JPH0721167U - 洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 被洗浄物の洗浄装置への装着，取り外しを同
一位置で行えるようにして作業性を改善するとともに、
タクト時間の短縮が図れる装置を提供することにある。 【構成】 垂直姿勢の間欠回動軸１１を中心としてその
外周に洗浄槽１３，すすぎ槽１４，１５，乾燥槽１６を
等間隔毎に配設するとともに、前記間欠回動軸１１に間
欠的に昇降するホルダー２１を設け、該ホルダー２１に
前記洗浄槽１３，すすぎ槽１４，１５，乾燥槽１６の上
部に形成せる開口１７，１８，１９，２０から出入しう
る被洗浄物のバスケット３１を放射状に吊設したアーム
部材３０を間欠回動可能に設けたことを特徴とする。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案は、プリント基板など被洗浄物の洗浄装置の改善に関する。

【０００２】

【従来技術とその課題】

従来プリント基板などの被洗浄物の洗浄装置は、図１０に示すように洗浄に必 要な処理工程、たとえば、洗浄槽１，すすぎ槽２，乾燥槽３などの処理機構が直 線状に配置されていた。被洗浄物は装置の一端からセットされ、順次工程を処理 されたのち、他端で装置から取り出されるのが一般的であった。 このような配置の装置では、被洗浄物の装置への装着，取り外しのために作業 者は装置の両端を往復することになり、多数の被洗浄物の処理に苛酷な労力が要 求されていた。また、各工程に合わせて被洗浄物を搬送する自動搬送機構を有し 、被洗浄物が装着位置に戻るものもあるが、この場合は作業性は改善されるが搬 送機構が直線状に配置されているためタクト時間が長くなるという課題がある。

【０００３】 本考案の目的は、被洗浄物の洗浄装置への装着，取り外しを同一位置で行える ようにして作業性を改善するとともに、タクト時間の短縮が図れる装置を提供す ることにある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】

従来技術の課題を解決する本考案の構成は、垂直姿勢の間欠回動軸を中心とし てその外周に洗浄槽，すすぎ槽などを等間隔毎に配設するとともに、前記間欠回 動軸に間欠的に昇降するホルダーを設け、該ホルダーに前記洗浄槽，すすぎ槽の 上部に形成せる開口から出入しうる被洗浄物の担架部材を放射状に吊設したアー ム部材を間欠回動可能に設けたこと、垂直姿勢の間欠回動軸を中心としてその外 周に洗浄槽，すすぎ槽，乾燥槽を等間隔毎に配設するとともに、前記間欠回動軸 に間欠的に昇降するホルダーを設け、該ホルダーに前記洗浄槽，すすぎ槽，乾燥 槽の上部に形成せる開口から出入しうる被洗浄物の担架部材を放射状に吊設した アーム部材を間欠回動可能に設けたこと、および、前記乾燥槽内の温風を導入す る補助乾燥室を乾燥槽と並設したものである。

【０００５】

【実施例】

次に、図面について本考案実施例の詳細を説明する。 図１は一部切欠正面図、図２は一部切欠側面図、図３は一部切欠平面図、図４ は要部機構の斜視図、図５は要部の一部切欠正面図、図６は洗浄槽の断面図、図 ７は第１すすぎ槽の断面図、図８は第２すすぎ槽の断面図、図９は乾燥槽，補助 乾燥室の斜視図である。

【０００６】 １１は、機枠１２の略中央部に設けられた垂直姿勢の間欠的に一方向に回転す るスプライン軸で、該スプライン軸１１を中心としたその外周には、洗浄槽１３ ，第１すすぎ槽１４，第２すすぎ槽１５，乾燥槽１６が等間隔毎に配設されてい る。前記各槽１３，１４，１５，１６は図３から明らかなように、平面形状が正 方形で各槽の２辺が平行に近接するように並設されており、その間隙の中心位置 に前記スプライン軸１１が立設されている。そして、前記各槽１３，１４，１５ ，１６の上部対角線上に開口１７，１８，１９，２０が形成され、各開口１７， １８，１９，２０の各対角線が平面正方形状となるよう構成されている。

【０００７】 一方、前記スプライン軸１１の上部にはホルダー２１が昇降可能に被嵌してあ り、該ホルダー２１の一側から水平に延設された連杆２２の端部には案内ローラ ２３が設けてあり、この案内ローラ２３を前記機枠１２の一側に立設したチャン ネル型案内レール２４の溝に介入させ、前記ホルダー２１がスプライン軸１１の 間欠的回動とは関係なく昇降しうるようにしてある。 また、前記ホルダー２１の上部両側には夫々チェン２５の一端を連結し、この チェン２５の連結点の直上の機枠１２に２個のスプロケット２６を軸支し、この スプロケット２６に前記チェン２５を夫々かけ回わしする。一方、機枠１２の上 部に図４で示すようにシリンダ２７を水平に配設するとともに、このシリンダ２ ７に前記スプロケット２６に対応する２個のスプロケット２８を設け、前記チェ ン２５をこのスプロケット２８をＵ字状にかけ回わして他端を機枠１２に固定し たものである。従って、前記シリンダ２７の伸長作用により前記ホルダー２１が 自重により下降し、縮小作用により上昇するように構成してある。

【０００８】 図５に示すように、前記ホルダー２１には前記スプライン軸１１に係合して間 欠回転する回転座２９を嵌着し、この回転座２９に前記各槽１３，１４，１５， １６に適合するアーム３０を放射状に設ける。前記アーム３０の先端に夫々側面 形状が「形のバスケットホルダー３１を垂設し、このバスケットホルダー３１の 前面２個所にピン３２を設ける。このピン３２にはバスケット（キャリヤー）３ ３の上部に設けた係止板３４の孔３５を嵌脱自在に係止するようにしたものであ る。３６は、前記係止板３４の下縁を乗載支持してバスケット３３を安定させる ようにした支持板である。また、前記孔３５は抜け止め形状とするものである。 前記バスケット３３の前面には下縁を軸支した前面板３７が開閉できるようにし てある。３８は斜め上方にスライドする前面板３７のロック部材である。

【０００９】 前記バスケットホルダー３１の上部には前記各槽１３，１４，１５，１６の開 口１７，１８，１９，２０の上部に適合し、これを閉塞する蓋板３９が設けてあ る。前記バスケットホルダー３１，蓋板３９はボルトナット機構４０，４１によ り上下の微量調整が行えるようにしてある。 前記スプライン軸１１の上端にプーリー４２が設けてあり、これとモータ（図 示略）のプーリー４３とがベルト４４によって接続され、スプライン軸１１が間 欠回転しうるようにしてある。スプライン軸１１の間欠回転を適正化するにあた り、位置決め機構を備えたターンテーブル構造体（図示略）をスプライン軸１１ の上方に組み込むものである。

【００１０】 図６は洗浄槽１３の構成を示しており、この洗浄槽１３の洗浄液４５はレベル インジケーター４６，液面センサー４７により管理され、洗浄液４５はポンプ４ ８，フィルター４９，バルブ５０，圧力センサー５１をもつ管路５２を通り槽内 に圧送循環される。図中５３は温度センサー，５４はヒータで、洗浄水４５は約 ６０℃に保たれるようにしてある。

【００１１】 図７は第１すすぎ槽１４の構成を示し、この第１すすぎ槽１４内には温度セン サー５５とヒータ５６により約６０℃に保温管理された純水５７が収容してあり 、その量はレベルインジケーター５８と液面センサー５９により管理せしめられ る。純水５７はポンプ６０，バルブ６１，圧力センサー６２をもつ管路６３を通 り槽内に圧送循環されるとともに、油水分離器６４，フィルター６５，ポンプ６ ６をもつ管路６７を循環し純水５７は浄化せしめられる。

【００１２】 図８は第２すすぎ槽１５の構造を示し、この第２すすぎ槽１５内には常温の純 水６８が収容してあり、その量はレベルインジケーター６９と液面センサー７０ により管理されている。また、純水６８はポンプ７１，バルブ７２，圧力センサ ー７３をもつ管路７４を通り槽内に圧送循環されるとともに、ポンプ７５，フィ ルター７６，活性炭濾過器７７，イオン交換樹脂７８をもつ管路７９を循環し純 水６８は浄化せしめられる。

【００１３】 図９は乾燥槽１６と乾燥室８０の構成を示しており、乾燥槽１６には温度コン トローラー（図示略）を備えた温風ヒータ器８１が接続してあり、また、乾燥槽 １６内に送られた温風は管路８２を通って補助乾燥室８０内に送られ、ダクト（ 図示略）より外部に放出せしめられる。前記補助乾燥室８０の前面には扉（図示 略）が設けてあり、補助乾燥室８０には乾燥が充分でない被洗浄物が容れられる 。

【００１４】

【作用の説明】

次に、上記実施例に基いて作用を説明する。 先づ、半田付け処理したプリント基板（図示略）を順次バスケット３３内に収 容しておく。作業者は図３の乾燥槽１６の位置で前記バスケット３３を乾燥槽１ ６の位置にあるバスケットホルダー３１に吊架支持させる。するとスプライン軸 １１が回転座２９を伴って１／４回転してプリント基板を収容せるバスケット３ ３が洗浄槽１３の直上に位置する。この信号をうけてシリンダ２７が伸長しホル ダー２１を下死点まで下降させると、このバスケット３３は開口１７を介して洗 浄槽１３内にバスケット３３を介入させ、この開口１７を蓋板３９にて閉塞する 。このとき、他の第１，第２すすぎ槽１４，１５，乾燥室１６部位でも同様な作 用を行うがバスケット３３が吊架支持されておらず、開口１８，１９，２０のみ が蓋板３９によって閉塞される。そして洗浄槽１３内で設定時間プリント基板の 洗浄が行われると、前記シリンダ２７の作用でホルダー２１が上昇しバスケット ３３は洗浄槽１３外に出る。このとき、乾燥槽１６上に位置しているバスケット ホルダー３１にプリント基板を容れたバスケット３３を吊架支持させる。再びス プライン軸１１が１／４回転し洗浄済みのバスケット３３は第１すすぎ槽１４の 直上へ、新たに吊架されたバスケット３３は洗浄槽１３の上方へ誘導される。 この作業を順次繰り返して行うことにより、プリント基板は洗浄→第１すすぎ →第２すすぎ→乾燥の順で進行する。乾燥槽１６で乾燥済みのプリント基板はバ スケット３３が取り出され、そのまま回収するか、あるいは、乾燥が充分でない 場合には前記補助乾燥室８０に容れて完全に乾燥する。この操作に連続的に行う ものである。

【００１５】

【考案の効果】

上述のように本考案の構成によれば、次のような効果が得られる。 （ａ）被洗浄物の担架部材への収容，取出しが同一位置で行えることから、洗浄 乾燥作業性の向上と改善が図れる。 （ｂ）洗浄槽，すすぎ槽，乾燥槽が間欠回動軸を中心とした周辺に配置され、各 槽を循環する洗浄，乾燥がなしうるので、搬送機構を一方向動作とすることがで き、タクト時間の大幅な短縮と、装置のコンパクト化が図れる。 （ｃ）補助乾燥室の連設により、乾燥の適確化が図れる。

【図面の簡単な説明】

【図１】一部切欠正面図である。

【図２】一部切欠側面図である。

【図３】一部切欠平面図である。

【図４】要部機構の斜視図である。

【図５】要部の一部切欠正面図である。

【図６】洗浄槽の断面図である。

【図７】第１すすぎ槽の断面図である。

【図８】第２すすぎ槽の断面図である。

【図９】乾燥槽，補助乾燥室の斜視図である。

【図１０】従来装置の模式図である。

【符号の説明】

１１ スプライン軸 １２ 機枠 １３ 洗浄槽 １４ 第１すすぎ槽 １５ 第２すすぎ槽 １６ 乾燥槽 １７ 開口 １８ 開口 １９ 開口 ２０ 開口 ２１ ホルダー ２５ チェン ２６ スプロケット ２７ シリンダ ２８ スプロケット ２９ 回転座 ３０ アーム ３１ バスケット ３９ 蓋板 ８０ 補助乾燥室 ８１ 温風ヒータ器 ８２ 管路

Claims (3)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 垂直姿勢の間欠回動軸を中心としてその
   外周に洗浄槽，すすぎ槽などを等間隔毎に配設するとと
   もに、前記間欠回動軸に間欠的に昇降するホルダーを設
   け、該ホルダーに前記洗浄槽，すすぎ槽の上部に形成せ
   る開口から出入しうる被洗浄物の担架部材を放射状に吊
   設したアーム部材を間欠回動可能に設けたことを特徴と
   する洗浄装置。
2. 【請求項２】 垂直姿勢の間欠回動軸を中心としてその
   外周に洗浄槽，すすぎ槽，乾燥槽を等間隔毎に配設する
   とともに、前記間欠回動軸に間欠的に昇降するホルダー
   を設け、該ホルダーに前記洗浄槽，すすぎ槽，乾燥槽の
   上部に形成せる開口から出入しうる被洗浄物の担架部材
   を放射状に吊設したアーム部材を間欠回動可能に設けた
   ことを特徴とする洗浄装置。
3. 【請求項３】 前記乾燥槽内の温風を導入する補助乾燥
   室を乾燥槽と並設した請求項２記載の洗浄装置。