JPH0721519A - 薄膜磁気ヘッド - Google Patents
薄膜磁気ヘッドInfo
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- JPH0721519A JPH0721519A JP18716993A JP18716993A JPH0721519A JP H0721519 A JPH0721519 A JP H0721519A JP 18716993 A JP18716993 A JP 18716993A JP 18716993 A JP18716993 A JP 18716993A JP H0721519 A JPH0721519 A JP H0721519A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 レール幅及びポール幅を同時工程で画定し得
る薄膜磁気ヘッドを提供する。 【構成】 薄膜磁気変換素子２はスライダ１の媒体流出
方向ａの一端側に設けられ、ポール部２１１、２３１の
先端面が空気ベアリング面１０４、１０５と実質的に同
一の平面に現われている。スライダ１はレール部１０
１、１０２の表面が空気ベアリング面１０４、１０５を
構成している。スライダ１の基底部１０３はレール部１
０１、１０２の表面及びポール部２１１、２３１の先端
面から段差ｈ１、ｈ２をもって落込む平面を構成し、段
差ｈ１、ｈ２を生じさせる段部がポール部２１１、２３
１の幅方向の端部を部分的に削除してポール幅Ｗ２を定
め、レール部１０１、１０２の幅Ｗ１を定めている。
る薄膜磁気ヘッドを提供する。 【構成】 薄膜磁気変換素子２はスライダ１の媒体流出
方向ａの一端側に設けられ、ポール部２１１、２３１の
先端面が空気ベアリング面１０４、１０５と実質的に同
一の平面に現われている。スライダ１はレール部１０
１、１０２の表面が空気ベアリング面１０４、１０５を
構成している。スライダ１の基底部１０３はレール部１
０１、１０２の表面及びポール部２１１、２３１の先端
面から段差ｈ１、ｈ２をもって落込む平面を構成し、段
差ｈ１、ｈ２を生じさせる段部がポール部２１１、２３
１の幅方向の端部を部分的に削除してポール幅Ｗ２を定
め、レール部１０１、１０２の幅Ｗ１を定めている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、スライダの媒体流出方
向の一端側に薄膜磁気変換素子を設けた薄膜磁気ヘッド
に関し、レール幅及びポール幅を同時工程で画定し得る
薄膜磁気ヘッドを提供できるようにしたものである。
向の一端側に薄膜磁気変換素子を設けた薄膜磁気ヘッド
に関し、レール幅及びポール幅を同時工程で画定し得る
薄膜磁気ヘッドを提供できるようにしたものである。
【０００２】
【従来の技術】この種の薄膜磁気ヘッドの基本的な構成
は、例えば米国特許第４，８５６，１８１号明細書等で
知られるごとく、セラミック構造体でなるスライダの媒
体対向面側に、間隔をおいて２本のレール部を突設し、
レール部の表面を高度の平面度を有する空気ベアリング
面とすると共に、レール部の空気流出方向の端部に薄膜
磁気変換素子を設けた構造となっている。薄膜磁気変換
素子はＩＣ製造テクノロジと同様のプロセスにしたがっ
て形成された薄膜素子であり、パーマロイ等でなる下部
磁性膜、ギャップ膜、パーマロイ等でなる上部磁性膜、
コイル、膜間絶縁膜及び保護膜等を集積した構造となっ
ている。下部磁性膜及び上部磁性膜は、先端部がギャッ
プ膜を介して対向する下部ポール部及び上部ポール部と
なっていて、これらのポール部及びギャップ膜により、
変換ギャップを構成している。薄膜磁気ヘッドとしての
ポール幅は下部ポール部と上部ポール部の重なりによっ
て決定される。
は、例えば米国特許第４，８５６，１８１号明細書等で
知られるごとく、セラミック構造体でなるスライダの媒
体対向面側に、間隔をおいて２本のレール部を突設し、
レール部の表面を高度の平面度を有する空気ベアリング
面とすると共に、レール部の空気流出方向の端部に薄膜
磁気変換素子を設けた構造となっている。薄膜磁気変換
素子はＩＣ製造テクノロジと同様のプロセスにしたがっ
て形成された薄膜素子であり、パーマロイ等でなる下部
磁性膜、ギャップ膜、パーマロイ等でなる上部磁性膜、
コイル、膜間絶縁膜及び保護膜等を集積した構造となっ
ている。下部磁性膜及び上部磁性膜は、先端部がギャッ
プ膜を介して対向する下部ポール部及び上部ポール部と
なっていて、これらのポール部及びギャップ膜により、
変換ギャップを構成している。薄膜磁気ヘッドとしての
ポール幅は下部ポール部と上部ポール部の重なりによっ
て決定される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の薄膜磁気ヘッドでは、下部磁性膜の下部ポール
部及び上部磁性膜の上部ポール部のポール幅が、これら
をフォトリソグラフィによって形成する時のパターンニ
ングによって決定されてしまい、後で変更することがで
きない。このため、ポール幅が所定の値に入っていない
場合は不良品となる等、歩留の低下を招く。また、要求
されるポール幅が異なる毎に、それに応じたパターンマ
スクを用意しなければならない。これは、コストアップ
に結び付く。また、歩留低下を招く原因ともなる。
た従来の薄膜磁気ヘッドでは、下部磁性膜の下部ポール
部及び上部磁性膜の上部ポール部のポール幅が、これら
をフォトリソグラフィによって形成する時のパターンニ
ングによって決定されてしまい、後で変更することがで
きない。このため、ポール幅が所定の値に入っていない
場合は不良品となる等、歩留の低下を招く。また、要求
されるポール幅が異なる毎に、それに応じたパターンマ
スクを用意しなければならない。これは、コストアップ
に結び付く。また、歩留低下を招く原因ともなる。
【０００４】そこで、本発明の第１の課題は、ポール形
成後のレール幅加工と同時にポール幅をも同時に画定し
得る薄膜磁気ヘッドを提供することである。
成後のレール幅加工と同時にポール幅をも同時に画定し
得る薄膜磁気ヘッドを提供することである。
【０００５】本発明の第２の課題は、磁界分布及び再生
波形を鋭化し、高密度記録対応を図った薄膜磁気ヘッド
を提供することである。
波形を鋭化し、高密度記録対応を図った薄膜磁気ヘッド
を提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上述した第１の課題解決
のため、本発明は、薄膜磁気変換素子と、媒体対向面側
に空気ベアリング面を有するスライダとを含む薄膜磁気
ヘッドであって、前記薄膜磁気変換素子は、ポール部を
有し、前記スライダの媒体流出方向の一端側に設けら
れ、前記ポール部の先端面が前記空気ベアリング面と実
質的に同一の平面に現われており、前記スライダは、媒
体対向面側にレール部及び基底部を有しており、前記レ
ール部は、表面が前記空気ベアリング面を構成してお
り、前記基底部は、前記レール部の表面及び前記ポール
部の先端面から段差をもって落込む平面を構成し、前記
段差を生じさせる段部が前記ポール部の幅方向の端部を
部分的に削除してポール幅を定め、前記レール部の幅を
定めていることを特徴とする。
のため、本発明は、薄膜磁気変換素子と、媒体対向面側
に空気ベアリング面を有するスライダとを含む薄膜磁気
ヘッドであって、前記薄膜磁気変換素子は、ポール部を
有し、前記スライダの媒体流出方向の一端側に設けら
れ、前記ポール部の先端面が前記空気ベアリング面と実
質的に同一の平面に現われており、前記スライダは、媒
体対向面側にレール部及び基底部を有しており、前記レ
ール部は、表面が前記空気ベアリング面を構成してお
り、前記基底部は、前記レール部の表面及び前記ポール
部の先端面から段差をもって落込む平面を構成し、前記
段差を生じさせる段部が前記ポール部の幅方向の端部を
部分的に削除してポール幅を定め、前記レール部の幅を
定めていることを特徴とする。
【０００７】第２の課題解決のため、本発明は、前記ス
ライダは前記空気ベアリング面に上部ポール部のギャッ
プ膜とは反対側の端部を部分的に削除して落ち込む後退
部を有することを特徴とする。
ライダは前記空気ベアリング面に上部ポール部のギャッ
プ膜とは反対側の端部を部分的に削除して落ち込む後退
部を有することを特徴とする。
【０００８】第２の課題解決のため、更に、前記スライ
ダは、前記空気ベアリング面に、下部ポール部の前記ギ
ャップ膜とは反対側の端部を部分的に削除して落ち込む
後退部を有することを特徴とする。
ダは、前記空気ベアリング面に、下部ポール部の前記ギ
ャップ膜とは反対側の端部を部分的に削除して落ち込む
後退部を有することを特徴とする。
【０００９】
【作用】基底部は、ポール部の先端面との間に段差を生
じる段部が、ポール部の幅方向の端部を部分的に削除し
てポール幅を定めているから、ポール部に対する段部の
位置によって、ポール部のポール幅を調整し、例えば高
密度記録に対応するための狭幅化等を容易に実現でき
る。
じる段部が、ポール部の幅方向の端部を部分的に削除し
てポール幅を定めているから、ポール部に対する段部の
位置によって、ポール部のポール幅を調整し、例えば高
密度記録に対応するための狭幅化等を容易に実現でき
る。
【００１０】また、フォトリソグラフィによるパターン
ニング誤差を生じたような場合にも、ポール部の先端面
と基底部との間に段差を生じさせる段部の位置の選択、
調整によって、ポール幅を所定値に設定し、歩留を向上
させることができる。要求されるポール幅が異なる場合
でも、一枚のマスクを使用してパターンニングし、その
後に段部の位置や幅の調整によってポール幅を所定値に
設定できる。このため、各ポール幅に応じたマスクが必
要でなくなり、一枚のマスクでポールを形成でき、コス
トが安価になる。
ニング誤差を生じたような場合にも、ポール部の先端面
と基底部との間に段差を生じさせる段部の位置の選択、
調整によって、ポール幅を所定値に設定し、歩留を向上
させることができる。要求されるポール幅が異なる場合
でも、一枚のマスクを使用してパターンニングし、その
後に段部の位置や幅の調整によってポール幅を所定値に
設定できる。このため、各ポール幅に応じたマスクが必
要でなくなり、一枚のマスクでポールを形成でき、コス
トが安価になる。
【００１１】基底部は、レール部の表面及びポール部の
先端面から段差をもって落込む平面を構成し、段差を生
じさせる段部がポール部の幅方向の端部を部分的に削除
してポール幅を定め、レール部の幅を定めているから、
レール部の加工工程において、ポール幅加工を同時に行
なうことができる。このため、加工工程が短縮される。
先端面から段差をもって落込む平面を構成し、段差を生
じさせる段部がポール部の幅方向の端部を部分的に削除
してポール幅を定め、レール部の幅を定めているから、
レール部の加工工程において、ポール幅加工を同時に行
なうことができる。このため、加工工程が短縮される。
【００１２】スライダは、空気ベアリング面に、上部ポ
ール部のギャップ膜とは反対側の端部を部分的に削除し
て落ち込む後退部を有するから、上部ポール部側におい
て、磁界分布に関して支配的なポール端面の先端厚みが
縮小する。このため、磁界分布が鋭化され、媒体上の磁
化分布が決定される媒体流出端側における磁界強度の傾
斜が急峻になる。また、再生波形も鋭化され、ＰＷ５０
値が小さくなり、高密度記録が可能になると共に、アン
ダーシュートが抑制される。
ール部のギャップ膜とは反対側の端部を部分的に削除し
て落ち込む後退部を有するから、上部ポール部側におい
て、磁界分布に関して支配的なポール端面の先端厚みが
縮小する。このため、磁界分布が鋭化され、媒体上の磁
化分布が決定される媒体流出端側における磁界強度の傾
斜が急峻になる。また、再生波形も鋭化され、ＰＷ５０
値が小さくなり、高密度記録が可能になると共に、アン
ダーシュートが抑制される。
【００１３】上記の後退部に加えて、スライダが下部ポ
ール部のギャップ膜とは反対側の端部にかかるように設
けられた後退部を有する場合は、磁界分布が一層鋭化さ
れ、ＰＷ５０値が一層小さくなると共に、アンダーシュ
ートもなくなり、より高度の高記録密度が可能になる。
ール部のギャップ膜とは反対側の端部にかかるように設
けられた後退部を有する場合は、磁界分布が一層鋭化さ
れ、ＰＷ５０値が一層小さくなると共に、アンダーシュ
ートもなくなり、より高度の高記録密度が可能になる。
【００１４】
【実施例】図１は本発明に係る薄膜磁気ヘッドの斜視
図、図２は空気ベアリング面側から見たポール部分の拡
大図、図３は磁気変換素子部分の拡大斜視図である。図
１〜図３を参照すると、スライダ１は媒体対向面側にレ
ール部１０１、１０２及び基底部１０３を有している。
レール部１０１、１０２は表面が空気ベアリング面１０
４、１０５を構成している。基底部１０３はレール部の
表面である空気ベアリング面１０４、１０５から段差ｈ
１をもって落込む平面を構成し、段差ｈ１を生じさせる
段部がレール部１０１、１０２のレール幅Ｗ１を定めて
いる。レール部１０１、１０２は２本に限らない。１本
または３本設けられることもある。
図、図２は空気ベアリング面側から見たポール部分の拡
大図、図３は磁気変換素子部分の拡大斜視図である。図
１〜図３を参照すると、スライダ１は媒体対向面側にレ
ール部１０１、１０２及び基底部１０３を有している。
レール部１０１、１０２は表面が空気ベアリング面１０
４、１０５を構成している。基底部１０３はレール部の
表面である空気ベアリング面１０４、１０５から段差ｈ
１をもって落込む平面を構成し、段差ｈ１を生じさせる
段部がレール部１０１、１０２のレール幅Ｗ１を定めて
いる。レール部１０１、１０２は２本に限らない。１本
または３本設けられることもある。
【００１５】薄膜磁気変換素子２は、レール部１０１、
１０２の一方または両者に対し、その空気流出方向ａの
端部に設けられている。図４は薄膜磁気変換素子２の拡
大断面図である。図４において、スライダ１は、Al2O3
−TiC 等で構成される基体部分１１０に、Al2O3 等で
なる絶縁膜１２０をスパッタ等の手段によって付着させ
た構造となっていて、薄膜磁気変換素子２は絶縁膜１２
０の上に設けられている。薄膜磁気変換素子２はＩＣ製
造テクノロジと同様のプロセスにしたがって形成された
薄膜素子である。２１はパーマロイ等でなる下部磁性
膜、２２はAl2O3等で形成されたギャップ膜、２３はパ
ーマロイ等でなる上部磁性膜、２４はコイル、２５１〜
２５３はフォトレジスト等で形成された膜間絶縁膜、２
６はAl2O3 等の保護膜、２７、２８はリード導体であ
る。
１０２の一方または両者に対し、その空気流出方向ａの
端部に設けられている。図４は薄膜磁気変換素子２の拡
大断面図である。図４において、スライダ１は、Al2O3
−TiC 等で構成される基体部分１１０に、Al2O3 等で
なる絶縁膜１２０をスパッタ等の手段によって付着させ
た構造となっていて、薄膜磁気変換素子２は絶縁膜１２
０の上に設けられている。薄膜磁気変換素子２はＩＣ製
造テクノロジと同様のプロセスにしたがって形成された
薄膜素子である。２１はパーマロイ等でなる下部磁性
膜、２２はAl2O3等で形成されたギャップ膜、２３はパ
ーマロイ等でなる上部磁性膜、２４はコイル、２５１〜
２５３はフォトレジスト等で形成された膜間絶縁膜、２
６はAl2O3 等の保護膜、２７、２８はリード導体であ
る。
【００１６】下部磁性膜２１及び上部磁性膜２３は、先
端部がギャップ膜２２を介して対向する下部ポール部２
１１及び上部ポール部２３１となっていて、これらの先
端面が空気ベアリング面１０４、１０５と実質的に同一
の平面において、変換ギャップＧを構成している。下部
ポール部２１１及び上部ポール部２３１にはヨーク部２
１２、２３２が連続しており、ヨーク部２１２、２３２
は後方の結合部２３３において磁気回路を完成するよう
に互いに結合されている。コイル２４は結合部２３３の
まわりを渦巻状にまわるように形成されている。コイル
２４の両端はリード導体２７、２８に接続されている。
リード導体２７、２８は取出電極４１、４２を形成する
領域まで導出され、その端部に取出電極４１、４２が形
成されている。取出電極４１、４２の周りは薄膜磁気変
換素子２の全体を保護する保護膜２６によって覆われて
いる。
端部がギャップ膜２２を介して対向する下部ポール部２
１１及び上部ポール部２３１となっていて、これらの先
端面が空気ベアリング面１０４、１０５と実質的に同一
の平面において、変換ギャップＧを構成している。下部
ポール部２１１及び上部ポール部２３１にはヨーク部２
１２、２３２が連続しており、ヨーク部２１２、２３２
は後方の結合部２３３において磁気回路を完成するよう
に互いに結合されている。コイル２４は結合部２３３の
まわりを渦巻状にまわるように形成されている。コイル
２４の両端はリード導体２７、２８に接続されている。
リード導体２７、２８は取出電極４１、４２を形成する
領域まで導出され、その端部に取出電極４１、４２が形
成されている。取出電極４１、４２の周りは薄膜磁気変
換素子２の全体を保護する保護膜２６によって覆われて
いる。
【００１７】再び、図１〜図３を参照すると、上記構成
の薄膜磁気変換素子２に対し、基底部１０３は、ポール
部２１１、２３１の先端面から段差ｈ２をもって落込む
平面を構成し、段差ｈ２を生じさせる段部がポール部２
１１、２３１の幅方向の端部を部分的に削除してポール
幅Ｗ２を定めるように設けられている。段差ｈ２は基底
部１０３と空気ベアリング面１０４、１０５との間に生
じる段差ｈ１とほぼ等しくなるように、例えば１μｍ以
上に選定するのが望ましい。上述のような段差ｈ１、ｈ
２を有する基底部１０３は、マスク及びイオンミーリン
グの併用によって形成できる。段部によって削除された
残りの下部ポール部２１１と上部ポール部２３１との重
なりが実効的なポール幅Ｗ２（トラック幅）となる。ポ
ール幅Ｗ２は、下部ポール部２１１及び上部ポール部２
３１に対する段部の位置によって調整されるから、高密
度記録に対応するためのポール幅Ｗ２の狭幅化等を容易
に実現できる。
の薄膜磁気変換素子２に対し、基底部１０３は、ポール
部２１１、２３１の先端面から段差ｈ２をもって落込む
平面を構成し、段差ｈ２を生じさせる段部がポール部２
１１、２３１の幅方向の端部を部分的に削除してポール
幅Ｗ２を定めるように設けられている。段差ｈ２は基底
部１０３と空気ベアリング面１０４、１０５との間に生
じる段差ｈ１とほぼ等しくなるように、例えば１μｍ以
上に選定するのが望ましい。上述のような段差ｈ１、ｈ
２を有する基底部１０３は、マスク及びイオンミーリン
グの併用によって形成できる。段部によって削除された
残りの下部ポール部２１１と上部ポール部２３１との重
なりが実効的なポール幅Ｗ２（トラック幅）となる。ポ
ール幅Ｗ２は、下部ポール部２１１及び上部ポール部２
３１に対する段部の位置によって調整されるから、高密
度記録に対応するためのポール幅Ｗ２の狭幅化等を容易
に実現できる。
【００１８】また、フォトリソグラフィによるパターン
ニング誤差を生じたような場合にも、ポール部２１１、
２３１の先端面と基底部１０３との間に段差ｈ２を生じ
させる段部の位置の選択、調整によって、ポール幅Ｗ２
を所定値に設定し、歩留を向上させることができる。要
求されるポール幅Ｗ２が異なる場合でも、一枚のマスク
を使用してパターンニングし、その後に段部の位置や幅
の調整によってポール幅を所定値に設定できる。このた
め、各ポール幅に応じたマスクが必要でなくなり、一枚
のマスクでポールを形成でき、コストが安価になると共
に、歩留が向上する。
ニング誤差を生じたような場合にも、ポール部２１１、
２３１の先端面と基底部１０３との間に段差ｈ２を生じ
させる段部の位置の選択、調整によって、ポール幅Ｗ２
を所定値に設定し、歩留を向上させることができる。要
求されるポール幅Ｗ２が異なる場合でも、一枚のマスク
を使用してパターンニングし、その後に段部の位置や幅
の調整によってポール幅を所定値に設定できる。このた
め、各ポール幅に応じたマスクが必要でなくなり、一枚
のマスクでポールを形成でき、コストが安価になると共
に、歩留が向上する。
【００１９】更に、基底部１０３は空気ベアリング面１
０４、１０５及びポール部２１１、２３１の先端面から
段差ｈ１、ｈ２をもって落込む平面を構成し、段差ｈ
１、ｈ２を生じさせる段部がポール部２１１、２３１の
幅方向の端部を部分的に削除してポール幅Ｗ２を定め、
レール部１０１、１０２の幅Ｗ１を定めているから、レ
ール部１０１、１０２の加工工程において、ポール幅加
工を同時に行なうことができる。このため、加工工程が
短縮される。
０４、１０５及びポール部２１１、２３１の先端面から
段差ｈ１、ｈ２をもって落込む平面を構成し、段差ｈ
１、ｈ２を生じさせる段部がポール部２１１、２３１の
幅方向の端部を部分的に削除してポール幅Ｗ２を定め、
レール部１０１、１０２の幅Ｗ１を定めているから、レ
ール部１０１、１０２の加工工程において、ポール幅加
工を同時に行なうことができる。このため、加工工程が
短縮される。
【００２０】図示のスライダ１は、上部ポール部２３１
のギャップ膜２２とは反対側の端部を部分的に削除して
落ち込む後退部１０６を有する。後退部１０６は円弧状
もしくは平面状の傾斜面またはステップ状に形成する。
このような後退部１０６は、基底部１０３の加工手段と
同様の手段によって形成できる。後退部１０６の形状は
図５に特に詳しく示されている。図５において、後退部
１０６を設けた上部ポール部２３１の端面は、第１の端
面Ｐ１１と第２の端面Ｐ１２とで構成されている。第２
の端面Ｐ１２は変換ギャップＧのある方向とは反対側に
あって、第１の端面Ｐ１１から後退量ｄ１を持って段差
状に後退する。後退量ｄ１は第２の端面Ｐ１２が基底部
１０３よりも上方に位置するような値、例えば１μｍ未
満となるように設けるのが望ましい。
のギャップ膜２２とは反対側の端部を部分的に削除して
落ち込む後退部１０６を有する。後退部１０６は円弧状
もしくは平面状の傾斜面またはステップ状に形成する。
このような後退部１０６は、基底部１０３の加工手段と
同様の手段によって形成できる。後退部１０６の形状は
図５に特に詳しく示されている。図５において、後退部
１０６を設けた上部ポール部２３１の端面は、第１の端
面Ｐ１１と第２の端面Ｐ１２とで構成されている。第２
の端面Ｐ１２は変換ギャップＧのある方向とは反対側に
あって、第１の端面Ｐ１１から後退量ｄ１を持って段差
状に後退する。後退量ｄ１は第２の端面Ｐ１２が基底部
１０３よりも上方に位置するような値、例えば１μｍ未
満となるように設けるのが望ましい。
【００２１】更に、スライダ１は、上部ポール部２３１
のギャップ膜２２とは反対側の端部にかかるように設け
られた後退部１０６の外に、下部ポール部２１１のギャ
ップ膜２２とは反対側の端部にかかるように設けられた
後退部１０７を有する。後退部１０７を設けた下部ポー
ル部２１１の端面は、図５に図示されるように、第３の
端面Ｐ２１と第４の端面Ｐ２２とで構成されている。第
４の端面Ｐ２２は変換ギャップＧのある方向とは反対側
にあって、第３の端面Ｐ２１から後退量ｄ２を持って後
退する。後退量ｄ２は後退量ｄ１と同様の基準で設け
る。
のギャップ膜２２とは反対側の端部にかかるように設け
られた後退部１０６の外に、下部ポール部２１１のギャ
ップ膜２２とは反対側の端部にかかるように設けられた
後退部１０７を有する。後退部１０７を設けた下部ポー
ル部２１１の端面は、図５に図示されるように、第３の
端面Ｐ２１と第４の端面Ｐ２２とで構成されている。第
４の端面Ｐ２２は変換ギャップＧのある方向とは反対側
にあって、第３の端面Ｐ２１から後退量ｄ２を持って後
退する。後退量ｄ２は後退量ｄ１と同様の基準で設け
る。
【００２２】上述のような構造であると、上部ポール部
２３１側において、磁界分布に関して支配的なポール端
面の先端厚みが、第１の端面Ｐ１１の先端厚みＴ１１に
よって定まる値まで縮小する。このため、磁界分布が鋭
化され、媒体上の磁化分布が決定される媒体流出端側に
おける磁界強度の傾斜が急峻になる。また、再生波形
も、図５に示すように、従来特性Ｌ０から特性Ｌ１に鋭
化され、ＰＷ５０値が小さくなり、高密度記録が可能に
なると共に、従来特性Ｌ０に生じていたアンダーシュー
トＬ０１が抑制される。図示の場合、スライダ１は、後
退部１０６の外に、下部ポール部２１１のギャップ膜２
２とは反対側の端部にかかるように設けられた後退部１
０７を有しており、後退部１０７の作用も加わるので、
磁界分布が一層鋭化され、ＰＷ５０値が一層小さくなる
と共に、アンダーシュートＬ０２もなくなり、より高度
の高記録密度が可能になる。実施例では、面内記録再生
用薄膜磁気ヘッドに本発明を適用した例を示したが、本
発明は垂直記録再生用薄膜磁気ヘッドにも適用できる。
２３１側において、磁界分布に関して支配的なポール端
面の先端厚みが、第１の端面Ｐ１１の先端厚みＴ１１に
よって定まる値まで縮小する。このため、磁界分布が鋭
化され、媒体上の磁化分布が決定される媒体流出端側に
おける磁界強度の傾斜が急峻になる。また、再生波形
も、図５に示すように、従来特性Ｌ０から特性Ｌ１に鋭
化され、ＰＷ５０値が小さくなり、高密度記録が可能に
なると共に、従来特性Ｌ０に生じていたアンダーシュー
トＬ０１が抑制される。図示の場合、スライダ１は、後
退部１０６の外に、下部ポール部２１１のギャップ膜２
２とは反対側の端部にかかるように設けられた後退部１
０７を有しており、後退部１０７の作用も加わるので、
磁界分布が一層鋭化され、ＰＷ５０値が一層小さくなる
と共に、アンダーシュートＬ０２もなくなり、より高度
の高記録密度が可能になる。実施例では、面内記録再生
用薄膜磁気ヘッドに本発明を適用した例を示したが、本
発明は垂直記録再生用薄膜磁気ヘッドにも適用できる。
【００２３】以上、好適な具体的実施例を参照して本発
明を詳説したが、本発明の本質及び範囲から離れること
なく、その形態と細部において、種々の変形がなされ得
ることは、当業者にとって明らかである。
明を詳説したが、本発明の本質及び範囲から離れること
なく、その形態と細部において、種々の変形がなされ得
ることは、当業者にとって明らかである。
【００２４】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、次
のような効果が得られる。 （ａ）ポール部に対する段部の位置によって、ポール部
のポール幅を調整し、例えば高密度記録に対応するため
の狭幅化等を容易に実現し得る薄膜磁気ヘッドを提供で
きる。 （ｂ）フォトリソグラフィによるパターンニング誤差を
生じたような場合にも、ポール部の先端面と基底部との
間に段差を生じさせる段部の位置の選択、調整によっ
て、ポール幅を所定値に設定し、歩留を向上させること
ができる。要求されるポール幅が異なる場合でも、一枚
のマスクを使用してパターンニングし、その後に段部の
位置や幅の調整によってポール幅を所定値に設定でき
る。このため、各ポール幅に応じたマスクが必要でなく
なり、一枚のマスクでポールを形成でき、コストが安価
になると共に、歩留が向上する。 （ｃ）レール部の加工工程においてポール幅加工を同時
に行なうことができ、加工工程の短縮に有効な構造を有
する薄膜磁気ヘッドを提供できる。 （ｄ）磁界分布が鋭化され、媒体上の磁化分布が決定さ
れる媒体流出端側における磁界強度の傾斜が急峻にな
る。また、再生波形も鋭化され、ＰＷ５０値が小さくな
り、高密度記録が可能になると共に、アンダーシュート
が抑制される。 （ｅ）スライダが下部ポール部のギャップ膜とは反対側
の端部にかかるように設けられた後退部を有する場合
は、磁界分布が一層鋭化され、ＰＷ５０値が一層小さく
なると共に、アンダーシュートもなくなり、より高度の
高記録密度が可能になる。
のような効果が得られる。 （ａ）ポール部に対する段部の位置によって、ポール部
のポール幅を調整し、例えば高密度記録に対応するため
の狭幅化等を容易に実現し得る薄膜磁気ヘッドを提供で
きる。 （ｂ）フォトリソグラフィによるパターンニング誤差を
生じたような場合にも、ポール部の先端面と基底部との
間に段差を生じさせる段部の位置の選択、調整によっ
て、ポール幅を所定値に設定し、歩留を向上させること
ができる。要求されるポール幅が異なる場合でも、一枚
のマスクを使用してパターンニングし、その後に段部の
位置や幅の調整によってポール幅を所定値に設定でき
る。このため、各ポール幅に応じたマスクが必要でなく
なり、一枚のマスクでポールを形成でき、コストが安価
になると共に、歩留が向上する。 （ｃ）レール部の加工工程においてポール幅加工を同時
に行なうことができ、加工工程の短縮に有効な構造を有
する薄膜磁気ヘッドを提供できる。 （ｄ）磁界分布が鋭化され、媒体上の磁化分布が決定さ
れる媒体流出端側における磁界強度の傾斜が急峻にな
る。また、再生波形も鋭化され、ＰＷ５０値が小さくな
り、高密度記録が可能になると共に、アンダーシュート
が抑制される。 （ｅ）スライダが下部ポール部のギャップ膜とは反対側
の端部にかかるように設けられた後退部を有する場合
は、磁界分布が一層鋭化され、ＰＷ５０値が一層小さく
なると共に、アンダーシュートもなくなり、より高度の
高記録密度が可能になる。
【図１】本発明に係る薄膜磁気ヘッドの斜視図である。
【図２】本発明に係る薄膜磁気ヘッドを空気ベアリング
面側から見たポール部分の拡大図である。
面側から見たポール部分の拡大図である。
【図３】本発明に係る薄膜磁気ヘッドの磁気変換素子部
分の拡大斜視図である。
分の拡大斜視図である。
【図４】本発明に係る薄膜磁気ヘッドの磁気変換素子部
分の拡大断面図である。
分の拡大断面図である。
【図５】本発明に係る薄膜磁気ヘッドの作用を説明する
図である。
図である。
１ スライダ １０１、１０２ レール部 １０３ 基底部 １０４、１０５ 空気ベアリング面 ２ 磁気変換素子 ２１ 下部磁性膜 ２１１ 下部ポール部 ２２ ギャップ膜 ２３ 上部磁性膜 ２３１ 上部ポール部 ２４ コイル
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 吉田 誠 東京都中央区日本橋１丁目13番１号 ティ ーディーケイ株式会社内
Claims (5)
- 【請求項１】 薄膜磁気変換素子と、媒体対向面側に空
気ベアリング面を有するスライダとを含む薄膜磁気ヘッ
ドであって、 前記薄膜磁気変換素子は、ポール部を有し、前記スライ
ダの媒体流出方向の一端側に設けられ、前記ポール部の
先端面が前記空気ベアリング面と実質的に同一の平面に
現われており、 前記スライダは、媒体対向面側にレール部及び基底部を
有しており、 前記レール部は、表面が前記空気ベアリング面を構成し
ており、 前記基底部は、前記レール部の表面及び前記ポール部の
先端面から段差をもって落込む平面を構成し、前記段差
を生じさせる段部が前記ポール部の幅方向の端部を部分
的に削除してポール幅を定め、前記レール部の幅を定め
ていることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。 - 【請求項２】 前記ポール部はギャップ膜を介して対向
する下部ポール部及び上部ポール部を含んでおり、前記
段部は前記下部ポール部及び上部ポール部の端部を部分
的に削除するように設けられていることを特徴とする請
求項１に記載の薄膜磁気ヘッド。 - 【請求項３】 前記段部は、前記ポール部の幅方向の両
端部を部分的に削除するように設けられていることを特
徴とする請求項１または２に記載の薄膜磁気ヘッド。 - 【請求項４】 前記スライダは、前記空気ベアリング面
に、前記上部ポール部の前記ギャップ膜とは反対側の端
部を部分的に削除して落ち込む後退部を有することを特
徴とする請求項２または３に記載の薄膜磁気ヘッド。 - 【請求項５】 前記スライダは、前記空気ベアリング面
に、前記下部ポール部の前記ギャップ膜とは反対側の端
部を部分的に削除して落ち込む後退部を有することを特
徴とする請求項２、３または４に記載の薄膜磁気ヘッ
ド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18716993A JP3441116B2 (ja) | 1993-06-30 | 1993-06-30 | 薄膜磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18716993A JP3441116B2 (ja) | 1993-06-30 | 1993-06-30 | 薄膜磁気ヘッド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0721519A true JPH0721519A (ja) | 1995-01-24 |
| JP3441116B2 JP3441116B2 (ja) | 2003-08-25 |
Family
ID=16201327
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18716993A Expired - Fee Related JP3441116B2 (ja) | 1993-06-30 | 1993-06-30 | 薄膜磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3441116B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6421205B1 (en) * | 1999-02-23 | 2002-07-16 | International Business Machines Corporation | Recessed slider trailing edge for reducing stiction |
| US7142393B2 (en) * | 1994-03-17 | 2006-11-28 | Fujitsu Limited | Magnetic head and magnetic disk apparatus |
-
1993
- 1993-06-30 JP JP18716993A patent/JP3441116B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7142393B2 (en) * | 1994-03-17 | 2006-11-28 | Fujitsu Limited | Magnetic head and magnetic disk apparatus |
| US6421205B1 (en) * | 1999-02-23 | 2002-07-16 | International Business Machines Corporation | Recessed slider trailing edge for reducing stiction |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3441116B2 (ja) | 2003-08-25 |
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|---|---|---|---|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20030604 |
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