JPH0720740B2 - グラビア印刷版 - Google Patents
グラビア印刷版Info
- Publication number
- JPH0720740B2 JPH0720740B2 JP3343395A JP34339591A JPH0720740B2 JP H0720740 B2 JPH0720740 B2 JP H0720740B2 JP 3343395 A JP3343395 A JP 3343395A JP 34339591 A JP34339591 A JP 34339591A JP H0720740 B2 JPH0720740 B2 JP H0720740B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ink
- gravure printing
- printing plate
- plate
- gravure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はグラビア印刷版に関す
る。
る。
【０００２】
【従来の技術】一般にグラビア印刷版はインキを受容す
る凹部が形成されており、この部分にインキを詰めて被
印刷物にインキを転移させて印刷物を得ている。
る凹部が形成されており、この部分にインキを詰めて被
印刷物にインキを転移させて印刷物を得ている。
【０００３】図１はこのような一般的なグラビア印刷版
の断面説明図であり、これは通常次の如くして作られ
る。
の断面説明図であり、これは通常次の如くして作られ
る。
【０００４】まず、一般的にはシリンダー状をなしてい
る鋼性のグラビア版用基体（１）上に銅層（２）を厚さ
１００〜３００μ程度施し、バフ研摩をして表面を平滑
にしておく。
る鋼性のグラビア版用基体（１）上に銅層（２）を厚さ
１００〜３００μ程度施し、バフ研摩をして表面を平滑
にしておく。
【０００５】この後の工程は製版方法によって種々のも
のがあるが、そのうちの一つとしては銅層（２）の表面
に感光性のレジストを均一にコートし、画像の焼付、現
像を行った後に塩化第２鉄溶液で腐蝕し、画像部分に相
当するインキを受容すべき凹部（３）と非画像部分
（４）とを形成する。
のがあるが、そのうちの一つとしては銅層（２）の表面
に感光性のレジストを均一にコートし、画像の焼付、現
像を行った後に塩化第２鉄溶液で腐蝕し、画像部分に相
当するインキを受容すべき凹部（３）と非画像部分
（４）とを形成する。
【０００６】このときの腐蝕の深度は１０μ〜６０μ程
度である。次にレジストを剥膜後湿式クロムメッキ法等
により硬質クロム層（５）を１〜１０μ程度の厚さに施
こす。このクロム層（５）は版の耐刷力を向上させる目
的のものであり、クロム以外にもニッケルを用いること
もあり、あるいは耐刷力がそれ程要求されない少部数の
印刷のときにはクロム層（５）は施されない場合もあ
る。
度である。次にレジストを剥膜後湿式クロムメッキ法等
により硬質クロム層（５）を１〜１０μ程度の厚さに施
こす。このクロム層（５）は版の耐刷力を向上させる目
的のものであり、クロム以外にもニッケルを用いること
もあり、あるいは耐刷力がそれ程要求されない少部数の
印刷のときにはクロム層（５）は施されない場合もあ
る。
【０００７】こうして得られたグラビア印刷版は印刷機
に取り付けられ印刷が行われる。
に取り付けられ印刷が行われる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】印刷時には凹部にイン
キが詰められこのインキは被印刷物に転移されるが、
銅、クロム、ニッケル等により形成された印刷版表面は
インキとのなじみがよいためインキの版離れが悪く、被
印刷物への転移率は４０〜７０％程度でかなりのインキ
（６）が凹部に残り、長時間の印刷を行うと版づまりの
原因となり好ましい状況ではなかった。更にまた、イン
キの転移が完全でないため凹部へインキが残ることを予
め計算して版深を深くするなどの方策をたてなければな
らなかった。この場合には理想値よりも深度を大にする
のでサイドエッチングも大きくなるため線数を粗くしな
ければならず、精密な画質を得る場合のマイナス要因と
なる。
キが詰められこのインキは被印刷物に転移されるが、
銅、クロム、ニッケル等により形成された印刷版表面は
インキとのなじみがよいためインキの版離れが悪く、被
印刷物への転移率は４０〜７０％程度でかなりのインキ
（６）が凹部に残り、長時間の印刷を行うと版づまりの
原因となり好ましい状況ではなかった。更にまた、イン
キの転移が完全でないため凹部へインキが残ることを予
め計算して版深を深くするなどの方策をたてなければな
らなかった。この場合には理想値よりも深度を大にする
のでサイドエッチングも大きくなるため線数を粗くしな
ければならず、精密な画質を得る場合のマイナス要因と
なる。
【０００９】さらにインキの転移率が悪いことの影響は
ハイライト部で著しく、フルスケールの階調のある絵柄
を印刷する際、ハイライト部の再現性が悪く、インキの
被印刷物への転移が生じない、いわゆる抜けと称される
現象も生じていた。
ハイライト部で著しく、フルスケールの階調のある絵柄
を印刷する際、ハイライト部の再現性が悪く、インキの
被印刷物への転移が生じない、いわゆる抜けと称される
現象も生じていた。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は以上述べた如き
従来のグラビア印刷版の欠点を除去すべく種々研究した
結果なされたものであって、インキを受容すべき凹部に
撥インキ性層を設けたグラビア印刷版により上記欠点を
除去できることを見出して本発明を完成させたものであ
る。
従来のグラビア印刷版の欠点を除去すべく種々研究した
結果なされたものであって、インキを受容すべき凹部に
撥インキ性層を設けたグラビア印刷版により上記欠点を
除去できることを見出して本発明を完成させたものであ
る。
【００１１】
【実施例】図２は本発明のグラビア印刷版の一実施例の
断面説明図であり、グラビア版用基体（１）上に施され
た銅層（２）に形成された凹部（３）に撥インキ性層
（７）が施されており、非画像部分にクロム層（５）が
施されている場合の例を示している。
断面説明図であり、グラビア版用基体（１）上に施され
た銅層（２）に形成された凹部（３）に撥インキ性層
（７）が施されており、非画像部分にクロム層（５）が
施されている場合の例を示している。
【００１２】図３は本発明のグラビア印刷版の他の実施
例の断面説明図であり、グラビア版用基体（１）上に施
された銅層（２）に凹部（３）が形成され、全面にクロ
ム層（５）が施され、凹部（３）に撥インキ性層（７）
が施されている場合の例を示している。
例の断面説明図であり、グラビア版用基体（１）上に施
された銅層（２）に凹部（３）が形成され、全面にクロ
ム層（５）が施され、凹部（３）に撥インキ性層（７）
が施されている場合の例を示している。
【００１３】図４は本発明のグラビア印刷版の更に他の
実施例の断面説明図であり、グラビア版用基体（１）上
に施された銅層（２）に凹部（３）が形成され、該凹部
（３）に撥インキ性層（７）が施されている場合の例を
示している。
実施例の断面説明図であり、グラビア版用基体（１）上
に施された銅層（２）に凹部（３）が形成され、該凹部
（３）に撥インキ性層（７）が施されている場合の例を
示している。
【００１４】図２に示される如きグラビア印刷版は次の
如くして得ることができる。
如くして得ることができる。
【００１５】まず従来のグラビア印刷版の場合と同様に
グラビア版用基体（１）上に銅層（２）を施し、表面研
摩をして平滑にしておく。次に全面にクロム層（５）を
メッキ手段により厚さ１〜１０μ程度施し、その上に感
光性のレジストを均一な厚さにコートし、画像の焼付、
現像、腐蝕を行う。この場合の腐蝕は３０〜３５％のＨ
Ｃｌ（３０〜５０℃）でクロム層（５）を腐蝕し、次に
塩化第二鉄溶液で銅を所定の深さに腐蝕する。この後、
レジストを除去しないうちに撥インキ性層（７）を凹部
（３）に形成させ、最後にレジストを除去して図２に示
される如きグラビア印刷版が得られる。
グラビア版用基体（１）上に銅層（２）を施し、表面研
摩をして平滑にしておく。次に全面にクロム層（５）を
メッキ手段により厚さ１〜１０μ程度施し、その上に感
光性のレジストを均一な厚さにコートし、画像の焼付、
現像、腐蝕を行う。この場合の腐蝕は３０〜３５％のＨ
Ｃｌ（３０〜５０℃）でクロム層（５）を腐蝕し、次に
塩化第二鉄溶液で銅を所定の深さに腐蝕する。この後、
レジストを除去しないうちに撥インキ性層（７）を凹部
（３）に形成させ、最後にレジストを除去して図２に示
される如きグラビア印刷版が得られる。
【００１６】図２に示される如き凹部に撥インキ性層
（７）を形成させるにはメッキ手段を用いることがで
き、例えば複合メッキと称される手段が挙げられる。具
体的に例を挙げれば金属ベースとして硫酸ニッケル２０
０〜３５０ｇ／ｌ、塩化ニッケル３０〜７０ｇ／ｌ、硼
酸３０〜４０ｇ／ｌを含みｐＨ３．５〜４．５の液を４
０〜５０℃の温度にして、これにフッ素系樹脂としてＰ
ＴＦＥ、ＦＥＰ、ＰＦＡなどのいずれか一種類の粉末
（粒径０．０１〜１０μ程度）を１〜２００ｇ／ｌ添加
し、強制循環方式により樹脂粉末を懸濁させてメッキ液
とする。
（７）を形成させるにはメッキ手段を用いることがで
き、例えば複合メッキと称される手段が挙げられる。具
体的に例を挙げれば金属ベースとして硫酸ニッケル２０
０〜３５０ｇ／ｌ、塩化ニッケル３０〜７０ｇ／ｌ、硼
酸３０〜４０ｇ／ｌを含みｐＨ３．５〜４．５の液を４
０〜５０℃の温度にして、これにフッ素系樹脂としてＰ
ＴＦＥ、ＦＥＰ、ＰＦＡなどのいずれか一種類の粉末
（粒径０．０１〜１０μ程度）を１〜２００ｇ／ｌ添加
し、強制循環方式により樹脂粉末を懸濁させてメッキ液
とする。
【００１７】このメッキ液中に凹部を形成させたグラビ
ア印刷版を浸し、電流密度１〜１０Ａ／ｄｍ2 にて厚さ
１〜５μ程度に複合皮膜を共析させてこれを撥インキ性
層（７）とする。このときの撥インキ性層（７）におけ
るフッ素系樹脂の含有量は１０〜５０容量％である。複
合皮膜を形成させた後にレジストを剥膜して図２に示さ
れる如きグラビア印刷版が得られる。
ア印刷版を浸し、電流密度１〜１０Ａ／ｄｍ2 にて厚さ
１〜５μ程度に複合皮膜を共析させてこれを撥インキ性
層（７）とする。このときの撥インキ性層（７）におけ
るフッ素系樹脂の含有量は１０〜５０容量％である。複
合皮膜を形成させた後にレジストを剥膜して図２に示さ
れる如きグラビア印刷版が得られる。
【００１８】こうして得られたグラビア版は撥インキ性
層（７）の表面にフッ素系樹脂がところどころに頭出し
ているため凹部面の界面張力が下がり、インキの版離れ
を良くすることができる。なおグラビア印刷において
は、ドクターでインキを無理に凹部に押し込むことにな
るため初めからインキを撥いてしまい凹部にインキが入
らないという心配はない。
層（７）の表面にフッ素系樹脂がところどころに頭出し
ているため凹部面の界面張力が下がり、インキの版離れ
を良くすることができる。なおグラビア印刷において
は、ドクターでインキを無理に凹部に押し込むことにな
るため初めからインキを撥いてしまい凹部にインキが入
らないという心配はない。
【００１９】こうして得られるグラビア印刷版における
インキの転移率は８０〜９５％で従来のグラビア印刷版
には見られない程良好であり、インキの版づまりの解
消、ハイライト部の再現性向上、全体的に版深を浅くす
ることができるためスクリーン線数を多くすることが可
能であることによる再現性向上などの多くの効果が得ら
れる。
インキの転移率は８０〜９５％で従来のグラビア印刷版
には見られない程良好であり、インキの版づまりの解
消、ハイライト部の再現性向上、全体的に版深を浅くす
ることができるためスクリーン線数を多くすることが可
能であることによる再現性向上などの多くの効果が得ら
れる。
【００２０】図３に示す如きグラビア印刷版を作るため
には次の如き方法を採用することができる。
には次の如き方法を採用することができる。
【００２１】すなわち、従来知られている種々の方法で
グラビア印刷版を形成させクロムメッキ等のメッキを施
して耐刷力を向上させた状態にし、次に撥インキ性樹脂
例えばフッ素系樹脂を全面にコートし、非画像部に付着
した撥インキ性樹脂を除去すればよい。
グラビア印刷版を形成させクロムメッキ等のメッキを施
して耐刷力を向上させた状態にし、次に撥インキ性樹脂
例えばフッ素系樹脂を全面にコートし、非画像部に付着
した撥インキ性樹脂を除去すればよい。
【００２２】撥インキ性樹脂をコートするにはディスパ
ージョン法、樹脂によっては塗料の状態でスプレーコー
ト法等で行うことができ、均一に薄く例えば０．１〜５
μ程度にコートする場合には、真空蒸着法、スパッタリ
ング法を用いるのが好ましい。撥インキ性樹脂としては
臨界表面張力の小さい次の如きものが適している。
ージョン法、樹脂によっては塗料の状態でスプレーコー
ト法等で行うことができ、均一に薄く例えば０．１〜５
μ程度にコートする場合には、真空蒸着法、スパッタリ
ング法を用いるのが好ましい。撥インキ性樹脂としては
臨界表面張力の小さい次の如きものが適している。
【００２３】 樹 脂 臨界表面張力（ｄｙｎｅ／ｃｍ） ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ） １８．５ テトラフルオロエチレン−ヘキサフル １７ オロプロピレン光重合体（ＦＥＰ） テトラフルオロエチレン−パーフルオロ １７ アルキルビニルエーテル共重合体（ＰＦＡ） ＣＦ3 （ＣＦ2 ）6 ＣＨ2 −Ａ １０．４ ＣＦ3 （ＣＦ2 ）6 ＣＨ2 −Ｍ １０．６ ＣＦ3 （ＣＦ2 ）7 ＳＯ2 Ｎ（ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ3 ）ＣＨ2 ＣＨ2 −Ａ １１．１ （ＣＦ2 ）7 ＣＨ2 −Ａ １３．０ （ＣＦ3 ）2 ＣＦ−Ａ １４．１ ＨＣＦ2 （ＣＦ2 ）9 ＣＨ2 −Ａ １４．５〜１５．０ （ＣＦ3 ）2 ＣＨ−Ｍ １４．８〜１５．４ （ＣＦ3 ）2 ＣＨ−Ａ １５．０〜１５．４ （ＣＦ3 ）2 ＣＦＯ（ＣＨ2 ）2 −Ａ １５．５ ポリ弗化ビニリデン（ＰＶｄＦ） ２５ （ただしＡはアクリレートを示し、Ｍはメタアクリレートを示す。）
【００２４】真空蒸着でこれらの樹脂をコートする場
合、５×１０-5〜１０-4ｔｏｒｒの真空度にし、蒸着物
質を６８０〜７００℃に加熱して行うことが好ましい。
またスパッタリング法の場合には１３．５６ＫＨZ の高
周波電源を用い、１．０ＫＶの容量で５０〜２００Å／
ｍｍの速度でコートすることが好ましい。
合、５×１０-5〜１０-4ｔｏｒｒの真空度にし、蒸着物
質を６８０〜７００℃に加熱して行うことが好ましい。
またスパッタリング法の場合には１３．５６ＫＨZ の高
周波電源を用い、１．０ＫＶの容量で５０〜２００Å／
ｍｍの速度でコートすることが好ましい。
【００２５】なお、全面に樹脂をコートした後に非画像
部の樹脂を除去するのは研摩等の手段を用いることがで
きる。
部の樹脂を除去するのは研摩等の手段を用いることがで
きる。
【００２６】なお樹脂をコートする際に印刷版を２００
℃ぐらいに加熱し、クロム層等のメッキ層の微少なクラ
ックを大きくさせ、そこへ撥インキ性樹脂をコートさせ
れば、樹脂の密着性は向上する。
℃ぐらいに加熱し、クロム層等のメッキ層の微少なクラ
ックを大きくさせ、そこへ撥インキ性樹脂をコートさせ
れば、樹脂の密着性は向上する。
【００２７】図３に示される如きグラビア印刷版におけ
る被印刷物へのインキ転移率は９０〜９７％程度とな
る。
る被印刷物へのインキ転移率は９０〜９７％程度とな
る。
【００２８】図４に示される如きグラビア印刷版も、図
３に示されるグラビア印刷版と同様にして得ることがで
き、クロム等の耐刷力向上のためのメッキを施さない点
が異なるだけである。
３に示されるグラビア印刷版と同様にして得ることがで
き、クロム等の耐刷力向上のためのメッキを施さない点
が異なるだけである。
【００２９】なおスパッタリングや真空蒸着あるいはス
プレーコート等の手段は図２に示される如き印刷版の場
合にも利用できることは言うまでもない。
プレーコート等の手段は図２に示される如き印刷版の場
合にも利用できることは言うまでもない。
【００３０】また本発明のグラビア印刷版はシリンダー
状であることに限定されるものではなく、平板のもので
あってもよいことは当然である。更に本発明のグラビア
印刷版はコンベンショナル法、網グラビア法のいずれに
も適用でき、また機械的に彫刻する方法にも適用でき
る。
状であることに限定されるものではなく、平板のもので
あってもよいことは当然である。更に本発明のグラビア
印刷版はコンベンショナル法、網グラビア法のいずれに
も適用でき、また機械的に彫刻する方法にも適用でき
る。
【００３１】
【発明の効果】以上述べた如く、本発明のグラビア印刷
版は凹部に撥インキ性層を施してあるので、インキ版離
れが良好で、インキの版詰まりの解消、ハイライト部の
再現性向上等の効果を有し、更に全体的に版深を浅くで
きるために細線の再現性の向上等の効果も得られる。
版は凹部に撥インキ性層を施してあるので、インキ版離
れが良好で、インキの版詰まりの解消、ハイライト部の
再現性向上等の効果を有し、更に全体的に版深を浅くで
きるために細線の再現性の向上等の効果も得られる。
【００３２】
【図１】従来のグラビア印刷版の断面説明図である。
【図２】本発明の種々のグラビア印刷版の断面説明図で
ある。
ある。
【図３】本発明の種々のグラビア印刷版の断面説明図で
ある。
ある。
【図４】本発明の種々のグラビア印刷版の断面説明図で
ある。
ある。
１ グラビア印刷版用基体 ２ 銅層 ３ 凹部 ４ 非画像部分 ５ クロム層 ６ インキ ７ 撥インキ性層
Claims (2)
- 【請求項１】インキを受容すべき凹部に撥インキ性層を
設けてなるグラビア印刷版。 - 【請求項２】前記撥インキ層はフッ素系樹脂あるいは金
属とフッ素系樹脂の複合体であることを特徴とする請求
項１記載のグラビア印刷版。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3343395A JPH0720740B2 (ja) | 1991-12-25 | 1991-12-25 | グラビア印刷版 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3343395A JPH0720740B2 (ja) | 1991-12-25 | 1991-12-25 | グラビア印刷版 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0542781A JPH0542781A (ja) | 1993-02-23 |
| JPH0720740B2 true JPH0720740B2 (ja) | 1995-03-08 |
Family
ID=18361185
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3343395A Expired - Lifetime JPH0720740B2 (ja) | 1991-12-25 | 1991-12-25 | グラビア印刷版 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0720740B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101039297B1 (ko) * | 2008-06-30 | 2011-06-07 | 건국대학교 산학협력단 | 캐비티 재료의 특성을 이용한 전자소자의 연속공정 롤투롤 인쇄 방법 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3500182B2 (ja) * | 1994-04-04 | 2004-02-23 | ソニー株式会社 | レーザー製版用版材料 |
-
1991
- 1991-12-25 JP JP3343395A patent/JPH0720740B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101039297B1 (ko) * | 2008-06-30 | 2011-06-07 | 건국대학교 산학협력단 | 캐비티 재료의 특성을 이용한 전자소자의 연속공정 롤투롤 인쇄 방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0542781A (ja) | 1993-02-23 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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