JPH07225258A - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

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JPH07225258A
JPH07225258A JP6016621A JP1662194A JPH07225258A JP H07225258 A JPH07225258 A JP H07225258A JP 6016621 A JP6016621 A JP 6016621A JP 1662194 A JP1662194 A JP 1662194A JP H07225258 A JPH07225258 A JP H07225258A
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JP
Japan
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potential
signal
test
lead
terminals
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JP6016621A
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Japanese (ja)
Inventor
Mitsuo Fujii
井 美津男 藤
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To discriminate a contact abnormality at every signal terminal by a method wherein the potential state of a signal terminal connected to a lead terminal is set at a potential for a test and the potential level of the signal terminal is measured relatively. CONSTITUTION:An MPX changeover signal in a normal mode is set in such a way that multiplexers 12a to 12n select connections of signal terminals 11a to 11n to I/O buffers 13a to 13n. The multiplexers 12a to 12n select a first potential. The first potential is output to the side of the terminals 11a to 11n from the side of a semiconductor chip 1. Then, lead terminals 11 to 1n are scanned by an electron-beam tester EB, and individual potential levels of the lead terminals 11 to 1n corresponding to the first potential are measured. In the same manner, potential levels of individual lead terminals corresponding to a second potential are measured, and both measured levels are compared with a criterion level which is output so as to correspond to both potentials. A compared result is recorded in a computer for the tester EB, and whether bonded parts are disconnected or short-circuited can be discriminated at the individual lead terminals.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【技術分野】本発明は、半導体チップのボンディングに
おける断線やショートを判断することを容易にしたテス
ト回路を有する半導体装置に関し、特に、テープキャリ
アパッケージのインナリードボンディングの良否や、マ
ルチチップモジュールにおけるボンデイングの良否判断
等を容易にした半導体装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device having a test circuit that makes it easy to determine a disconnection or a short circuit in bonding a semiconductor chip, and more particularly, to a good or bad inner lead bonding of a tape carrier package and bonding in a multi-chip module. The present invention relates to a semiconductor device that facilitates the quality judgment of

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、半導体チップと、この半導体チッ
プを収容するパッケージのリード端子との接続には、い
わゆるワイヤボンディング方式、テープボンディングボ
ンディング(TAB,Tape Automated Bonding)方式、
フリップチップ方式等が使用されている。これ等ボンデ
ィング方式における、ボンディング部分の断線や短絡
(例えば、隣合う端子同士の接触、回路電源Vdd、GN
D等との接触)の有無の試験は、テスタのプローブある
いは電子ビームやレーザビームをテストポイント(ボン
ディング部分)にあて、電位差や導通をチェックするこ
とによって可能である。
2. Description of the Related Art Conventionally, a semiconductor chip and a lead terminal of a package that houses the semiconductor chip are connected by a so-called wire bonding method, a tape automated bonding (TAB) method,
A flip chip method or the like is used. In these bonding methods, disconnection or short circuit of the bonding portion (for example, contact between adjacent terminals, circuit power supply Vdd, GN)
The presence or absence of (contact with D etc.) can be tested by applying a probe of a tester or an electron beam or a laser beam to a test point (bonding portion) and checking the potential difference and conduction.

【0003】しかし、半導体チップが、多ピン化、狭ピ
ッチ化すると、テスタのプローブを配線に当てるのは容
易でない。また、テープキャリア上に半導体チップを組
立てた状態が、半導体チップの配線やテープキャリア上
のリードにテスタのプローブを機械的に接触できるよう
な構造にならない場合、例えば、テープキャリアに半導
体チップが搭載された状態では、半導体チップ表面の一
部あるいは全部がテープ(フィルム)に覆われる場合に
は、ボンディング部分の良否を直接に試験することは出
来ない。また、プローブの代りに、テープキャリアパッ
ケージを収納して、テープから外部に配線を引出す、ソ
ケットを用いることも可能であるが、半導体チップを狭
ピッチで多ピン化した場合には、ソケットの製作が難し
い。このような場合には、半導体装置を基板に実装した
後で、半導体装置に種々のテストパターン信号を与え
て、基準の出力パターンが得られるかどうかを判別して
半導体装置の異常箇所を推定する、バウンダリスキャン
テスト等に依存することになる。
However, when the semiconductor chip has a large number of pins and a narrow pitch, it is not easy to apply the probe of the tester to the wiring. If the semiconductor chip is not assembled on the tape carrier so that the tester's probe can be mechanically brought into contact with the semiconductor chip wiring or leads on the tape carrier, for example, the semiconductor chip is mounted on the tape carrier. In this state, if the tape (film) covers part or all of the surface of the semiconductor chip, it is not possible to directly test the quality of the bonding portion. It is also possible to use a socket that accommodates a tape carrier package and draws the wiring from the tape to the outside instead of the probe. However, when the semiconductor chip has a large number of pins at a narrow pitch, the socket is manufactured. Is difficult. In such a case, after mounting the semiconductor device on a substrate, various test pattern signals are given to the semiconductor device to determine whether or not a reference output pattern can be obtained and to estimate an abnormal portion of the semiconductor device. , Boundary scan test and so on.

【0004】このような理由により、インナリード等の
ボンディングの断線、短絡を直接測定できない場合があ
る。
For these reasons, it may not be possible to directly measure the disconnection or short circuit of the bonding such as the inner lead.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、半導体
装置のボンディング不良を可及的に早い段階で判別しな
いと、不良半導体装置を組立てることよる後のコスト的
損失が大きなものとなる。従って、実装前の、テープキ
ャリアパッケージ状態でインナリードボンデイングの断
線・ショートをテストできるようにすることが望まれ
る。
However, unless the bonding failure of the semiconductor device is determined at the earliest possible stage, the cost loss after assembling the defective semiconductor device becomes large. Therefore, it is desirable to be able to test the disconnection and short circuit of the inner lead bonding in a tape carrier package state before mounting.

【0006】また、マルチチップモジュール等の基板に
半導体装置を実装した後に、上述したようにバウンダリ
・スキャンテストで基板の配線テストを行うことができ
るが、配線不良が生じた場合、バウンダリ・スキャンテ
ストでは、基板の配線が不良か、半導体チップと基板と
のコンタクト不良か、半導体チップの不良かを具体的に
特定することが困難である。
After mounting the semiconductor device on the substrate such as the multi-chip module, the wiring test of the substrate can be conducted by the boundary scan test as described above. However, when the wiring defect occurs, the boundary scan test is performed. Then, it is difficult to specifically specify whether the wiring of the substrate is defective, the contact between the semiconductor chip and the substrate is defective, or the semiconductor chip is defective.

【0007】よって、本発明は、半導体チップとリード
端子とのオープン・ショートを試験出来るようにする機
能を内蔵する半導体装置を提供することを目的とする。
Therefore, it is an object of the present invention to provide a semiconductor device having a built-in function for testing an open / short circuit between a semiconductor chip and a lead terminal.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の半導体装置は、半導体チップ内に形成され
て試験電位を発生する試験電位発生手段と、上記半導体
チップ内に形成される内部回路と、上記半導体チップの
表面に形成されて、外部のリード端子と上記内部回路と
の接続のために用いられる信号端子と、テスト指令信号
の存在に応答して上記試験電位発生手段を上記信号端子
に接続し、上記テスト指令信号の非存在に応答して上記
内部回路を上記信号端子に接続する信号切替手段と、を
備える。
In order to achieve the above object, a semiconductor device of the present invention comprises a test potential generating means formed in a semiconductor chip to generate a test potential, and an internal portion formed in the semiconductor chip. A circuit, a signal terminal formed on the surface of the semiconductor chip and used for connection between an external lead terminal and the internal circuit, and the test potential generating means in response to the presence of a test command signal. Signal switching means connected to the terminal and connecting the internal circuit to the signal terminal in response to the absence of the test command signal.

【0009】[0009]

【作用】半導体装置自身が、リード端子と接続される信
号端子(パッド)の電位状態をテスト用の電位に設定す
る機能を内蔵する。信号端子に設定された試験電位のレ
ベルを、リード端子あるいはリード線上でプローブによ
り、あるいは電子ビーム等の非接触のプローブにより、
相対的に測定して基準値と比較することによって各信号
端子におけるコンタクトの異常を判別する。
The semiconductor device itself has a function of setting the potential state of the signal terminal (pad) connected to the lead terminal to the test potential. The test potential level set in the signal terminal can be measured by a probe on the lead terminal or lead wire, or by a non-contact probe such as an electron beam.
Abnormality of the contact at each signal terminal is determined by relatively measuring and comparing with a reference value.

【0010】[0010]

【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。図1は、本発明の第一の実施例を示してい
る。同図において、半導体(LSI)チップ1は、フィ
ルムキャリアテープ2のデバイスホール3に配置され、
パッド電極によって形成される信号端子11a〜11n
にインナリード端子la〜lnが夫々接続されている。
各インナリード端子の他端は、図示しないアウターリー
ドに接続される。信号端子11a〜11nの各々は、夫
々マルチプレクサ(MPX)12a〜12nを介してI
Oバッファ13a〜13nに接続される。マルチプレク
サは、1:3(1入力3出力)の双方向通過のものであ
り、上記信号端子と、第1電位、第2電位及びIOバッ
ファのいずれか一つとを、MPX切替信号に応答して選
択的に接続する。テスト指令信号たるMPX切替信号
は、図示しない内部制御回路やCPUから与えられる
が、信号端子を介して外部から供給することも可能であ
る。また、第1電位は、例えば、回路電源電圧Vdd、第
2電位は接地電位GNDを用いることが可能である。I
Oバッファ13a〜13nは、LSIの図示しない内部
回路への信号線D1 〜Dn 等を介して信号処理を行う内
部回路(図示せず)に接続される。ここで、信号切替手
段たるマルチプレクサ12a 〜12n 、試験電位発生手
段たる回路電源Vdd、GNDは、テスト回路を構成す
る。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows a first embodiment of the present invention. In the figure, a semiconductor (LSI) chip 1 is arranged in a device hole 3 of a film carrier tape 2,
Signal terminals 11a to 11n formed by pad electrodes
To inner lead terminals la to ln, respectively.
The other end of each inner lead terminal is connected to an outer lead (not shown). Each of the signal terminals 11a to 11n receives an I signal via a multiplexer (MPX) 12a to 12n, respectively.
It is connected to the O buffers 13a to 13n. The multiplexer is a 1: 3 (1 input, 3 outputs) bidirectional passage, and the signal terminal and any one of the first potential, the second potential and the IO buffer are responsive to the MPX switching signal. Connect selectively. The MPX switching signal, which is a test command signal, is given from an internal control circuit or CPU (not shown), but it can also be supplied from the outside via a signal terminal. Further, for example, the circuit power supply voltage Vdd can be used as the first potential, and the ground potential GND can be used as the second potential. I
The O buffers 13a to 13n are connected to an internal circuit (not shown) that performs signal processing via signal lines D1 to Dn to an internal circuit (not shown) of the LSI. Here, the multiplexers 12a to 12n which are the signal switching means and the circuit power supplies Vdd and GND which are the test potential generating means constitute a test circuit.

【0011】かかる構成において、通常モードにおける
MPX切替信号は、各マルチプレクサが信号端子とI/
Oバッファとの接続を選択するように設定される。
In such a configuration, the MPX switching signal in the normal mode has each multiplexer and a signal terminal
It is set to select the connection with the O-buffer.

【0012】リード端子l1 〜ln と、信号端子11a
〜11b との、ボンディング状態の試験を行う場合は、
MPX切替信号によってマルチプレクサ12a 〜12n
に第1電位をあるいは第1電位と第2電位を交互に選択
させ、半導体チップ1側から信号端子側に第1電位をあ
るいは第1電位と第2電位を交互に出力させる。リード
端子l1 〜ln を電子ビームテスタ、あるいはレーザビ
ームテスタによって走査し、第1電位に対応するリード
端子l1 〜ln の各々の電位レベルを測定する。次に、
MPX切替信号によってマルチプレクサ12a 〜12n
に第2電位をあるいは第1電位と第2電位を交互選択さ
せ、半導体チップ1側から信号端子11a 〜11b に第
2電位をあるいは第1電位と第2電位を交互に出力させ
る。リード端子l1 〜ln を電子ビームテスタ、あるい
はレーザビームテスタによって走査し、第2電位に対応
するリード端子l1 〜ln の各々の電位レベルを測定す
る。勿論、電子ビームEBが1つのリードを照射してい
るときに、リード端子への供給電位を切替えて2つの電
位を測定するようにしても良い。
The lead terminals l1 to ln and the signal terminal 11a
When performing a bonding state test with ~ 11b,
Multiplexers 12a to 12n according to the MPX switching signal
Then, the first potential or the first potential and the second potential are alternately selected, and the first potential or the first potential and the second potential are alternately output from the semiconductor chip 1 side to the signal terminal side. The lead terminals l1 to ln are scanned by an electron beam tester or a laser beam tester, and the potential level of each of the lead terminals l1 to ln corresponding to the first potential is measured. next,
Multiplexers 12a to 12n according to the MPX switching signal
The second potential or the first potential and the second potential are alternately selected to output the second potential or the first potential and the second potential alternately from the semiconductor chip 1 side to the signal terminals 11a to 11b. The lead terminals l1 to ln are scanned by an electron beam tester or a laser beam tester to measure the potential level of each of the lead terminals l1 to ln corresponding to the second potential. Of course, when the electron beam EB irradiates one lead, the potential supplied to the lead terminal may be switched to measure two potentials.

【0013】測定した各リード端子における、二つの電
位状態のレベルを、第1及び第2の電位に対応して出力
されるべき基準レベルと比較する。もし、測定点におけ
る電位が第1及び第2電位に対応するものでない場合、
例えば第1及び第2電位の切替に対応してレベルが変化
しない場合には、断線あるいは短絡が考えられる。測定
及び比較の結果は、テスタのコンピュータに記録され、
各リード端子毎にボンディング部分の断線、短絡が判別
される。
The measured levels of the two potential states at each lead terminal are compared with reference levels to be output corresponding to the first and second potentials. If the potential at the measurement point does not correspond to the first and second potentials,
For example, if the level does not change in response to the switching of the first and second potentials, disconnection or short circuit is considered. The measurement and comparison results are recorded in the tester's computer,
A disconnection or short circuit of the bonding portion is determined for each lead terminal.

【0014】なお、電子ビームEBをリード端子に照射
する代りに、テスタのプローブ(あるいはプローブ群)
を機械的にインナリード、アウタリード、あるいはアウ
タリードに接続されたテストパッド)に接触させて、電
位レベルを検出することができる。
Instead of irradiating the lead terminal with the electron beam EB, a tester probe (or probe group) is used.
Can be mechanically contacted with an inner lead, an outer lead, or a test pad connected to the outer lead to detect the potential level.

【0015】図2は、第2の実施例を示しており、同図
において図1と対応する部分には同一符号を付してい
る。この実施例では、半導体チップ1の信号端子(パッ
ド)11a 〜11n 及びリード端子l1 〜ln 相互間の
接続はボンディングワイヤW1〜Wn によつて接続され
ている。また、前述した第1及び第2の電位レベルの供
給は、論理回路により、例えば、フリップフロップ14
a 〜14n によって行われる。この実施例では、半導体
チップ内に設けられたバウンダリスキャン用のフリップ
フロップを活用している。
FIG. 2 shows a second embodiment, in which the portions corresponding to those in FIG. 1 are designated by the same reference numerals. In this embodiment, the signal terminals (pads) 11a to 11n of the semiconductor chip 1 and the lead terminals l1 to ln are connected to each other by bonding wires W1 to Wn. Further, the supply of the first and second potential levels described above is performed by, for example, the flip-flop 14 by a logic circuit.
a to 14n. In this embodiment, the boundary scan flip-flops provided in the semiconductor chip are utilized.

【0016】信号端子11a 〜11n に入力された信号
は、夫々バッファアンプ12a 〜12b を介してマルチ
プレクサ12a 〜12n に供給される。マルチプレクサ
12a 〜12n からの出力はバッファアンプ16a 〜1
6n を介して信号出力端子に供給される。バッファアン
プ16a 〜16n の各々にはゲート機能があり、供給さ
れるゲート信号Gに応答して活性化する。マルチプレク
サ12a 〜12n の各々は、2:2(2入力2出力)の
双方向通過のものであり、通常の動作モードでは、図示
しない半導体チップの内部回路への信号線D1 〜Dn
と、バッファアンプ15a 〜15n 若しくは16a 〜1
6n とを接続し、入力信号若しくは出力信号のルートを
時分割的に切替える。また、試験モードでは、フリップ
フロップ14の出力端子とバッファアンプ16とを接続
する。マルチプレクサ12a 〜12n の各々は、図示し
ない制御回路から供給されるMPX切替信号Ma 〜Mn
によって制御される。マルチプレクサ12a 〜12n 、
フリップフロップ14a 〜14n 、バッファアンプ16
a 〜16n は、テスト回路を構成する。
The signals input to the signal terminals 11a to 11n are supplied to the multiplexers 12a to 12n via the buffer amplifiers 12a to 12b, respectively. Outputs from the multiplexers 12a to 12n are buffer amplifiers 16a to 1
It is supplied to the signal output terminal via 6n. Each of the buffer amplifiers 16a to 16n has a gate function, and is activated in response to the supplied gate signal G. Each of the multiplexers 12a to 12n is a 2: 2 (2-input / 2-output) bidirectional passage, and in the normal operation mode, the signal lines D1 to Dn to the internal circuit of the semiconductor chip (not shown) are used.
And buffer amplifiers 15a to 15n or 16a to 1
6n is connected to switch the route of the input signal or the output signal in a time division manner. In the test mode, the output terminal of the flip-flop 14 and the buffer amplifier 16 are connected. Each of the multiplexers 12a to 12n has an MPX switching signal Ma to Mn supplied from a control circuit (not shown).
Controlled by. Multiplexers 12a to 12n,
Flip-flops 14a to 14n, buffer amplifier 16
a to 16n form a test circuit.

【0017】次に、この装置の動作について説明する。
まず、通常の動作モードにおける回路動作に従って信号
入力状態では、MPX切替信号Ma 〜Mn は、マルチプ
レクサ12a 〜12n に、バッファアンプ15a 〜15
n と内部回路への信号線D1〜Dn とを接続させ、ゲー
ト信号Ga 〜Gn はバッファアンプ16a 〜16n をオ
フにする。また、信号出力状態では、MPX切替信号M
a 〜Mn は、マルチプレクサ12a 〜12n に、バッフ
ァアンプ16a 〜16n と内部回路への信号線D1 〜D
n とを接続させ、ゲート信号Ga 〜Gn はバッファアン
プ16a 〜16n をオンにする。これにより、回路動作
に従って信号入力状態及び信号出力状態において各リー
ドは半導体チップ内部の配線に接続される。
Next, the operation of this device will be described.
First, in the signal input state according to the circuit operation in the normal operation mode, the MPX switching signals Ma to Mn are supplied to the multiplexers 12a to 12n and the buffer amplifiers 15a to 15n.
n is connected to the signal lines D1 to Dn to the internal circuit, and the gate signals Ga to Gn turn off the buffer amplifiers 16a to 16n. Further, in the signal output state, the MPX switching signal M
a to Mn are connected to the multiplexers 12a to 12n, the buffer amplifiers 16a to 16n, and the signal lines D1 to D to the internal circuits.
The gate signals Ga to Gn turn on the buffer amplifiers 16a to 16n. As a result, each lead is connected to the wiring inside the semiconductor chip in the signal input state and the signal output state according to the circuit operation.

【0018】試験モードでは、ゲート信号Ga 〜Gn は
バッファアンプ16a 〜16n の各々を同時にオンにす
る。MPX切替信号Ma 〜Mn は、マルチプレクサ12
a 〜12n に、バッファアンプ16a 〜16n とフリッ
プフロップ14a 〜14nを夫々同時に接続させる。こ
れにより、各リードは半導体チップ内部のフリップフロ
ップに接続される。このような状態でフリップフロップ
14a に、論理“0”信号、論理“1”信号が交互に入
力される。この信号は、直列に接続されたフリップフロ
ップ14a 〜14nを伝搬する。各フリップフロップの
論理出力が信号端子11a 〜11n に夫々導出され、信
号出力端子の隣接する端子同士が相補的な電位出力を発
生する。
In the test mode, the gate signals Ga to Gn simultaneously turn on the buffer amplifiers 16a to 16n. The MPX switching signals Ma to Mn are supplied to the multiplexer 12
Buffer amplifiers 16a to 16n and flip-flops 14a to 14n are simultaneously connected to a to 12n, respectively. As a result, each lead is connected to the flip-flop inside the semiconductor chip. In such a state, the logic "0" signal and the logic "1" signal are alternately input to the flip-flop 14a. This signal propagates through the flip-flops 14a to 14n connected in series. The logical output of each flip-flop is led to each of the signal terminals 11a to 11n, and adjacent terminals of the signal output terminals generate complementary potential outputs.

【0019】図示しないテスタによってリードに電子ビ
ームEBをあて、あるいはレーザビームのプローバをあ
てて、リードの第1の電位を測定する。測定電位を比較
基準電位と比較する。次に、フリップフロップ群に1デ
ータシフト分の伝送クロックを与え、リードに他の論理
信号に対応した電位状態を形成し、第2の電位を測定す
る。この電位を比較基準電位と比較する。これ等の信号
レベルの比較結果によって、フリップフロップから被測
定リード端子までの信号経路における断線・短絡が判別
可能となる。このような測定を各リード端子について繰
返す。
An electron beam EB or a laser beam prober is applied to the lead by a tester (not shown) to measure the first potential of the lead. The measured potential is compared with the comparison reference potential. Next, a transmission clock for one data shift is applied to the flip-flop group, a potential state corresponding to another logic signal is formed in the lead, and the second potential is measured. This potential is compared with the comparison reference potential. From the comparison result of these signal levels, it becomes possible to determine the disconnection / short circuit in the signal path from the flip-flop to the measured lead terminal. Such measurement is repeated for each lead terminal.

【0020】なお、各リード端子の電位を交互に第1電
位及び第2の電位に設定した状態で、EBテスタによっ
て各リード端子をスキャンして電位を測定し、各端子の
電位をテスタのコンピュータに記憶する。その後、各リ
ード端子の電位を切替えてEBテスタによって各リード
端子をスキャンして電位を測定し、各端子の電位をテス
タのコンピュータに記憶する。そして、各リード端子に
おける2つの測定電位を夫々比較基準電位と比較して当
該リード端子の配線の良否を判別することが出来る。
It should be noted that, while the potentials of the lead terminals are alternately set to the first potential and the second potential, the EB tester scans each lead terminal to measure the potential, and the potential of each terminal is measured by the computer of the tester. Remember. After that, the potential of each lead terminal is switched, each lead terminal is scanned by the EB tester to measure the potential, and the potential of each terminal is stored in the computer of the tester. Then, it is possible to determine the quality of the wiring of the lead terminal by comparing each of the two measured potentials at each lead terminal with the comparison reference potential.

【0021】図3は、マルチチップモジュールに搭載さ
れる半導体装置に本発明を適用し、相互のテスト回路を
適切に制御して半導体装置におけるインナリードのボン
ディング不良のみならず、マルチチップモジュール基板
における半導体装置相互間における、アウタリードと基
板配線とのボンディング不良、配基板線自体の断線・短
絡をも判別可能にした第3の実施例を示している。
FIG. 3 shows that the present invention is applied to a semiconductor device mounted on a multi-chip module and the mutual test circuits are appropriately controlled so that not only inner lead bonding failure in the semiconductor device but also multi-chip module substrate. A third embodiment is shown in which it is possible to discriminate a bonding failure between the outer leads and the substrate wiring and a disconnection / short circuit of the wiring board line itself between the semiconductor devices.

【0022】図3において、半導体装置4a 及び4b
は、特に図示しないが、マルチチップモジュール基板に
搭載されており、両装置のリード端子が基板配線22を
介して互いに接続されている。図3には、一組のリード
端子及び配線のみが示されているが、同様の構成が複数
存在する。半導体装置4a 及び4b は、共に上述したボ
ンディング部分の試験を可能にするテスト回路を有して
いる。これ等のテスト回路は、マルチチップモジュール
に搭載されたテスト制御回路21によって動作が制御さ
れる。
In FIG. 3, semiconductor devices 4a and 4b are provided.
Although not shown in the drawing, is mounted on a multi-chip module substrate, and lead terminals of both devices are connected to each other via substrate wiring 22. Although only one set of lead terminals and wiring is shown in FIG. 3, there are a plurality of similar configurations. Each of the semiconductor devices 4a and 4b has a test circuit that enables the above-described bonding portion test. The operation of these test circuits is controlled by the test control circuit 21 mounted on the multichip module.

【0023】次に、上記マルチチップモジュールにおけ
る配線不良の判別試験について説明する。まず、テスト
制御回路21によって、両半導体装置のテスト回路のマ
ルチプレクサを制御し、一方の半導体装置の信号端子を
試験用の電位出力状態に、他方の半導体装置の信号端子
を信号入力状態に設定する。基板配線22の両端に夫々
接続された半導体装置4a 及び4b の各リード端子の電
位を、例えば、電子ビームテスタやプローバを用いて測
定し、電位状態を変えて再度電位レベルを測定する。次
に、両半導体装置の信号端子の入出力状態を逆にして、
同様に、各測定ポイントで電位の測定を行う。各測定の
結果から、いずれかの半導体装置の信号端子で、あるい
はいずれかの基板配線で、断線・短絡が起っているかを
どうかを判別する。このような測定を各基板配線につい
て行うことによって具体的に不良個所を特定することが
可能となる。
Next, an explanation will be given of the wiring defect discrimination test in the multi-chip module. First, the test control circuit 21 controls the multiplexers of the test circuits of both semiconductor devices to set the signal terminals of one semiconductor device to the test potential output state and the signal terminals of the other semiconductor device to the signal input state. . The potentials of the lead terminals of the semiconductor devices 4a and 4b respectively connected to both ends of the substrate wiring 22 are measured by using, for example, an electron beam tester or a prober, the potential state is changed, and the potential level is measured again. Next, reverse the input and output states of the signal terminals of both semiconductor devices,
Similarly, the potential is measured at each measurement point. From the result of each measurement, it is determined whether the signal terminal of any of the semiconductor devices or the wiring of any of the substrates causes a disconnection / short circuit. By performing such a measurement for each board wiring, it becomes possible to specifically specify the defective portion.

【0024】[0024]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の半導体装
置は、半導体装置側から半導体チップの信号端子(パッ
ド電極)に試験用電位を供給するテスト回路を内蔵する
ようにしたので、リード端子と信号端子とのボンディン
グの良否を、半導体チップ側からリード端子に出力され
るテスト電位を測定するだけで容易に判別することが可
能となる。
As described above, the semiconductor device of the present invention has the built-in test circuit for supplying the test potential from the semiconductor device side to the signal terminal (pad electrode) of the semiconductor chip. It is possible to easily determine whether the bonding between the signal terminal and the signal terminal is good or bad by measuring the test potential output from the semiconductor chip side to the lead terminal.

【0025】また、本発明の半導体装置をマルチチップ
モジュール基板に搭載すると、両側が半導体装置に内蔵
されたテスト回路に接続される信号経路に対して試験電
位を両側から交互に印加し、該信号経路における配線の
断線・短絡を確認することが可能となるので、1つの半
導体チップから他の半導体チップに至る基板配線の断線
・短絡、半導体チップ及びリード端子相互間のボンディ
ング不良、リード端子及び基板配線相互間のボンディン
グ不良等を容易に判別することが可能となる。
When the semiconductor device of the present invention is mounted on a multi-chip module substrate, test potentials are alternately applied from both sides to a signal path connected to a test circuit built in the semiconductor device on both sides, and the signal is applied. Since it becomes possible to confirm disconnection / short circuit of wiring in the route, disconnection / short circuit of substrate wiring from one semiconductor chip to another semiconductor chip, defective bonding between semiconductor chip and lead terminal, lead terminal and substrate It is possible to easily determine a bonding failure or the like between the wirings.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施例を示すブロック回路図で
ある。
FIG. 1 is a block circuit diagram showing a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第2の実施例を示すブロック回路図で
ある。
FIG. 2 is a block circuit diagram showing a second embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第3の実施例を示すブロック回路図で
ある。
FIG. 3 is a block circuit diagram showing a third embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 半導体チップ 2 フィルムキャリアテープ 4 半導体装置 11a 〜11n 信号端子 12a 〜12n マルチプレクサ 14a 〜14n フリップフロップ 15a 〜15n ,16a 〜16n バッファアンプ 21 テスト回路 22 基板配線 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 semiconductor chip 2 film carrier tape 4 semiconductor device 11a-11n signal terminal 12a-12n multiplexer 14a-14n flip-flop 15a-15n, 16a-16n buffer amplifier 21 test circuit 22 substrate wiring

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】半導体チップ内に形成されて試験電位を発
生する試験電位発生手段と、 前記半導体チップ内に形成される内部回路と、 前記半導体チップの表面に形成されて、外部のリード端
子と前記内部回路との接続のために用いられる信号端子
と、 テスト指令信号の存在に応答して前記試験電位発生手段
を前記信号端子に接続し、前記テスト指令信号の非存在
に応答して前記内部回路を前記信号端子に接続する信号
切替手段と、 を備える半導体装置。
1. A test potential generating means formed in a semiconductor chip to generate a test potential, an internal circuit formed in the semiconductor chip, and an external lead terminal formed on a surface of the semiconductor chip. A signal terminal used for connection with the internal circuit, the test potential generating means connected to the signal terminal in response to the presence of a test command signal, and the internal circuit in response to the absence of the test command signal. A semiconductor device comprising: a signal switching unit that connects a circuit to the signal terminal.
【請求項2】前記試験電位は、高低の2つのレベルであ
ることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the test potential has two levels of high and low.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100295057B1 (en) * 1998-06-13 2001-07-12 윤종용 Apparatus and method for contact failure inspection in semiconductor devices
KR100592349B1 (en) * 1999-01-13 2006-06-22 후지쯔 가부시끼가이샤 Semiconductor device, test method thereof and semiconductor integrated circuit
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