JPH07217767A - 3ポジション開閉弁 - Google Patents

3ポジション開閉弁

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Publication number
JPH07217767A
JPH07217767A JP2634594A JP2634594A JPH07217767A JP H07217767 A JPH07217767 A JP H07217767A JP 2634594 A JP2634594 A JP 2634594A JP 2634594 A JP2634594 A JP 2634594A JP H07217767 A JPH07217767 A JP H07217767A
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JP
Japan
Prior art keywords
piston
valve
return spring
air pressure
operation port
Prior art date
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Application number
JP2634594A
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English (en)
Inventor
Hiroshi Tanaka
博 田中
Kazuhiro Sugata
和広 菅田
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CKD Corp
Original Assignee
CKD Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 微生物繁殖につながる滞留箇所の残存を排除
した、半導体製造設備における純水配管への使用に適し
た3ポジション開閉弁を提供すること。 【構成】 弁体11を一端に備える第1ピストン6を、
第1復帰バネ16の弾拡力により弁座15から離間する
方向へ付勢するとともに、規制ロッド8によりその移動
を規制して、弁の微開状態を維持する。第1操作ポート
18から空気圧を印加すると、第1ピストン6が第1復
帰バネ16の付勢に抗して押圧され、全閉状態となる。
第2操作ポート19から空気圧を印加すると、第2ピス
トン7が第2復帰バネ17の付勢に抗して押圧され、規
制ロッド8による第1ピストン6の規制が解除されて、
全開状態となる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば半導体製造設備
における純水等の流体の開閉に使用する微開機能付流体
開閉弁に関し、更に詳細には、流体を大量に流す全開状
態と、流体を少量流す微開状態と、流体を完全に遮断す
る全閉状態との3つの状態を安定して維持できるように
した3ポジション流体開閉弁に関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体製造工程においては、ウェハ上に
粉塵等の粒子(以下、パーティクルという)が付着して
いると、トランジスタ等微細な素子の回路加工上の障害
となるので、パーティクルを含まない洗浄水でウェハ等
を洗浄する必要がある。また、回路加工の一環として写
真露光後に行われる湿式エッチングで使われる酸は、フ
ッ酸等の強酸でありウェハ上への残留は好ましくないの
で、エッチング後には必ず洗浄を行う。これら洗浄水に
は、パーティクルを含まないことばかりでなく、金属イ
オン等一切の不純物を含まないことが要求される。これ
ら不純物は、極微量といえどもウェハに付着すると、電
気的特性に大きく影響し、半導体製品の歩留まりを悪く
するからである。
【0003】従って洗浄水は、純水と言われる、極度に
高純度なものを使用しなければならない。そこで半導体
製造設備においては、専用の純水製造装置を備え、各洗
浄装置および湿式エッチング装置へ純水を送るようにし
ている。そして、かかる純水の異常検知方法としては、
例えばpH管理等の方法によったのでは不足なので、電
気抵抗を管理することで行うのが普通である。このよう
な純水は、当然かなりのコストがかかるものであるた
め、その配管および配送は綿密に設計制御され、必要に
して十分な量の純水が無駄なく使用できるように配慮さ
れている。
【0004】一方、各純水使用機器は、その稼動の態様
により、常時純水を使用するわけではないので、配管に
は開閉弁が配置される。ここで開閉弁を閉とするときに
完全に流路を遮断して流れを停止させると、微生物の繁
殖が起こりうる。これは、純水といえども微生物を完全
に除去して絶無とすることは不可能である一方、純水の
目的からして、水道水のように微生物の繁殖を防止する
塩素系等の薬剤を含めることができないためである。こ
のような水の使用により微生物がウェハ上に残留する
と、前述したパーティクルと同様に微細回路加工の障害
となり、また、微生物の分泌物が半導体製品、特にその
絶縁膜の信頼性を低下させ、いずれも半導体製品の歩留
まりの低下を招く。従って微生物の繁殖は、純水の使用
上致命的な問題であるといえる。
【0005】そこで水流を停止させないため、弁機構に
別個のバイパス用流路を設ける、あるいは主弁が完全に
は閉じないような制御を行う等の手段により、閉弁時に
おいても少量の水を流す、即ち微開状態を維持する機能
が付加されている。このような機能を備える従来の開閉
弁として、例えば、実開昭62−151485号公報に
開示されるものが挙げられる。同号公報の開閉弁は、弁
体をニードル状に形成したニードル弁により、微開状態
を可能としたものである。
【0006】そして、配管系や純水供給元、配送先等に
おいてメンテナンス作業を行う場合や、長期間設備を休
止する場合等のため、水流を完全に遮断する全閉状態
も、微開状態とは別に自動的に実現できることが望まし
い。従ってかかる用途における開閉弁は、全開状態と、
微開状態と、全閉状態との3つの状態を自動的に実現
し、安定して維持できなければならないのである。この
ような機能を備える従来の開閉弁として、例えば、実開
平4−27279号公報に開示されるものが挙げられ
る。同号公報の開閉弁は、図4に断面図で示すように、
弁機構を2組直列に設け、一方の弁機構70で微開状態
を、他方の弁機構71で全閉状態を、それぞれ担うよう
にしたものである。即ち、微開用の弁70と全閉用の弁
71とをともに開とすれば全体で全開状態となり、微開
用の弁70を閉じ全閉用の弁71を開けば全体で微開状
態となり、全閉用の弁71を閉じれば全体で全閉状態と
なる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記し
た従来の開閉弁は、それぞれ問題点を有している。ま
ず、ニードル弁の問題点を説明する。ニードル弁の問題
点は、自動的に全閉状態とすることができない点にあ
る。ニードル弁体を全閉にする動作は、弁体と一体に設
けられた弁軸をネジにより進退動させて行うからであ
る。このため、設備の休止やメンテナンス作業のための
全閉状態への移行が迅速にできない。特に、純水使用装
置に事故等が発生して、緊急に弁を全閉にする必要を生
じた場合に問題となる。
【0008】次に、図4に示す弁機構を2組直列に設け
た開閉弁の問題点を説明する。この開閉弁の問題点は、
弁機構内部の流路に滞留部が多く発生することである。
弁機構の内部には不可避的に袋小路部分が存在するが、
この開閉弁では弁機構が2組設けられているので、その
分通常の開閉弁より袋小路部分が多く存在するからであ
る。図4では、微開用の弁70と全閉用の弁71とにお
いてそれぞれ矢印Aで示す部位が袋小路部分となる。そ
して、微開時には平均流速が遅いため、袋小路部分の流
れは閉じた渦流をなし、同じ水が同じ場所で環流し続け
滞留部となる。かかる滞留部で前記のように微生物の繁
殖が発生し、純水が劣化することとなる。また、独立の
弁機構を2組有するので、当然に機械的構造が複雑なも
のとなり、装置寸法や部品点数の点で不利であるばかり
でなく、必要な設置スペースも大きくなる。
【0009】本発明は前記した従来技術の問題点を解決
するためになされたものであり、単一の弁機構にて全開
状態と微開状態と全閉状態との3つの状態を安定して維
持できるとともに、微開状態から全閉状態への操作が迅
速にできる3ポジション開閉弁を提供することを目的と
する。また、微開状態又は全開状態における流量の調整
をも可能とした3ポジション開閉弁を提供することを目
的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】前記した問題点を解決す
るため本出願の請求項1に係る3ポジション開閉弁は、
入口ポートと、出口ポートと、弁座と、弁座に対し離間
又は当接することにより入口ポートと出口ポートとを連
通又は遮断する弁体とを有し、外部から印加される空気
圧によって開閉動作する開閉弁であって、前記弁体を一
端に備える第1ピストンと、前記弁体を前記弁座から離
間させる方向へ前記第1ピストンを付勢する第1復帰バ
ネと、前記弁体を前記弁座に当接させる方向へ、前記第
1復帰バネの付勢力に抗して前記第1ピストンを押圧す
るように前記空気圧を導入する第1操作ポートと、前記
第1操作ポートに空気圧が印加されないときに、前記第
1復帰バネの付勢による前記第1ピストンの移動を規制
する規制部材と、前記規制部材を、前記第1復帰バネの
付勢方向と逆向きに前記第1復帰バネの付勢力より強く
付勢する第2復帰バネと、前記第2復帰バネの付勢力に
抗して前記規制部材を前記第1ピストンから遠隔する方
向へ押圧するように前記空気圧を導入する第2操作ポー
トと、前記第2操作ポートに空気圧が印加されないとき
に、前記第2復帰バネの付勢による前記規制部材の移動
を規制する規制面とを有する構成とされる。
【0011】また、本出願の請求項2に係る3ポジショ
ン開閉弁は、請求項1に係る3ポジション開閉弁であっ
て、前記規制部材が、前記第1ピストンの移動を規制す
る規制ロッドと、前記規制ロッドの位置決めをするとと
もに、前記第2復帰バネによる付勢と前記第2操作ポー
トに導入される空気圧とを受ける第2ピストンとの組合
せである構成とされる。また、本出願の請求項3に係る
3ポジション開閉弁は、請求項2に係る3ポジション開
閉弁であって、前記規制ロッドと前記第2ピストンとの
相対位置を調整する第1調整手段を有する構成とされ
る。
【0012】また、本出願の請求項4に係る3ポジショ
ン開閉弁は、請求項1、請求項2又は請求項3に係る3
ポジション開閉弁であって、前記第2操作ポートに空気
圧が印加された状態での前記規制部材又は前記第2ピス
トンの位置を調整する第2調整手段を有する構成とされ
る。また、本出願の請求項5に係る3ポジション開閉弁
は、請求項3又は請求項4に係る3ポジション開閉弁で
あって、前記第2ピストンが中空に形成され、その中空
部に形成されたネジ形状と前記規制ロッドに形成された
ネジ形状とにより前記第1調整手段をなすことを特徴と
する構成とされる。
【0013】
【作用】前記構成を有する本出願の請求項1に係る3ポ
ジション開閉弁では、第1操作ポートと第2操作ポート
とのいずれにも空気圧が印加されないときには、第1復
帰バネの付勢により第1ピストンが移動し、弁体が弁座
から離間する。一方、第2復帰バネの付勢により規制部
材が規制面に当接するまで移動している。従って第1ピ
ストンの移動は、規制部材との当接により規制され、第
2復帰バネの付勢力が第1復帰バネの付勢力より強いの
で、第1ピストンはそれ以上移動できない。これによ
り、弁体と弁座との間隔が一定に保たれ、入口ポートか
ら出口ポートへの流量が一定に維持される。
【0014】第2操作ポートには空気圧を印加せず第1
操作ポートから空気圧を印加すると、第1復帰バネの付
勢に抗して第1ピストンが移動する。このため弁体が弁
座に当接して入口ポートと出口ポートとが遮断される。
第1操作ポートには空気圧を印加せず第2操作ポートか
ら空気圧を印加すると、第2復帰バネの付勢に抗して規
制部材が移動し、第1ピストンの移動の規制が解除され
る。このため第1ピストンは第1復帰バネの付勢により
更に移動する。このため弁体が弁座から大きく離間し、
入口ポートから出口ポートへの大流量の流体が流れる。
本出願の請求項2に係る3ポジション開閉弁もこれと同
様に動作する。
【0015】そして、本出願の請求項3に係る3ポジシ
ョン開閉弁では、規制ロッドと第2ピストンとの相対位
置を第1調整手段により調整すると、第1操作ポートと
第2操作ポートとのいずれにも空気圧が印加されないと
きにおける、第1ピストンの移動が規制ロッドにより規
制される位置が調整される。従って、この状態での入口
ポートから出口ポートへの流量が調整される。また、本
出願の請求項4に係る3ポジション開閉弁では、第2操
作ポートに空気圧が印加された状態での第2ピストンの
位置を第2調整手段により調整すると、この状態におけ
る第1ピストンの位置が調整される。従って、この状態
での入口ポートから出口ポートへの流量が調整される。
【0016】
【実施例】以下、本発明を具体化した3ポジション開閉
弁の実施例を図面を参照して説明する。図1は本実施例
の3ポジション開閉弁1の構成を示す断面図である。図
1に示す3ポジション開閉弁1は、入口ポート13、出
口ポート14、及び弁座7を形成した下ボディ2の上部
に、シリンダ10とシリンダ11とを形成した下中ボデ
ィ3を接合し、更に下中ボディ3の上部に、シリンダ1
2とシリンダ13とを形成した上中ボディ4を接合し、
更に上中ボディ4の上部に、上ボディ5を接合したもの
である。そして、上ボディ5の上方に、第1調整ネジ9
と第2調整ネジ10とが突出しており、これらをもって
全体の外形をなしている。
【0017】下ボディ2には、純水等の制御する流体の
入力を受ける入口ポート13と、その流体を出力する出
口ポート14とが形成されている。下ボディ2の中央に
は、円筒形状の弁座15が形成されている。弁座15の
外周り部分と入口ポート13とが、弁座15の内部と出
口ポート14とが、それぞれ連通している。従って、後
述する弁体11が弁座15に当接すると入口ポート13
と出口ポート14とが遮断され、弁体11が弁座15か
ら離間すると入口ポート13と出口ポート14とが連通
される。
【0018】下ボディ2の上方には、下中ボディ3が、
ガスケット30を嵌持しながら固接されている。下中ボ
ディ3は略円筒形状をなしており、下半分においては小
径のシリンダ21が、上半分においては大径のシリンダ
22が形成されている。シリンダ21とシリンダ22と
の間にはステップ面27が形成されており、ステップ面
27にはバネ溝28が形成されている。下中ボディ3の
内部には、略円柱形状の第1ピストン6が、上下方向に
摺動可能に嵌装されている。第1ピストン6は、下中ボ
ディ3のシリンダ21と嵌合する小径部分23と、シリ
ンダ22と嵌合する大径部分24とを有してなる。小径
部分23と大径部分24との間には、ステップ面29が
形成されている。第1ピストン6の上面26の周縁に
は、後述する上中ボディ4の下面25に当接するための
頂面33が形成されている。また、小径部分23の先端
には、弁座15に対し当接又は離間するゴム等の弾性体
から成る弁体11が取り付けられている。
【0019】下中ボディ3のステップ面27に形成され
たバネ溝28と、第1ピストン6のステップ面29との
間には、復帰バネ16が挟持されている。復帰バネ16
はその弾拡力により、第1ピストン6を図中上方へ、即
ち、弁体11を弁座15から離間させる方向へ付勢して
いる。シリンダ21と小径部分23との間、シリンダ2
2と大径部分24との間、にはそれぞれOリングが嵌持
されており、気密を維持しつつスムーズな摺動ができる
ようになっている。
【0020】また、下ボディ2と下中ボディ3との間に
嵌持されるガスケット30と、弁体11とは、間にダイ
アフラム12を備え一体に形成されている。ダイアフラ
ム12は、3ポジション開閉弁1で純水を取り扱う場合
のため、下中ボディ3と第1ピストン6との摺動部等で
発生するパーティクルや不純物が純水に混入することの
ないよう、純水を摺動部等から分離する役を果たすもの
である。従って、パーティクル等について特別注意を払
う必要のない用途に3ポジション開閉弁1を使用する場
合には、ダイアフラム12はなくてもよい。
【0021】下中ボディ3の上方には、上中ボディ4
が、ガスケットを嵌持しながら固接されている。上中ボ
ディ4は略円筒形状をなしており、下半分においては小
径のシリンダ30が、上半分においては大径のシリンダ
31が形成されており、シリンダ30とシリンダ31と
の間には規制面20が形成されている。シリンダ30
は、後述する規制ロッド8を摺動可能に挿設するための
ものである。シリンダ31は、後述する第2ピストン7
を摺動可能に挿設するためのものである。
【0022】かかる上中ボディ4の下面25と、下中ボ
ディ3のシリンダ22と、第1ピストン6の上面26と
により、第1圧力室32が区画される。そして上中ボデ
ィ4には、第1圧力室32へ外部から空気圧を印加する
ための第1操作ポート18が設けられている。第1操作
ポート18から空気圧が印加され、第1圧力室32が高
圧となると、第1ピストン6の上面26(頂面33)に
その圧力がかかる。このため第1ピストン6は、第1復
帰バネ16の付勢力に抗して図中下方、即ち、弁体11
を弁座15に当接させる方向へ移動することとなる。
【0023】尚、図1では、第1ピストン6の上面26
が後述する規制ロッド8の下端に当接して、図示以上に
上方へ移動することはできないようにされているが、規
制ロッド8が後述のように上昇された場合でも、第1ピ
ストン6の頂面33が上中ボディ4の下面25に当接す
るので、第1復帰バネ16の付勢力による第1ピストン
6の上昇は規制される(図3参照)。また、上中ボディ
4には、第2操作ポート19も設けられている。第2操
作ポート19は、上中ボディ4と後述する第2ピストン
7との間に区画される第2圧力室34(図3参照)へ外
部から空気圧を印加するためのものである。
【0024】上中ボディ4の上方には、上ボディ5が固
接されている。上ボディ5は、上中ボディ4に接合され
る筒状部分と蓋部分とを有し、蓋部分の中央には、次に
説明する調整ネジ10を螺設するためのネジ溝が切られ
たネジ穴35が形成されている。また、蓋部分の裏側
は、後述する第2復帰バネを挟持するための底面36と
なっている。調整ネジ10は、略円筒形状の部材であっ
て、外周面にはネジ山が形成され、前記上ボディ5のネ
ジ穴35に螺設される。従って、調整ネジ10を回転さ
せると、ネジ動により上ボディ5の位置を上下方向に調
整できる。調整ネジ10の内周面は、次に説明する第2
ピストン7を摺動可能に貫通して挿設するものである。
また、調整ネジ10の図中下端は、当接端37となって
いる。
【0025】次に、第2ピストン7について説明する。
第2ピストン7は、大径の円筒部分38と小径の円筒部
分39とを有する部材である。円筒部分38は、上中ボ
ディ4のシリンダ31に、Oリングを嵌持しつつ摺動可
能に嵌装され、円筒部分39は、調整ネジ10の内周面
に摺動可能に嵌装される。円筒部分38と円筒部分39
との間には、ステップ面40と当接面41とが形成さ
れ、ステップ面40には、バネ溝42が形成される。ま
た、第2ピストン7の上部は調整ネジ10より45に突
出しており、上端には鍔50が固設されている。
【0026】一方、第2ピストン7の下面51の周縁に
は、上中ボディ4の規制面20と当接するための下端面
43が形成されている。ここで、下面51(下端面43
を含む)の面積は、後述する規制ロッド8のピストン部
分47の断面積より大きいことが望ましい。その理由は
後述する。また、第2ピストン7の中心には、後述する
規制ロッド8を貫通して取り付けるための孔が形成され
ている。その孔は、上方のネジ部分44と下方のシリン
ダ部分45とを有し、シリンダ部分45の直上には段差
46が形成されている。シリンダ部分45は、上中ボデ
ィ4のシリンダ30と同一の径を有している。
【0027】第2ピストン7のバネ溝42と、上ボディ
5の底面36との間には、第2復帰バネ17が挟持され
ている。第2復帰バネ17はその弾拡力により、第2ピ
ストン7を図中下方に付勢している。ただし、第2ピス
トン7の下端面43が、上中ボディ4の規制面20と当
接するので、第2復帰バネ17の付勢による第2ピスト
ン7の下方への移動は規制される。尚、第2復帰バネ1
7の付勢力は、第1復帰バネ16の付勢力より強力であ
る。
【0028】また、第2ピストン7と上中ボディ4との
間には、前記のように第2圧力室34が区画される(図
3参照)。上中ボディ4の第2操作ポート19へ外部か
ら空気圧を印加して第2圧力室34を高圧にすると、第
2ピストン7は第2復帰バネ17の付勢力に抗して図中
上方に移動する。その移動は、第2ピストン7のステッ
プ面40が上ボディ5の下端50に当接することにより
規制される。また、調整ネジ10を調整して、ステップ
面40が下端50に当接するより先に、第2ピストン7
の当接面41が調整ネジ10の当接端37に当接するよ
うにすることもできる。
【0029】次に、規制ロッド8について説明する。規
制ロッド8は、ピストン部分47と竿部分48とを有す
る部材であり、ピストン部分47の直上には、段差49
が存在する。ピストン部分47は、上中ボディ4のシリ
ンダ30及び第2ピストン7のシリンダ部分45に、そ
れぞれOリングを嵌持しつつ摺動可能に嵌装される。ピ
ストン部分47の断面積は、前記のように後述する理由
により、第2ピストン7の下面51(下端面43を含
む)の面積より小さいことが望ましい。またピストン部
分47の断面積は、第1ピストン6の上面26(頂面3
3)の面積との比較では、当然小さい。
【0030】竿部分48にはネジ山が形成されており、
第2ピストン7のネジ部分44に螺着される。竿部分4
8の上端は、第2ピストン7(鍔50を含む)を超えて
突出しており、その先端には調整ツマミ9が固設され
る。調整ツマミ9を回すと規制ロッド8も一体に回転す
る。このため、第2ピストン7のネジ部分44とのネジ
動により、第2ピストン7と規制ロッド8との相対位置
を上下方向に調整することができる。その調整範囲は、
調整ツマミ9と鍔50との当接により、また、第2ピス
トン7の段差46と規制ロッド8の段差49との当接に
より規制される。尚、調整ツマミ9を回さない限り、第
2ピストン7と規制ロッド8との相対位置が変化するこ
とがないのは勿論である。
【0031】本実施例の3ポジション開閉弁1は上記の
構成を有するものであり、以下、その作用を説明する。
ここでは、特に言及しない限り、調整ツマミ9や調整ネ
ジ10は操作しないものとする。最初に、基本的状態、
即ち、第1操作ポート18と第2操作ポート19とのい
ずれにも空気圧を印加しない場合について説明する。図
1はこの状態を示している。この状態ではまず、第2操
作ポート19に空気圧が印加されないことにより第2ピ
ストン7の位置が定まる。即ち第2ピストン7は、第2
復帰バネ17の付勢力のみを受けるので、図1中下方に
移動し、下端面43が上中ボディ4の規制面20と当接
した位置で停止している。第2ピストン7の位置が定ま
るので、規制ロッド8の位置も定まる。調整ツマミ9を
操作しない限り、第2ピストン7と規制ロッド8との相
対位置は変化しないからである。
【0032】そして、この状態における第1ピストン6
について考察する。第1操作ポート18に空気圧が印加
されないので、第1ピストン6は第1復帰バネ16の付
勢力のみを受け、上面26が規制ロッド8の下端に当接
するまで図中上方に移動する。当接した後の第1ピスト
ン6及び第2ピストン7の動きは、第1復帰バネ16の
付勢力と第2復帰バネ17の付勢力との相克に委ねられ
るが、本実施例では前記のように第2復帰バネ17の付
勢力が勝る。従って、第2ピストン7が下限まで下方に
移動して停止し、それにより定まる規制ロッド8の下端
によって規制される位置まで第1ピストン6が上方に移
動して停止することになる。図1が示しているのはかか
る状態である。
【0033】このとき、弁体11が弁座15からわずか
に離間した位置となるように、規制ロッド8の下端位置
が予め設定されているものとする。規制ロッド8の下端
位置の設定は前記のように、調整ツマミ9を回して第2
ピストン7と規制ロッド8との相対位置を変化させて行
う。従って、この状態では3ポジション開閉弁1は、微
開状態となっており入口ポート13に印加される流体、
例えば純水を微量ずつ出口ポート14へ流すことができ
る。これにより、半導体製造設備等の純水配管系におい
て、純水不使用時であっても滞留させることなく少量ず
つ純水を流し、微生物繁殖等による純水の劣化を防止す
ることができる。尚、このとき3ポジション開閉弁1に
は、何ら外部からの操作を加える必要がない。即ち、最
も多く使用される微開状態を外部からの操作を加えるこ
となく維持することができる。
【0034】次に、第1操作ポート18に外部から空気
圧を印加した場合の動作を、図2の断面図を参照して説
明する。第1操作ポート18に空気圧を印加すると、そ
の空気圧は、第1圧力室32に導入され、第1圧力室3
2が高圧となる。この空気圧の供給源は、ボンベ、コン
プレッサ等、特に限定はなく何でもよい。ただしその圧
力については、3ポジション開閉弁1に所定の動作をさ
せるための適切な範囲内のものでなければならない。
【0035】第1圧力室32が高圧になると、第1ピス
トン6の上面26(頂面33を含む)がその圧力を受け
る。このため、第1ピストン6は第1復帰バネ16の付
勢力に抗して下方に移動して、弁体11が弁座15に当
接したところで停止する。図2に示すのはかかる状態で
ある。従って、この状態では3ポジション開閉弁1は完
全な閉状態となっており、入口ポート13に印加される
流体、例えば純水は出口ポート14へ流れることはな
い。かくして純水の流れを完全に止めることにより、純
水使用装置や純水配管系の修理又は改造等の工事を行う
ことができる。
【0036】尚、図2に示す状態では、規制ロッド8の
下端面も第1圧力室32の圧力を受けることになる。し
かし、(1)規制ロッド8の下端の受圧面積、即ちピス
トン部分47の断面積が第1ピストン6の受圧面積より
小さいこと、(2)第2復帰バネ17の付勢力が第1復
帰バネ16の付勢力より強いこと、の2つの理由により
第2ピストン7及び規制ロッド8が上方へ動くことはな
い。仮に動いたとしても3ポジション開閉弁の全閉状態
には影響しない。また、この状態から、第1操作ポート
18を開放して第1圧力室32を常圧に戻すと、第1復
帰バネ16の付勢により第1ピストン6が上方に移動し
て、3ポジション開閉弁1は図1の微開状態に戻る。
【0037】次に、第1操作ポート18には空気圧を印
加せず第2操作ポート19に外部から空気圧を印加した
場合の動作を、図3の断面図を参照して説明する。第2
操作ポート19に空気圧を印加すると、その空気圧は、
第2圧力室34に導入され、第2圧力室34が高圧とな
る。この空気圧の供給源は、前記と同様特に限定され
ず、前記と同様のものを用いればよい。第2圧力室34
が高圧になると、第2ピストン7の下面51(下端面4
3を含む)がその圧力を受ける。このため、第2ピスト
ン7は第2復帰バネ17の付勢力に抗して上方に移動し
て、ステップ面40が上ボディ5の下端50に当接した
ところで停止する。
【0038】ここで、第2ピストン7の第2圧力室34
からの受圧面積が、規制ロッド8の下端の第1圧力室3
2からの受圧面積より大きい場合には、第2圧力室34
に供給される圧力が、図2の状態で第1圧力室32に供
給された圧力と同一のものであっても、第2ピストン7
は第2復帰バネ17の強い付勢力に抗して上方に移動す
ることができる。第2ピストン7の下面51(下端面4
3を含む)の面積が、規制ロッド8の下端の受圧面積よ
り大きいことが望ましいとした理由はこのためである。
第2ピストン7が上方に移動すると、規制ロッド8もこ
れに伴い上方に移動する。
【0039】そして、規制ロッド8が上方に移動すると
第1ピストン6も上方に移動することとなる。なぜな
ら、図1に示した状態での第1ピストン6は、第1復帰
バネ16の付勢を受けつつ規制ロッド8の下端に当接し
て停止していたものだからである。そして、ここでは第
1圧力室32には空気圧が掛かっていないので、規制ロ
ッド8との当接が解除された第1ピストン6は、第1復
帰バネ16の付勢により頂面33が上中ボディ4の下面
25に当接するまで上方に移動する。図3に示すのはか
かる状態である。
【0040】従って、この状態では弁体11が弁座15
から大きく離間しており、3ポジション開閉弁1は全開
状態となっている。このため、入口ポート13から出口
ポート14へ大きな流量の流体、例えば純水を流すこと
ができる。かくして、純水使用装置、例えば半導体ウェ
ハ洗浄装置等に十分な量の純水を供給できる。尚、この
状態から、第2操作ポート19を開放して第2圧力室3
4を常圧に戻すと、第2復帰バネ17の付勢により第2
ピストン7が下方に移動し、これに伴い規制ロッド8及
び第1ピストン6も下方に移動して、3ポジション開閉
弁1は図1の微開状態に戻る。
【0041】ここで、調整ツマミ9又は調整ネジ10を
操作した場合の作用を説明する。まず、調整ツマミ9
は、第2ピストン7と規制ロッド8との相対位置の調整
を行うものである。図1に示した微開状態において調整
ツマミ9を回すと、第2ピストン7は固定されたまま
で、規制ロッド8の位置を上下方向に微調整できる。こ
れにより、規制ロッド8の下端に当接している第1ピス
トン6の位置が微調整され、もって微開状態における流
体の流量を調整することができる。
【0042】次に、調整ネジ10は、図3に示した全開
状態における流体の流量を調整することを目的とするも
のである。図3の状態において、調整ネジ10を操作し
て、上ボディ5に対して下方に移動させると、やがて調
整ネジ10の当接端37が第2ピストン7の当接面41
に当接する。そして更に調整ネジ10の操作を続ける
と、第2ピストン7が当接端37に押下され徐々に下方
に移動する。これに伴い規制ロッド8も徐々に下方に移
動するので、やがて規制ロッド8の下端が第1ピストン
6の上面26に当接する。そして更に調整ネジ10の操
作を続けると、第1ピストン6が規制ロッド8の下端に
押下され徐々に下方に移動する。かくして、調整ネジ1
0の操作により全開状態での弁体11と弁座15との間
隔を微調整して、流体の流量を調整することができる。
【0043】以上詳細に説明したとおり本実施例に係る
3ポジション開閉弁1では、弁体11を一端に備える第
1ピストン6を、第1復帰バネ16の弾拡力により弁座
15から離間する方向へ付勢するとともに、第2復帰バ
ネ17の弾拡力により付勢され上中ボディ4の規制面2
0に規制される第2ピストン7に保持される規制ロッド
8により規制することとしたので、弁体11が弁座15
からわずかに離間した微開状態を、外部から何らの操作
を加えることなく維持できる。従って、流体を完全には
遮断せず微小流量を流す状態を安定して維持でき、純水
における微生物増殖等、流体の滞留により発生し得る流
体の劣化が防がれる。ここで、一組の弁機構にて微開状
態を実現しているので、流路内には環流しやすい袋小路
部分がほとんどなく、微生物増殖等の流体の劣化防止が
確実である。
【0044】また、3ポジション開閉弁1では、第1操
作ポート18から空気圧を印加することにより、第1ピ
ストン6を第1復帰バネ16の付勢に抗して押圧し、弁
体11を弁座15に当接させ全閉状態とすることとし
た。また、第2操作ポート19から空気圧を印加するこ
とにより、第2ピストン7を第2復帰バネ17の付勢に
抗して押圧し、規制ロッド8による第1ピストン6の規
制を解除して、弁体11を弁座15から大きく離間させ
全開状態とすることとした。このため、微開状態から全
閉状態又は全開状態への移行が迅速に可能である。特
に、純水等の流体を使用する機器や配管等に異常があっ
た場合に直ちに全閉状態にして必要な措置を講ずること
ができる。
【0045】また、3ポジション開閉弁1では、第2ピ
ストン7と規制ロッド8との相対位置を調整する調整ツ
マミ9を備えたので、微開状態において規制ロッド8が
第1ピストン6を規制する位置を調整し、もって微量に
流れる流体の流量を調整することができる。また、全開
状態における第2ピストン7の停止位置を調整する調整
ネジ10を備えたので、第2ピストン7に保持される規
制ロッド8の位置を全開状態において調整し、もって全
開状態での流体の流量を調整することができる。
【0046】なお、前記実施例は本発明を限定するもの
ではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種
々の変形、改良が可能であることはもちろんである。例
えば前記実施例では、第2ピストン7と規制ロッド8と
を別体とし相対位置の調整も可能であることとしたが、
相対位置の調整に拘らないならば、これらを一体として
もよい。また、第2ピストン7において、ステップ面4
0と当接面41とを異なる面としたが、これらは同一面
であってもかまわない。さらに、純水以外の流体に対し
ても本発明の3ポジション開閉弁を適用することが考え
られる。例えば、粘性が高くしかも不安定で滞留すると
粘度が変化し、更には凝固するおそれのある液体、高温
もしくは低温の一定温度を維持する必要があり滞留する
ことによる温度変化を嫌う流体、露点に近いため滞留す
ると結露するおそれがある気体等に対しては、本発明の
3ポジション開閉弁を使用するのが好ましいと考えられ
る。
【0047】
【発明の効果】以上説明したことから明かなように本発
明の3ポジション開閉弁によれば、単一の弁機構にて全
開状態と微開状態と全閉状態との3つの状態を安定して
維持して純水等の流体の劣化を確実に防止できるととも
に、微開状態から全閉状態への操作が迅速にできる3ポ
ジション開閉弁が提供される。また、微開状態又は全開
状態における流量の調整をも可能とした3ポジション開
閉弁が提供される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る3ポジション開閉弁の微開時にお
ける断面図である。
【図2】本発明に係る3ポジション開閉弁の全閉時にお
ける断面図である。
【図3】本発明に係る3ポジション開閉弁の全開時にお
ける断面図である。
【図4】従来の3ポジション開閉弁の構成を示す断面図
である。
【符号の説明】
1 3ポジション開閉弁 6 第1ピストン 7 第2ピストン 8 規制ロッド 9 調整ツマミ 10 調整ネジ 11 弁体 13 入口ポート 14 出口ポート 15 弁座 16 第1復帰バネ 17 第2復帰バネ 18 第1操作ポート 19 第2操作ポート 20 規制面 47 規制ロッドのピストン部分 51 第2ピストンの下面

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 入口ポートと、出口ポートと、弁座と、
    弁座に対し離間又は当接することにより入口ポートと出
    口ポートとを連通又は遮断する弁体とを有し、外部から
    印加される空気圧によって開閉動作する開閉弁におい
    て、 前記弁体を一端に備える第1ピストンと、 前記弁体を前記弁座から離間させる方向へ前記第1ピス
    トンを付勢する第1復帰バネと、 前記弁体を前記弁座に当接させる方向へ、前記第1復帰
    バネの付勢力に抗して前記第1ピストンを押圧するよう
    に前記空気圧を導入する第1操作ポートと、 前記第1操作ポートに空気圧が印加されないときに、前
    記第1復帰バネの付勢による前記第1ピストンの移動を
    規制する規制部材と、 前記規制部材を、前記第1復帰バネの付勢方向と逆向き
    に前記第1復帰バネの付勢力より強く付勢する第2復帰
    バネと、 前記第2復帰バネの付勢力に抗して前記規制部材を前記
    第1ピストンから遠隔する方向へ押圧するように前記空
    気圧を導入する第2操作ポートと、 前記第2操作ポートに空気圧が印加されないときに、前
    記第2復帰バネの付勢による前記規制部材の移動を規制
    する規制面とを有する3ポジション開閉弁。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載する3ポジション開閉弁
    において、前記規制部材が、 前記第1ピストンの移動を規制する規制ロッドと、 前記規制ロッドの位置決めをするとともに、前記第2復
    帰バネによる付勢と前記第2操作ポートに導入される空
    気圧とを受ける第2ピストンとの組合せにより構成され
    る3ポジション開閉弁。
  3. 【請求項3】 請求項2に記載する3ポジション開閉弁
    において、 前記規制ロッドと前記第2ピストンとの相対位置を調整
    する第1調整手段を有する3ポジション開閉弁。
  4. 【請求項4】 請求項1、請求項2又は請求項3に記載
    する3ポジション開閉弁において、 前記第2操作ポートに空気圧が印加された状態での前記
    規制部材又は前記第2ピストンの位置を調整する第2調
    整手段を有する3ポジション開閉弁。
  5. 【請求項5】 請求項3又は請求項4に記載する3ポジ
    ション開閉弁において、 前記第2ピストンが中空に形成され、その中空部に形成
    されたネジ形状と前記規制ロッドに形成されたネジ形状
    とにより前記第1調整手段をなす3ポジション開閉弁。
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004090402A1 (ja) * 2003-04-03 2004-10-21 Asahi Organic Chemicals Industry Co., Ltd. 流体作動弁
KR100835726B1 (ko) * 2008-03-03 2008-06-05 김호성 비례제어식 차압조절밸브 및 이를 이용한 난방용온수분배기의 차압조절시스템
JP2009030696A (ja) * 2007-07-26 2009-02-12 Fuji Koki Corp 流量調整弁
JP2012087936A (ja) * 2005-10-05 2012-05-10 Goyen Controls Co Pty Ltd 高圧空気パルスを制御するための弁
KR101381780B1 (ko) * 2012-09-20 2014-04-10 한국수력원자력 주식회사 스프링 힘 조절장치가 구비된 공기구동기
WO2018100968A1 (ja) * 2016-11-30 2018-06-07 株式会社フジキン バルブ装置、このバルブ装置を用いた流量制御方法および半導体製造方法
TWI678429B (zh) * 2018-03-09 2019-12-01 日商富士金股份有限公司 閥裝置、流量控制方法、流體控制裝置、半導體製造方法及半導體製造裝置
JP2021006730A (ja) * 2019-06-28 2021-01-21 株式会社フジキン バルブ

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004090402A1 (ja) * 2003-04-03 2004-10-21 Asahi Organic Chemicals Industry Co., Ltd. 流体作動弁
CN100366971C (zh) * 2003-04-03 2008-02-06 旭有机材工业株式会社 流体工作阀
KR101061486B1 (ko) * 2003-04-03 2011-09-02 아사히 유키자이 고교 가부시키가이샤 유체작동밸브
JP2012087936A (ja) * 2005-10-05 2012-05-10 Goyen Controls Co Pty Ltd 高圧空気パルスを制御するための弁
JP2009030696A (ja) * 2007-07-26 2009-02-12 Fuji Koki Corp 流量調整弁
KR100835726B1 (ko) * 2008-03-03 2008-06-05 김호성 비례제어식 차압조절밸브 및 이를 이용한 난방용온수분배기의 차압조절시스템
KR101381780B1 (ko) * 2012-09-20 2014-04-10 한국수력원자력 주식회사 스프링 힘 조절장치가 구비된 공기구동기
WO2018100968A1 (ja) * 2016-11-30 2018-06-07 株式会社フジキン バルブ装置、このバルブ装置を用いた流量制御方法および半導体製造方法
CN110023659A (zh) * 2016-11-30 2019-07-16 株式会社富士金 阀装置、使用该阀装置的流量控制方法和半导体制造方法
KR20190085082A (ko) * 2016-11-30 2019-07-17 가부시키가이샤 후지킨 밸브장치, 이 밸브장치를 사용한 유량제어방법 및 반도체 제조방법
JPWO2018100968A1 (ja) * 2016-11-30 2019-10-17 株式会社フジキン バルブ装置、このバルブ装置を用いた流量制御方法および半導体製造方法
TWI701403B (zh) * 2016-11-30 2020-08-11 日商富士金股份有限公司 閥裝置、使用此閥裝置的流量控制方法及半導體製造方法
US11022224B2 (en) 2016-11-30 2021-06-01 Fujikin Incorporated Valve device, flow control method using the same, and semiconductor manufacturing method
TWI678429B (zh) * 2018-03-09 2019-12-01 日商富士金股份有限公司 閥裝置、流量控制方法、流體控制裝置、半導體製造方法及半導體製造裝置
JP2021006730A (ja) * 2019-06-28 2021-01-21 株式会社フジキン バルブ

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