JPH07223166A - 研磨フィルム - Google Patents
研磨フィルムInfo
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- JPH07223166A JPH07223166A JP3628194A JP3628194A JPH07223166A JP H07223166 A JPH07223166 A JP H07223166A JP 3628194 A JP3628194 A JP 3628194A JP 3628194 A JP3628194 A JP 3628194A JP H07223166 A JPH07223166 A JP H07223166A
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- polishing
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 機械的な研磨作用と化学研磨作用を複合し、
研磨能力と仕上げ面精度の向上を兼ね備えた効率の良い
研磨フィルムの提供を目的とする。 【構成】 研磨材とフッ素化合物の混合物がバインダー
樹脂中に分散され、フィルム基体上に塗布され研磨層を
形成した。
研磨能力と仕上げ面精度の向上を兼ね備えた効率の良い
研磨フィルムの提供を目的とする。 【構成】 研磨材とフッ素化合物の混合物がバインダー
樹脂中に分散され、フィルム基体上に塗布され研磨層を
形成した。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、精密機器、精密部品、
例えばガラス磁気ディスクのポリシング、石英、ガラ
ス、液晶パネル、フォトマスクや木材などのラッピング
・ポリシングに使用するのに適した研磨フィルムに関す
るものである。
例えばガラス磁気ディスクのポリシング、石英、ガラ
ス、液晶パネル、フォトマスクや木材などのラッピング
・ポリシングに使用するのに適した研磨フィルムに関す
るものである。
【０００２】
【従来技術の説明】従来の研磨フィルムとしては、ポリ
エチレンテレフタレート（ＰＥＴ）のようなポリエステ
ル基体上にダイヤモンド、シリコーンカーバイト、アル
ミナ、酸化クロム、酸化鉄などの研磨材を塗布または付
着したものが一般的に用いられている。
エチレンテレフタレート（ＰＥＴ）のようなポリエステ
ル基体上にダイヤモンド、シリコーンカーバイト、アル
ミナ、酸化クロム、酸化鉄などの研磨材を塗布または付
着したものが一般的に用いられている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】研磨材の作用は研磨材
の硬度、形状により切り屑を排除し、所定の形状寸法を
与えることを主とするラッピング、加工面の仕上げ、艶
だしを主とするポリシング作用の大きく２つに分かれ
る。従来の砥粒では砥粒の種類、粒子径によりラッピン
グ作用とポリシング作用の何れかの作用に分類された。
両方の作用を同時に達成する優れた研磨フィルムは従来
存在しない。本発明は、機械的な研磨作用と化学研磨作
用を複合し、研磨能力と仕上げ面精度の向上を兼ね備え
た効率の良い研磨フィルムの提供を目的とする。
の硬度、形状により切り屑を排除し、所定の形状寸法を
与えることを主とするラッピング、加工面の仕上げ、艶
だしを主とするポリシング作用の大きく２つに分かれ
る。従来の砥粒では砥粒の種類、粒子径によりラッピン
グ作用とポリシング作用の何れかの作用に分類された。
両方の作用を同時に達成する優れた研磨フィルムは従来
存在しない。本発明は、機械的な研磨作用と化学研磨作
用を複合し、研磨能力と仕上げ面精度の向上を兼ね備え
た効率の良い研磨フィルムの提供を目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明はフィルム基体上
に機械的な研磨作用をする研磨材粒子と化学的な研磨作
用をするフッ素化合物とを混合した混合研磨材をバイン
ダー樹脂中に分散させてなる研磨層を形成したことを特
徴とする研磨フィルムである。
に機械的な研磨作用をする研磨材粒子と化学的な研磨作
用をするフッ素化合物とを混合した混合研磨材をバイン
ダー樹脂中に分散させてなる研磨層を形成したことを特
徴とする研磨フィルムである。
【０００５】本発明に用いられる研磨材粒子はダイヤモ
ンド、シリコーンカーバイト、アルミナ、酸化クロム、
酸化鉄などから選択される。である。
ンド、シリコーンカーバイト、アルミナ、酸化クロム、
酸化鉄などから選択される。である。
【０００６】本発明で用いられるフッ素化合物はアルカ
リ金属塩、アルカリ土類金属塩、希土類元素のフッ化
物、希土類元素のフッ化炭酸塩及びそれらの焼成物、硅
フッ化金属塩、チタンフッ化金属塩、フッ化物ガラス、
例えばＣａＦ2 、ＭｇＦ2 、ＳｒＦ2 、ＢａＦ2 、Ｌａ
Ｆ3 、ＣｅＦ3 、ＣｅＦ4 、ＮｄＦ3 、ＡｌＦ3 （Ｃ
ｅ，Ｌａ）（ＣＯ3 ）Ｆ、Ｎａ3 ＡｌＦ6 、Ｋ2 ＳｉＦ
6 、ＢａＳｉＦ6 、Ｋ2 ＴｉＦ6 などである。
リ金属塩、アルカリ土類金属塩、希土類元素のフッ化
物、希土類元素のフッ化炭酸塩及びそれらの焼成物、硅
フッ化金属塩、チタンフッ化金属塩、フッ化物ガラス、
例えばＣａＦ2 、ＭｇＦ2 、ＳｒＦ2 、ＢａＦ2 、Ｌａ
Ｆ3 、ＣｅＦ3 、ＣｅＦ4 、ＮｄＦ3 、ＡｌＦ3 （Ｃ
ｅ，Ｌａ）（ＣＯ3 ）Ｆ、Ｎａ3 ＡｌＦ6 、Ｋ2 ＳｉＦ
6 、ＢａＳｉＦ6 、Ｋ2 ＴｉＦ6 などである。
【０００７】本発明の研磨フィルムはテープ、シート、
ディスク、パッドなど、任意の形状に加工して用いるこ
とができる。
ディスク、パッドなど、任意の形状に加工して用いるこ
とができる。
【０００８】本発明で使用するバインダー樹脂は、熱可
塑性及び熱硬化性樹脂が使用できる。熱可塑性樹脂とし
ては、塩化ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、アルキ
ド系ポリオレフィン系樹脂、純アクリル系樹脂、ニトロ
セルロース系樹脂、ニトロセルロース−アクリル系樹
脂、変性アクリル系樹脂、ゴム系樹脂であるウレタンエ
ラストマーニトリルゴム、シリコーンゴム、エチレン酢
酸ビニルゴム、フッ素ゴム、その他の水溶性樹脂、エマ
ルジョン系樹脂が使用できる。熱硬化性樹脂としては、
ポリエステル又はアクリルポリオールウレタン系樹脂、
アクリル−キレート硬化型樹脂、エポキシ又はエポキシ
ペンダントアクリル樹脂及びアミンペンダントアクリル
樹脂、ポリオルガノシロキサン系樹脂、各種ＵＶ硬化型
樹脂、ウレタン化油系樹脂、湿気硬化型ポリウレタン系
樹脂、フッ素系樹脂など１００℃以下で硬化反応が進行
するものが適している。
塑性及び熱硬化性樹脂が使用できる。熱可塑性樹脂とし
ては、塩化ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、アルキ
ド系ポリオレフィン系樹脂、純アクリル系樹脂、ニトロ
セルロース系樹脂、ニトロセルロース−アクリル系樹
脂、変性アクリル系樹脂、ゴム系樹脂であるウレタンエ
ラストマーニトリルゴム、シリコーンゴム、エチレン酢
酸ビニルゴム、フッ素ゴム、その他の水溶性樹脂、エマ
ルジョン系樹脂が使用できる。熱硬化性樹脂としては、
ポリエステル又はアクリルポリオールウレタン系樹脂、
アクリル−キレート硬化型樹脂、エポキシ又はエポキシ
ペンダントアクリル樹脂及びアミンペンダントアクリル
樹脂、ポリオルガノシロキサン系樹脂、各種ＵＶ硬化型
樹脂、ウレタン化油系樹脂、湿気硬化型ポリウレタン系
樹脂、フッ素系樹脂など１００℃以下で硬化反応が進行
するものが適している。
【０００９】基体であるプラスチックフィルムとして
は、ポリエチレンテフタレート、ポリエチレンナフタレ
ート、ポリイミド、ポリカーボネート及びそれらの表面
処理したフィルム、ポリプロピレン発泡ブチルゴム、発
泡ネオプレン、発泡軟質ポリエチレン、発泡合成ゴム、
その他合成紙、不織布、その他金属箔などが用いられ
る。
は、ポリエチレンテフタレート、ポリエチレンナフタレ
ート、ポリイミド、ポリカーボネート及びそれらの表面
処理したフィルム、ポリプロピレン発泡ブチルゴム、発
泡ネオプレン、発泡軟質ポリエチレン、発泡合成ゴム、
その他合成紙、不織布、その他金属箔などが用いられ
る。
【００１０】研磨材とフッ素化合物の混合物はバインダ
ー樹脂及び適当な溶剤と混合して塗料化し、基体に塗布
して塗膜を形成し乾燥することにより得られる。研磨材
とフッ素化合物の混合物の塗膜中の濃度は２０〜８０ｖ
ｏｌ％であることが望ましい。研磨フィルムの研磨性
能、スクラッチの発生状況、塗膜の耐久性が２０〜８０
ｖｏｌ％の範囲がよく、好ましくは４０〜６０ｖｏｌ％
の範囲である。
ー樹脂及び適当な溶剤と混合して塗料化し、基体に塗布
して塗膜を形成し乾燥することにより得られる。研磨材
とフッ素化合物の混合物の塗膜中の濃度は２０〜８０ｖ
ｏｌ％であることが望ましい。研磨フィルムの研磨性
能、スクラッチの発生状況、塗膜の耐久性が２０〜８０
ｖｏｌ％の範囲がよく、好ましくは４０〜６０ｖｏｌ％
の範囲である。
【００１１】本発明の研磨フィルムは湿式研磨に適す
る。乾式研磨においてフッ素化合物中のＦがイオン化し
ないため、化学研磨効果がなくなるためと考えられる。
る。乾式研磨においてフッ素化合物中のＦがイオン化し
ないため、化学研磨効果がなくなるためと考えられる。
【００１２】
【実施例の説明】混合研磨材濃度と塗膜耐久性及び研磨能／研磨面状態の
評価 実施例１ 本実施例は、本発明による研磨フィルムを試験実施する
ため、研磨層のバインダー樹脂として熱硬化型樹脂を使
用した場合、そこに分散させる研磨材とフッ素化合物と
の混合物の濃度を変化させて形成された研磨フィルムの
耐久性及び被研磨物の仕上げ面状態がどの様になるかを
実験した結果について説明する。研磨材粒子は平均粒子
径２．０μｍのダイヤモンド、シリコンカーバイト、ア
ルミナ、酸化クロム、及びα酸化鉄を使用した。フッ素
化合物は平均粒子径１．５μｍのアルカリ土類金属塩で
あるフッ化マグネシウム（ＭｇＦ2 ）、フッ化カルシウ
ム（ＣａＦ2 ）、希土類金属塩であるフッ化ネオジム
（ＮｄＦ3 ）、フッ化セリウム（ＣｅＦ3 ）及び希土類
金属のフッ化炭酸塩であるパストネサイト（（Ｌａ，Ｃ
ｅ）（ＣＯ3 ）Ｆ）を用いた。研磨材とフッ素化合物の
混合比は５０ｗｔ％／５０ｗｔ％とした。バインダー樹
脂は日本ポリウレタン工業（株）製ポリウレタン樹脂ニ
ッポラン２３０４及びイソシアネート系硬化剤コロネー
トＬを使用した。希釈溶剤としてはＭＥＫ／トルエンｍ
ｌ／ｌ混合溶剤を用いてフッ素化合物濃度を１０、２
０、３０、４０、５０、６０、７０、８０、９０ｖｏｌ
％とした塗料を調整した。これらの組成を有する研磨塗
料をグラビアコータにより厚さ７５μｍのＰＥＴフィル
ム上に塗布厚１０μｍで塗布し、溶剤を乾燥後、６０℃
で４８時間硬化し実験用試料とした。表１は熱硬化型樹
脂により形成された研磨フィルムのサンプル番号と研磨
材／フッ素化合物の組み合わせを示したものである。
評価 実施例１ 本実施例は、本発明による研磨フィルムを試験実施する
ため、研磨層のバインダー樹脂として熱硬化型樹脂を使
用した場合、そこに分散させる研磨材とフッ素化合物と
の混合物の濃度を変化させて形成された研磨フィルムの
耐久性及び被研磨物の仕上げ面状態がどの様になるかを
実験した結果について説明する。研磨材粒子は平均粒子
径２．０μｍのダイヤモンド、シリコンカーバイト、ア
ルミナ、酸化クロム、及びα酸化鉄を使用した。フッ素
化合物は平均粒子径１．５μｍのアルカリ土類金属塩で
あるフッ化マグネシウム（ＭｇＦ2 ）、フッ化カルシウ
ム（ＣａＦ2 ）、希土類金属塩であるフッ化ネオジム
（ＮｄＦ3 ）、フッ化セリウム（ＣｅＦ3 ）及び希土類
金属のフッ化炭酸塩であるパストネサイト（（Ｌａ，Ｃ
ｅ）（ＣＯ3 ）Ｆ）を用いた。研磨材とフッ素化合物の
混合比は５０ｗｔ％／５０ｗｔ％とした。バインダー樹
脂は日本ポリウレタン工業（株）製ポリウレタン樹脂ニ
ッポラン２３０４及びイソシアネート系硬化剤コロネー
トＬを使用した。希釈溶剤としてはＭＥＫ／トルエンｍ
ｌ／ｌ混合溶剤を用いてフッ素化合物濃度を１０、２
０、３０、４０、５０、６０、７０、８０、９０ｖｏｌ
％とした塗料を調整した。これらの組成を有する研磨塗
料をグラビアコータにより厚さ７５μｍのＰＥＴフィル
ム上に塗布厚１０μｍで塗布し、溶剤を乾燥後、６０℃
で４８時間硬化し実験用試料とした。表１は熱硬化型樹
脂により形成された研磨フィルムのサンプル番号と研磨
材／フッ素化合物の組み合わせを示したものである。
【００１３】
【表１】
【００１４】表２はこれら２５種類の混合研磨材サンプ
ルの濃度をそれぞれ１０、２０、３０、４０、５０、６
０、７０、８０、９０ｖｏｌ％に変化させた９種類２２
５サンプルにつき研磨実験を実施し、塗膜の耐久性及び
研磨面のスクラッチ発生状況を観察した結果を示したも
のである。研磨実験は被研磨物として面積１ｃｍ2 の石
英板を使用した。研磨はラップ盤を用いて行なった。研
磨条件はラップ盤の回転数を５００ｒｐｍ、被研磨物の
回転数を２００ｒｐｍ、荷重２５ＫＰａ、研磨時間を６
０分間とした。研磨は研磨液として蒸留水を用いた湿式
研磨とした。研磨能は石英板の除去体積量が１００×１
０-4ｃｍ3 以下を研磨能小、１００〜２５０×１０-4ｃ
ｍ3 を研磨能中、２５０×１０-4ｃｍ3 以上を研磨能大
と評価した。塗膜の耐久性は○印が非常に良好、△印は
良好、×印は不良、即ち研磨中に塗膜剥離が発生したこ
とを示す。研磨面のスクラッチ（研磨痕）の発生状況は
目視及び光学顕微鏡により観察した。研磨面にスクラッ
チのないものを○印、１〜５個のスクラッチが観察され
たものを△印、スクラッチ６個以上のものを×印とし
た。
ルの濃度をそれぞれ１０、２０、３０、４０、５０、６
０、７０、８０、９０ｖｏｌ％に変化させた９種類２２
５サンプルにつき研磨実験を実施し、塗膜の耐久性及び
研磨面のスクラッチ発生状況を観察した結果を示したも
のである。研磨実験は被研磨物として面積１ｃｍ2 の石
英板を使用した。研磨はラップ盤を用いて行なった。研
磨条件はラップ盤の回転数を５００ｒｐｍ、被研磨物の
回転数を２００ｒｐｍ、荷重２５ＫＰａ、研磨時間を６
０分間とした。研磨は研磨液として蒸留水を用いた湿式
研磨とした。研磨能は石英板の除去体積量が１００×１
０-4ｃｍ3 以下を研磨能小、１００〜２５０×１０-4ｃ
ｍ3 を研磨能中、２５０×１０-4ｃｍ3 以上を研磨能大
と評価した。塗膜の耐久性は○印が非常に良好、△印は
良好、×印は不良、即ち研磨中に塗膜剥離が発生したこ
とを示す。研磨面のスクラッチ（研磨痕）の発生状況は
目視及び光学顕微鏡により観察した。研磨面にスクラッ
チのないものを○印、１〜５個のスクラッチが観察され
たものを△印、スクラッチ６個以上のものを×印とし
た。
【００１５】
【表２】
【００１６】
【表３】
【００１７】
【表４】
【００１８】この表から明かな様に塗膜の耐久性及び研
磨面のスクラッチ発生状況から研磨材／フッ素化合物の
混合物濃度は２０〜８０ｖｏｌ％で良く、４０〜６０ｖ
ｏｌ％で良好であることが認められた。
磨面のスクラッチ発生状況から研磨材／フッ素化合物の
混合物濃度は２０〜８０ｖｏｌ％で良く、４０〜６０ｖ
ｏｌ％で良好であることが認められた。
【００１９】研磨材及びフッ素化合物の粒子径と研磨面
状態の評価 実施例２−１ 本実施例は研磨材粒子とフッ素化合物粒子の混合系にお
ける各粒子の最適粒子径を評価するために研磨材粒子と
フッ素化合物粒子の粒子径を変化させた混合研磨フィル
ムによる被研磨物の仕上げ面状態を観察したものであ
る。研磨材粒子として、平均粒子径０．１μｍのダイヤ
モンド研磨材を用い、フッ素化合物としては各種平均粒
子径を有する希土類元素のフッ素化合物であるＣｅＦ4
を用いた。ダイヤモンド研磨材／ＣｅＦ3 の混合比は５
０／５０ｗｔ％とした。バインダー樹脂はＵ．Ｃ．Ｃ社
製ポリ塩化ビニル−ポリ酢酸ビニル−ポリビニルアルコ
ール共重合体ＶＡＧＨ及び日本ポリウレタン工業（株）
製イソシアネート系硬化剤コロネートＬを用いた。希釈
溶剤はＭＥＫ／トルエン＝１／１混合溶剤を用い、混合
研磨材濃度が５０ｖｏｌ％になるように調製した。この
塗料を実施例１で示した条件により研磨フィルムを作製
し、研磨実験を実施した。研磨実験の条件及び研磨面の
評価基準は実施例１と同一とした。評価結果を表３に示
す。
状態の評価 実施例２−１ 本実施例は研磨材粒子とフッ素化合物粒子の混合系にお
ける各粒子の最適粒子径を評価するために研磨材粒子と
フッ素化合物粒子の粒子径を変化させた混合研磨フィル
ムによる被研磨物の仕上げ面状態を観察したものであ
る。研磨材粒子として、平均粒子径０．１μｍのダイヤ
モンド研磨材を用い、フッ素化合物としては各種平均粒
子径を有する希土類元素のフッ素化合物であるＣｅＦ4
を用いた。ダイヤモンド研磨材／ＣｅＦ3 の混合比は５
０／５０ｗｔ％とした。バインダー樹脂はＵ．Ｃ．Ｃ社
製ポリ塩化ビニル−ポリ酢酸ビニル−ポリビニルアルコ
ール共重合体ＶＡＧＨ及び日本ポリウレタン工業（株）
製イソシアネート系硬化剤コロネートＬを用いた。希釈
溶剤はＭＥＫ／トルエン＝１／１混合溶剤を用い、混合
研磨材濃度が５０ｖｏｌ％になるように調製した。この
塗料を実施例１で示した条件により研磨フィルムを作製
し、研磨実験を実施した。研磨実験の条件及び研磨面の
評価基準は実施例１と同一とした。評価結果を表３に示
す。
【００２０】
【表５】
【００２１】実施例２−２ 平均粒子径０．５μｍのダイヤモンド研磨材と各種粒子
径を有するＣｅＦ4 粒子を用いて混合研磨材を調製し、
実施例１で示した条件により研磨フィルムを作製し、実
施例１と同一条件で研磨実験を実施した。評価結果を表
４に示す。
径を有するＣｅＦ4 粒子を用いて混合研磨材を調製し、
実施例１で示した条件により研磨フィルムを作製し、実
施例１と同一条件で研磨実験を実施した。評価結果を表
４に示す。
【００２２】
【表６】
【００２３】実施例２−３ 平均粒子径１．０μｍのダイヤモンド研磨材と各種粒子
径を有するＣｅＦ4 粒子を用いて混合研磨材を調製し、
実施例１で示した条件により研磨フィルムを作製し、実
施例１と同一条件で研磨実験を実施した。評価結果を表
５に示す。
径を有するＣｅＦ4 粒子を用いて混合研磨材を調製し、
実施例１で示した条件により研磨フィルムを作製し、実
施例１と同一条件で研磨実験を実施した。評価結果を表
５に示す。
【００２４】
【表７】
【００２５】実施例２−４ 平均粒子径２．０μｍのダイヤモンド研磨材と各種粒子
径を有するＣｅＦ4 粒子を用いて混合研磨材を調製し、
実施例１で示した条件により研磨フィルムを作製し、実
施例１と同一条件で研磨実験を実施した。評価結果を表
６に示す。
径を有するＣｅＦ4 粒子を用いて混合研磨材を調製し、
実施例１で示した条件により研磨フィルムを作製し、実
施例１と同一条件で研磨実験を実施した。評価結果を表
６に示す。
【００２６】
【表８】
【００２７】以上実施例２−３及び２−４の結果から、
各種研磨材粒子に混合するフッ素化合物の平均粒子径は
１０μｍ以下で良好であることが認められた。また、実
施例２−１及び２−２の結果からは、研磨材の平均粒子
径が１．０μｍ以下の微粒子である場合には、混合する
フッ素化合物の平均粒子径は研磨材粒子の平均粒子径の
１０倍以下で良好であることが認められた。
各種研磨材粒子に混合するフッ素化合物の平均粒子径は
１０μｍ以下で良好であることが認められた。また、実
施例２−１及び２−２の結果からは、研磨材の平均粒子
径が１．０μｍ以下の微粒子である場合には、混合する
フッ素化合物の平均粒子径は研磨材粒子の平均粒子径の
１０倍以下で良好であることが認められた。
【００２８】各研磨材／フッ素化合物混合系研磨フィル
ムの混合比と研磨能／研磨面状態 実施例３−１ 本実施例は平均粒子径２．０μｍのダイヤモンド研磨材
と平均粒子径２．０μｍの希土類金属塩のフッ素化合物
であるＣｅＦ4 を重量比で９５／５、９０／１０、８５
／１５、８０／２０、７５／２５、７０／３０、６５／
３５、６０／４０、５５／４５、５０／５０、４５／５
５、４０／６０、３５／６５、３０／７０、２５／７
５、２０／８０、１５／８５、１０／９０、５／９５に
変化させた混合研磨材を調製した。この混合研磨材を濃
度が５０ｖｏｌ％になるように実施例１で示した条件に
より研磨フィルムを作製し研磨実験を実施した。研磨実
験の条件及び研磨能評価法は実施例１と同一とした。評
価結果を表７に示す。
ムの混合比と研磨能／研磨面状態 実施例３−１ 本実施例は平均粒子径２．０μｍのダイヤモンド研磨材
と平均粒子径２．０μｍの希土類金属塩のフッ素化合物
であるＣｅＦ4 を重量比で９５／５、９０／１０、８５
／１５、８０／２０、７５／２５、７０／３０、６５／
３５、６０／４０、５５／４５、５０／５０、４５／５
５、４０／６０、３５／６５、３０／７０、２５／７
５、２０／８０、１５／８５、１０／９０、５／９５に
変化させた混合研磨材を調製した。この混合研磨材を濃
度が５０ｖｏｌ％になるように実施例１で示した条件に
より研磨フィルムを作製し研磨実験を実施した。研磨実
験の条件及び研磨能評価法は実施例１と同一とした。評
価結果を表７に示す。
【００２９】
【表９】
【００３０】実施例３−１の結果からダイヤモンド／Ｃ
ｅＦ4 の混合比は９０／１０〜１０／９０の範囲で研磨
能、研磨面状態共に良く、７０／３０〜２０／８０の範
囲で良好であった。
ｅＦ4 の混合比は９０／１０〜１０／９０の範囲で研磨
能、研磨面状態共に良く、７０／３０〜２０／８０の範
囲で良好であった。
【００３１】実施例３−２ 平均粒子径２．０μｍのダイヤモンド研磨材と平均粒子
径２．０μｍの希土類元素のフッ化炭酸塩である（Ｃ
ｅ，Ｌａ）（ＣＯ3 ）Ｆを実施例２と同様に混合比を変
化させ、混合研磨材を調製した。この混合研磨材を濃度
が５０ｖｏｌ％になるように実施例１で示した条件によ
り研磨フィルムを作製し実施例１の条件で研磨実験を実
施した。研磨実験の条件及び研磨能評価法は実施例１と
同一とした。評価結果を表８に示す。ダイヤモンド／
（Ｃｅ，Ｌａ）（ＣＯ3 ）Ｆの混合比は９０／１０〜１
０／９０の範囲で研磨能、研磨面状態共に良く、７５／
２５〜１５／８５の範囲で良好であった。
径２．０μｍの希土類元素のフッ化炭酸塩である（Ｃ
ｅ，Ｌａ）（ＣＯ3 ）Ｆを実施例２と同様に混合比を変
化させ、混合研磨材を調製した。この混合研磨材を濃度
が５０ｖｏｌ％になるように実施例１で示した条件によ
り研磨フィルムを作製し実施例１の条件で研磨実験を実
施した。研磨実験の条件及び研磨能評価法は実施例１と
同一とした。評価結果を表８に示す。ダイヤモンド／
（Ｃｅ，Ｌａ）（ＣＯ3 ）Ｆの混合比は９０／１０〜１
０／９０の範囲で研磨能、研磨面状態共に良く、７５／
２５〜１５／８５の範囲で良好であった。
【００３２】実施例３−３ 平均粒子径０．６μｍのアルミナ研磨材と平均粒子径
２．０μｍの希土類元素のフッ化炭酸塩である（Ｃｅ，
Ｌａ）（ＣＯ3 ）Ｆとを実施例２と同様に混合比を変化
させ、混合研磨材を調製した。この混合研磨材を濃度が
５０ｖｏｌ％になるように実施例１で示した条件により
研磨フィルムを作製し実施例１の条件で研磨実験を実施
した。研磨実験の条件及び研磨能評価法は実施例１と同
一とした。評価結果を表９に示す。アルミナ／（Ｃｅ，
Ｌａ）（ＣＯ3 ）Ｆの混合比は９０／１０〜１０／９０
の範囲で研磨能、研磨面状態共に良く、６５／３５〜２
０／８０の範囲で良好であった。
２．０μｍの希土類元素のフッ化炭酸塩である（Ｃｅ，
Ｌａ）（ＣＯ3 ）Ｆとを実施例２と同様に混合比を変化
させ、混合研磨材を調製した。この混合研磨材を濃度が
５０ｖｏｌ％になるように実施例１で示した条件により
研磨フィルムを作製し実施例１の条件で研磨実験を実施
した。研磨実験の条件及び研磨能評価法は実施例１と同
一とした。評価結果を表９に示す。アルミナ／（Ｃｅ，
Ｌａ）（ＣＯ3 ）Ｆの混合比は９０／１０〜１０／９０
の範囲で研磨能、研磨面状態共に良く、６５／３５〜２
０／８０の範囲で良好であった。
【００３３】
【表１０】
【００３４】
【表１１】
【００３５】上述した実施例３−２及び３−３から研磨
材に各種フッ素化合物を混合した混合研磨材を用いた研
磨フィルムは、研磨能を増加させることができ、研磨面
にスクラッチを与えない、即ち、研磨能と仕上げ面粗さ
の向上を兼ね備えた研磨フィルムであることが認められ
た。
材に各種フッ素化合物を混合した混合研磨材を用いた研
磨フィルムは、研磨能を増加させることができ、研磨面
にスクラッチを与えない、即ち、研磨能と仕上げ面粗さ
の向上を兼ね備えた研磨フィルムであることが認められ
た。
【００３６】ガラス磁気ディスク基板のテクスチャリン
グ効果 実施例４ 平均粒子径１．０、２．０、３．０μｍのダイヤモンド
研磨材と平均粒子径１．０μｍのＣａＦ2 、ＮｄＦ3 、
ＣｅＦ3 、（Ｃｅ，Ｌａ）（ＣＯ3 ）Ｆそれぞれ５０ｗ
ｔ／５０ｗｔの混合比で混合し、混合研磨材を調製し
た。この混合研磨材を日本ポリウレタン工業（株）製ポ
リウレタン樹脂：ニッポラン２３０４中に分散した。希
釈溶剤はＭＥＫ／トルエン＝１ｗｔ／１ｗｔ混合溶剤を
用いた。本実施例の混合研磨材塗料の分散組成を表１０
に示す。この塗料を厚さ２５μｍのポリエステル基体上
に塗布厚１０μｍ±２．０の熱可塑性混合研磨材層を形
成した後、１．５インチ幅にスリット加工し、本実施例
の研磨フィルムを得た。
グ効果 実施例４ 平均粒子径１．０、２．０、３．０μｍのダイヤモンド
研磨材と平均粒子径１．０μｍのＣａＦ2 、ＮｄＦ3 、
ＣｅＦ3 、（Ｃｅ，Ｌａ）（ＣＯ3 ）Ｆそれぞれ５０ｗ
ｔ／５０ｗｔの混合比で混合し、混合研磨材を調製し
た。この混合研磨材を日本ポリウレタン工業（株）製ポ
リウレタン樹脂：ニッポラン２３０４中に分散した。希
釈溶剤はＭＥＫ／トルエン＝１ｗｔ／１ｗｔ混合溶剤を
用いた。本実施例の混合研磨材塗料の分散組成を表１０
に示す。この塗料を厚さ２５μｍのポリエステル基体上
に塗布厚１０μｍ±２．０の熱可塑性混合研磨材層を形
成した後、１．５インチ幅にスリット加工し、本実施例
の研磨フィルムを得た。
【００３７】
【表１２】
【００３８】実施例４で得られたダイヤモンド／フッ素
化合物混合研磨フィルムを専用研磨装置で３．５インチ
ガラス磁気ディスク基板にテクスチャリング加工を行っ
た。ガラス磁気ディスク基板のテクスチャリングの条件
を表１１に示す。
化合物混合研磨フィルムを専用研磨装置で３．５インチ
ガラス磁気ディスク基板にテクスチャリング加工を行っ
た。ガラス磁気ディスク基板のテクスチャリングの条件
を表１１に示す。
【００３９】
【表１３】
【００４０】テクスチャリング加工を施したガラス磁気
ディスク基板の加工面は電子線３次元表面粗さ解析装置
により最大表面粗さＲｍａｘ値による評価を行った。ま
た、加工面の均一性及びスクラッチ発生の有無は目視及
び光学顕微鏡観察により評価した。実験結果を表１２〜
１５に示す。すべて良好な均一性を有しまたスクラッチ
を有しなかった。比較例として表１６に平均粒子径１．
０、２．０、３．０μｍのダイヤモンド研磨材単独の研
磨フィルムによるテクスチャリング面評価結果を示す
が、均一性が低くスクラッチを生じた。
ディスク基板の加工面は電子線３次元表面粗さ解析装置
により最大表面粗さＲｍａｘ値による評価を行った。ま
た、加工面の均一性及びスクラッチ発生の有無は目視及
び光学顕微鏡観察により評価した。実験結果を表１２〜
１５に示す。すべて良好な均一性を有しまたスクラッチ
を有しなかった。比較例として表１６に平均粒子径１．
０、２．０、３．０μｍのダイヤモンド研磨材単独の研
磨フィルムによるテクスチャリング面評価結果を示す
が、均一性が低くスクラッチを生じた。
【００４１】
【表１４】
【００４２】
【表１５】
【００４３】
【表１６】
【００４４】
【表１７】
【００４５】
【表１８】
【００４６】
【発明の効果】以上結果からダイヤモンド研磨材にフッ
素化合物を混合することによって研磨量は大きくなるが
研磨面にスクラッチが発生せず、研磨ラインも均一にな
ることが認められた。機械的な研磨作用と化学研磨作用
を複合し、研磨能力と仕上げ面精度の向上を兼ね備えた
効率の良い研磨フィルムが提供できた。
素化合物を混合することによって研磨量は大きくなるが
研磨面にスクラッチが発生せず、研磨ラインも均一にな
ることが認められた。機械的な研磨作用と化学研磨作用
を複合し、研磨能力と仕上げ面精度の向上を兼ね備えた
効率の良い研磨フィルムが提供できた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０９Ｋ 3/14 Ｊ
Claims (5)
- 【請求項１】 研磨材とフッ素化合物の混合物がバイン
ダー樹脂中に分散され、フィルム基体上に塗布され研磨
層を形成していることを特徴とする研磨フィルム。 - 【請求項２】 研磨材がダイヤモンド、シリコンカーバ
イト、アルミナ、酸化クロム、及び酸化鉄から選択され
た少なくとも一種であり、フッ素化合物がアルカリ金属
のフッ化物、アルカリ土類金属のフッ化物、希土類金属
のフッ化物、希土類金属のフッ化炭酸塩及びそれらの焼
成物、及びフッ化ガラスより選択された少なくとも一種
であることを特徴とする請求項１記載の研磨フィルム。 - 【請求項３】 研磨材とフッ素化合物の混合比が９０／
１０〜１０／９０ｗｔ％であることを特徴とする請求項
１又は２記載の研磨フィルム。 - 【請求項４】 研磨材とフッ素化合物の混合物の塗膜中
の濃度が２０〜８０ｖｏｌ％であることを特徴とする請
求項１、２又は３記載の研磨フィルム。 - 【請求項５】 研磨材の平均粒子径が１．０μｍ以上の
場合、混合するフッ素化合物の平均粒子径は１０μｍ以
下であり、研磨材の平均粒子径が１．０μｍ以下の場
合、混合するフッ素化合物の平均粒子径は研磨材粒子の
１０倍以下であることを特徴とする請求項１、２、３又
は４記載の研磨フィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3628194A JPH07223166A (ja) | 1994-02-10 | 1994-02-10 | 研磨フィルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3628194A JPH07223166A (ja) | 1994-02-10 | 1994-02-10 | 研磨フィルム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07223166A true JPH07223166A (ja) | 1995-08-22 |
Family
ID=12465409
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3628194A Pending JPH07223166A (ja) | 1994-02-10 | 1994-02-10 | 研磨フィルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07223166A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07328933A (ja) * | 1994-06-08 | 1995-12-19 | Nippon Micro Kooteingu Kk | 研磨シートおよびその製造方法 |
| JP2003071730A (ja) * | 2001-09-03 | 2003-03-12 | Cci Corp | 研磨シート |
| US6776811B2 (en) | 2000-09-20 | 2004-08-17 | Mitsui Mining & Smelting, Co., Ltd. | Cerium based abrasive material, method of quality examination thereof, and method of production thereof |
| US7544414B2 (en) | 2002-05-17 | 2009-06-09 | Toyo Boseki Kabushiki Kaisha | Oriented syndiotactic polystyrene-base film |
| CN104552039A (zh) * | 2014-12-17 | 2015-04-29 | 衢州学院 | 一种可溶性自修整抛光薄膜及其抛光方法 |
| CN105814163A (zh) * | 2013-10-10 | 2016-07-27 | 嘉柏微电子材料股份公司 | 混合研磨剂型抛光组合物 |
-
1994
- 1994-02-10 JP JP3628194A patent/JPH07223166A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07328933A (ja) * | 1994-06-08 | 1995-12-19 | Nippon Micro Kooteingu Kk | 研磨シートおよびその製造方法 |
| US6776811B2 (en) | 2000-09-20 | 2004-08-17 | Mitsui Mining & Smelting, Co., Ltd. | Cerium based abrasive material, method of quality examination thereof, and method of production thereof |
| JP2003071730A (ja) * | 2001-09-03 | 2003-03-12 | Cci Corp | 研磨シート |
| US7544414B2 (en) | 2002-05-17 | 2009-06-09 | Toyo Boseki Kabushiki Kaisha | Oriented syndiotactic polystyrene-base film |
| CN105814163A (zh) * | 2013-10-10 | 2016-07-27 | 嘉柏微电子材料股份公司 | 混合研磨剂型抛光组合物 |
| CN105814163B (zh) * | 2013-10-10 | 2017-12-08 | 嘉柏微电子材料股份公司 | 混合研磨剂型抛光组合物 |
| CN104552039A (zh) * | 2014-12-17 | 2015-04-29 | 衢州学院 | 一种可溶性自修整抛光薄膜及其抛光方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20030204 |