］は、先
の一般式（１）もしくは一般式（２）で表示されるシロ
キサン単位を少なくとも１個具備するオルガノポリシロ
キサンに対して、一般式（３）で表示されるラジカル重
合性単量体を重合させることによって得られる。
グラフト状に結合しているビニル系重合体［Ａ］は、先
の一般式（１）もしくは一般式（２）で表示されるシロ
キサン単位を少なくとも１個具備するオルガノポリシロ
キサンに対して、一般式（３）で表示されるラジカル重
合性単量体を重合させることによって得られる。
また、このオルガノポリシロキサン単位がブロック状ま
たはグラフト状に結合しているビニル系重合体［Ａ］
は、前記一般式（３）で表示されるラジカル重合性単量
体を、必要に応じて添加されるメルカプトエタノール、
メルカプトプロピオン酸、ドデシルメルカプタン等の重
合度調節剤の存在下で重合させて、水酸基、カルボキシ
ル基、エポキシ基、イソシアネート基、アミノ基等の官
能基を有するビニル系重合体を得た後、この官能基を有
するビニル系重合体と、メチロキシ基、水酸基、カルボ
キシル基、アミノ基、エポキシ基、メルカプト基等を具
備する反応性オルガノポリシロキサンとの結合反応を、
必要に応じて多価イソシアネート化合物、多価エポキシ
化合物等の存在下で行なうことによって得られる。
たはグラフト状に結合しているビニル系重合体［Ａ］
は、前記一般式（３）で表示されるラジカル重合性単量
体を、必要に応じて添加されるメルカプトエタノール、
メルカプトプロピオン酸、ドデシルメルカプタン等の重
合度調節剤の存在下で重合させて、水酸基、カルボキシ
ル基、エポキシ基、イソシアネート基、アミノ基等の官
能基を有するビニル系重合体を得た後、この官能基を有
するビニル系重合体と、メチロキシ基、水酸基、カルボ
キシル基、アミノ基、エポキシ基、メルカプト基等を具
備する反応性オルガノポリシロキサンとの結合反応を、
必要に応じて多価イソシアネート化合物、多価エポキシ
化合物等の存在下で行なうことによって得られる。
スリップ層もしくはスリップ層兼インキ受理層は、先の
オルガノポリシロキサンがブロック状またはグラフト状
に結合しているビニル系重合体［Ａ］等を含有するコー
ティング剤を基材シートの少なくとも片面にコーティン
グ、乾燥するか、あるいは、オルガノポリシロキサンが
ブロック状またはグラフト状に結合しているビニル系重
合体［Ａ］が加熱等の後処理によって生成する組成物を
含有するコーティング剤を基材シートの少なくとも片面
にコーティングし、次いで、加熱等の後処理を施す等の
方法を利用して形成される。
オルガノポリシロキサンがブロック状またはグラフト状
に結合しているビニル系重合体［Ａ］等を含有するコー
ティング剤を基材シートの少なくとも片面にコーティン
グ、乾燥するか、あるいは、オルガノポリシロキサンが
ブロック状またはグラフト状に結合しているビニル系重
合体［Ａ］が加熱等の後処理によって生成する組成物を
含有するコーティング剤を基材シートの少なくとも片面
にコーティングし、次いで、加熱等の後処理を施す等の
方法を利用して形成される。
すなわち、前述の官能基を有するビニル系重合体と反応
性オルガノポリシロキサンとの結合反応によるビニル系
重合体［Ａ］によるスリップ層もしくはスリップ層兼イ
ンキ受理層は、官能基を有するビニル系重合体と反応性
オルガノポリシロキサンとの結合反応が例えば加熱等の
処理で行なわれるような場合には、官能基を有するビニ
ル系重合体と反応性オルガノポリシロキサンとを含有す
るコーティング剤を、透明性を有するプラスチックシー
トからなる基材シートの少なくとも片面にコーティング
し、次いで、加熱等の後処理を行なうことによっても、
スリップ層もしくはスリップ層兼インキ受理層を形成し
得る。
性オルガノポリシロキサンとの結合反応によるビニル系
重合体［Ａ］によるスリップ層もしくはスリップ層兼イ
ンキ受理層は、官能基を有するビニル系重合体と反応性
オルガノポリシロキサンとの結合反応が例えば加熱等の
処理で行なわれるような場合には、官能基を有するビニ
ル系重合体と反応性オルガノポリシロキサンとを含有す
るコーティング剤を、透明性を有するプラスチックシー
トからなる基材シートの少なくとも片面にコーティング
し、次いで、加熱等の後処理を行なうことによっても、
スリップ層もしくはスリップ層兼インキ受理層を形成し
得る。
オルガノポリシロキサンがブロック状またはグラフト状
に結合しているビニル系重合体［Ａ］を得るに際して使
用されるオルガノポリシロキサンは、シロキサン単位と
して前記一般式（１）もしくは一般式（２）で表示され
る単位を少なくとも１個具備するものであれば良く、特
に、その分子構造や、前記一般式（１）もしくは一般式
（２）で表示されるシロキサン単位の結合位置等には何
らの制限もなく、分子構造は線状構造あるいは分岐鎖構
造のいずれであっても良い。
に結合しているビニル系重合体［Ａ］を得るに際して使
用されるオルガノポリシロキサンは、シロキサン単位と
して前記一般式（１）もしくは一般式（２）で表示され
る単位を少なくとも１個具備するものであれば良く、特
に、その分子構造や、前記一般式（１）もしくは一般式
（２）で表示されるシロキサン単位の結合位置等には何
らの制限もなく、分子構造は線状構造あるいは分岐鎖構
造のいずれであっても良い。
また、このオルガノポリシロキサンとしては、その分子
鎖末端が、例えば、トリメチルシリル基のようなトリオ
ルガノシリル基、ヒドロキシジメチルシリル基のような
ヒドロキシジオルガノシリル基、メルカプトプロピルジ
メチルシリル基のようなメルカプトアルキルジオルガノ
シリル基、２−メルカプトシラシクロペンチル基等から
なり、前記一般式（１）もしくは一般式（２）で表示さ
れるシロキサン単位以外の珪素原子に結合する有機基と
して、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、フェ
ニル基、トリフルオロプロピル基等を有するオルガノポ
リシロキサンが好適である。
鎖末端が、例えば、トリメチルシリル基のようなトリオ
ルガノシリル基、ヒドロキシジメチルシリル基のような
ヒドロキシジオルガノシリル基、メルカプトプロピルジ
メチルシリル基のようなメルカプトアルキルジオルガノ
シリル基、２−メルカプトシラシクロペンチル基等から
なり、前記一般式（１）もしくは一般式（２）で表示さ
れるシロキサン単位以外の珪素原子に結合する有機基と
して、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、フェ
ニル基、トリフルオロプロピル基等を有するオルガノポ
リシロキサンが好適である。
さらにこのオルガノポリシロキサンは、一般式（１）も
しくは一般式（２）で表示されるシロキサン単位と、そ
れ以外のオルガノポリシロキサン単位との配列順序には
制限が全く存しないことは勿論である。
しくは一般式（２）で表示されるシロキサン単位と、そ
れ以外のオルガノポリシロキサン単位との配列順序には
制限が全く存しないことは勿論である。
また、オルガノポリシロキサンの全ての単位が一般式
（１）もしくは一般式（２）で表示されるシロキサン単
位からなるものでもよい。
（１）もしくは一般式（２）で表示されるシロキサン単
位からなるものでもよい。
一般式（３）で表示されるラジカル重合性単量体として
は、例えば、メチルアクリレート、メチルメタクリレー
ト、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、プロ
ピルアクリレート、プロピルメタクリレート、ブチルア
クリレート、ブチルメタクリレート、イソブチルアクリ
レート、イソブチルメタクリレート、ｔ−ブチルアクリ
レート、ｔ−ブチルメタクリレート、イソアミルアクリ
レート、イソアミルメタクリレート、シクロヘキシルア
クリレート、シクロヘキシルメタクリレート、２−エチ
ルヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルメタクリ
レート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒド
ロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピル
アクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレー
ト、２−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキ
シブチルメタクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノ
キシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェ
ノキシプロピルメタクリレート、アクリル酸、メタクリ
ル酸、アクリロイルオキシエチルモノサクシネート、グ
リシジルメタクリレート、２−アジリジニルエチルメタ
クリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレート、ジ
エチルアミノエチルメタクリレート等を利用し得る。
は、例えば、メチルアクリレート、メチルメタクリレー
ト、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、プロ
ピルアクリレート、プロピルメタクリレート、ブチルア
クリレート、ブチルメタクリレート、イソブチルアクリ
レート、イソブチルメタクリレート、ｔ−ブチルアクリ
レート、ｔ−ブチルメタクリレート、イソアミルアクリ
レート、イソアミルメタクリレート、シクロヘキシルア
クリレート、シクロヘキシルメタクリレート、２−エチ
ルヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルメタクリ
レート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒド
ロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピル
アクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレー
ト、２−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキ
シブチルメタクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノ
キシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェ
ノキシプロピルメタクリレート、アクリル酸、メタクリ
ル酸、アクリロイルオキシエチルモノサクシネート、グ
リシジルメタクリレート、２−アジリジニルエチルメタ
クリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレート、ジ
エチルアミノエチルメタクリレート等を利用し得る。
また、オルガノポリシロキサンがブロック状またはグラ
フト状に結合しているビニル系重合体［Ａ］としては、
ビニル系重合体［Ａ］を得る際の一般式（３）で表示さ
れるラジカル重合性単量体の少なくとも１部のラジカル
重合性単量体のR7が、水酸基を具備するアルキル基から
なり、該水酸基にアクリル酸またはメタクリル酸が縮合
反応されているものを利用し得る。
フト状に結合しているビニル系重合体［Ａ］としては、
ビニル系重合体［Ａ］を得る際の一般式（３）で表示さ
れるラジカル重合性単量体の少なくとも１部のラジカル
重合性単量体のR7が、水酸基を具備するアルキル基から
なり、該水酸基にアクリル酸またはメタクリル酸が縮合
反応されているものを利用し得る。
さらに、オルガノポリシロキサンがブロック状またはグ
ラフト状に結合しているビニル系重合体［Ａ］として
は、ビニル系重合体［Ａ］を得る際の一般式（３）で表
示されるラジカル重合性単量体の少なくとも１部のラジ
カル重合性単量体のR7が、カルボキシル基またはスルフ
オン基を具備するアルキル基からなり、該カルボキシル
基またはスルフオン基に、水酸基を有する単量体が縮合
反応されているものを利用し得る。
ラフト状に結合しているビニル系重合体［Ａ］として
は、ビニル系重合体［Ａ］を得る際の一般式（３）で表
示されるラジカル重合性単量体の少なくとも１部のラジ
カル重合性単量体のR7が、カルボキシル基またはスルフ
オン基を具備するアルキル基からなり、該カルボキシル
基またはスルフオン基に、水酸基を有する単量体が縮合
反応されているものを利用し得る。
また、オルガノポリシロキサンがブロック状またはグラ
フト状に結合しているビニル系重合体［Ａ］としては、
ビニル系重合体［Ａ］を得る際の一般式（３）で表示さ
れるラジカル重合性単量体の少なくとも１部のラジカル
重合性単量体のR7が、エポキシ基、イソシアネート基あ
るいはアジリジニル基を具備するアルキル基からなり、
該エポキシ基、イソシアネート基あるいはアジリジニル
基に、水酸基を有する単量体またはカルボキシル基を有
する単量体が付加反応されているものを利用し得る。
フト状に結合しているビニル系重合体［Ａ］としては、
ビニル系重合体［Ａ］を得る際の一般式（３）で表示さ
れるラジカル重合性単量体の少なくとも１部のラジカル
重合性単量体のR7が、エポキシ基、イソシアネート基あ
るいはアジリジニル基を具備するアルキル基からなり、
該エポキシ基、イソシアネート基あるいはアジリジニル
基に、水酸基を有する単量体またはカルボキシル基を有
する単量体が付加反応されているものを利用し得る。
また、オルガノポリシロキサンがブロック状またはグラ
フト状に結合しているビニル系重合体［Ａ］としては、
ビニル系重合体［Ａ］を得る際の一般式（３）で表示さ
れるラジカル重合性単量体の少なくとも１部のラジカル
重合性単量体のR7が、水酸基またはカルボキシル基を具
備するアルキル基からなり、該水酸基またはカルボキシ
ル基に、エポキシ基を有する単量体、アジリジニル基を
有する単量体またはジイソシアネート化合物と水酸基を
有するアクリル酸エステル単量体との等モル付加物が付
加反応されているものを利用し得る。
フト状に結合しているビニル系重合体［Ａ］としては、
ビニル系重合体［Ａ］を得る際の一般式（３）で表示さ
れるラジカル重合性単量体の少なくとも１部のラジカル
重合性単量体のR7が、水酸基またはカルボキシル基を具
備するアルキル基からなり、該水酸基またはカルボキシ
ル基に、エポキシ基を有する単量体、アジリジニル基を
有する単量体またはジイソシアネート化合物と水酸基を
有するアクリル酸エステル単量体との等モル付加物が付
加反応されているものを利用し得る。
前述のビニル系重合体［Ａ］を得る際の一般式（３）で
表示されるラジカル重合性単量体の少なくとも１部のラ
ジカル重合性単量体として、R7が前記のような官能基を
有するアルキル基からなり、該アルキル基の官能基が変
性されている場合のビニル系重合体［Ａ］は、一般式
（１）もしくは一般式（２）で表示されるシロキサン単
位単位を少なくとも１個具備するオルガノポリシロキサ
ンに、一般式（３）で表示されるラジカル重合性単量体
が重合されてなる重合体に対して、R7からなるアルキル
基における官能基を変性することによって得られる。
表示されるラジカル重合性単量体の少なくとも１部のラ
ジカル重合性単量体として、R7が前記のような官能基を
有するアルキル基からなり、該アルキル基の官能基が変
性されている場合のビニル系重合体［Ａ］は、一般式
（１）もしくは一般式（２）で表示されるシロキサン単
位単位を少なくとも１個具備するオルガノポリシロキサ
ンに、一般式（３）で表示されるラジカル重合性単量体
が重合されてなる重合体に対して、R7からなるアルキル
基における官能基を変性することによって得られる。
なお、このビニル系重合体［Ａ］を得る際の一般式
（３）で表示されるラジカル重合性単量体の少なくとも
１部のラジカル重合性単量体として、R7が前記のような
官能基を有するアルキル基からなるものを利用し、該官
能基を変性させる反応は、微量のハイドロキノン等の重
合禁止剤の存在下で、乾燥空気を送りながら行なうこと
が望ましい。
（３）で表示されるラジカル重合性単量体の少なくとも
１部のラジカル重合性単量体として、R7が前記のような
官能基を有するアルキル基からなるものを利用し、該官
能基を変性させる反応は、微量のハイドロキノン等の重
合禁止剤の存在下で、乾燥空気を送りながら行なうこと
が望ましい。
一般式（３）で表示されるラジカル重合性単量体のR7が
前記のような官能基を有するアルキル基からなり、該ア
ルキル基の官能基が変性されている場合のビニル系重合
体［Ａ］によるスリップ層もしくはスリップ層兼インキ
受理層は、電離放射線で導入される架橋構造のものにす
ることができるため、耐熱性に優れた作用を奏する。
前記のような官能基を有するアルキル基からなり、該ア
ルキル基の官能基が変性されている場合のビニル系重合
体［Ａ］によるスリップ層もしくはスリップ層兼インキ
受理層は、電離放射線で導入される架橋構造のものにす
ることができるため、耐熱性に優れた作用を奏する。
本発明の光透過性を有する記録用シートにおいて、スリ
ップ層もしくはスリップ層兼インキ受理層を形成してい
るビニル系重合体［Ａ］中のオルガノポリシロキサンと
一般式（３）で表示されるラジカル重合性単量体との割
合についての制限は特に無いが、オルガノポリシロキサ
ン100重量部に対して一般式（３）で表示されるラジカ
ル重合性単量体1000000〜１重量部という広範囲の割合
で、十分な滑り特性と帯電防止性とを具備するスリップ
層もしくはスリップ層兼インキ受理層が得られることが
確認されている。
ップ層もしくはスリップ層兼インキ受理層を形成してい
るビニル系重合体［Ａ］中のオルガノポリシロキサンと
一般式（３）で表示されるラジカル重合性単量体との割
合についての制限は特に無いが、オルガノポリシロキサ
ン100重量部に対して一般式（３）で表示されるラジカ
ル重合性単量体1000000〜１重量部という広範囲の割合
で、十分な滑り特性と帯電防止性とを具備するスリップ
層もしくはスリップ層兼インキ受理層が得られることが
確認されている。
ビニル系重合体［Ａ］を得る際の重合方法は、従来公知
の重合方法、例えば、過酸化ベンゾイル、ｔ−ブチルヒ
ドロパーオキサイド、クメンヒドロパーオキサイド、
α，α′−アゾジイソブチロニトリル等の重合開始剤を
使用した溶液重合、懸濁重合、乳化重合、塊状重合等を
利用し得る。
の重合方法、例えば、過酸化ベンゾイル、ｔ−ブチルヒ
ドロパーオキサイド、クメンヒドロパーオキサイド、
α，α′−アゾジイソブチロニトリル等の重合開始剤を
使用した溶液重合、懸濁重合、乳化重合、塊状重合等を
利用し得る。
ビニル系重合体［Ａ］を得る際に、一般式（３）で表示
されるラジカル重合性単量体の少なくとも１部のラジカ
ル重合性単量体として、第４級アンモニウム塩基または
第３級アミノ基を具備するものを利用することにより、
より優れた滑り特性と帯電防止性能とを有するスリップ
層もしくはスリップ層兼インキ受理層が得られる。
されるラジカル重合性単量体の少なくとも１部のラジカ
ル重合性単量体として、第４級アンモニウム塩基または
第３級アミノ基を具備するものを利用することにより、
より優れた滑り特性と帯電防止性能とを有するスリップ
層もしくはスリップ層兼インキ受理層が得られる。
また、ビニル系重合体［Ａ］を得る際に、一般式（３）
で表示されるラジカル重合性単量体の少なくとも１部の
ラジカル重合性単量体として、水酸基、カルボキシル
基、エポキシ基、アジリジニル基、アミノ基、イソシア
ネート基、スルフオン基等の官能基を有するものを利用
する場合には、スリップ層もしくはスリップ層兼インキ
受理層を形成しているビニル系重合体［Ａ］の官能基を
利用して、スリップ層もしくはスリップ層兼インキ受理
層を熱硬化させることができるため、滑り特性と帯電防
止性能とに加えて耐熱性においても優れたものにするこ
とができる。
で表示されるラジカル重合性単量体の少なくとも１部の
ラジカル重合性単量体として、水酸基、カルボキシル
基、エポキシ基、アジリジニル基、アミノ基、イソシア
ネート基、スルフオン基等の官能基を有するものを利用
する場合には、スリップ層もしくはスリップ層兼インキ
受理層を形成しているビニル系重合体［Ａ］の官能基を
利用して、スリップ層もしくはスリップ層兼インキ受理
層を熱硬化させることができるため、滑り特性と帯電防
止性能とに加えて耐熱性においても優れたものにするこ
とができる。
因みに、熱硬化させたスリップ層もしくはスリップ層兼
インキ受理層は、（１）熱硬化可能な前記官能基を有す
るビニル系重合体［Ａ］を含有するコーティング剤を基
材シート上に塗布後加熱する、（２）熱硬化可能な前記
官能基を有するビニル系重合体［Ａ］と、架橋材、例え
ばポリイソシアネート化合物、ポリエポキシ化合物、ポ
リアジリジニル化合物、ポリアミノ化合物等とを含有す
るコーティング剤を基材シート上に塗布後加熱する、
（３）熱硬化可能な前記官能基を有するビニル系重合体
［Ａ］と、ジブチルチンラウリレート、ピリジン等の触
媒とを含有するコーティング剤を基材シート上に塗布後
加熱する等の方法によって形成し得る。
インキ受理層は、（１）熱硬化可能な前記官能基を有す
るビニル系重合体［Ａ］を含有するコーティング剤を基
材シート上に塗布後加熱する、（２）熱硬化可能な前記
官能基を有するビニル系重合体［Ａ］と、架橋材、例え
ばポリイソシアネート化合物、ポリエポキシ化合物、ポ
リアジリジニル化合物、ポリアミノ化合物等とを含有す
るコーティング剤を基材シート上に塗布後加熱する、
（３）熱硬化可能な前記官能基を有するビニル系重合体
［Ａ］と、ジブチルチンラウリレート、ピリジン等の触
媒とを含有するコーティング剤を基材シート上に塗布後
加熱する等の方法によって形成し得る。
ビニル系重合体［Ａ］を得る際の一般式（３）で表示さ
れるラジカル重合性単量体の少なくとも１部のラジカル
重合性単量体として、R7が水酸基、カルボキシル基、ス
ルフオン基、エポキシ基、イソシアネート基またはアジ
リジニル基からなる官能基を有するアルキル基からな
り、該官能基が変性されているビニル系重合体［Ａ］に
よるスリップ層もしくはスリップ層兼インキ受理層は、
電離放射線の照射によりビニル系重合体［Ａ］に架橋構
造を導入することができる。
れるラジカル重合性単量体の少なくとも１部のラジカル
重合性単量体として、R7が水酸基、カルボキシル基、ス
ルフオン基、エポキシ基、イソシアネート基またはアジ
リジニル基からなる官能基を有するアルキル基からな
り、該官能基が変性されているビニル系重合体［Ａ］に
よるスリップ層もしくはスリップ層兼インキ受理層は、
電離放射線の照射によりビニル系重合体［Ａ］に架橋構
造を導入することができる。
なお、この際の架橋密度を向上させるために、コーティ
ング剤中にエチレングリコールジアクリレート、エチレ
ングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコー
ルジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリ
レート、ヘキサンジオールジアクリレート、ヘキサンジ
オールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリ
アクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメ
チロールプロパンジメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
メタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペン
タエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリス
リトールヘキサメタクリレート、エチレングリコールジ
グリシジルエーテルジアクリレート、エチレングリコー
ルジグリシジルエーテルジメタクリレート、ポリエチレ
ングリコールジグリシジルエーテルジアクリレート、ポ
リエチレングリコールジグリシジルエーテルジメタクリ
レート、プロピレングリコールジグリシジルエーテルジ
アクリレート、プロピレングリコールジグリシジルエー
テルジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジグ
リシジルエーテルジアクリレート、ポリプロピレングリ
コールジグリシジルエーテルジメタクリレート、ソルビ
トールテトラグリシジルエーテルテトラアクリレート、
ソルビトールテトラグリシジルエーテルテトラメタクリ
レート等を、前記ビニル系重合体［Ａ］の0.1〜100重量
％程度混合しておくことが好ましい。
ング剤中にエチレングリコールジアクリレート、エチレ
ングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコー
ルジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリ
レート、ヘキサンジオールジアクリレート、ヘキサンジ
オールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリ
アクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメ
チロールプロパンジメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
メタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペン
タエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリス
リトールヘキサメタクリレート、エチレングリコールジ
グリシジルエーテルジアクリレート、エチレングリコー
ルジグリシジルエーテルジメタクリレート、ポリエチレ
ングリコールジグリシジルエーテルジアクリレート、ポ
リエチレングリコールジグリシジルエーテルジメタクリ
レート、プロピレングリコールジグリシジルエーテルジ
アクリレート、プロピレングリコールジグリシジルエー
テルジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジグ
リシジルエーテルジアクリレート、ポリプロピレングリ
コールジグリシジルエーテルジメタクリレート、ソルビ
トールテトラグリシジルエーテルテトラアクリレート、
ソルビトールテトラグリシジルエーテルテトラメタクリ
レート等を、前記ビニル系重合体［Ａ］の0.1〜100重量
％程度混合しておくことが好ましい。
ビニル系重合体［Ａ］を得る際の一般式（３）で表示さ
れるラジカル重合性単量体の少なくとも１部のラジカル
重合性単量体として、R7が水酸基、カルボキシル基、ス
ルフオン基、エポキシ基、イソシアネート基またはアジ
リジニル基からなる官能基を有するアルキル基からなる
ラジカル重合性単量体を使用し、該官能基が変性されて
いるビニル系重合体［Ａ］に架橋構造を導入する方法と
しては、前記電離放射線を照射する方法のほかに、ラジ
カル重合開始剤を利用する方法等があるが、短時間で硬
化が完了することから電離放射線を照射する方法が好ま
しい。
れるラジカル重合性単量体の少なくとも１部のラジカル
重合性単量体として、R7が水酸基、カルボキシル基、ス
ルフオン基、エポキシ基、イソシアネート基またはアジ
リジニル基からなる官能基を有するアルキル基からなる
ラジカル重合性単量体を使用し、該官能基が変性されて
いるビニル系重合体［Ａ］に架橋構造を導入する方法と
しては、前記電離放射線を照射する方法のほかに、ラジ
カル重合開始剤を利用する方法等があるが、短時間で硬
化が完了することから電離放射線を照射する方法が好ま
しい。
電離放射線としては、電子線、紫外線、γ線等を使用で
き、電子線やγ線の場合には１〜20Mrad程度の照射が好
ましく、また、紫外線照射の場合には、増感剤としてベ
ンゾキノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等
のベンゾインエーテル類、ハロゲン化アセトフェノン
類、ビアチル類等の紫外線の照射によりラジカルを発生
するものを添加しておくことが好ましい。
き、電子線やγ線の場合には１〜20Mrad程度の照射が好
ましく、また、紫外線照射の場合には、増感剤としてベ
ンゾキノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等
のベンゾインエーテル類、ハロゲン化アセトフェノン
類、ビアチル類等の紫外線の照射によりラジカルを発生
するものを添加しておくことが好ましい。
また、ラジカル重合開始剤を用いる方法においては、過
酸化ベンゾイル等の各種の過酸化物やα，α′−アゾビ
スイソブチロニトリル等の重合開始剤をビニル系重合体
［Ａ］の0.1〜1.0重量％程度添加し、分解温度以上に加
熱すれば良い。
酸化ベンゾイル等の各種の過酸化物やα，α′−アゾビ
スイソブチロニトリル等の重合開始剤をビニル系重合体
［Ａ］の0.1〜1.0重量％程度添加し、分解温度以上に加
熱すれば良い。
本発明の光透過性を有する記録用シートは、前記した通
り、透明性を有するプラスチックシートからなる基材シ
ートの少なくも片面に、一般式（１）もしくは一般式
（２）で表示されるシロキサン単位を少なくとも１個具
備するオルガノポリシロキサンに、一般式（３）で表示
されるラジカル重合性単量体が重合されてなるオルガノ
ポリシロキサンがブロック状またはグラフト状に結合し
ているビニル系重合体［Ａ］を含有するコーティング
剤、あるいは加熱等の後処理によってビニル系重合体
［Ａ］を生成する成分を含有するコーティング剤をコー
ティングし、乾燥、さらに必要に応じて加熱等の後処理
を施し、スリップ層もしくはスリップ層兼インキ受理層
を形成させることによって得られる。
り、透明性を有するプラスチックシートからなる基材シ
ートの少なくも片面に、一般式（１）もしくは一般式
（２）で表示されるシロキサン単位を少なくとも１個具
備するオルガノポリシロキサンに、一般式（３）で表示
されるラジカル重合性単量体が重合されてなるオルガノ
ポリシロキサンがブロック状またはグラフト状に結合し
ているビニル系重合体［Ａ］を含有するコーティング
剤、あるいは加熱等の後処理によってビニル系重合体
［Ａ］を生成する成分を含有するコーティング剤をコー
ティングし、乾燥、さらに必要に応じて加熱等の後処理
を施し、スリップ層もしくはスリップ層兼インキ受理層
を形成させることによって得られる。
スリップ層もしくはスリップ層兼インキ受理層を形成す
るためのコーティング剤中には、コーティング適性調節
のための必要に応じて適宜溶剤を添加するが、ビニル系
重合体［Ａ］を得る際の反応生成溶液をそのままコーテ
ィング剤と使用し得る場合もある。
るためのコーティング剤中には、コーティング適性調節
のための必要に応じて適宜溶剤を添加するが、ビニル系
重合体［Ａ］を得る際の反応生成溶液をそのままコーテ
ィング剤と使用し得る場合もある。
また、このコーティング剤中には、貯蔵安定性を向上さ
せるために、ハイドロキノンやハイドロキノンモノメチ
ルエーテル等の重合禁止剤を添加しておくことが好まし
い。
せるために、ハイドロキノンやハイドロキノンモノメチ
ルエーテル等の重合禁止剤を添加しておくことが好まし
い。
なお、コーティング剤は、ビニル系重合体［Ａ］あるい
はビニル系重合体［Ａ］を生成し得る各成分、及び必要
に応じてラジカル重合性単量体や増感剤等の添加剤を含
有する均一溶液からなるが、該コーティング剤中には、
さらに必要に応じて、例えば、エチルセルロース、ニト
ロセルロース等のセルロース系樹脂、ポリエステル樹
脂、ポリウレタン樹脂、ロジンエステル樹脂、環化ゴム
等のゴム系樹脂、塩素化ポリオレフィン樹脂等の重合体
や、染料等の着色剤等を添加し得る。
はビニル系重合体［Ａ］を生成し得る各成分、及び必要
に応じてラジカル重合性単量体や増感剤等の添加剤を含
有する均一溶液からなるが、該コーティング剤中には、
さらに必要に応じて、例えば、エチルセルロース、ニト
ロセルロース等のセルロース系樹脂、ポリエステル樹
脂、ポリウレタン樹脂、ロジンエステル樹脂、環化ゴム
等のゴム系樹脂、塩素化ポリオレフィン樹脂等の重合体
や、染料等の着色剤等を添加し得る。
透明性を有するプラスチックシートからなる基材シー
ト、例えば、ポリエステルフィルム、ポリプロピレンフ
ィルム、セロファン、セルロースアセテートフィルム等
による基材シートの表面に、先のコーティング剤を0.1
〜4.0g（固形成分）／m2程度にコーティングし、乾燥、
さらに必要に応じて加熱、熟成、電離放射線等の後処理
を施し、スリップ層もしくはスリップ層兼インキ受理層
を形成することができる。
ト、例えば、ポリエステルフィルム、ポリプロピレンフ
ィルム、セロファン、セルロースアセテートフィルム等
による基材シートの表面に、先のコーティング剤を0.1
〜4.0g（固形成分）／m2程度にコーティングし、乾燥、
さらに必要に応じて加熱、熟成、電離放射線等の後処理
を施し、スリップ層もしくはスリップ層兼インキ受理層
を形成することができる。
基材シートへのコーティング剤の適用は、従来一般のコ
ーティング方法と同様に、例えば、ロールコーティング
法、グラビアコーティング法、スクリーンコーティング
法、ファンテンコーティング法によって行なえる。
ーティング方法と同様に、例えば、ロールコーティング
法、グラビアコーティング法、スクリーンコーティング
法、ファンテンコーティング法によって行なえる。
ビニル系重合体［Ａ］が熱硬化あるいは電離放射線硬化
される場合には、基材シートに形成したコーティング層
中の溶剤等を乾燥した後に、熱硬化処理あるいは電離放
射線硬化処理を施すことは勿論である。
される場合には、基材シートに形成したコーティング層
中の溶剤等を乾燥した後に、熱硬化処理あるいは電離放
射線硬化処理を施すことは勿論である。
以上、本発明の光透過性を有する記録用シートは、一般
式（１）もしくは一般式（２）で表示されるシロキサン
単位単位を少なくとも１個具備するオルガノポリシロキ
サンに、一般式（３）で表示されるラジカル重合性単量
体が重合されてなるビニル系重合体［Ａ］によるスリッ
プ層もしくはスリップ層兼インキ受理層を、透明性を有
するプラスチツクシートからなる基材シートの少なくと
も片面に具備するものであり、前記重合体で実質的に構
成されるスリツプ層を基材シートの片面に具備するもの
においては、基材シートのもう一方の片面にはインキ受
理層を別の組成のコーティング剤で形成し得るものであ
る。尚、この場合のインキ受理層は、基体シートを構成
している透明性を有するプラスチツクシートとの親和性
が考慮されたうえで選択されるが、例えば、飽和ポリエ
ステル樹脂，酢酸ビニル樹脂，ポリアミド樹脂，塩化ビ
ニル，酢酸ビニル共重合樹脂，ポリビニルブチラール樹
脂，ポリ塩化ビニリデン樹脂，アクリロニトリル，ブタ
ジエン共重合樹脂，アクリル系樹脂，弗化ビニリデン樹
脂，アクリロニトリル・スチレン共重合樹脂，アクリロ
ニトリル・塩化ビニル共重合樹脂，ニトリルゴム，塩化
ゴム，環化ゴム，塩化ビニル樹脂，ポリオールとイソシ
アネートとの熱硬化性樹脂等からなる樹脂成分100重量
部に対して、硫酸バリウム，炭酸マグネシウム，シリ
カ，炭酸カルシウム，酸化アルミニウム，二酸化スズ，
ベンゾグアナミン，二酸化チタン等の平均粒径１μｍ以
下の無機質もしくは有機質微粉末25〜250重量部を含有
するコーティング用組成物によつて形成される等のもの
である。
式（１）もしくは一般式（２）で表示されるシロキサン
単位単位を少なくとも１個具備するオルガノポリシロキ
サンに、一般式（３）で表示されるラジカル重合性単量
体が重合されてなるビニル系重合体［Ａ］によるスリッ
プ層もしくはスリップ層兼インキ受理層を、透明性を有
するプラスチツクシートからなる基材シートの少なくと
も片面に具備するものであり、前記重合体で実質的に構
成されるスリツプ層を基材シートの片面に具備するもの
においては、基材シートのもう一方の片面にはインキ受
理層を別の組成のコーティング剤で形成し得るものであ
る。尚、この場合のインキ受理層は、基体シートを構成
している透明性を有するプラスチツクシートとの親和性
が考慮されたうえで選択されるが、例えば、飽和ポリエ
ステル樹脂，酢酸ビニル樹脂，ポリアミド樹脂，塩化ビ
ニル，酢酸ビニル共重合樹脂，ポリビニルブチラール樹
脂，ポリ塩化ビニリデン樹脂，アクリロニトリル，ブタ
ジエン共重合樹脂，アクリル系樹脂，弗化ビニリデン樹
脂，アクリロニトリル・スチレン共重合樹脂，アクリロ
ニトリル・塩化ビニル共重合樹脂，ニトリルゴム，塩化
ゴム，環化ゴム，塩化ビニル樹脂，ポリオールとイソシ
アネートとの熱硬化性樹脂等からなる樹脂成分100重量
部に対して、硫酸バリウム，炭酸マグネシウム，シリ
カ，炭酸カルシウム，酸化アルミニウム，二酸化スズ，
ベンゾグアナミン，二酸化チタン等の平均粒径１μｍ以
下の無機質もしくは有機質微粉末25〜250重量部を含有
するコーティング用組成物によつて形成される等のもの
である。
尚、前述のインキ受理層中に、印字適性の改良のために
添加される前述の無機質もしくは有機質微粉末は、得ら
れるシートの光透過性の低下の度合いが比較的僅少に抑
えられるように、１μ以下、好ましくは0.5μ以下の平
均粒径のものが使用されるべきである。
添加される前述の無機質もしくは有機質微粉末は、得ら
れるシートの光透過性の低下の度合いが比較的僅少に抑
えられるように、１μ以下、好ましくは0.5μ以下の平
均粒径のものが使用されるべきである。
以下本発明の光透過性を有する記録用シートの具体的な
構成を製造実施例を以つて説明し、併せ、得られた記録
用シートの性質を説明する。
構成を製造実施例を以つて説明し、併せ、得られた記録
用シートの性質を説明する。
実施例１ 加熱及び攪拌装置付きの反応容器に下記組成物（１）を
封入し、10時間還流させて重合反応を行なつた。
封入し、10時間還流させて重合反応を行なつた。
組成物（１） メチルメタクリレート 300重量部 ジメチルアミノエチルメタクリレート 152重量部 メタクリル酸 43重量部 ジメチルポリシロキサン（※１） 50重量部 メチルエチルケトン 1500重量部 α，α′−アゾビスイソブチロニトリル １重量部 次いで、前記反応生成溶液中に、0.2重量部のハイドロ
キノンと75重量部のアリルクロライドと1500重量部のイ
ソプロピルアルコールとを添加し、80℃にて６時間反応
させ、前述の重合反応で生成した重合体中の第３級アミ
ノ基を第４級アンモニウム基に転換した。
キノンと75重量部のアリルクロライドと1500重量部のイ
ソプロピルアルコールとを添加し、80℃にて６時間反応
させ、前述の重合反応で生成した重合体中の第３級アミ
ノ基を第４級アンモニウム基に転換した。
かくして得られた反応生成溶液からなる塗工材料〔Ａ〕
を、両面にコロナ放電処理が施されている厚さ38μのポ
リエステルフイルム〔東レ（株）製：ルミラー〕の両面
に、グラビアベタ版にて0.5g（固形分）／m2の割合に略
均一に塗布，乾燥することにより、同一構成のスリツプ
層とインキ受理層とを具備する本発明の一実施例品たる
光透過性を有する記録用シート〔ａ〕を得た。
を、両面にコロナ放電処理が施されている厚さ38μのポ
リエステルフイルム〔東レ（株）製：ルミラー〕の両面
に、グラビアベタ版にて0.5g（固形分）／m2の割合に略
均一に塗布，乾燥することにより、同一構成のスリツプ
層とインキ受理層とを具備する本発明の一実施例品たる
光透過性を有する記録用シート〔ａ〕を得た。
前記記録用シート〔ａ〕は、印字適性が良好で、光透過
性も高く、帯電防止性能を有し、優れたフイーデイング
（Feeding）特性を有するものであつた。
性も高く、帯電防止性能を有し、優れたフイーデイング
（Feeding）特性を有するものであつた。
実施例２ 前記実施例１で使用した塗工材料〔Ａ〕100重量部とグ
リセロールトリグリシジルエーテル３重量部との均一混
合溶液からなる塗工材料〔Ｂ〕を、実施例１で使用した
ものと同一のポリエステルフイルムに、同じく実施例１
における方法と同様にして処方し、塗布，乾燥後、引き
続いて60℃にて20時間の架橋処理を行ない、本発明の一
実施例品たる光透過性を有する記録用シート〔ｂ〕を得
た。
リセロールトリグリシジルエーテル３重量部との均一混
合溶液からなる塗工材料〔Ｂ〕を、実施例１で使用した
ものと同一のポリエステルフイルムに、同じく実施例１
における方法と同様にして処方し、塗布，乾燥後、引き
続いて60℃にて20時間の架橋処理を行ない、本発明の一
実施例品たる光透過性を有する記録用シート〔ｂ〕を得
た。
得られた記録用シート〔ｂ〕を前記記録用シート〔ａ〕
と同様にして筆記テストを行なつた結果、印字適性が良
好で、光透過性も良く、印字操作中でのプリンター内で
の走行性も優れていた。
と同様にして筆記テストを行なつた結果、印字適性が良
好で、光透過性も良く、印字操作中でのプリンター内で
の走行性も優れていた。
実施例３ 反応容器中にて下記組成物（２）を10時間反応させる重
合反応を行なつた。
合反応を行なつた。
組成物（２） メチルメタクリレート 300重量部 ジメチルアミノエチルメタクリレート 314重量部 ２−ヒドロキシメタクリレート 130重量部 ジメチルポリシロキサン（※２） 15重量部 α，α′−アゾビスイソブチロニトリル 2.5重量部 トルエン 1000重量部 メチルエチルケトン 250重量部 次いで、前記反応生成溶液中に、1000重量部のトルエン
と150重量部アリルクロライドと200重量部のメチルアル
コールとを添加し、80℃にて４時間反応させた。
と150重量部アリルクロライドと200重量部のメチルアル
コールとを添加し、80℃にて４時間反応させた。
得られた反応生成溶液に更にトリレンジイソシアネート
アダクト体〔日本ポリウレタン（株）製有機イソシアネ
ート化合物：コロネート〕1.5重量部（固形分）添加し
た塗工材料〔Ｃ〕を、両面にコロナ放電処理が施されて
いる厚さ38μのポリエステルフイルム〔東レ（株）製：
ルミラー〕の片面に、版深40μのグラビア版で1g（固形
分）／m2の割合に略均一に塗布，乾燥した後、巻き取
り、40℃の室内にて48時間放置することにより熟成，硬
化させてスリツプ層を形成した。
アダクト体〔日本ポリウレタン（株）製有機イソシアネ
ート化合物：コロネート〕1.5重量部（固形分）添加し
た塗工材料〔Ｃ〕を、両面にコロナ放電処理が施されて
いる厚さ38μのポリエステルフイルム〔東レ（株）製：
ルミラー〕の片面に、版深40μのグラビア版で1g（固形
分）／m2の割合に略均一に塗布，乾燥した後、巻き取
り、40℃の室内にて48時間放置することにより熟成，硬
化させてスリツプ層を形成した。
次いで、前記ポリエステルフイルムのもう一方の片面
に、下記組成のインキ受理層形成用のコーテイング剤
を、グラビア方式により0.5g（固形分）／m2の割合に塗
工，乾燥し、インキ受理層を形成した。
に、下記組成のインキ受理層形成用のコーテイング剤
を、グラビア方式により0.5g（固形分）／m2の割合に塗
工，乾燥し、インキ受理層を形成した。
インキ受理層形成用コーテイング剤 （１） γ・Al2O3（デグサ製） 10重量部 （２） 塩化ビニル・酢酸ビニル共重合樹脂（UCC製）
８重量部 （３） 熱可塑性ポリエステル樹脂〔バイロン200:東洋
紡（株）〕 ８重量部 （４） キシレンジイソシアネート ６重量部 （５） トルエン 70重量部 （６） MEK 60重量部 かくして得られた本発明の一実施例品たる片面がスリツ
プ層で構成され、別の面が前記スリツプ層とは構成を異
にするインキ受理層で構成されている光透過性を有する
記録用シート〔ｃ〕を得た。
８重量部 （３） 熱可塑性ポリエステル樹脂〔バイロン200:東洋
紡（株）〕 ８重量部 （４） キシレンジイソシアネート ６重量部 （５） トルエン 70重量部 （６） MEK 60重量部 かくして得られた本発明の一実施例品たる片面がスリツ
プ層で構成され、別の面が前記スリツプ層とは構成を異
にするインキ受理層で構成されている光透過性を有する
記録用シート〔ｃ〕を得た。
得られた記録用シート〔ｃ〕をA4サイズに切断し、電子
写真複写機で複写したところ、複写用紙として何のトラ
ブルも無く、適切なる複写が得られた。
写真複写機で複写したところ、複写用紙として何のトラ
ブルも無く、適切なる複写が得られた。
実施例４ 反応容器中にて下記組成物（３）を10時間還流させるこ
とからなる重合反応を行なつた。
とからなる重合反応を行なつた。
組成物（３） メチルメタクリレート 200重量部 ジメチルアミノエチルアクリレート 910重量部 ２−ヒドロキシエチルアクリレート 260重量部 ジメチルポリシロキサン（※３） 24重量部 α，α′−アゾビスイソブチロニトリル ５重量部 酢酸エチル 4100重量部 次いで、前記反応生成溶液に１重量部のベンゾキノンを
添加して反応を停止させた後、640重量部の２−ヒドロ
キシエチルアクリレートと2,4−トルエンジイソシアネ
ートとの等モル化合物を添加し、さらにジブチルチンジ
ラウリレートを50重量部添加し、乾燥空気を送りながら
80℃にて５時間反応させた。しかる後に、1000重量部の
メチルエチルケトンと450重量部のアリルクロライドと1
200重量部のメチルアルコールとを添加し、80℃にて４
時間反応させた後、反応生成溶液を室温まで冷却し、更
に200重量部の紫外線増感剤〔チバガイギー（株）製：
イルガキユア184〕を添加して紫外線硬化型塗工材料
〔Ｄ〕を得た。
添加して反応を停止させた後、640重量部の２−ヒドロ
キシエチルアクリレートと2,4−トルエンジイソシアネ
ートとの等モル化合物を添加し、さらにジブチルチンジ
ラウリレートを50重量部添加し、乾燥空気を送りながら
80℃にて５時間反応させた。しかる後に、1000重量部の
メチルエチルケトンと450重量部のアリルクロライドと1
200重量部のメチルアルコールとを添加し、80℃にて４
時間反応させた後、反応生成溶液を室温まで冷却し、更
に200重量部の紫外線増感剤〔チバガイギー（株）製：
イルガキユア184〕を添加して紫外線硬化型塗工材料
〔Ｄ〕を得た。
得られた塗工材料〔Ｄ〕を、前記実施例３で使用したも
のと同一のポリエステルフイルムに1g（固形分）／m2の
割合に略均一に塗布，乾燥後、窒素ガス雰囲気下で80KW
/cmの出力を有する紫外線ランプの10cm下方を、走行速
度10m/min.で通過させ、本発明の一実施例品たる片面が
スリツプ層兼インキ受理層で構成されている光透過性を
有する記録用シート〔ｄ〕を得た。
のと同一のポリエステルフイルムに1g（固形分）／m2の
割合に略均一に塗布，乾燥後、窒素ガス雰囲気下で80KW
/cmの出力を有する紫外線ランプの10cm下方を、走行速
度10m/min.で通過させ、本発明の一実施例品たる片面が
スリツプ層兼インキ受理層で構成されている光透過性を
有する記録用シート〔ｄ〕を得た。
得られた記録用シート〔ｄ〕におけるスリツプ層兼イン
キ受理層は印字適性が良好で、記録用シート〔ｄ〕は高
度の光透過性と帯電防止性能とを有しており、機械適性
においても優れた性質を奏するものであつた。
キ受理層は印字適性が良好で、記録用シート〔ｄ〕は高
度の光透過性と帯電防止性能とを有しており、機械適性
においても優れた性質を奏するものであつた。
実施例５ 反応容器中にて下記組成物（４）を10時間還流させるこ
とからなる重合反応を行なつた。
とからなる重合反応を行なつた。
組成物（４） ステアリルアクリレート 324重量部 ジメチルアミノエチルメタクリレート 314重量部 アクリル酸 72重量部 ジメチルポリシロキサン（※４） 35重量部 α，α′−アゾビスイソブチロニトリル ２重量部 トルエン 1,000重量部 メチルエチルケトン 250重量部 次いで、前記反応生成溶液中に0.3重量部のハイドロキ
ノンを加えたのち、71重量部のグリシジルメタクリレー
トを乾燥空気を吹き込みながら90℃〜100℃で８時間反
応させた。さらにトルエン1,000重量部、アクリルクロ
ライド150重量部、メチルアルコール200重量部を加え80
℃で４時間反応させることにより、塗工材料〔Ｅ〕を得
た。
ノンを加えたのち、71重量部のグリシジルメタクリレー
トを乾燥空気を吹き込みながら90℃〜100℃で８時間反
応させた。さらにトルエン1,000重量部、アクリルクロ
ライド150重量部、メチルアルコール200重量部を加え80
℃で４時間反応させることにより、塗工材料〔Ｅ〕を得
た。
かくして得られた塗工材料〔Ｅ〕をコロナ放電処理が施
されている厚さ50μのポリエステルフイルムに、版深40
μのグラビア版を用いて、0.3g（固形分）／m2の割合に
略均一に塗布後、溶剤を乾燥させ、窒素ガス雰囲気下で
175KVに加速された電子線3Mradを照射して硬化させるこ
とによりスリツプ層兼インキ受理層を形成し、本発明の
一実施例品たる光透過性を有する記録用シート〔ｄ〕を
得た。
されている厚さ50μのポリエステルフイルムに、版深40
μのグラビア版を用いて、0.3g（固形分）／m2の割合に
略均一に塗布後、溶剤を乾燥させ、窒素ガス雰囲気下で
175KVに加速された電子線3Mradを照射して硬化させるこ
とによりスリツプ層兼インキ受理層を形成し、本発明の
一実施例品たる光透過性を有する記録用シート〔ｄ〕を
得た。
得られた記録用シート〔ｅ〕を前記実施例１における記
録用シート〔ａ〕と同様にして筆記テストを行なつた結
果、印字適性及び光透過性が良好で、帯電防止性能も十
分であつた。
録用シート〔ａ〕と同様にして筆記テストを行なつた結
果、印字適性及び光透過性が良好で、帯電防止性能も十
分であつた。
実施例６ 前記実施例５における塗工材料〔Ｅ〕100重量部に対し
て５重量部のジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト〔日本化薬（株）製:DPHA〕を添加し、均一に溶解さ
せることによつて得られた塗工材料〔Ｆ〕を、前記実施
例５における方法と同一の手順でポリエステルフイルム
に塗布，乾燥後、窒素ガス雰囲気下で175KVに加速され
た電子線1Mradを照射して硬化させることによりスリツ
プ層兼インキ受理層を形成し、本発明の一実施例品たる
光透過性を有する記録用シート〔ｆ〕を得た。
て５重量部のジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト〔日本化薬（株）製:DPHA〕を添加し、均一に溶解さ
せることによつて得られた塗工材料〔Ｆ〕を、前記実施
例５における方法と同一の手順でポリエステルフイルム
に塗布，乾燥後、窒素ガス雰囲気下で175KVに加速され
た電子線1Mradを照射して硬化させることによりスリツ
プ層兼インキ受理層を形成し、本発明の一実施例品たる
光透過性を有する記録用シート〔ｆ〕を得た。
得られた記録用シート〔ｆ〕を前記実施例１における記
録用シート〔ａ〕と同様にして筆記テストした結果、印
字適性が良好で、光透過性及び帯電防止性能も十分であ
つた。
録用シート〔ａ〕と同様にして筆記テストした結果、印
字適性が良好で、光透過性及び帯電防止性能も十分であ
つた。
実施例７ 反応容器中にて下記組成物（５）を10時間還流させるこ
とからなる重合反応を行つた。
とからなる重合反応を行つた。
組成物（５） メチルメタクリレート 300重量部 ジメチルアミノエチルアクリレート 314重量部 ２−ヒドロキシエチルメタクリレート 130重量部 α，α′−アゾビスイソブチロニトリル ２重量部 トルエン 1,000重量部 メチルエチルケトン 250重量部 得られた反応生成溶液100重量部に対して、分子鎖両末
端がγ−メルカプトプロピルジメチルシリル基で封鎖さ
れた粘度200センチストークス（25℃）のジメチルポリ
シロキサン3.5重量部とトリレンジイソシアネートアダ
クト体〔日本ポリウレタン（株）製有機イソシアネート
化合物：コロネートＬ〕15重量部とを添加した塗工材料
〔Ｇ〕をコロナ放電処理が施されている厚さ50μのポリ
エステルフイルムに1g（固形分）／m2の割合で略均一に
塗布，乾燥後、40℃の雰囲気中に72時間放置して硬化さ
せることによりスリツプ層兼インキ受理層を形成し、本
発明の一実施例品たる光透過性を有する記録用シート
〔ｇ〕を得た。
端がγ−メルカプトプロピルジメチルシリル基で封鎖さ
れた粘度200センチストークス（25℃）のジメチルポリ
シロキサン3.5重量部とトリレンジイソシアネートアダ
クト体〔日本ポリウレタン（株）製有機イソシアネート
化合物：コロネートＬ〕15重量部とを添加した塗工材料
〔Ｇ〕をコロナ放電処理が施されている厚さ50μのポリ
エステルフイルムに1g（固形分）／m2の割合で略均一に
塗布，乾燥後、40℃の雰囲気中に72時間放置して硬化さ
せることによりスリツプ層兼インキ受理層を形成し、本
発明の一実施例品たる光透過性を有する記録用シート
〔ｇ〕を得た。
［作用及び効果］ 本発明の光透過性を有する記録用シートは、該記録用シ
ートにおけるスリップ層もしくはスリップ層兼インキ受
理層が、一般式（１）もしくは一般式（２）で表示され
るシロキサン単位を少なくとも１個具備するオルガノポ
リシロキサンに、一般式（３）で表示されるラジカル重
合性単量体が重合されてなるオルガノポリシロキサンが
ブロック状またはグラフト状に結合しているビニル系重
合体［Ａ］によって形成されている。
ートにおけるスリップ層もしくはスリップ層兼インキ受
理層が、一般式（１）もしくは一般式（２）で表示され
るシロキサン単位を少なくとも１個具備するオルガノポ
リシロキサンに、一般式（３）で表示されるラジカル重
合性単量体が重合されてなるオルガノポリシロキサンが
ブロック状またはグラフト状に結合しているビニル系重
合体［Ａ］によって形成されている。
かかる構成によるスリップ層もしくはスリップ層兼イン
キ受理層は、優れた印字適性及び帯電防止性を有し、ま
た、各種のプリンターに掛けられる機械的強度を有し、
かつ光透過性を有している。
キ受理層は、優れた印字適性及び帯電防止性を有し、ま
た、各種のプリンターに掛けられる機械的強度を有し、
かつ光透過性を有している。
したがって、本発明の光透過性を有する記録用シート
は、帯電による密着のトラブルが無く、各種のプリンタ
ー内での走行がスムーズであり、特にオーバーヘッドプ
ロジェクターによる映写に利用する記録用シートとして
極めて優れた作用、効果を奏する。
は、帯電による密着のトラブルが無く、各種のプリンタ
ー内での走行がスムーズであり、特にオーバーヘッドプ
ロジェクターによる映写に利用する記録用シートとして
極めて優れた作用、効果を奏する。
Claims (7)
- 【請求項１】一般式 もしくは で表示されるシロキサン単位を分子中に少なくとも１個
以上有するオルガノポリシロキサンに、 一般式 で表示されるラジカル重合性単量体が重合されてなるオ
ルガノポリシロキサンがブロック状またはグラフト状に
結合しているビニル系重合体［Ａ］によるスリップ層も
しくはスリップ層兼インキ受理層が、透明性を有するプ
ラスチックシートからなる基材シートの少なくとも片面
に形成されていることを特徴とする光透過性を有する記
録用シート。 - 【請求項２】ビニル系重合体［Ａ］を得る際の一般式
（３）で表示されるラジカル重合性単量体の少なくとも
１部のラジカル重合性単量体のR7が、水酸基を具備する
アルキル基からなり、該水酸基にアクリル酸またはメタ
クリル酸が縮合反応されている特許請求の範囲第１項記
載の光透過性を有する記録用シート。 - 【請求項３】ビニル系重合体［Ａ］を得る際の一般式
（３）で表示されるラジカル重合性単量体の少なくとも
１部のラジカル重合性単量体のR7が、カルボキシル基ま
たはスルフオン基を具備するアルキル基からなり、該カ
ルボキシル基またはスルフオン基に、水酸基を有する単
量体が縮合反応されている特許請求の範囲第１項記載の
光透過性を有する記録用シート。 - 【請求項４】ビニル系重合体［Ａ］を得る際の一般式
（３）で表示されるラジカル重合性単量体の少なくとも
１部のラジカル重合性単量体のR7が、エポキシ基、イソ
シアネート基あるいはアジリジニル基を具備するアルキ
ル基からなり、該エポキシ基、イソシアネート基あるい
はアジリジニル基に、水酸基を有する単量体またはカル
ボキシル基を有する単量体が付加反応されている特許請
求の範囲第１項記載の光透過性を有する記録用シート。 - 【請求項５】ビニル系重合体［Ａ］を得る際の一般式
（３）で表示されるラジカル重合性単量体の少なくとも
１部のラジカル重合性単量体のR7が、水酸基またはカル
ボキシル基を具備するアルキル基からなり、該水酸基ま
たはカルボキシル基に、エポキシ基を有する単量体、ア
ジリジニル基を有する単量体またはジイソシアネート化
合物と水酸基を有するアクリル酸エステル単量体との等
モル付加物が付加反応されている特許請求の範囲第１項
記載の光透過性を有する記録用シート。 - 【請求項６】ビニル系重合体［Ａ］が、第４級アンモニ
ウム塩基または第３級アミノ基を具備する１種以上の単
量体の（共）重合体である特許請求の範囲第１項〜第５
項のうちのいずれかの１項記載の光透過性を有する記録
用シート。 - 【請求項７】ビニル系重合体［Ａ］が架橋構造とされて
いる特許請求の範囲第１項〜第５項のうちのいずれかの
１項記載の光透過性を有する記録用シート。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59265946A JPH0723020B2 (ja) | 1984-12-17 | 1984-12-17 | 光透過性を有する記録用シ−ト |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59265946A JPH0723020B2 (ja) | 1984-12-17 | 1984-12-17 | 光透過性を有する記録用シ−ト |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61143176A JPS61143176A (ja) | 1986-06-30 |
| JPH0723020B2 true JPH0723020B2 (ja) | 1995-03-15 |
Family
ID=17424272
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59265946A Expired - Lifetime JPH0723020B2 (ja) | 1984-12-17 | 1984-12-17 | 光透過性を有する記録用シ−ト |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0723020B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH072427B2 (ja) * | 1985-12-06 | 1995-01-18 | キヤノン株式会社 | 被記録材およびその製造方法 |
| DE69033807T2 (de) * | 1989-10-26 | 2002-04-25 | Dainippon Printing Co Ltd | Bildempfangsschicht für thermische Übertragung |
| US5225392A (en) * | 1992-04-20 | 1993-07-06 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Dual process thermal transfer imaging |
| DE69927427T2 (de) | 1998-05-18 | 2006-03-16 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Mit Silan oberflächenbehandelte Kieselsäureteilchen, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung |
| JP4992356B2 (ja) * | 2006-09-14 | 2012-08-08 | 大日本印刷株式会社 | 帯電防止性光硬化型樹脂組成物、及び、それを用いた帯電防止膜及び物品 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60220794A (ja) * | 1984-04-17 | 1985-11-05 | Sony Corp | 昇華転写用透明被転写体 |
-
1984
- 1984-12-17 JP JP59265946A patent/JPH0723020B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61143176A (ja) | 1986-06-30 |
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