JPH07204591A - 洗浄システム - Google Patents
洗浄システムInfo
- Publication number
- JPH07204591A JPH07204591A JP2322194A JP2322194A JPH07204591A JP H07204591 A JPH07204591 A JP H07204591A JP 2322194 A JP2322194 A JP 2322194A JP 2322194 A JP2322194 A JP 2322194A JP H07204591 A JPH07204591 A JP H07204591A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- rinse
- water
- tank
- rinsing
- cleaning
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/26—Cleaning or polishing of the conductive pattern
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Treatment Of Water By Ion Exchange (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
Abstract
を設けてなる水すすぎを伴う非ハロゲン系洗浄剤を用い
た洗浄システムであって、プレリンス槽で生成するすす
ぎ廃水をイオン交換処理して、該すすぎ廃水中に含まれ
るイオン性物質を除去するとともに、該すすぎ廃水中に
含まれる非ハロゲン系洗浄剤および水を、プレリンス槽
のすすぎ水として循環使用する工程を設けてなることを
特徴とする洗浄システム。 【効果】 フラックス等の汚れ成分の被洗浄物への再付
着防止、被洗浄物から効率のよい汚れ物質の剥離、すす
ぎ廃水の処理コストの低減を図ることができる。
Description
る。詳しくは、プレリンス槽で生成するすすぎ廃水を、
イオン交換処理して循環使用する工程を設けてなる水す
すぎを伴う非ハロゲン系洗浄剤を用いた洗浄システムに
関する。
品、ガラス、レンズなどの物品表面に付着している油脂
類、(2)プリント配線基板などのハンダ処理に使用さ
れるフラックス等は、それぞれの用途において様々な悪
影響を及ぼすため、洗浄剤により、かかる被洗浄物から
洗浄除去されている。
ン、トリクロロトリフルオロエタン等のいわゆるフロン
等のハロゲン化炭化水素溶剤が使用されていた。しかし
該ハロゲン系の洗浄剤は、それ自体不燃性でありかつ乾
燥性に優れるという利点を有するものの、オゾン層破壊
などの環境汚染の問題から使用できない。かかる状況を
受けて近時、非ハロゲン系洗浄剤として、炭化水素系溶
剤、グリコールエーテル系化合物、各種界面活性剤およ
び水等の混合物からなる水系の洗浄剤が使用されてい
る。
剤により被洗浄物を洗浄した後は、いずれも水すすぎが
行われており、水すすぎ処理により優れた清浄度の被洗
浄物が収得される。こうした水すすぎ工程は、仕上げレ
ベルを段階的にあげていき、一般的には、フラックス等
の汚れ成分を溶解するための洗浄槽の後に、該汚れ成分
を剥離するためのプレリンス槽、次いで洗浄剤成分を除
去するための仕上げリンス槽が設けられている。
を繰り返し使用すると、すすぎ水中の洗浄剤成分および
汚れ成分の濃度が高くなり、汚れ成分が被洗浄物に再付
着したり、また被洗浄物を構成する素材の一部が、汚れ
成分中のイオン性物質により変色したり、腐食するとい
った問題がある。たとえば、被洗浄物として車載用また
は通信用ハイブリッドIC等に使用される厚膜ガラスコ
ーティング等を用いた場合には、汚れ成分中の塩酸、フ
ッ酸、ギ酸、リン酸またはその塩等の酸性イオン物質は
ガラス青ヤケの原因となり、トリエタノールアミン、ジ
エタノールアミン、アルキルアミンまたはその塩等のア
ミン系イオン性物質はガラス白ヤケの原因となる。ま
た、被洗浄物のニッケル、シンチュウ、ハンダ等の金属
部分が前記イオン性物質により腐食したり、金属イオン
の蓄積により変色するといった問題がある。
で使用するすすぎ水は、連続的に更新するか、または定
期的に全量を交換して、すすぎ水の水質を維持する必要
がある。その一方で、使用済のすすぎ廃水が多量に生成
するといった問題がある。このようにして生成するすす
ぎ廃水は、仕上げリンス槽においては活性炭吸着剤等に
より洗浄剤成分等の有機物質を除去し、さらにイオン交
換樹脂等によりイオン性物質を除去してリサイクルされ
ている。しかし、プレリンス槽で生成するすすぎ廃水
は、洗浄剤成分等の有機物質を多量に含むため活性炭で
処理するとその交換頻度が非常に高くなる。そのため、
プレリンス槽で生成するすすぎ廃水は、リサイクルして
もコスト高であり、産業廃棄物として処理する他に手段
はなかった。
成分を剥離することを目的とするため、同じリンス槽で
も、洗浄剤成分の除去を目的とする仕上げリンス槽で使
用するすすぎ水(脱イオン水)と同じすすぎ水では、そ
の目的を十分に達成できていなかった。
槽で生成するすすぎ廃水の処理の問題を解決するととも
に、被洗浄物から汚れ成分を効率よく剥離しうる水すす
ぎを伴う非ハロゲン系洗浄剤を用いた洗浄システムを提
供することを目的とする。
技術の課題を解決すべく鋭意検討を重ねた。その結果、
プレリンス槽で生成するすすぎ廃水中のイオン性物質の
みを選択的に除去し、すすぎ廃水中の水の他に洗浄剤成
分等の有機物質をもプレリンス槽のすすぎ水として循環
使用するという画期的な手段を採用すれば、活性炭処理
にともなうすすぎ廃水の処理の経済的な問題を解決しう
るとともに、循環すすぎ水中に含まれる洗浄剤成分の作
用により被洗浄物から汚れ成分を効率よく剥離しうるこ
とを見出した。本発明はこのように、すすぎ廃水のリサ
イクル水中に洗浄剤成分を含ませるといった新たな知見
により完成されたものである。
槽および仕上げリンス槽を設けてなる水すすぎを伴う非
ハロゲン系洗浄剤を用いた洗浄システムであって、プレ
リンス槽で生成するすすぎ廃水をイオン交換処理して、
該すすぎ廃水中に含まれるイオン性物質を除去するとと
もに、該すすぎ廃水中に含まれる非ハロゲン系洗浄剤お
よび水を、プレリンス槽のすすぎ水として循環使用する
工程を設けてなることを特徴とする洗浄システムに関す
る。
ぎ廃水中のイオン性物質をイオン交換処理して、プレリ
ンス槽のすすぎ水として循環使用する工程を設ける。
ス等の汚れ成分を溶解するための洗浄槽の後に、被洗浄
物に付着した洗浄剤成分を最初に粗すすぎし、汚れ成分
を被洗浄物から剥離するための第一リンス槽をいい、洗
浄剤成分を完全に除去するための仕上げリンス槽の前段
階の工程をいう。
とは、洗浄剤成分および洗浄剤成分により洗い落とされ
た汚れ成分を含有するものをいう。汚れ成分としては、
フラックス成分、油成分およびこれらの分解物や、洗浄
剤成分の分解物等があげられる。具体的なフラックス成
分としては、フッ化水素、塩化水素、硫酸等の無機酸、
ギ酸、酢酸、シュウ酸、酒石酸、オレイン酸等の有機
酸、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、アル
キルアミン等のアミン類、およびこれらの塩類等のイオ
ン性物質や、ロジン誘導体等の樹脂酸またはその塩類等
を例示できる。また油成分としては、炭化水素の鉱物
油、動物油、植物油、脂肪酸およびその金属塩や、切削
油、圧延油、プレス油、特殊錆び止め油等に使用される
酸、アルカリ等のイオン性物質、その他イオン性の重金
属を例示できる。
る前記すすぎ廃水を、イオン交換処理して、該すすぎ廃
水中に含まれるイオン性物質を除去する。そして、イオ
ン交換処理されたすすぎ廃水は、プレリンス槽のすすぎ
水として循環使用する。こうしてイオン交換処理された
すすぎ廃水は、水の他に洗浄剤成分等の有機物質を含
み、プレリンス槽におけるすすぎ水として好適に使用さ
れる。
は、被洗浄物から十分に剥離しえなかった汚れ成分を効
率よく剥離しうるとともに、洗浄剤成分が油脂類等の汚
れ成分をミセルとして取り込み、被洗浄物への再付着を
効率よく防止できる。また、すすぎ廃水はイオン性物質
を除去して循環使用されるためイオン性物質がすすぎ水
中に蓄積されることはなく、イオン性物質に起因して洗
浄剤成分の界面活性作用が阻害され、すすぎ性が低下す
ることもない。また、プレリンス槽におけるすすぎ水を
長期間リサイクル使用した後に廃棄する場合にも、イオ
ン性の重金属や、酸性物質、アルカリ性物質が除去され
ており、洗浄剤成分や油脂類等の有機物質のみを含むた
め、廃水処理が容易である。
ては、イオン交換膜、イオン交換樹脂またはその併用が
一般的である。また、イオン交換樹脂(またはイオン交
換膜、以下省略)は陰陽混床のイオン交換樹脂を使用す
るか、または陰イオン交換樹脂と陽イオン交換樹脂を併
用するのがよい。かかる、本発明で使用するイオン交換
樹脂は被洗浄物、非ハロゲン系洗浄剤の種類等により異
なるため、それぞれに応じて陰陽イオン交換基の割合の
違うものを適宜に選択して使用する。また、ハンダ付け
工程のある被洗浄物の場合には、鉛、スズ、銅等の重金
属イオンを除去するために、キレート樹脂を混床で使用
するか、または併用してもよい。こうしてイオン交換処
理されたイオン性物質は、再生処理を受けるか、または
イオン交換樹脂に吸着された状態で系外ヘ適宜、抜き出
され、産業廃棄物としての処理を受ける。
る、洗浄槽、プレリンス槽、仕上げリンス槽は、公知の
ものを採用できる。また、洗浄槽、プレリンス槽、仕上
げリンス槽は、それぞれ1槽である必要はなく、被洗浄
物の種類に応じて2槽以上とすることもできる。また、
仕上げリンス槽の後には、乾燥槽を設けることができ、
各リンス槽には本発明とは別の廃水処理工程を設けるこ
ともできる。
ハロゲン系洗浄剤としては、各種公知の非ハロゲン系洗
浄剤があげられる。たとえば、リモネン等のテルペン
類、ドデカン等の石油系溶剤等の炭化水素系溶剤型、グ
リコールエーテル系化合物等の高級アルコール型、およ
びこれらの混合物、ならびにこれらと各種界面活性剤や
水との混合物等を例示できる。これら公知の非ハロゲン
系洗浄剤のなかでも、本発明の洗浄システムで使用する
非ハロゲン系洗浄剤は、界面活性剤を使用しているもの
が好ましい。すすぎ廃水中の洗浄剤成分は、水とともに
すすぎ水として循環使用され、被洗浄物から汚れ成分を
効率よく剥離しうるからである。なお、非ハロゲン系洗
浄剤の種類または組成は、被洗浄物によりそれぞれ異な
り、被洗浄物に応じて適宜に選択する必要がある。
は、たとえば、ジエチレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレ
ングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコー
ルジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチ
ルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテ
ル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチ
レングリコールメチルプロピルエーテル、ジエチレング
リコールエチルプロピルエーテル、ジエチレングリコー
ルモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジブチル
エーテル、ジエチレングリコールメチルブチルエーテ
ル、ジエチレングリコールエチルブチルエーテル、ジエ
チレングリコールプロピルブチルエーテル、ジエチレン
グリコールモノペンチルエーテル、ジエチレングリコー
ルジペンチルエーテル、ジエチレングリコールメチルペ
ンチルエーテル、ジエチレングリコールエチルペンチル
エーテル、ジエチレングリコールプロピルペンチルエー
テル、ジエチレングリコールブチルペンチルエーテル;
これらに対応するトリ−もしくはテトラエチレングリコ
ールエーテル類;これらに対応するジ−、トリ−もしく
はテトラプロピレングリコールエーテル類を例示でき
る。
たはアニオン性の界面活性剤を例示でき、特にノニオン
性界面活性剤を含有している場合が好ましい。ノニオン
性界面活性剤としては、ポリオキシエチレンアルキルエ
ーテル、ポリオキシエチレンフェノールエーテル、ポリ
オキシエチレンアルキルフェノールエーテルなどのポリ
エチレングリコールエーテル型ノニオン性界面活性剤;
ポリエチレングリコールモノエステル、ポリエチレング
リコールジエステルなどのポリエチレングリコールエス
テル型ノニオン性界面活性剤;高級脂肪族アミンのエチ
レンオキサイド付加物;脂肪酸アミドのエチレンオキサ
イド付加物;ソルビタン脂肪酸エステル、ショ糖脂肪酸
エステルなどの多価アルコール型ノニオン性界面活性
剤;脂肪酸アルカノールアミドなど、更にはこれらに対
応するポリオキシプロピレン系ノニオン性界面活性剤お
よびポリオキシエチレンポリオキシプロピレン共重合型
ノニオン性界面活性剤があげられる。また、アニオン性
界面活性剤としてはリン酸エステル系またはスルホン酸
系のアニオン性界面活性剤があげられる。
基づき説明する。
したものである。すなわち、洗浄槽Aで被洗浄物の汚れ
成分を溶解したのち、プレリンス槽Bで被洗浄物に付い
ている汚れ成分をすすぎ水で剥離する。ここで生成した
すすぎ廃水は、水の他に汚れ成分、洗浄剤成分を含み、
これをイオン交換処理部Eに導いて、汚れ成分中のイオ
ン性物質をイオン交換処理するとともに、水および洗浄
剤成分等の有機物質をプレリンス槽Bに戻し、循環して
使用する。
槽中のすすぎ水の洗浄剤成分濃度が高くなるが、プレリ
ンス槽中に循環されるすすぎ水中にはイオン性物質を含
有しないため、プレリンス槽中のすすぎ水は洗浄剤濃度
が10重量%を越えても透明な状態を維持でき、プレリ
ンス槽中のすすぎ水として好適に使用できる。
ンス槽Cで洗浄剤成分を完全に除去し、最終的に乾燥槽
Dにより被洗浄物を乾燥させ、洗浄を完了する。なお、
仕上げリンス槽Cで生成するすすぎ廃水は、活性炭吸着
剤Fおよびイオン交換樹脂Gにより処理し脱イオン水と
して、仕上げリンス槽Cに循環して使用することもでき
る。
レリンス槽で生成するすすぎ廃水を、イオン交換処理す
る装置の全体を概略的に示したものである。すなわち、
すすぎ廃水は、プレリンス槽から供給ライン1を経て、
真空ポンプ2の作動により、イオン交換処理筒3へ供給
される。イオン交換処理されたのちは、返送ライン4を
経て、プレリンス槽へ戻される。
すぎ廃水の流量の調整は手動ボール弁5により行う。ま
た、イオン交換処理筒3は、二筒を同時に使用する必要
はなく、一筒を予備として置くこともでき、手動ボール
弁5は予備のイオン交換処理筒3との切り替え弁として
も使用される。
水質計6により確認し、被洗浄物がガラスの場合には電
気伝導度が通常5μS/m程度以上、金属の場合には通
常10μS/m程度以上になったところでイオン交換処
理筒3の交換を行う。
確認する。通常は300〜700リットル/時間程度と
するのがよく、手動ボール弁5により調整する。また、
イオン交換処理筒3、供給ライン1や、返送ライン4の
つまりの状態を圧力計7で確認する。通常は0kg/c
m2 である。
さらに詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定
されるものではない。
0重量%、ノニオン性界面活性剤(ソフタノール90、
日本触媒(株)製)15重量%および水5重量%からな
る組成の洗浄剤を満たした洗浄槽に、通信機器用のハイ
ブリッドICを浸漬し、フラックス残渣を、液中ジェッ
ト方式により、温度60℃、浸漬時間5分の条件で洗浄
した。
レリンス槽に、洗浄した通信機器用のハイブリッドIC
を浸漬し、液中ジェット方式により、温度30℃、浸漬
時間5分の条件で水すすぎをした。脱イオン水は、液面
低下分を溜めすすぎ方式で補充しながら運転した。
仕上げリンス槽に、プレリンスした通信機器用のハイブ
リッドICを浸漬し、液中ジェット方式により、温度3
0℃、浸漬時間5分の条件で水すすぎをした。脱イオン
水は、液面低下分を溜めすすぎ方式で補充しながら運転
した。
ハイブリッドICを、熱風循環式の乾燥槽で、温度80
℃、乾燥時間10分の条件で、乾燥し、洗浄を完了し
た。
乾燥を連続して行った。使用開始直後および2ケ月後
の、プレリンス槽のすすぎ水の水質および洗浄完了後の
通信機器用のハイブリッドICの性状を評価した。評価
結果を表1に示す。
用する代わりに、プレリンス槽で生成するすすぎ廃水
を、6リットル/分の速度で陰陽混床のイオン交換樹脂
を充填した20リットルのカラムに通水し、イオン性物
質をイオン交換処理した後、洗浄剤成分および水をプレ
リンス槽に戻して循環使用した他は、比較例と同様に行
った。使用開始直後、1ケ月後、2ケ月後および3ケ月
後の、プレリンス水の水質および洗浄完了後の通信機器
用のハイブリッドICの性状を評価した。評価結果を表
1に示す。
目視で比較評価した。 金属表面の変色:良品と目視で比較評価した。 残留イオン濃度:オメガメーター600R−SC(アル
ファメタルズ製)により測定した。単位はμgNaCl
/inch2 。 残留ロジン量:洗浄完了後のハイブリッドIC10枚を
メタノールで抽出し、抽出液を瑪瑙乳鉢中で蒸発乾燥さ
せた後、臭化カリウムを加えて粉末化し錠剤を作成し、
IRを測定し、別途作成した検量線を用いて定量し、ハ
イブリッドIC1枚あたりのロジン量を求めた。単位は
mg/枚。
ス工程のすすぎ廃水を溜めすすぎ方式で処理する洗浄シ
ステムでは、使用開始直後に比べて、2ケ月後のプレリ
ンス水の水質の低下が認められるが、実施例に示す本発
明の洗浄システムによればプレリンス水の水質の低下は
認められない。また、比較例ではハイブリッドICの保
護ガラスの青ヤケと金属表面の変色が認められるが、実
施例では3ケ月後にも保護ガラスの青ヤケ、金属表面の
変色は認められない。また、比較例ではハイブリッドI
Cのフラックス残渣(残留イオン濃度および残留ロジン
量)が経時的に多くなるが、実施例ではフラックス残渣
が経時的に少なくなっており、被洗浄物からフラックス
残渣を効率よく剥離できていることが認められる。
る。
すすぎ水は、イオン性物質を有していないため良好なす
すぎ性を維持でき、循環使用しても汚れ成分が被洗浄物
に再付着することはなく、被洗浄物の侵食、金属類の腐
食、変色を防止できる。
すぎ水は、水の他に洗浄剤成分を含むため、単に水のみ
からなるすすぎ水では、被洗浄物から十分に剥離しえな
かった汚れ成分を効率よく剥離しうるとともに、洗浄剤
成分が汚れ成分中の油脂類等の有機物質をミセルとして
取り込み、被洗浄物への再付着を効率よく防止できる。
また、循環すすぎ廃水はイオン性物質を含まず、すすぎ
水が硬水にならないため、すすぎ性は低下しない。
ため、廃水量を大幅に削減できる。また、プレリンス槽
におけるすすぎ水は洗浄剤濃度が10重量%を越えても
透明な状態を維持できるため、プレリンス槽におけるす
すぎ水の交換濃度を高めることができる。また、純水再
生装置のイオン交換塔の延命ができる。また、長期間リ
サイクル使用した後に廃棄する場合にも、イオン性の重
金属や、酸性物質、アルカリ性物質が除去されており、
洗浄剤成分等の有機物質のみを含むため、廃水処理が容
易である。これらにより、すすぎ廃水の処理コストを低
減できる。
用される被洗浄物とその効果を具体的に示す。
青ヤケや、ガラス白ヤケを防止できる。また、ニッケル
メッキ、亜鉛メッキの変色を防止できる。
青ヤケや、ガラス白ヤケを防止できる。また、ワイヤボ
ンディングのアルミパッドの変色を防止でき、ボンディ
ング性能を向上できる。
ンフラックスの使用により、ギ酸、リン酸等のイオン性
物質の生成が多いが、金メッキ部分と導通しているハン
ダ部分、ニッケルまたは亜鉛メッキ部分の変色を防止で
きる。
使用により酸性成分等のイオン性物質の生成が多いが、
金属腐食を防止できる。
気ヘッドカバーの洗浄:最終仕上げリンス槽での純度を
高める(低電気伝導度にする)必要があり、仕上げリン
ス槽を多段階に設ける必要があるが、本発明の洗浄シス
テムによれば、仕上げリンス槽の数を減少でき、省コス
ト化を実現できる。
鉛ガラスはイオン性物質により腐食されやすく水をきら
っていたが、本発明の洗浄システムによれば、腐食を防
止でき、水系の洗浄が可能である。
る。
生成するすすぎ廃水を、イオン交換処理する装置の全体
を概略的に示したものである。
Claims (3)
- 【請求項1】 洗浄槽、プレリンス槽および仕上げリン
ス槽を設けてなる水すすぎを伴う非ハロゲン系洗浄剤を
用いた洗浄システムであって、プレリンス槽で生成する
すすぎ廃水をイオン交換処理して、該すすぎ廃水中に含
まれるイオン性物質を除去するとともに、該すすぎ廃水
中に含まれる非ハロゲン系洗浄剤および水を、プレリン
ス槽のすすぎ水として循環使用する工程を設けてなるこ
とを特徴とする洗浄システム。 - 【請求項2】 非ハロゲン系洗浄剤が、界面活性剤を含
有してなる請求項1記載の洗浄システム。 - 【請求項3】 界面活性剤が、ノニオン性界面活性剤で
ある請求項2記載の洗浄システム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6023221A JP3070379B2 (ja) | 1994-01-24 | 1994-01-24 | 洗浄システム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6023221A JP3070379B2 (ja) | 1994-01-24 | 1994-01-24 | 洗浄システム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07204591A true JPH07204591A (ja) | 1995-08-08 |
JP3070379B2 JP3070379B2 (ja) | 2000-07-31 |
Family
ID=12104601
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6023221A Expired - Lifetime JP3070379B2 (ja) | 1994-01-24 | 1994-01-24 | 洗浄システム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3070379B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09232731A (ja) * | 1996-02-28 | 1997-09-05 | Nec Toyama Ltd | 基板処理装置及び処理液中の金属イオン濃度の制御方法 |
JP2003080180A (ja) * | 2001-09-10 | 2003-03-18 | Asahi Kasei Corp | 洗浄方法及び洗浄装置 |
JP2007098240A (ja) * | 2005-10-03 | 2007-04-19 | Kurita Water Ind Ltd | 非イオン性界面活性剤含有水の処理方法及び処理装置 |
EP2016886A2 (en) | 2007-07-19 | 2009-01-21 | Fujifilm Corporation | Method of rinsing endoscopes |
CN115582326A (zh) * | 2022-10-11 | 2023-01-10 | 中锗科技有限公司 | 一种去除锗抛光片脏污和霉斑的方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04122406A (ja) * | 1990-09-11 | 1992-04-22 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 水洗水の循環処理方法 |
JPH04244289A (ja) * | 1991-01-28 | 1992-09-01 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 水洗水の処理方法 |
-
1994
- 1994-01-24 JP JP6023221A patent/JP3070379B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04122406A (ja) * | 1990-09-11 | 1992-04-22 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 水洗水の循環処理方法 |
JPH04244289A (ja) * | 1991-01-28 | 1992-09-01 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 水洗水の処理方法 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09232731A (ja) * | 1996-02-28 | 1997-09-05 | Nec Toyama Ltd | 基板処理装置及び処理液中の金属イオン濃度の制御方法 |
JP2003080180A (ja) * | 2001-09-10 | 2003-03-18 | Asahi Kasei Corp | 洗浄方法及び洗浄装置 |
JP2007098240A (ja) * | 2005-10-03 | 2007-04-19 | Kurita Water Ind Ltd | 非イオン性界面活性剤含有水の処理方法及び処理装置 |
EP2016886A2 (en) | 2007-07-19 | 2009-01-21 | Fujifilm Corporation | Method of rinsing endoscopes |
CN115582326A (zh) * | 2022-10-11 | 2023-01-10 | 中锗科技有限公司 | 一种去除锗抛光片脏污和霉斑的方法 |
CN115582326B (zh) * | 2022-10-11 | 2024-10-18 | 中锗科技有限公司 | 一种去除锗抛光片脏污和霉斑的方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3070379B2 (ja) | 2000-07-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5397495A (en) | Stabilization of silicate solutions | |
US5431847A (en) | Aqueous cleaning concentrates | |
US5269850A (en) | Method of removing organic flux using peroxide composition | |
US5196134A (en) | Peroxide composition for removing organic contaminants and method of using same | |
US5244000A (en) | Method and system for removing contaminants | |
US5264047A (en) | Low foaming effective hydrotrope | |
JP6226144B2 (ja) | 洗浄剤組成物原液、洗浄剤組成物および洗浄方法 | |
US20030066540A1 (en) | Semi-aqueous solvent cleaning of paste processing residue from substrates | |
JPH10264362A (ja) | 水性洗浄方法 | |
JP3086254B2 (ja) | 電子および電気アセンブリ洗浄用調合物 | |
JP2006249114A (ja) | 洗浄剤組成物及び洗浄方法 | |
JP3070379B2 (ja) | 洗浄システム | |
EP0458948B1 (en) | Peroxide composition for removing flux residue and method of using same | |
JPH04259387A (ja) | フラックス洗浄剤 | |
USRE35045E (en) | Method for removing soldering flux with alkaline metal carbonate salts and an alkali metal silicate | |
EP0574858B1 (en) | Inorganic oxidant compositions for removing contaminants | |
AU651253B2 (en) | Method and system for removing contaminants | |
JPH0768551B2 (ja) | 洗浄剤組成物 | |
JP3491656B2 (ja) | 金属の乾燥前処理剤および乾燥方法 | |
JP2715769B2 (ja) | 基板の洗浄処理方法 | |
JP3922315B2 (ja) | 金属用水切り防錆剤 | |
JP3594057B2 (ja) | 金属乾燥方法 | |
JPH07331287A (ja) | ロジン系フラックス残渣の洗浄方法 | |
WO1993016160A1 (en) | Defluxing composition and use thereof | |
HUT61585A (en) | Preparation for cleaning electronic spare parts |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 8 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080526 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090526 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 9 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090526 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 9 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090526 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100526 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 10 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100526 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110526 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 11 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110526 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 12 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120526 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 12 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120526 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130526 Year of fee payment: 13 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130526 Year of fee payment: 13 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 14 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140526 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |