JPH07204591A - 洗浄システム - Google Patents

洗浄システム

Info

Publication number
JPH07204591A
JPH07204591A JP2322194A JP2322194A JPH07204591A JP H07204591 A JPH07204591 A JP H07204591A JP 2322194 A JP2322194 A JP 2322194A JP 2322194 A JP2322194 A JP 2322194A JP H07204591 A JPH07204591 A JP H07204591A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
rinse
water
tank
rinsing
cleaning
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2322194A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3070379B2 (ja
Inventor
Junichi Maeno
純一 前野
Yoshikazu Masunari
嘉一 増成
Tatsuya Okumura
辰也 奥村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Arakawa Chemical Industries Ltd
Original Assignee
Arakawa Chemical Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Arakawa Chemical Industries Ltd filed Critical Arakawa Chemical Industries Ltd
Priority to JP6023221A priority Critical patent/JP3070379B2/ja
Publication of JPH07204591A publication Critical patent/JPH07204591A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3070379B2 publication Critical patent/JP3070379B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/26Cleaning or polishing of the conductive pattern

Landscapes

  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Treatment Of Water By Ion Exchange (AREA)
  • Detergent Compositions (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【構成】 洗浄槽、プレリンス槽および仕上げリンス槽
を設けてなる水すすぎを伴う非ハロゲン系洗浄剤を用い
た洗浄システムであって、プレリンス槽で生成するすす
ぎ廃水をイオン交換処理して、該すすぎ廃水中に含まれ
るイオン性物質を除去するとともに、該すすぎ廃水中に
含まれる非ハロゲン系洗浄剤および水を、プレリンス槽
のすすぎ水として循環使用する工程を設けてなることを
特徴とする洗浄システム。 【効果】 フラックス等の汚れ成分の被洗浄物への再付
着防止、被洗浄物から効率のよい汚れ物質の剥離、すす
ぎ廃水の処理コストの低減を図ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、洗浄システムに関す
る。詳しくは、プレリンス槽で生成するすすぎ廃水を、
イオン交換処理して循環使用する工程を設けてなる水す
すぎを伴う非ハロゲン系洗浄剤を用いた洗浄システムに
関する。
【0002】
【従来の技術】(1)金属部品、非金属部品、電子部
品、ガラス、レンズなどの物品表面に付着している油脂
類、(2)プリント配線基板などのハンダ処理に使用さ
れるフラックス等は、それぞれの用途において様々な悪
影響を及ぼすため、洗浄剤により、かかる被洗浄物から
洗浄除去されている。
【0003】こうした洗浄剤としてはトリクロロエタ
ン、トリクロロトリフルオロエタン等のいわゆるフロン
等のハロゲン化炭化水素溶剤が使用されていた。しかし
該ハロゲン系の洗浄剤は、それ自体不燃性でありかつ乾
燥性に優れるという利点を有するものの、オゾン層破壊
などの環境汚染の問題から使用できない。かかる状況を
受けて近時、非ハロゲン系洗浄剤として、炭化水素系溶
剤、グリコールエーテル系化合物、各種界面活性剤およ
び水等の混合物からなる水系の洗浄剤が使用されてい
る。
【0004】ところで、これら各種の非ハロゲン系洗浄
剤により被洗浄物を洗浄した後は、いずれも水すすぎが
行われており、水すすぎ処理により優れた清浄度の被洗
浄物が収得される。こうした水すすぎ工程は、仕上げレ
ベルを段階的にあげていき、一般的には、フラックス等
の汚れ成分を溶解するための洗浄槽の後に、該汚れ成分
を剥離するためのプレリンス槽、次いで洗浄剤成分を除
去するための仕上げリンス槽が設けられている。
【0005】しかし、プレリンス槽において、すすぎ水
を繰り返し使用すると、すすぎ水中の洗浄剤成分および
汚れ成分の濃度が高くなり、汚れ成分が被洗浄物に再付
着したり、また被洗浄物を構成する素材の一部が、汚れ
成分中のイオン性物質により変色したり、腐食するとい
った問題がある。たとえば、被洗浄物として車載用また
は通信用ハイブリッドIC等に使用される厚膜ガラスコ
ーティング等を用いた場合には、汚れ成分中の塩酸、フ
ッ酸、ギ酸、リン酸またはその塩等の酸性イオン物質は
ガラス青ヤケの原因となり、トリエタノールアミン、ジ
エタノールアミン、アルキルアミンまたはその塩等のア
ミン系イオン性物質はガラス白ヤケの原因となる。ま
た、被洗浄物のニッケル、シンチュウ、ハンダ等の金属
部分が前記イオン性物質により腐食したり、金属イオン
の蓄積により変色するといった問題がある。
【0006】かかる問題を解決するため、プレリンス槽
で使用するすすぎ水は、連続的に更新するか、または定
期的に全量を交換して、すすぎ水の水質を維持する必要
がある。その一方で、使用済のすすぎ廃水が多量に生成
するといった問題がある。このようにして生成するすす
ぎ廃水は、仕上げリンス槽においては活性炭吸着剤等に
より洗浄剤成分等の有機物質を除去し、さらにイオン交
換樹脂等によりイオン性物質を除去してリサイクルされ
ている。しかし、プレリンス槽で生成するすすぎ廃水
は、洗浄剤成分等の有機物質を多量に含むため活性炭で
処理するとその交換頻度が非常に高くなる。そのため、
プレリンス槽で生成するすすぎ廃水は、リサイクルして
もコスト高であり、産業廃棄物として処理する他に手段
はなかった。
【0007】また、プレリンス槽は、被洗浄物から汚れ
成分を剥離することを目的とするため、同じリンス槽で
も、洗浄剤成分の除去を目的とする仕上げリンス槽で使
用するすすぎ水(脱イオン水)と同じすすぎ水では、そ
の目的を十分に達成できていなかった。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、プレリンス
槽で生成するすすぎ廃水の処理の問題を解決するととも
に、被洗浄物から汚れ成分を効率よく剥離しうる水すす
ぎを伴う非ハロゲン系洗浄剤を用いた洗浄システムを提
供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記従来
技術の課題を解決すべく鋭意検討を重ねた。その結果、
プレリンス槽で生成するすすぎ廃水中のイオン性物質の
みを選択的に除去し、すすぎ廃水中の水の他に洗浄剤成
分等の有機物質をもプレリンス槽のすすぎ水として循環
使用するという画期的な手段を採用すれば、活性炭処理
にともなうすすぎ廃水の処理の経済的な問題を解決しう
るとともに、循環すすぎ水中に含まれる洗浄剤成分の作
用により被洗浄物から汚れ成分を効率よく剥離しうるこ
とを見出した。本発明はこのように、すすぎ廃水のリサ
イクル水中に洗浄剤成分を含ませるといった新たな知見
により完成されたものである。
【0010】すなわち、本発明は、洗浄槽、プレリンス
槽および仕上げリンス槽を設けてなる水すすぎを伴う非
ハロゲン系洗浄剤を用いた洗浄システムであって、プレ
リンス槽で生成するすすぎ廃水をイオン交換処理して、
該すすぎ廃水中に含まれるイオン性物質を除去するとと
もに、該すすぎ廃水中に含まれる非ハロゲン系洗浄剤お
よび水を、プレリンス槽のすすぎ水として循環使用する
工程を設けてなることを特徴とする洗浄システムに関す
る。
【0011】本発明では、プレリンス槽で生成するすす
ぎ廃水中のイオン性物質をイオン交換処理して、プレリ
ンス槽のすすぎ水として循環使用する工程を設ける。
【0012】プレリンス槽とは、被洗浄物からフラック
ス等の汚れ成分を溶解するための洗浄槽の後に、被洗浄
物に付着した洗浄剤成分を最初に粗すすぎし、汚れ成分
を被洗浄物から剥離するための第一リンス槽をいい、洗
浄剤成分を完全に除去するための仕上げリンス槽の前段
階の工程をいう。
【0013】また、プレリンス槽で生成するすすぎ廃水
とは、洗浄剤成分および洗浄剤成分により洗い落とされ
た汚れ成分を含有するものをいう。汚れ成分としては、
フラックス成分、油成分およびこれらの分解物や、洗浄
剤成分の分解物等があげられる。具体的なフラックス成
分としては、フッ化水素、塩化水素、硫酸等の無機酸、
ギ酸、酢酸、シュウ酸、酒石酸、オレイン酸等の有機
酸、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、アル
キルアミン等のアミン類、およびこれらの塩類等のイオ
ン性物質や、ロジン誘導体等の樹脂酸またはその塩類等
を例示できる。また油成分としては、炭化水素の鉱物
油、動物油、植物油、脂肪酸およびその金属塩や、切削
油、圧延油、プレス油、特殊錆び止め油等に使用される
酸、アルカリ等のイオン性物質、その他イオン性の重金
属を例示できる。
【0014】本発明では、かかるプレリンス槽で生成す
る前記すすぎ廃水を、イオン交換処理して、該すすぎ廃
水中に含まれるイオン性物質を除去する。そして、イオ
ン交換処理されたすすぎ廃水は、プレリンス槽のすすぎ
水として循環使用する。こうしてイオン交換処理された
すすぎ廃水は、水の他に洗浄剤成分等の有機物質を含
み、プレリンス槽におけるすすぎ水として好適に使用さ
れる。
【0015】すなわち、単に水のみからなるすすぎ水で
は、被洗浄物から十分に剥離しえなかった汚れ成分を効
率よく剥離しうるとともに、洗浄剤成分が油脂類等の汚
れ成分をミセルとして取り込み、被洗浄物への再付着を
効率よく防止できる。また、すすぎ廃水はイオン性物質
を除去して循環使用されるためイオン性物質がすすぎ水
中に蓄積されることはなく、イオン性物質に起因して洗
浄剤成分の界面活性作用が阻害され、すすぎ性が低下す
ることもない。また、プレリンス槽におけるすすぎ水を
長期間リサイクル使用した後に廃棄する場合にも、イオ
ン性の重金属や、酸性物質、アルカリ性物質が除去され
ており、洗浄剤成分や油脂類等の有機物質のみを含むた
め、廃水処理が容易である。
【0016】前記本発明のイオン交換処理する手段とし
ては、イオン交換膜、イオン交換樹脂またはその併用が
一般的である。また、イオン交換樹脂(またはイオン交
換膜、以下省略)は陰陽混床のイオン交換樹脂を使用す
るか、または陰イオン交換樹脂と陽イオン交換樹脂を併
用するのがよい。かかる、本発明で使用するイオン交換
樹脂は被洗浄物、非ハロゲン系洗浄剤の種類等により異
なるため、それぞれに応じて陰陽イオン交換基の割合の
違うものを適宜に選択して使用する。また、ハンダ付け
工程のある被洗浄物の場合には、鉛、スズ、銅等の重金
属イオンを除去するために、キレート樹脂を混床で使用
するか、または併用してもよい。こうしてイオン交換処
理されたイオン性物質は、再生処理を受けるか、または
イオン交換樹脂に吸着された状態で系外ヘ適宜、抜き出
され、産業廃棄物としての処理を受ける。
【0017】なお、本発明の洗浄処理システムにおけ
る、洗浄槽、プレリンス槽、仕上げリンス槽は、公知の
ものを採用できる。また、洗浄槽、プレリンス槽、仕上
げリンス槽は、それぞれ1槽である必要はなく、被洗浄
物の種類に応じて2槽以上とすることもできる。また、
仕上げリンス槽の後には、乾燥槽を設けることができ、
各リンス槽には本発明とは別の廃水処理工程を設けるこ
ともできる。
【0018】かかる本発明の洗浄システムで使用する非
ハロゲン系洗浄剤としては、各種公知の非ハロゲン系洗
浄剤があげられる。たとえば、リモネン等のテルペン
類、ドデカン等の石油系溶剤等の炭化水素系溶剤型、グ
リコールエーテル系化合物等の高級アルコール型、およ
びこれらの混合物、ならびにこれらと各種界面活性剤や
水との混合物等を例示できる。これら公知の非ハロゲン
系洗浄剤のなかでも、本発明の洗浄システムで使用する
非ハロゲン系洗浄剤は、界面活性剤を使用しているもの
が好ましい。すすぎ廃水中の洗浄剤成分は、水とともに
すすぎ水として循環使用され、被洗浄物から汚れ成分を
効率よく剥離しうるからである。なお、非ハロゲン系洗
浄剤の種類または組成は、被洗浄物によりそれぞれ異な
り、被洗浄物に応じて適宜に選択する必要がある。
【0019】前記グリコールエーテル系化合物として
は、たとえば、ジエチレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレ
ングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコー
ルジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチ
ルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテ
ル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチ
レングリコールメチルプロピルエーテル、ジエチレング
リコールエチルプロピルエーテル、ジエチレングリコー
ルモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジブチル
エーテル、ジエチレングリコールメチルブチルエーテ
ル、ジエチレングリコールエチルブチルエーテル、ジエ
チレングリコールプロピルブチルエーテル、ジエチレン
グリコールモノペンチルエーテル、ジエチレングリコー
ルジペンチルエーテル、ジエチレングリコールメチルペ
ンチルエーテル、ジエチレングリコールエチルペンチル
エーテル、ジエチレングリコールプロピルペンチルエー
テル、ジエチレングリコールブチルペンチルエーテル;
これらに対応するトリ−もしくはテトラエチレングリコ
ールエーテル類;これらに対応するジ−、トリ−もしく
はテトラプロピレングリコールエーテル類を例示でき
る。
【0020】また、界面活性剤としては、ノニオン性ま
たはアニオン性の界面活性剤を例示でき、特にノニオン
性界面活性剤を含有している場合が好ましい。ノニオン
性界面活性剤としては、ポリオキシエチレンアルキルエ
ーテル、ポリオキシエチレンフェノールエーテル、ポリ
オキシエチレンアルキルフェノールエーテルなどのポリ
エチレングリコールエーテル型ノニオン性界面活性剤;
ポリエチレングリコールモノエステル、ポリエチレング
リコールジエステルなどのポリエチレングリコールエス
テル型ノニオン性界面活性剤;高級脂肪族アミンのエチ
レンオキサイド付加物;脂肪酸アミドのエチレンオキサ
イド付加物;ソルビタン脂肪酸エステル、ショ糖脂肪酸
エステルなどの多価アルコール型ノニオン性界面活性
剤;脂肪酸アルカノールアミドなど、更にはこれらに対
応するポリオキシプロピレン系ノニオン性界面活性剤お
よびポリオキシエチレンポリオキシプロピレン共重合型
ノニオン性界面活性剤があげられる。また、アニオン性
界面活性剤としてはリン酸エステル系またはスルホン酸
系のアニオン性界面活性剤があげられる。
【0021】以下に本発明の洗浄システムを添付図面に
基づき説明する。
【0022】図1は、本発明の洗浄システムの一例を示
したものである。すなわち、洗浄槽Aで被洗浄物の汚れ
成分を溶解したのち、プレリンス槽Bで被洗浄物に付い
ている汚れ成分をすすぎ水で剥離する。ここで生成した
すすぎ廃水は、水の他に汚れ成分、洗浄剤成分を含み、
これをイオン交換処理部Eに導いて、汚れ成分中のイオ
ン性物質をイオン交換処理するとともに、水および洗浄
剤成分等の有機物質をプレリンス槽Bに戻し、循環して
使用する。
【0023】かかる循環の繰り返しにより、プレリンス
槽中のすすぎ水の洗浄剤成分濃度が高くなるが、プレリ
ンス槽中に循環されるすすぎ水中にはイオン性物質を含
有しないため、プレリンス槽中のすすぎ水は洗浄剤濃度
が10重量%を越えても透明な状態を維持でき、プレリ
ンス槽中のすすぎ水として好適に使用できる。
【0024】また、水すすぎは段階的に行い、仕上げリ
ンス槽Cで洗浄剤成分を完全に除去し、最終的に乾燥槽
Dにより被洗浄物を乾燥させ、洗浄を完了する。なお、
仕上げリンス槽Cで生成するすすぎ廃水は、活性炭吸着
剤Fおよびイオン交換樹脂Gにより処理し脱イオン水と
して、仕上げリンス槽Cに循環して使用することもでき
る。
【0025】図2は、本発明の洗浄システムにおけるプ
レリンス槽で生成するすすぎ廃水を、イオン交換処理す
る装置の全体を概略的に示したものである。すなわち、
すすぎ廃水は、プレリンス槽から供給ライン1を経て、
真空ポンプ2の作動により、イオン交換処理筒3へ供給
される。イオン交換処理されたのちは、返送ライン4を
経て、プレリンス槽へ戻される。
【0026】また、イオン交換処理筒3へ供給されるす
すぎ廃水の流量の調整は手動ボール弁5により行う。ま
た、イオン交換処理筒3は、二筒を同時に使用する必要
はなく、一筒を予備として置くこともでき、手動ボール
弁5は予備のイオン交換処理筒3との切り替え弁として
も使用される。
【0027】また、イオン交換処理筒3の交換時期は、
水質計6により確認し、被洗浄物がガラスの場合には電
気伝導度が通常5μS/m程度以上、金属の場合には通
常10μS/m程度以上になったところでイオン交換処
理筒3の交換を行う。
【0028】また、すすぎ廃水の循環流量は流量計7で
確認する。通常は300〜700リットル/時間程度と
するのがよく、手動ボール弁5により調整する。また、
イオン交換処理筒3、供給ライン1や、返送ライン4の
つまりの状態を圧力計7で確認する。通常は0kg/c
2 である。
【0029】
【実施例】以下に、比較例及び実施例をあげて本発明を
さらに詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定
されるものではない。
【0030】比較例 (洗浄):ジエチレングリコールモノブチルエーテル8
0重量%、ノニオン性界面活性剤(ソフタノール90、
日本触媒(株)製)15重量%および水5重量%からな
る組成の洗浄剤を満たした洗浄槽に、通信機器用のハイ
ブリッドICを浸漬し、フラックス残渣を、液中ジェッ
ト方式により、温度60℃、浸漬時間5分の条件で洗浄
した。
【0031】(プレリンス):脱イオン水を満たしたプ
レリンス槽に、洗浄した通信機器用のハイブリッドIC
を浸漬し、液中ジェット方式により、温度30℃、浸漬
時間5分の条件で水すすぎをした。脱イオン水は、液面
低下分を溜めすすぎ方式で補充しながら運転した。
【0032】(仕上げリンス):脱イオン水を満たした
仕上げリンス槽に、プレリンスした通信機器用のハイブ
リッドICを浸漬し、液中ジェット方式により、温度3
0℃、浸漬時間5分の条件で水すすぎをした。脱イオン
水は、液面低下分を溜めすすぎ方式で補充しながら運転
した。
【0033】(乾燥):仕上げリンスした通信機器用の
ハイブリッドICを、熱風循環式の乾燥槽で、温度80
℃、乾燥時間10分の条件で、乾燥し、洗浄を完了し
た。
【0034】上記、洗浄、プレリンス、仕上げリンス、
乾燥を連続して行った。使用開始直後および2ケ月後
の、プレリンス槽のすすぎ水の水質および洗浄完了後の
通信機器用のハイブリッドICの性状を評価した。評価
結果を表1に示す。
【0035】実施例 比較例のプレリンス工程において、溜めすすぎ方式を採
用する代わりに、プレリンス槽で生成するすすぎ廃水
を、6リットル/分の速度で陰陽混床のイオン交換樹脂
を充填した20リットルのカラムに通水し、イオン性物
質をイオン交換処理した後、洗浄剤成分および水をプレ
リンス槽に戻して循環使用した他は、比較例と同様に行
った。使用開始直後、1ケ月後、2ケ月後および3ケ月
後の、プレリンス水の水質および洗浄完了後の通信機器
用のハイブリッドICの性状を評価した。評価結果を表
1に示す。
【0036】(評価方法)保護ガラスの青ヤケ:良品と
目視で比較評価した。 金属表面の変色:良品と目視で比較評価した。 残留イオン濃度:オメガメーター600R−SC(アル
ファメタルズ製)により測定した。単位はμgNaCl
/inch2 。 残留ロジン量:洗浄完了後のハイブリッドIC10枚を
メタノールで抽出し、抽出液を瑪瑙乳鉢中で蒸発乾燥さ
せた後、臭化カリウムを加えて粉末化し錠剤を作成し、
IRを測定し、別途作成した検量線を用いて定量し、ハ
イブリッドIC1枚あたりのロジン量を求めた。単位は
mg/枚。
【0037】
【表1】
【0038】表1の結果から、比較例のようにプレリン
ス工程のすすぎ廃水を溜めすすぎ方式で処理する洗浄シ
ステムでは、使用開始直後に比べて、2ケ月後のプレリ
ンス水の水質の低下が認められるが、実施例に示す本発
明の洗浄システムによればプレリンス水の水質の低下は
認められない。また、比較例ではハイブリッドICの保
護ガラスの青ヤケと金属表面の変色が認められるが、実
施例では3ケ月後にも保護ガラスの青ヤケ、金属表面の
変色は認められない。また、比較例ではハイブリッドI
Cのフラックス残渣(残留イオン濃度および残留ロジン
量)が経時的に多くなるが、実施例ではフラックス残渣
が経時的に少なくなっており、被洗浄物からフラックス
残渣を効率よく剥離できていることが認められる。
【0039】
【発明の効果】本発明によれば次の通りの効果が得られ
る。
【0040】(a)プレリンス槽において循環使用する
すすぎ水は、イオン性物質を有していないため良好なす
すぎ性を維持でき、循環使用しても汚れ成分が被洗浄物
に再付着することはなく、被洗浄物の侵食、金属類の腐
食、変色を防止できる。
【0041】(b)また、プレリンス槽における循環す
すぎ水は、水の他に洗浄剤成分を含むため、単に水のみ
からなるすすぎ水では、被洗浄物から十分に剥離しえな
かった汚れ成分を効率よく剥離しうるとともに、洗浄剤
成分が汚れ成分中の油脂類等の有機物質をミセルとして
取り込み、被洗浄物への再付着を効率よく防止できる。
また、循環すすぎ廃水はイオン性物質を含まず、すすぎ
水が硬水にならないため、すすぎ性は低下しない。
【0042】(c)また、すすぎ廃水を循環使用できる
ため、廃水量を大幅に削減できる。また、プレリンス槽
におけるすすぎ水は洗浄剤濃度が10重量%を越えても
透明な状態を維持できるため、プレリンス槽におけるす
すぎ水の交換濃度を高めることができる。また、純水再
生装置のイオン交換塔の延命ができる。また、長期間リ
サイクル使用した後に廃棄する場合にも、イオン性の重
金属や、酸性物質、アルカリ性物質が除去されており、
洗浄剤成分等の有機物質のみを含むため、廃水処理が容
易である。これらにより、すすぎ廃水の処理コストを低
減できる。
【0043】(d)以下に、本発明の洗浄システムが適
用される被洗浄物とその効果を具体的に示す。
【0044】通信用ハイブリッドICの洗浄:ガラス
青ヤケや、ガラス白ヤケを防止できる。また、ニッケル
メッキ、亜鉛メッキの変色を防止できる。
【0045】車載用ハイブリッドICの洗浄:ガラス
青ヤケや、ガラス白ヤケを防止できる。また、ワイヤボ
ンディングのアルミパッドの変色を防止でき、ボンディ
ング性能を向上できる。
【0046】コンピューター基板の洗浄:ノンハロゲ
ンフラックスの使用により、ギ酸、リン酸等のイオン性
物質の生成が多いが、金メッキ部分と導通しているハン
ダ部分、ニッケルまたは亜鉛メッキ部分の変色を防止で
きる。
【0047】半導体製造装置の洗浄:水溶性切削油の
使用により酸性成分等のイオン性物質の生成が多いが、
金属腐食を防止できる。
【0048】ハードディスク(HDD)部品または磁
気ヘッドカバーの洗浄:最終仕上げリンス槽での純度を
高める(低電気伝導度にする)必要があり、仕上げリン
ス槽を多段階に設ける必要があるが、本発明の洗浄シス
テムによれば、仕上げリンス槽の数を減少でき、省コス
ト化を実現できる。
【0049】レンズの洗浄:レンズでよく使用される
鉛ガラスはイオン性物質により腐食されやすく水をきら
っていたが、本発明の洗浄システムによれば、腐食を防
止でき、水系の洗浄が可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の洗浄システムの概略説明図の一例であ
る。
【図2】本発明の洗浄システムにおけるプレリンス槽で
生成するすすぎ廃水を、イオン交換処理する装置の全体
を概略的に示したものである。
【符号の説明】
A 洗浄槽 B プレリンス槽 C 仕上げリンス槽 D 乾燥槽 E イオン交換処理部 F 活性炭吸着剤 G イオン交換処理部

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 洗浄槽、プレリンス槽および仕上げリン
    ス槽を設けてなる水すすぎを伴う非ハロゲン系洗浄剤を
    用いた洗浄システムであって、プレリンス槽で生成する
    すすぎ廃水をイオン交換処理して、該すすぎ廃水中に含
    まれるイオン性物質を除去するとともに、該すすぎ廃水
    中に含まれる非ハロゲン系洗浄剤および水を、プレリン
    ス槽のすすぎ水として循環使用する工程を設けてなるこ
    とを特徴とする洗浄システム。
  2. 【請求項2】 非ハロゲン系洗浄剤が、界面活性剤を含
    有してなる請求項1記載の洗浄システム。
  3. 【請求項3】 界面活性剤が、ノニオン性界面活性剤で
    ある請求項2記載の洗浄システム。
JP6023221A 1994-01-24 1994-01-24 洗浄システム Expired - Lifetime JP3070379B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6023221A JP3070379B2 (ja) 1994-01-24 1994-01-24 洗浄システム

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6023221A JP3070379B2 (ja) 1994-01-24 1994-01-24 洗浄システム

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH07204591A true JPH07204591A (ja) 1995-08-08
JP3070379B2 JP3070379B2 (ja) 2000-07-31

Family

ID=12104601

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6023221A Expired - Lifetime JP3070379B2 (ja) 1994-01-24 1994-01-24 洗浄システム

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3070379B2 (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09232731A (ja) * 1996-02-28 1997-09-05 Nec Toyama Ltd 基板処理装置及び処理液中の金属イオン濃度の制御方法
JP2003080180A (ja) * 2001-09-10 2003-03-18 Asahi Kasei Corp 洗浄方法及び洗浄装置
JP2007098240A (ja) * 2005-10-03 2007-04-19 Kurita Water Ind Ltd 非イオン性界面活性剤含有水の処理方法及び処理装置
EP2016886A2 (en) 2007-07-19 2009-01-21 Fujifilm Corporation Method of rinsing endoscopes
CN115582326A (zh) * 2022-10-11 2023-01-10 中锗科技有限公司 一种去除锗抛光片脏污和霉斑的方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04122406A (ja) * 1990-09-11 1992-04-22 Asahi Chem Ind Co Ltd 水洗水の循環処理方法
JPH04244289A (ja) * 1991-01-28 1992-09-01 Asahi Chem Ind Co Ltd 水洗水の処理方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04122406A (ja) * 1990-09-11 1992-04-22 Asahi Chem Ind Co Ltd 水洗水の循環処理方法
JPH04244289A (ja) * 1991-01-28 1992-09-01 Asahi Chem Ind Co Ltd 水洗水の処理方法

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09232731A (ja) * 1996-02-28 1997-09-05 Nec Toyama Ltd 基板処理装置及び処理液中の金属イオン濃度の制御方法
JP2003080180A (ja) * 2001-09-10 2003-03-18 Asahi Kasei Corp 洗浄方法及び洗浄装置
JP2007098240A (ja) * 2005-10-03 2007-04-19 Kurita Water Ind Ltd 非イオン性界面活性剤含有水の処理方法及び処理装置
EP2016886A2 (en) 2007-07-19 2009-01-21 Fujifilm Corporation Method of rinsing endoscopes
CN115582326A (zh) * 2022-10-11 2023-01-10 中锗科技有限公司 一种去除锗抛光片脏污和霉斑的方法
CN115582326B (zh) * 2022-10-11 2024-10-18 中锗科技有限公司 一种去除锗抛光片脏污和霉斑的方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP3070379B2 (ja) 2000-07-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5397495A (en) Stabilization of silicate solutions
US5431847A (en) Aqueous cleaning concentrates
US5269850A (en) Method of removing organic flux using peroxide composition
US5196134A (en) Peroxide composition for removing organic contaminants and method of using same
US5244000A (en) Method and system for removing contaminants
US5264047A (en) Low foaming effective hydrotrope
JP6226144B2 (ja) 洗浄剤組成物原液、洗浄剤組成物および洗浄方法
US20030066540A1 (en) Semi-aqueous solvent cleaning of paste processing residue from substrates
JPH10264362A (ja) 水性洗浄方法
JP3086254B2 (ja) 電子および電気アセンブリ洗浄用調合物
JP2006249114A (ja) 洗浄剤組成物及び洗浄方法
JP3070379B2 (ja) 洗浄システム
EP0458948B1 (en) Peroxide composition for removing flux residue and method of using same
JPH04259387A (ja) フラックス洗浄剤
USRE35045E (en) Method for removing soldering flux with alkaline metal carbonate salts and an alkali metal silicate
EP0574858B1 (en) Inorganic oxidant compositions for removing contaminants
AU651253B2 (en) Method and system for removing contaminants
JPH0768551B2 (ja) 洗浄剤組成物
JP3491656B2 (ja) 金属の乾燥前処理剤および乾燥方法
JP2715769B2 (ja) 基板の洗浄処理方法
JP3922315B2 (ja) 金属用水切り防錆剤
JP3594057B2 (ja) 金属乾燥方法
JPH07331287A (ja) ロジン系フラックス残渣の洗浄方法
WO1993016160A1 (en) Defluxing composition and use thereof
HUT61585A (en) Preparation for cleaning electronic spare parts

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 8

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080526

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090526

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 9

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090526

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 9

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090526

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100526

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 10

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100526

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110526

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 11

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110526

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 12

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120526

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 12

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120526

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130526

Year of fee payment: 13

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130526

Year of fee payment: 13

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 14

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140526

EXPY Cancellation because of completion of term