JPH07201712A

JPH07201712A - 照度分布調整装置

Info

Publication number: JPH07201712A
Application number: JP5350629A
Authority: JP
Inventors: Kenji Endo; 健次遠藤; Tsutomu Kamiyama; 勉上山
Original assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 1993-12-27
Filing date: 1993-12-27
Publication date: 1995-08-04

Abstract

(57)【要約】【目的】誰でも簡単に照度分布の調整を行える照度分
布調整装置を提供する。【構成】初期処理部１０１による初期処理、ピーキン
グ処理部１０２によるピーキング処理の後、判定部１０
３は、露光領域内の所定の測定位置において照度分布を
測定し、測定した照度分布と基準の照度分布の許容範囲
とのズレ量を測定位置ごとに算出し、全測定位置の照度
が、基準の照度分布の許容範囲内に収まっていれば、終
了処理部１０７の終了処理の後、処理を終了し、そうで
なければ、移動量算出部１０５により光源６１の移動方
向・移動量が算出され、光源移動部１０６はその移動方
向・移動量で光源６１を移動させた後、判定部１０３の
処理に戻る。光源の移動方向・移動量は、光源の微小移
動前後の照度分布の各重心位置と、光源６１の微小移動
量と、基準位置とに基づき算出される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、交換可能な光源を含む
照明光学系から出射された照明光で露光し、液晶表示器
用ガラス基板や半導体基板等（以下、これらを「基板」
という）に塗布された感光材料に、マスクのパターンを
焼き付ける露光処理（フォト・リソグラフィ工程）で用
いられる露光装置に係り、特に、照明光学系から露光領
域に照射されるべき照明光の照度分布を、基準の照度分
布に調整する照度分布調整装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来のこの種の露光装置の一つである近
接露光装置による露光処理は以下のように行われてい
る。すなわち、基板は、所定位置に保持されたマスクと
位置合わせがなされ、マスクと所定のギャップを隔てて
近接される。その状態で照明光学系からの照明光がマス
クを経て基板に照射されることにより、マスクに描画さ
れたパターンが基板に塗布された感光材料に焼き付けら
れる。

【０００３】照明光学系は、フライアイレンズやフレネ
ルレンズ等を含む光学系と、光源等で構成されている。
光源から出射された光は、光源の周りを覆う楕円鏡で集
光され、フライアイレンズに入射する。フライアイレン
ズに入射した光は、フライアイレンズを構成する複数個
のエレメントレンズによって分割され、フレネルレンズ
に入射する。各エレメントレンズから出射された光は、
フレネルレンズ上で再合成され、フレネルレンズから
は、所定の照度分布の光が出射される。また、フライア
イレンズはフレネルレンズの焦点位置に配置されるの
で、フレネルレンズからは平行光が出射され、照明光学
系からは所定の照度分布の平行光（照明光）が露光領域
に向けて照射される。また、この照明光学系から露光領
域に向けて照射される照明光の照度分布は、装置ごとに
基準の照度分布に調整されているので、露光処理時にお
ける露光領域への光量分布が所望の光量分布になり、基
板へのパターンの焼き付け精度の均一化が図られてい
る。なお、照明光学系から露光領域に向けて照射される
照明光の照度分布は、フライアイレンズの各エレメント
レンズに入射する光の照度分布に左右される。

【０００４】ところで、照明光学系の光源は寿命がくる
と交換される。この交換は、作業員が光源の電極接続を
外した後、新しい光源と取り替えることにより行われ
る。光源としては一般に超高圧水銀灯が用いられている
が、この超高圧水銀灯自体の発光部分は基本的に放電で
あるので、光源自体のでき具合、すなわち、固体差によ
って光源内の発光位置が異なる。従って、取り替え前の
光源の取り付け位置に、新たな光源を取り付けても、新
たな光源からの光がフライアイレンズの各エレメントレ
ンズに入射する照度分布は、必ずしも、交換前の光源か
らの光がフライアイレンズの各エレメントレンズに入射
する照度分布と一致するとは限らず、露光処理時におい
て、交換後の光源から露光領域に照射される照明光の照
度分布は、交換前の光源から露光領域に照射される照明
光の照度分布と同じであるとは限らない。

【０００５】そのため、光源の取り付け部は、その位置
をフライアイレンズに対してＸ、Ｙ、Ｚの３次元方向に
移動できるように構成されている。そして、光源の取り
付け部を移動させながら、照明光学系から露光領域に所
定の照度分布で照明光が照射されるように調整する必要
がある。この調整作業は、従来、専門の技術者によって
行われている。すなわち、露光処理時に、照明光学系か
ら出射され、露光領域に照射される照明光の照度分布
を、基準の照度分布に調整するために、技術者は、照度
計を用いて照明光学系から露光領域に照射される照明光
の照度分布を複数個の測定位置で測定して、測定した照
度分布が基準の照度分布の許容範囲に収まるまで、光源
の取り付け部を３次元方向に移動する作業を繰り返し行
っている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成を有する従来例の場合には、次のような問題が
ある。すなわち、従来の光源の交換作業は、光源の交換
を行った後、人手によって、照度分布の調整作業を行っ
ているが、この調整作業は難しいので、誰でも行えるも
のではなく、そのための熟練した専門技術者を必要とし
ていた。

【０００７】また、この専門技術者は、照度分布の調整
作業において、各測定位置の照度の測定と光源の移動を
繰り返すという煩わしい作業を行わなければならず、専
門技術者の負担は多大なものであるし、その調整作業に
長時間を要することもあり、光源交換時における装置の
ダウンタイムが大きくなっているという問題もある。

【０００８】しかも、超高圧水銀灯の寿命は、約１００
０時間と短いので、上記のような光源の取替え作業は頻
繁に行う必要があり、そのたびに煩雑な照度分布の調整
作業を行わなければならないので、専門技術者の負担は
多大なものであり、また、光源交換時の装置のダウンタ
イムが頻繁に起きることから、生産性の低下をもたらし
ている。

【０００９】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、誰でも簡単に照度分布の調整を行える
照度分布調整装置を提供することを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、本発明は、交換可能な光源を含む照明光学系から出
射される照明光によって、マスクに形成されたパターン
を基板に塗布された感光材料に露光する露光装置に備え
られ、前記照明光学系から出射され、前記基板の露光領
域に照射されるべき照明光の照度分布を調整する照度分
布調整装置であって、前記照明光学系から出射され、前
記露光領域に照射される照明光の照度分布を測定する照
度分布測定手段と、前記照度分布測定手段で測定した照
度分布と、基準の照度分布とに基づき、前記光源の位置
の移動が必要か否かを判定する判定手段と、前記判定手
段で光源の位置の移動が必要であると判定された場合、
必要な光源の移動方向と移動量とを算出する移動量算出
手段と、前記移動量算出手段で算出された移動方向・移
動量で、前記光源の位置を移動させる光源移動手段と、
を備えたものである。

【００１１】

【作用】本発明の作用は次のとおりである。判定手段
は、照度分布測定手段で測定した照度分布と、基準の照
度分布とに基づき、光源の位置の移動が必要か否かを判
定する。判定手段で光源の位置の移動が必要であると判
定された場合、移動量算出手段は、必要な光源の移動方
向と移動量とを算出する。そして、光源移動手段は、移
動量算出手段で算出された移動方向・移動量で、光源の
位置を移動させる。

【００１２】

【実施例】以下、図面を参照して本発明の一実施例を説
明する。図１は、本発明の一実施例に係る照度分布調整
装置を備えた近接露光装置の全体構成を示す正面図、図
２は、その平面図である。ただし、図１では、搬送機構
の図示を省略しており、図２では、照明光学系の図示を
省略している。なお、本実施例では、液晶表示器用ガラ
ス基板（以下、単に「基板」という）を露光するための
近接露光装置に備えられた照度分布調整装置を例に採り
説明する。

【００１３】この近接露光装置は、大きく分けて、感光
材料が塗布された基板１を基板カセット３１から取り出
す基板ローダ部３と、所定位置に保持されたマスク２に
描画されたパターンを基板１の感光材料に焼き付ける露
光部４と、露光済の基板１を露光済基板カセット５１に
収納する基板アンローダ部５と、照明光学系６と、基板
ローダ部３から露光部４に基板１を搬入するとともに、
露光部４から基板アンローダ部５に露光済基板１を搬出
する搬送機構７等によって構成されている。各部の構成
を、主に露光処理中の動作に従って以下に説明する。

【００１４】まず、基板ローダ部３の構成を説明する。
基板ローダ部３には、基板カセット３１から基板１を取
り出し、搬送機構７に渡すローダロボット３２が備えら
れている。ローダロボット３２の構成を、図３を参照し
て説明する。図３に示すように、ローダロボット３２
は、伸縮自在で、かつ、回動自在の支持軸３３がロボッ
ト本体３４に設けられ、その支持軸３３にアーム支持台
３５が取り付けられており、このアーム支持台３５の長
手方向に沿って移動自在の移動部材３６を介してアーム
３７がアーム支持台３５に取り付けられて構成されてい
る。すなわち、図３（ａ）に示すように、支持軸３３を
伸縮させることにより、アーム３７はＺ方向に昇降可能
であり、図３（ａ）、（ｂ）に示すように、移動部材３
６をアーム支持台３５の長手方向に沿って移動させるこ
とにより、アーム３７は伸縮可能である。また、図３
（ｂ）に示すように、支持軸３３を回動させることによ
り、アーム３７の伸長方向を任意に選択することも可能
である。このアーム３７の先端部と基端部には、基板１
を吸着保持するための吸着パッド部３８ａ、３８ｂが設
けられている。なお、吸着パッド部３８ａ、３８ｂの孔
３８ｃは、図示しない真空ポンプに連通接続されてお
り、この孔３８ｃによって吸着パッド部３８ａ、３８ｂ
に当接した基板１を真空吸着するように構成されてい
る。また、アーム３７の先端部の吸着パッド部３８ａに
は、後述する照度分布調整処理時に使用される照度セン
サ３９も取り付けられている。

【００１５】基板カセット３１には、感光材料が塗布さ
れた複数枚の基板１が所定間隔を隔てて収納されてい
る。ローダロボット３１は、露光処理中、アーム３７を
基板カセット３１方向に伸長可能な状態にして、支持軸
３３を伸長させてアーム３７をＺ方向に上昇させ、さら
に、アーム３７を伸長させて、基板カセット３１の最下
段に収納された基板１の下方にアーム３７を挿入させ、
さらに、アーム３７を上昇させて、基板カセット３１の
棚に両端部が載置された基板１を吸着パッド部３８ａ、
３８ｂで受け取って吸着保持する。そして、アーム３７
を収縮させて基板１を基板カセット３１から取り出し、
アーム３７をＺ方向に降下させ、基板１の吸着保持を解
除して、待機している搬送機構７に、取り出した基板１
を渡すように構成されている。この露光処理中のローダ
ロボット３１の動作は、後述する露光処理制御部により
制御されるように構成されている。なお、基板１を受け
取った搬送機構７は、その基板１を露光部４に搬入す
る。

【００１６】また、ローダロボット３１は、照度分布調
整処理中、支持軸３３を回動させてアーム３７を露光部
４方向に伸縮可能な状態にして、アーム３７の伸長と回
転とを行うことにより、図４に示すように、露光部４の
マスクホルダ２１と露光ステージ４１の間の空間におい
て基板１を露光する露光領域ＲＡ内で照度を測定する測
定位置ＳＰに照度センサ３９を移動させ、各測定位置Ｓ
Ｐの照度を測定するように動作する。この照度分布調整
処理中のローダロボット３１、照度センサ３９の動作
は、後述する照度分布調整処理制御部により制御される
ように構成されている。

【００１７】図１、図２に戻って、露光部４の構成を説
明する。露光部４には、マスク２が所定位置に位置付け
られてマスクホルダ２に吸着保持され、マスク２の上方
に照明光学系６が配置され、マスク２の下方に露光ステ
ージ４１が備えられている。この露光ステージ４１は、
Ｚ方向駆動機４３によりＺ方向に昇降自在に構成されて
いるとともに、Ｘ−Ｙ平面において水平移動（Ｘ方向の
移動と、Ｙ方向の移動と、回動）が可能に構成されてい
る。また、露光ステージ４１には、複数個（図では４
個）の伸縮自在の支持ピン４２が付設されている。各支
持ピン４２が伸長されると露光ステージ４１の上面から
突出された状態になり、各支持ピン４２が収縮されると
露光ステージ４１の上面より引っ込んだ状態になる。こ
の支持ピン４２の伸縮動作は、後述するマスク交換処理
と照度分布調整処理で行われ、露光処理中は、後述する
ように、露光ステージ４１の上面で基板１を吸着保持す
る動作の邪魔にならないように、各支持ピン４２は常に
収縮された状態（露光ステージ４１の上面より引っ込ん
だ状態）にされている。

【００１８】この露光部４では、露光処理中、搬送機構
７によって露光ステージ４１とマスク２との間に基板１
が搬入されると、露光ステージ４１をＺ方向に上昇さ
せ、搬送機構７から基板１を受け取らせ、基板１を露光
ステージ４１の上面に吸着保持させる。そして、図示し
ない位置ズレ検出機構で基板１とマスク２との位置ズレ
を検出して、検出した位置ズレを補正するように露光ス
テージ４１を水平移動させてプリアライメントを行う。
その後、露光ステージ４１をさらに上昇させ、基板１を
マスク２から所定のギャップを隔てた状態に配置し、そ
の状態で図示しない顕微光学系を用い、露光ステージ４
１を水平方向に移動させてファインアライメントを行
う。そして、照明光学系６から出射される平行光でマス
ク２のパターンを基板１の感光材料に焼き付ける。露光
が終了すると、露光ステージ４１をＺ方向に降下させ、
露光済基板１の吸着を解除させて、既に待機している搬
送機構７に露光済基板１を渡し、露光ステージ４１をさ
らに待機位置まで降下させ、次の基板１が搬入されるま
で待機させる。この露光処理中の露光部４の露光ステー
ジ４１や位置ズレ検出機構、顕微光学系等の動作は、後
述する露光処理制御部により制御されるように構成され
ている。なお、露光済基板１を受け取った搬送機構７
は、その露光済基板１を基板アンローダ部５に搬出す
る。

【００１９】次に、基板アンローダ部５の構成を説明す
る。基板アンローダ部５には、アンローダロボット５２
が備えられている。このアンローダロボット５２は、上
述した基板ローダ部３に備えられたローダロボット３２
と基本的に同様の構成のものであるが、アンローダロボ
ット５２には照度センサ３９は取り付けられておらず、
マスク用吸着パッド部５８ｄ、５８ｅがアーム５７に設
けられている。このマスク用吸着パッド部５８ｄ、５８
ｅは、後述するマスク交換処理等において、マスク２を
吸着保持するためのものであり、マスク２が（露光済）
基板１に比べてサイズが大きいことから、マスク用吸着
パッド部５８ｄ、５８ｅは、露光済基板１の吸着用の吸
着パッド部５８ａ、５８ｂよりも外側に設けられてい
る。また、マスク用吸着パッド部５８ｄ、５８ｅでマス
ク２を吸着する際、マスク用吸着パッド部５８ｄ、５８
ｅに吸着保持されたマスク２が露光済基板１の吸着用の
吸着パッド部５８ａ、５８ｂの吸着面に擦れないよう
に、マスク用吸着パッド部５８ｄ、５８ｅの吸着面は、
露光済基板１の吸着用の吸着パッド部５８ａ、５８ｂの
吸着面よりも高くなるように構成されている。なお、図
１、図２中の符号５３は支持軸、３４はロボット本体、
３５はアーム支持台、３６は移動部材、３８ｃは吸着孔
をそれぞれ示す。

【００２０】このアンローダロボット５２は、露光処理
中、アンローダロボット５２のアーム５７を処理済基板
カセット５１方向に伸長可能な状態にして、搬送機構７
が露光済基板１をアーム５７の上方に搬出してくると、
アーム５７をＺ方向に上昇させて露光済基板１を搬送機
構７から受け取り、アーム５７の吸着パッド部５８ａ、
５８ｂで吸着保持しさらに上昇させる。そして、アーム
５７を伸長させて、露光済基板カセット５１内に露光済
基板１を挿入して、露光済基板１の吸着保持を解除し
て、アーム５７をＺ方向に降下させ露光済基板１を露光
済基板カセット５１内の所定の棚に、露光済基板１の両
端部を載置して収納する。そして、アーム５７を収縮さ
せて、アーム５７を露光済基板カセット５１から退出さ
せ、さらにアーム５７をＺ方向に降下させて次の露光済
基板１が搬出されるまで待機する。この露光処理中のア
ンローダロボット５２の動作は、後述する露光処理制御
部により制御されるように構成されている。なお、露光
済基板カセット５１は、複数枚の露光済基板１が収納で
きるように構成されている。

【００２１】また、このアンローダロボット５２は、上
述したように、マスク２の交換も行えるように構成され
ている。すなわち、マスク交換処理中、マスク２はマス
クホルダ２１の吸着保持が解除され、露光ステージ４１
が、支持ピン４２を伸長させた状態でＺ方向に上昇され
て、マスク２が、マスクホルダ２１から浮いた状態で、
露光ステージ４１の支持ピン４２に支持される。そし
て、アンローダロボット５２は、アンローダロボット５
２のアーム５７を露光部４方向に伸長可能な状態にし
て、アーム５７をＺ方向に上昇させ、さらにアーム５７
を伸長させて、アーム５７をマスクホルダ２１と、支持
ピン４２に支持されたマスク２との間の空間に挿入させ
る。なお、露光処理中、照明光学系６から出射される光
以外の外部からの光がマスク２に照射されないように、
照明光学系６とマスクホルダ２１との間の周囲は、マス
ク２を挿抜するための図示しない開閉自在のシャッター
が付設された遮光壁２２で囲われている。従って、上記
アーム５７の伸長の際には、このマスク挿抜用のシャッ
ターは開かれる。アーム５７がマスクホルダ２１とマス
ク２との間の空間に挿入されると、露光ステージ４１を
Ｚ方向に降下させて、マスク２をアーム５７のマスク用
吸着パッド部５８ｄ、５８ｅに渡す。マスク２が渡され
ると、マスク用吸着パッド部５８ｄ、５８ｅにマスク２
を吸着保持させ、アーム５７を収縮させて、マスク２を
露光部４から取り出す。なお、マスク２が取り出される
と、上記マスク挿抜用のシャッターは閉じられる。そし
て、アンローダロボット５２は、支持軸５３を９０°回
転させて、アンローダロボット５２の側方に設置されて
いるマスクカセット５９方向にアーム５７を伸長可能な
状態にして、アーム５７をＺ方向に上昇または降下さ
せ、さらにアーム５７を伸長させて、取り出したマスク
２をマスクカセット５９の所定の棚に挿入させ、マスク
吸着パッド部５８ｄ、５８ｅの吸着保持を解除し、アー
ム５７をＺ方向に降下させて、マスク２をマスクカセッ
ト５９の所定の棚に収納する。そして、アーム５７を収
縮させて、アーム５７をマスクカセット５９から退出さ
せる。ここまででマスク交換処理のマスク取り出し処理
が終了する。なお、マスクカセット５９は、複数枚のマ
スク２を収納するための棚が設けられている。

【００２２】次に、上述のマスク取り出し処理と逆の動
作でマスクセッテイング処理が行われる。すなわち、ア
ンローダロボット５２は、アーム５７をＺ方向に上昇ま
たは降下させ、さらにアーム５７を伸長させて、マスク
カセット５９に収納されている、セッテングすべきマス
ク２の下方にアーム５７を挿入させ、さらにアーム５７
を上昇させて、マスク吸着パッド部５８ｄ、５８ｅでマ
スク２を持ち上げ、持ち上げたマスク２をマスク吸着パ
ッド部５８ｄ、５８ｅで吸着保持する。そして、アーム
５７を収縮させて、マスク２をマスクカセット５９から
取り出す。次に、支持軸５３を９０°逆回転させて、ア
ーム５７を露光部４方向に伸縮可能な状態にして、アー
ム５７をＺ方向に上昇または降下させ、さらにアーム５
７を伸長させて、マスク２をアームホルダ２１の上方の
空間に挿入させる。なお、このときにも、上記マスク挿
抜用のシャッターは開かれる。そして、マスク用吸着パ
ッド部５８ｄ、５８ｅのマスク２の吸着保持を解除し、
支持ピン４２を伸長させた露光ステージ４１をＺ方向に
上昇させて、マスク２をマスク用吸着パッド部５８ｄ、
５８ｅから支持ピン４２に渡す。そして、アーム５７を
収縮させて、アーム５７を露光部４から退出させる。な
お、アーム５７が露光部４から退出されると、上記マス
ク挿抜用のシャッターは閉じられる。また、アーム５７
はＺ方向に降下されて待機される。次に、図示しない顕
微光学系でマスク２の位置を検出しながら、露光ステー
ジ４１をＸ−Ｙ平面内で水平移動させ、マスク２の位置
合わせを行う。そして、露光ステージ４１をＺ方向に降
下させて、マスク２をマスクホルダ２１に渡す。マスク
ホルダ２１は、受け取ったマスク２を吸着保持し、一
方、露光ステージ４１は、支持ピン４２を収縮させ、さ
らにＺ方向に降下して待機位置で待機される。これで、
マスクセッティング処理が終了し、マスク交換処理が完
了する。

【００２３】このマスク交換処理中のアンローダロボッ
ト５２や露光ステージ４１、顕微光学系、マスク挿抜用
のシャッター等の動作は、後述するマスク交換処理制御
部により制御されるように構成されている。

【００２４】なお、このマスク交換処理のマスク取り出
し処理とマスクセッテイング処理は、後述する照度分布
調整処理中においてもそれぞれ分離して実行されるが、
このときのマスク取り出し処理とマスクセッテイング処
理中のアンローダロボット５２や露光ステージ４１、顕
微光学系、マスク挿抜用のシャッター等の動作は、後述
する照度分布調整処理制御部により制御されるように構
成されている。

【００２５】次に、搬送機構７の構成を説明する。この
搬送機構７は、基板ローダ部３から露光部４（露光部４
から基板アンローダ部５）に渡る長さを有する、分離さ
れた２本のアーム７１、７２が、基板ローダ部３と露光
部４とに渡って位置している状態と、露光部４と基板ア
ンローダ部５とに渡って位置している状態とを、同期し
て往復移動するように構成されている。また、各アーム
７１、７２の後端側には、基板１を基板ローダ部３から
露光部４に搬入する際、基板１を吸着保持するための吸
着パッド部７３がそれぞれ設けられており、各アーム７
１、７２の前端側には、露光済基板１を露光部４から基
板アンローダ部５に搬出する際、露光済基板１を吸着保
持するための吸着パッド部７４がそれぞれ設けられてい
る。

【００２６】搬送機構７は、露光処理中、各アーム７
１、７２が、基板ローダ部３と露光部４とに渡って位置
している状態において、基板ローダ部３では、ローダロ
ボット３２から基板１を各アーム７１、７２の後端側の
各吸着パッド部７３で受け取り、露光部４では、露光ス
テージト４１から露光済基板１を各アーム７１、７２の
前端側の各吸着パッド部７４で受け取る。このとき、ロ
ーダロボット３２のアーム３７は、搬送機構７の各アー
ム７１、７２の間の空間を降下して、取り出した基板１
を各アーム７１、７２の各吸着パッド部７３に渡し、搬
送機構７は、各吸着パッド部７３が基板１を受け取る
と、受け取った基板１を各吸着パッド部７３に吸着保持
し、露光部４において露光済基板１を各アーム７１、７
２の吸着パッド部７４で吸着保持するまで待機する。一
方、露光ステージ４１は、搬送機構７の各アーム７１、
７２の間の空間を降下して、露光済基板１を各アーム７
１、７２の各吸着パッド部７４に渡し、搬送機構７は、
各吸着パッド部７４が露光済基板１を受け取ると、受け
取った露光済基板１を各吸着パッド部７４に吸着保持す
る。そして、基板ローダ部３で基板１を、露光部４で露
光済基板１をそれぞれ受け取り、各吸着パッド部７３、
７４で吸着保持すると、各アーム７１、７２を、露光部
４と基板アンローダ部５とに渡って位置している状態に
移動させ、基板１の搬入と露光済基板１の搬出とを同時
に行う。この状態において、露光部４では、各アーム７
１、７２の間の空間を、露光ステージ４１がＺ方向に上
昇して、搬入された基板１が露光ステージ４１の上面に
受け渡される。このとき、各吸着パッド部７３による基
板１の吸着保持は解除されている。そして、露光ステー
ジ４１が受け取った基板１は上記露光部４で説明したよ
うに露光がなされる。一方、基板アンローダ部５では、
各アーム７１、７２の間の空間を、アンローダロボット
５２のアーム５７がＺ方向に上昇して、搬出された露光
済基板１がアンローダロボット５２のアーム５７に受け
渡される。このとき、各吸着パッド部７４による露光済
基板１の吸着保持は解除されている。そして、アンロー
ダロボット５２が受け取った露光済基板１は上記基板ア
ンローダ部５で説明したように露光済基板カセット５１
に収納される。搬入した基板１を露光ステージ４１に、
搬出した露光済基板１をアンローダロボット５２にそれ
ぞれ渡すと、搬送機構７は、各アーム７１、７２を、基
板ローダ部３と露光部４とに渡って位置している状態に
移動させ、基板ローダ部３で次に搬入する基板１をロー
ダロボット３２から受け取り、露光部４で前回搬入して
露光が終了した露光済基板１を受け取り、それらの搬入
と搬出とを上述したように行い、以後同様の処理を繰り
返す。この露光処理中の搬送機構７の動作は、後述する
露光処理制御部により制御されるように構成されてい
る。

【００２７】次に、照明光学系６の構成を図１、図５を
参照して説明する。図５は、照明光学系の光源の取り付
け部を移動させる移動機構の構成を示す図である。

【００２８】照明光学系６においては、図１に示すよう
に、光源（超高圧水銀灯）６１から出射された光が楕円
鏡６２で集光され、ミラー６３により光路が折り返さ
れ、フレネルレンズ６６の焦点位置に配置されたフライ
アイレンズ６４を構成する各エレメントレンズに入射す
る。そして、フライアイレンズ６４から出射された光
は、ミラー６５により光路が再び折り返された後、フレ
ネルレンズ６６に入射し、フライアイレンズ６４の各エ
レメントレンズで分割された光がフレネルレンズ６６で
再合成され、また、平行光にされてマスク２に照射され
る。なお、図中、符号６７は光源６１からの光の出射を
制御するための光源シャッターを示し、露光処理中は、
露光部４において基板１の露光が行われる間だけ、この
光源シャッター６７が開にされ、また、照度分布調整処
理中は、常に光源シャッター６７が開にされるように構
成されている。この光源シャッター６７の露光処理中の
開閉制御は、後述する露光処理制御部により行われ、照
度分布調整処理中の光源シャッターの開閉制御は、後述
する照度分布調整処理制御部により行われるように構成
されている。また、光源６１、楕円鏡６２、ミラー６
３、６５、フライアイレンズ６４、フレネルレンズ６
６、光源シャッター６７はランプハウス６０に収納され
ており、フレネルレンズ６６がランプハウス６０の平行
光出射窓になっている。

【００２９】この光源６１の取り付け部は、図５に示す
ように、ランプ固定板６００、絶縁用のセラミック板６
０１を介してＸＹＺステージ６０３に支持されており、
Ｘ、Ｙ、Ｚの３次元方向に移動自在に構成され、光源６
１と図示しないフライアイレンズ６４との位置関係を変
位できるようになっている。ＸＹＺステージ６０３は、
ランプハウス６０に固設された支持板６０４に対してＸ
方向可動板６０５がＸ方向に移動し、また、Ｘ方向可動
板６０５に固設された支持板６０６に対してＹ方向可動
板６０７がＹ方向に移動し、さらに、Ｙ方向可動板６０
７に固設された支持板６０８に対してＺ方向に伸縮可能
なＺ方向可動軸６０９が「Ｌ」の字型の支持部材６１０
をＺ方向に変位させることにより、支持部材６１０にセ
ラミック板６０１、ランプ固定板６００を介して固定さ
れた光源６１を、３次元方向に移動させる。上記Ｘ方向
可動板６０５、Ｙ方向可動板６０７、Ｚ方向可動軸６０
９は、図示しない３個のモータにより、それぞれ独立し
て駆動可能に構成されている。このＸＹＺステージ６０
３（各モータ）の駆動は、後述する照度分布調整処理制
御部により制御されるように構成されている。なお、ケ
ーブル６１１は光源６１の電極６１２に接続されてお
り、ケーブル６１１から高電圧を印加することにより光
源６１が点灯される。この光源６１の点灯と消灯の制御
は、後述する全体制御部により行われるように構成され
ている。また、光源６１の交換が可能なように、光源６
１はランプ固定板６００から取り外すことができる。

【００３０】次に、近接露光装置の制御部の構成を図６
を参照して説明する。図６は、近接露光装置の制御部の
構成を示すブロック図である。

【００３１】図６に示すように、この近接露光装置の制
御部８は、全体制御部８１と露光処理制御部８２とマス
ク交換処理制御部８３とパラメータ登録処理制御部８４
と照度分布調整処理制御部８５とで構成されている。各
部の構成と動作を以下に説明する。

【００３２】まず、全体制御部８１の構成と動作を図
６、図７を参照して説明する。図７は、制御部内の全体
制御部の動作を示すフローチャートである。全体制御部
８１は、初期処理を行うとともに、入力装置９１から入
力された処理選択情報に基づき、露光処理制御部８２ま
たはマスク交換処理制御部８３またはパラメータ登録処
理制御部８４または照度分布調整処理制御部８５に制御
を渡すか、あるいは、光源６１の点灯処理か消灯処理か
装置停止を実行するように構成されている。

【００３３】処理が開始されると、まず、初期処理を実
行する（ステップＳ１）。この初期処理では、ローダロ
ボット３２や露光ステージ４１、アンローダロボット５
２、搬送機構７を初期状態にする等の装置の立上げ処理
が行われる。

【００３４】次に、入力装置９１から処理選択情報が入
力されるのを待ち（ステップＳ２）、処理選択情報が入
力されるとその情報に応じて各制御部に制御を渡す等の
処理を実行する。すなわち、入力された処理選択情報
が、露光処理であれば、露光処理制御部８２に制御を渡
し（ステップＳ３、Ｓ４）、また、入力された処理選択
情報が、マスク交換処理であれば、マスク交換処理制御
部８３に制御を渡し（ステップＳ５、Ｓ６）、さらに、
入力された処理選択情報が、パラメータ登録処理であれ
ば、パラメータ登録処理制御部８４に制御を渡し（ステ
ップＳ７、Ｓ８）、また、入力された処理選択情報が、
照度分布調整処理であれば、照度分布調整処理制御部８
５に制御を渡す（ステップＳ９、Ｓ１０）。さらに、入
力された処理選択情報が、光源の点灯であれば、光源６
１に高電圧を印加して光源６１を点灯し（ステップ１
１、Ｓ１２）、入力された処理選択情報が、光源の消灯
であれば、光源６１に高電圧を印加するのを停止して光
源６１を消灯する（ステップ１３、Ｓ１４）。さらに、
入力された処理選択情報が、装置停止であれば（ステッ
プＳ１５）、処理を終了（装置を停止）させる。

【００３５】なお、入力装置９１は、各種のデータを制
御部８に入力するためのものであり、例えば、キーボー
ドとＣＲＴ、または、タッチパネル、あるいは、各種の
データ設定を行うスイッチを備えた操作盤等によって構
成されている。

【００３６】次に、露光処理制御部８２の構成と動作を
説明する。露光処理制御部８２は、入力装置９１から露
光処理が選択されたとき、全体制御部８１から制御が渡
される。この露光処理制御部８２は、ローダロボット３
２、露光ステージ４１、位置ズレ検出機構、顕微光学
系、アンローダロボット５２、搬送機構７、光源シャッ
ター６７等を制御して、上述したように、基板カセット
３１から基板１を取り出し、その基板１を露光部４に搬
入させて露光を行い、露光済基板１を基板アンローダ部
５に搬出させて、露光済基板カセット５１に収納する処
理を連続的に行うように制御する。また、この露光処理
中に、入力装置９１から露光処理の停止が指示される
と、露光処理を停止して、全体制御部８１に制御を返す
ように構成されている。

【００３７】次に、マスク交換処理制御部８３の構成と
動作を説明する。マスク交換処理制御部８３は、入力装
置９１からマスク交換処理が選択されたとき、全体制御
部８１から制御が渡される。このマスク交換処理制御部
８３は、アンローダロボット５２、露光ステージ４１、
顕微光学系、マスク挿抜用のシャッター等を制御して、
上述したマスク取り出し処理とマスクセッティング処理
とを続けて行うように制御する。なお、マスクセッティ
ング処理が終了（マスク交換処理が完了）すると、全体
制御部８１に制御を返すように構成されている。

【００３８】次に、パラメータ登録処理制御部８４の構
成と動作を説明する。パラメータ登録処理制御部８４
は、入力装置９１からパラメータ登録処理が選択された
とき、全体制御部８１から制御が渡される。このパラメ
ータ登録処理制御部８４は、入力装置９１から設定され
る、後述する照度分布調整処理の実行に必要な各種のパ
ラメータを外部記憶装置９２に登録する制御を行う。す
なわち、入力装置９１からパラメータが入力されると、
そのパラメータを取り込んで、メモリ９３に記憶してい
き、全てのパラメータの設定が完了したとき、メモリ９
３に記憶したパラメータをまとめて外部記憶装置９２に
登録させる。

【００３９】ここで、登録されるパラメータを説明す
る。なお、各パラメータの使用目的等の詳細について
は、後述する照度分布調整処理で明らかにする。

【００４０】（Ａ）ピーキング処理で使用される光源
６１の移動ピッチＰｘ、Ｐｙ、Ｐｚ。

【００４１】（Ｂ）ピーキング処理で使用される光源
６１の駆動範囲Ａｘ、Ａｙ、Ａｚ。なお、この駆動範囲
Ａｘ、Ａｙ、Ａｚはそれぞれの駆動範囲の下限と上限と
で設定される。すなわち、ＡｘはＡｘ_min（下限）とＡ
ｘ_max（上限）、ＡｙはＡｙ_min（下限）とＡｙ
_max（上限）、ＡｚはＡｚ_min（下限）とＡｚ_max（上
限）が設定される。

【００４２】（Ｃ）照度測定処理等で使用される測定
位置ＤＰ。この測定位置は、図８に示すように、露光領
域ＲＡの中心位置ＣＰを原点（０，０）としたｘ−ｙ直
交座標系（以下、「測定座標系」という）の座標（ｘ，
ｙ）（例えば、（１，１）等）で指定される。この測定
位置ＤＰ（ｘ，ｙ）は、照度測定する全位置（複数位
置）が指定される。なお、この測定座標系のｘ、ｙ軸
は、図１ないし図４に表示しているＸ、Ｙ軸と平行であ
る。また、図８中のｘ_maxは露光領域ＲＡ内のｘ座標の
最大値、−ｘ_maxは露光領域ＲＡ内のｘ座標の最小値、
ｙ_maxは露光領域ＲＡ内のｙ座標の最大値、−ｙ_maxは
露光領域ＲＡ内のｙ座標の最小値をそれぞれ示す。

【００４３】（Ｄ）上記（Ｃ）の測定座標系の座標ピ
ッチＺＰ（図８参照）の実長。この座標ピッチＺＰの実
長は、露光対象物に求められる解像力を基準として決め
られる。この座標ピッチＺＰの実長として、例えば１cm
として登録したとき、上記（Ｃ）においてＤＰ（１，
１）を登録したとき、その位置ＤＰ（１，１）は、露光
領域ＲＡの中心位置ＣＰ（原点（０，０））からＸ（の
正）方向に１cm、Ｙ（の正）方向に１cm離れた位置を指
していることになる。

【００４４】（Ｅ）以下の式（１）で表される基準の
照度分布Ｉ（ｒ）の分布係数ａ、ｂ、ｃ、…。Ｉ（ｒ）＝ｋ（１＋ａｒ²＋ｂｒ⁴＋ｃｒ⁶＋…） …… （１）ただし、ｒは、露光領域ＲＡの中心位置ＣＰからの距離
（実長）であり、次式で定義される。ｒ＝ √（ｘ_r ²＋ｙ_r ²） …… （２）なお、ｘ_rは、測定座標系のｘ座標の実長であり、（測
定座標系のｘ座標）×（測定座標系の座標ピッチＺＰの
実長）で求まり、また、ｙ_rは、測定座標系のｙ座標の
実長であり、（測定座標系のｙ座標）×（測定座標系の
座標ピッチＺＰの実長）で求まる。さらに、ｋは、分布
変数であり、後述する照度分布調整処理中において、照
度分布の実測値に基づき特定される。

【００４５】（Ｆ）上記ｋを特定する際に使用される
ｋの変動幅ｋｗ。

【００４６】（Ｇ）上記ｋを特定する際に、上記ｋの
変動幅ｋｗ内でｋの値を変動するときの変動ピッチｋ
ｐ。

【００４７】（Ｈ）照度分布の許容範囲を決める許容
定数ｍ。後述するように、露光領域ＲＡの照度分布は、
上式（１）で定義される基準の照度分布Ｉ（ｒ）に一致
するように調整するのが好ましいが、基準の照度分布Ｉ
（ｒ）に対してある程度のバラツキがあっても実用上大
きな問題とならない。従って、照度分布調整処理におい
て、調整する照度分布の許容範囲を設けており、許容定
数ｍは、その許容範囲を決めるための定数であり、許容
範囲は、ｍにより以下の式で定義される。〔Ｉ（ｒ）−ｍ×Ｉ（ｒ）〕〜〔Ｉ（ｒ）＋ｍ×Ｉ（ｒ）〕 …… （３）ここで、〔Ｉ（ｒ）−ｍ×Ｉ（ｒ）〕は許容範囲の下限
値、〔Ｉ（ｒ）＋ｍ×Ｉ（ｒ）〕は許容範囲の上限値で
ある。なお、ｍは、０〜１の値で設定される。

【００４８】（Ｉ）中止判定部での判定に使用する移
動許容回数ＡＮ。照度分布が上記（Ｆ）で決めた照度分
布の許容範囲内に収束しないときに処理を中止させるた
めの光源６１の移動調整処理の許容回数である。

【００４９】（Ｊ）光源６１の移動方向・移動量の算
出のために、光源６１を微小移動せるときの光源６１の
微小移動量Δｘｓ、Δｙｓ。

【００５０】図６に戻って、外部記憶装置９２は、装置
が停止され、電源の供給が無くなっても、記憶したデー
タを保存している不揮発性の記憶装置であり、例えば、
磁気ディスク装置やフレキシブルディスク装置等で構成
されている。また、メモリ９３は、データの一時記憶に
使用されるので、半導体ＲＡＭ（ランダム・アクセス・
メモリ）等で構成されている。

【００５１】なお、入力装置にＣＲＴのような表示装置
を備え、上記パラメータの登録時に、現在、外部記憶装
置９２に記憶（登録）されているパラメータを表示し、
そのパラメータを修正しながらパラメータの設定を行う
ように構成してもよい。

【００５２】次に、照度分布調整処理制御部８５の構成
を図９を参照して説明する。図９は、照度分布調整処理
制御部の詳細構成を示すブロック図である。照度分布調
整処理制御部８５は、入力装置９１から照度分布調整処
理が選択されたとき、全体制御部８１から制御が渡され
る。この照度分布調整処理制御部８５は、初期処理部１
０１、ピーキング処理部１０２、判定部１０３、中止判
定部１０４、移動量算出部１０５、光源移動部１０６、
終了処理部１０７、異常処理部１０８で構成され、ま
た、判定部１０３は、照度分布測定部１１１ａ、ズレ量
算出部１１２ａ、ズレ量判定部１１３で構成され、移動
量算出部１０５は、光源微小移動部１１４、照度分布測
定部１１１ｂ、ズレ量算出部１１２ｂ、移動方向・移動
量算出部１１５で構成されている。なお、図９において
は、２つの照度分布測定部およびズレ量算出部を便宜上
記載しているが、実際的には１つで十分である。

【００５３】そして、各部１０１〜１０８、１１１ａ、
１１ｂ〜１１５は、ローダロボット３２、露光ステージ
４１、顕微光学系、アンローダロボット５２、光源シャ
ッター６７、マスク挿抜用のシャッター、ＸＹＺステー
ジ６０３、照度センサ３９、メモリ９３、外部記憶装置
９２等を制御して、後述する照度分布調整処理を行う。
照度分布調整処理が終了または中止されると、全体制御
部８１に制御を返すように構成されている。

【００５４】なお、上記照度分布測定部１１１ａ、１１
１ｂとローダロボット３２と照度センサ３９は、本発明
における照度分布測定手段に相当し、また、上記判定部
１０３は、本発明における判定手段に相当し、さらに、
上記移動量算出部１０５は、本発明における移動量算出
手段に相当する。また、上記光源移動部１０６とＸＹＺ
ステージ６０３は、本発明における光源移動手段に相当
する。

【００５５】なお、この照度分布調整処理制御部８５に
よる照度分布調整処理の動作は後述するが、照度分布調
整処理が実行される前に、上記パラメータ登録処理制御
部８４によりパラメータ登録処理が行われており、ま
た、通常、光源６１の交換作業が作業者により行われ
る。従って、パラメータの登録が行われていなければ、
上記の図７のフローチャートで照度分布調整処理が選択
されてもその処理を実行しないようなチェック機能を設
けていてもよい。また、光源６１の交換作業の後、照度
分布調整処理を選択するのであれば、作業者は、上記の
図７のフローチャートにおいて、まず、光源６１の消灯
（ステップＳ１３、Ｓ１４）を選択して光源６１を消灯
させて、光源６１の交換作業を行い、光源６１の交換後
に光源６１の点灯（ステップＳ１１、Ｓ１２）を選択し
て光源６１を点灯し、その後、照度分布調整処理を選択
することになる。

【００５６】なお、この近接露光装置の制御部８は、Ｃ
ＰＵ（中央処理装置）で構成されており、メモリ９３と
は図示しないバスで接続されており、また、入力装置９
１、外部記憶装置９２、ローダロボット３２、露光ステ
ージ４１、位置ズレ検出機構、顕微光学系、アンローダ
ロボット５２、光源シャッター６７、搬送機構７、照度
センサ３９、マスク挿抜用のシャッター、ＸＹＺステー
ジ６０３等とは、バスに接続された図示しないＩ／Ｏイ
ンターフェースを介して接続されている。また、外部記
憶装置９２には、上記各制御部８１〜８５が実行する処
理手順（プログラム）が予め記憶されており、装置起動
時にそのプログラムをメモリ９３に読み出して、ＣＰＵ
がそのプログラムを実行するように構成されている。

【００５７】次に、照度分布調整処理制御部８５による
照度分布調整処理について説明する。まず、本実施例装
置による照度分布調整処理の基本的な考え方を説明す
る。

【００５８】（ａ）露光領域ＲＡに照射される光の照
度をできるだけ高くして照度分布を調整する。このよう
に露光領域ＲＡの照度を高くして、照度分布を調整する
ことにより、照度分布調整後の露光処理において、露光
時間を短時間に実行することができ、露光処理の処理ス
ループットを高くすることができるという効果が得られ
る。なお、この照度を高くして照度分布を調整するとい
う考えは、後述する図１１のフローチャートのステップ
Ｓ２２（後述する図１２のフローチャート）のピーキン
グ処理を実行することにより実現されている。

【００５９】（ｂ）露光処理時に、均一な光量分布で
露光が行えるように、照度分布を調整する。例えば、図
１０（ｂ）、（ｃ）（図１０（ｂ）は、図１０（ａ）の
露光領域ＲＡのｘｌ−ｘｒ間の照度分布、図１０（ｃ）
は、同じくｙｄ−ｙｕ間の照度分布を示す図）に示すよ
うに、露光領域ＲＡ全面に渡って照度分布が均一になる
ように調整した場合、実際の露光処理において次のよう
な不都合が生じることがある。すなわち、露光処理時に
おいては、照明光学系６から出射された光はマスク２を
経て基板１に照射されるが、このとき、照明光学系６か
ら出射された光は、マスク２や基板１の表面で照明光学
系６方向に反射し、その反射光が照明光学系６内の光学
系で再び反射されて、基板１に照射されること（このよ
うな光を迷光という）がある。また、この迷光は、基板
１の特定領域（例えば、中心付近）に集光する傾向があ
る。従って、照度分布を露光領域ＲＡ全面に渡って均一
に調整していた場合、露光処理時のこのような迷光によ
って、基板１に実際に照射される光量分布が不均一にな
る。一方、露光処理は均一な光量分布で行うことが必要
である。従って、露光処理時に均一な光量分布で露光で
きるように、露光処理時の迷光等の影響を相殺するよう
に照度分布を調整する必要がある。例えば、露光領域Ｒ
Ａ全面に渡って照度分布が測定時に均一に調整されてお
り、露光処理時に、迷光が基板１の中心付近に集光し、
露光処理時の光量分布が、図１０（ｄ）、（ｅ）（図１
０（ｄ）は、図１０（ａ）の露光領域ＲＡのｘｌ−ｘｒ
間の光量分布、図１０（ｅ）は、同じくｙｄ−ｙｕ間の
光量分布を示す図）に示すようになる傾向があるのであ
れば、図１０（ｆ）、（ｇ）に示すような、照度分布と
なるように測定時の照度分布を調整してやればよいこと
になる。なお、本実施例では、測定時の照度分布を基準
の照度分布Ｉ（ｒ）に近づけるように調整するので、こ
の基準の照度分布Ｉ（ｒ）を、例えば、図１０（ｆ）、
（ｇ）に設定することにより、露光処理時に、均一な光
量分布で露光することができる。また、基準の照度分布
Ｉ（ｒ）の変化の割合などは、分布係数ａ、ｂ、ｃ、…
で変更することができる。

【００６０】（ｃ）照度分布に許容範囲を設け、各測
定位置ＤＰ（ｘ，ｙ）の照度をその許容範囲内に収める
ように調整する。すなわち、照度分布は、基準の照度分
布Ｉ（ｒ）に一致させるのが最善であるが、露光領域の
照度分布が基準の照度分布Ｉ（ｒ）に一致することはま
れである。換言すれば、照度分布を基準の照度分布Ｉ
（ｒ）に一致させるように調整すれば、永久に照度分布
の調整が終了しないか、または、双方が一致する場合で
あっても、照度分布調整処理に長時間を要することにな
る。一方、露光処理では、必ず基準の照度分布Ｉ（ｒ）
で露光しなければならないけではなく、照度分布に僅か
なバラツキがあっても、実用上大きな問題とはならな
い。従って、実用上許される許容範囲を設定（許容定数
ｍで設定）し、その許容範囲に照度分布を収束させるよ
うに照度分布の調整を行うようにしている。

【００６１】次に、本実施例による照度分布調整処理
を、図１１ないし図１５のフローチャートを参照して具
体的に説明する。図１１は、光量分布調整処理制御部に
よる光量分布調整処理の手順を示すフローチャートであ
る。

【００６２】なお、図１１のフローチャートの内、ステ
ップＳ２１は初期処理部１０１により、ステップＳ２２
はピーキング処理部１０２により、ステップＳ２３ない
しステップＳ２５は判定部１０３により、ステップＳ２
６は中止判定部１０４により、ステップＳ２７ないしス
テップＳ３０は移動量算出部１０５により、ステップＳ
３１は光源移動部１０６により、ステップＳ３２は終了
処理部１０７により、ステップＳ３３は異常処理部１０
８によりそれぞれ実行される。さらに詳しくは、ステッ
プＳ２３は判定部１０３内の照度分布測定部１１１ａに
より、ステップＳ２４は判定部１０３内のズレ量算出部
１１２ａにより、ステップＳ２５は判定部１０３内のズ
レ量判定部１１３により、ステップＳ２７は移動量算出
部１０５内の光源微小移動部１１４により、ステップＳ
２８は移動量算出部１０５内の照度分布測定部１１１ｂ
により、ステップＳ２９は移動量算出部１０５内のズレ
量算出部１１２ｂにより、ステップＳ３０は移動量算出
部１０５内の移動方向・移動量算出部１１５によりそれ
ぞれ実行される。

【００６３】また、図１２は、ピーキング処理部１０２
によるピーキング処理の手順を示すフローチャートであ
り、図１３は、照度分布測定部１１１ａ、１１１ｂによ
る照度分布測定処理の手順を示すフローチャート、図１
４は、ズレ量算出部１１２ａ、１１２ｂによるズレ量算
出処理の手順を示すフローチャート、図１５は、移動方
向・移動量算出部１１５による移動方向・移動量算出処
理の手順を示すフローチャートである。

【００６４】図１１のフローチャートの概要を説明する
と、初期処理、ピーキング処理が終了した後、ステップ
Ｓ２３〜Ｓ２５により、露光領域ＲＡの照度分布（複数
の測定位置で測定された各照度）が基準の照度分布の許
容範囲内に収束したか否かを判定し、収束していれば終
了処理を実行後、照度分布調整処理を終了し、一方、収
束していなければ、ステップＳ２７〜Ｓ３１の光源６１
の移動調整を実行する。そして、ステップＳ２３〜Ｓ２
５に戻り、露光領域ＲＡの照度分布が基準の照度分布の
許容範囲内に収束するまで上記処理が実行される。但
し、ステップＳ２７〜Ｓ３１の光源６１の移動調整の回
数をカウントしておき、そのカウント値がパラメータと
して登録されている移動許容回数ＡＮを越えた場合に
は、露光領域ＲＡの照度分布が基準の照度分布の許容範
囲内に収束しなかったものとして、異常処理を実行後、
照度分布調整処理を終了（処理を中止）する。

【００６５】図１１において、まず、初期処理部１０１
は、初期処理を実行する（ステップＳ２１）。この初期
処理としては、マスク取り出し処理、パラメータ読み出
し処理、移動回数カウンタＩＮの初期化、光源シャッタ
ー６７の開処理が行われる。

【００６６】マスク取り出し処理は、上述したマスク交
換処理のマスク取り出し処理と同じ処理であり、マスク
ホルダ２１からマスク２を取り出す。このマスク取り出
し処理により、照明光学系６から出射される光は、マス
ク２を介さず、直接、露光ステージ４１の上面に照射さ
れる。すなわち、本実施例では、照度センサ３９を、マ
スクホルダ２１と露光ステージ４１との間に挿入させ、
登録された測定位置ＤＰ（ｘ，ｙ）に位置させて照度を
測定するので、マスク２がマスクホルダ２１に吸着保持
された状態では、マスク２を経た光の照度を測定するこ
とになる。このような場合、例えば、測定位置ＤＰ
（ｘ，ｙ）によっては、マスク２のパターンの下側に位
置する場合とそうでない場合とが起こることがあり、正
確な照度分布の測定が行えなくなる。そこで、マスク２
の取り出し処理を行い、マスク２がない状態で、各測定
位置ＤＰ（ｘ，ｙ）の照度を照度センサ３９で測定する
ようにしたものである。

【００６７】パラメータ読み出し処理は、外部記憶装置
９２に記憶されているパラメータを読み出し、メモリ９
３に記憶させる。この読み出したパラメータを使って、
以下の照度分布の調整処理が実行される。

【００６８】また、移動回数カウンタＩＮの初期化は、
メモリ９３内の移動回数カウンタＩＮに「０」をセット
する。この移動回数カウンタＩＮは、ステップＳ３１に
おいてカウントアップされ、ステップＳ２６で移動許容
回数ＡＮと比較される。

【００６９】さらに、光源シャッター６７の開処理によ
り、照明光学系６からは常に照明光が出射された状態と
なり、その状態で以後の照度分布の調整処理が実行され
る。

【００７０】次に、ピーキング処理部１０２は、ピーキ
ング処理を実行する（ステップＳ２２）。このピーキン
グ処理は、露光領域ＲＡの中心において照度が最大にな
るような光源６１の位置を探し、光源６１をその位置に
移動させるものである。このピーキング処理後に、露光
領域ＲＡの照度分布を基準の照度分布の許容範囲内に収
束させることにより、上記したように、調整後の露光領
域ＲＡ全体の照度をできるだけ高くすることができ、露
光処理時のスループットの向上を図ることができる。こ
のピーキング処理の具体的な処理手順を図１２を参照し
て説明する。

【００７１】まず、照度センサ３９を露光領域ＲＡの中
心位置（測定座標系の原点（０，０））に配置するよう
にローダロボット３２を駆動制御する（ステップＳ４
１）。すなわち、ローダロボット３２のアーム３７を露
光部４方向に伸縮可能な状態にし、アーム３７を伸長さ
せて、図１６に示すように、吸着パッド部３８ａに取り
付けられた照度センサ３９を、露光領域ＲＡの中心位置
ＣＰ（測定座標系の原点（０，０））に位置付ける。

【００７２】なお、このときのアーム３７の伸長量（移
動部材３６の移動量）Ｌｓは、（Ｌ１−Ｌ２）で求めら
れる。Ｌ１は、露光領域ＲＡの中心位置ＣＰとアーム３
７の回転中心との間の長さであり、装置組立て時に決ま
る。また、Ｌ２は、アーム３７の回転中心と照度センサ
３９との間の長さであり、照度センサ３９をローダロボ
ット３２に取り付けた時に決まる。従って、Ｌ１、Ｌ２
が既知であるので上記アーム３７の伸長量Ｌｓは特定で
きる。

【００７３】次に、Ｚ方向における光源６１の最大照度
位置を特定する（ステップＳ４２〜Ｓ４３）。まず、ス
テップＳ４２では、ＸＹＺステージ６０３をＺ方向にの
み駆動して、図１７（ａ）に示すように、Ｚ方向の駆動
範囲Ａｚ（パラメータ）内で光源６１を移動ピッチＰｚ
（パラメータ）でピッチ移動し、各位置（Ａｚ_min、Ａ
ｚ_min＋Ｐｚ、Ａｚ_min＋２Ｐｚ、…、Ａｚ_max−Ｐ
ｚ、Ａｚ_max）における露光領域ＲＡの中心位置ＣＰの
照度を測定してメモリ９３に記憶する。メモリ９３に記
憶された、光源６１の位置と測定照度との関係を図１８
（ａ）に示す。

【００７４】次に、ステップＳ４３では、メモリ９３に
記憶された、光源６１の位置と測定照度との関係（図１
８（ａ）参照）を、図１８（ｂ）に示すように、２次式
で近似し、その近似式ＫＳからＺ方向における最大照度
（ピーク）となる光源６１の位置ＭＰＺを特定する。

【００７５】そして、光源６１をＺ方向にＭＰＺへ移動
させるように、ＸＹＺステージ６０３を駆動する（ステ
ップＳ４４）。

【００７６】次に、Ｚ方向の位置ＭＰＺにおける、Ｘ方
向の光源６１の最大照度位置を特定する（ステップＳ４
５〜Ｓ４６）。すなわち、図１７（ｂ）に示すように、
Ｚ方向の位置がＭＰＺの状態で、ＸＹＺステージ６０３
をＸ方向にのみ駆動して、Ｘ方向の駆動範囲Ａｘ（パラ
メータ）内で光源６１を移動ピッチＰｘ（パラメータ）
でピッチ移動し、各位置（Ａｘ_min、Ａｘ_min＋Ｐｘ、
Ａｘ_min＋２Ｐｘ、…、Ａｘ_max−Ｐｘ、Ａｘ_max）に
おける露光領域ＲＡの中心位置ＣＰの照度を測定してメ
モリ９３に記憶し（ステップＳ４５）、メモリ９３に記
憶された、光源６１の位置と測定照度との関係に基づ
き、上記ステップＳ４３と同様の方法で、Ｚ方向の位置
ＭＰＺにおけるＸ方向の最大照度となる光源６１の位置
ＭＰＸを特定する（ステップＳ４６）。

【００７７】そして、光源６１をＸ方向にＭＰＸへ移動
させるように、ＸＹＺステージ６０３を駆動する（ステ
ップＳ４７）。

【００７８】次に、Ｚ方向の位置ＭＰＺ、Ｘ方向の位置
ＭＰＸにおける、Ｙ方向の光源６１の最大照度位置を特
定する（ステップＳ４８〜Ｓ４９）。すなわち、図１７
（ｃ）に示すように、Ｚ方向の位置がＭＰＺ、Ｘ方向の
位置がＭＰＸの状態で、ＸＹＺステージ６０３をＹ方向
にのみ駆動して、Ｙ方向の駆動範囲Ａｙ（パラメータ）
内で光源６１を移動ピッチＰｙ（パラメータ）でピッチ
移動し、各位置（Ａｙ_min、Ａｙ_min＋Ｐｙ、Ａｙ_min
＋２Ｐｙ、…、Ａｙ_max−Ｐｙ、Ａｙ_max）における露
光領域ＲＡの中心位置ＣＰの照度を測定してメモリ９３
に記憶し（ステップＳ４８）、メモリ９３に記憶され
た、光源６１の位置と測定照度との関係に基づき、上記
ステップＳ４３と同様の方法で、Ｚ方向の位置ＭＰＺ、
Ｘ方向の位置ＭＰＸにおけるＹ方向の最大照度となる光
源６１の位置ＭＰＹを特定する（ステップＳ４９）。

【００７９】そして、光源６１をＹ方向にＭＰＹへ移動
させるように、ＸＹＺステージ６０３を駆動する（ステ
ップＳ５０）。

【００８０】次に、Ｘ方向の位置ＭＰＸ、Ｙ方向の位置
ＭＰＹにおける、Ｚ方向の光源６１の最大照度位置を特
定する（ステップＳ５１〜Ｓ５２）。すなわち、図１７
（ｄ）に示すように、Ｘ方向の位置がＭＰＸ、Ｙ方向の
位置がＭＰＹの状態で、上記ステップＳ４２、Ｓ４３と
同様の処理を行い、Ｘ方向の位置ＭＰＸ、Ｙ方向の位置
ＭＰＹにおけるＺ方向の最大照度となる光源６１の位置
ＭＰＺ’を特定する。

【００８１】そして、光源６１をＺ方向にＭＰＺ’へ移
動させるように、ＸＹＺステージ６０３を駆動する（ス
テップＳ５３）。

【００８２】なお、このＺ方向の最大照度位置を再度求
めるのは、上述したＸ方向、Ｙ方向の最大照度位置に光
源６１を移動したことにより、Ｚ方向の最大照度位置が
ＭＰＺから若干ずれることが考えられるので、そのずれ
を補正するためである。

【００８３】これにより、図１７（ｅ）に示すように、
光源６１は、ＭＰＸ（Ｘ方向）、ＭＰＹ（Ｙ方向）、Ｍ
ＰＺ’（Ｚ方向）に位置付けられ、露光領域ＲＡの中心
の照度は最高（またはそれに近い状態）となる。光源６
１をこの位置に位置付けて、以下の照度分布調整を実行
する。なお、上述のＸ方向の最大照度位置への光源６１
の移動処理、Ｙ方向の最大照度位置への光源６１の移動
処理、Ｚ方向の最大照度位置への光源６１の移動処理を
複数回繰り返し、露光領域ＲＡの中心の照度は最高照度
に完全に収束させて後、以下の照度分布調整を実行する
ようにしても良い。

【００８４】図１１に戻って、ピーキング処理（ステッ
プＳ２２）が終了すると、次に、判定部１０３の照度分
布測定部１１１ａによる照度分布測定処理を行う（ステ
ップＳ２３）。この処理は、パラメータとして登録され
た全測定位置に順次照度センサ３９を位置付け、各測定
位置ＤＰ_ij（ｘ_i，ｙ_j）（ｉは１〜Ｘ座標の設定数、
ｘｉはｉ番目のＸ座標、ｊは１〜Ｙ座標の設定数、ｙｊ
はｊ番目のＹ座標）における照度を各々測定してメモリ
９３に記憶する。具体的な処理手順を図１３を参照して
説明する。

【００８５】まず、測定位置ＤＰ_ij（ｘ_i，ｙ_j）に照
度センサ３９を位置付けるための、ローダロボット３２
の駆動データ、すなわち、アーム３７（支持軸３３）の
回転方向と回転角度θ、アーム３７の伸長量（移動部材
３６の移動量）Ｌｓを特定する（ステップＳ６１）。

【００８６】この特定方法を図１９を参照して説明す
る。図１９では、測定位置ＤＰ_ij（ｘ_i，ｙ_j）（ｘ座
標ｘ_i、ｙ座標ｙ_jともに負の座標）に照度センサ３９
を位置付ける場合を示している。

【００８７】まず、アーム３７の回転方向は、測定位置
のｙ座標の符号により決まる。測定位置ＤＰ_ij（ｘ_i，
ｙ_j）のｙ座標（ｙ_j）の符号が正であれば図のＬＲ方
向に回転させ、ｙ座標（ｙ_j）の符号が負であれば図の
ＲＲ方向に回転させればよい。図１９では、ＤＰ_ij（ｘ
_i，ｙ_j）のｙ座標（ｙ_j）の符号が負であるので、Ｒ
Ｒ方向に回転させている。

【００８８】次に、アーム３７の回転角度θは、ｔａｎ
^-1（Ｌ５／Ｌ４）で特定される。Ｌ４は、（Ｌ１−Ｌ
３）で求められる。Ｌ１は、露光領域ＲＡの中心位置Ｃ
Ｐとアーム３７の回転中心との間の長さであり、装置の
組立て時に特定される。一方、Ｌ３は、｜（ｘ座標
ｘ_i）×（測定座標系の座標ピッチＰＺの実長（パラメ
ータ））｜により特定される。また、Ｌ５は、｜（ｙ座
標ｙ_j）×（測定座標系の座標ピッチＰＺの実長）｜に
より特定される。従って、Ｌ４、Ｌ５は、測定位置ＤＰ
_ij（ｘ_i，ｙ_j）のｘ座標（ｘ_i）、ｙ座標（ｙ_j）に
応じて特定でき、その際のアーム３７の回転角度θを特
定することができる。

【００８９】次に、アーム３７の伸長量Ｌｓは、（Ｌ６
−Ｌ２）で求められる。Ｌ６は、√（Ｌ４²＋Ｌ５²）
で求まる。また、Ｌ２は、アーム３７の回転中心と照度
センサ３９との間の長さであり、照度センサ３９をロー
ダロボット３２に取り付けた時に決まる。従って、測定
位置ＤＰ_ij（ｘ_i，ｙ_j）のｘ座標（ｘ_i）、ｙ座標
（ｙ_j）に応じてＬ６が特定され、Ｌ２は既知であるの
で、アーム３７の伸長量Ｌｓを特定することができる。

【００９０】上述のように、測定位置ＤＰ_ij（ｘ_i，ｙ
_j）に対する、ローダロボット３２の駆動データが特定
されると、それに従ってアーム３７の回転と伸長とを行
い、照度センサ３９を測定位置ＤＰ_ij（ｘ_i，ｙ_j）に
位置付ける（ステップＳ６２）。そして、照度センサ３
９で、その測定位置ＤＰ_ij（ｘ_i，ｙ_j）の照度Ｓ_ijを
測定し、測定データ（Ｓ_ij）をメモリ９３に記憶する
（ステップＳ６３）。このステップＳ６１〜Ｓ６３の動
作を全測定位置について行い、全測定位置の照度
（Ｓ_ij）がメモリ９３に記憶されると照度分布測定処理
を終了する（ステップＳ６４）。

【００９１】図１１に戻って、照度分布測定処理（ステ
ップＳ２３）が終了すると、次に、判定部１０３のズレ
量算出部１１２ａによるズレ量算出処理を行う（ステッ
プＳ２４）。この処理では、全測定位置について、測定
された照度（実測の照度分布）と、基準の照度分布との
ズレ量を求める。具体的な処理手順を図１４を参照して
説明する。

【００９２】まず、ステップＳ７１〜Ｓ７４の処理で、
基準の照度分布Ｉ（ｒ）（上記式（１）：Ｉ（ｒ）＝ｋ
（１＋ａｒ²＋ｂｒ⁴＋ｃｒ⁶＋…）のｋを特定し、ス
テップＳ７５の処理で、上記ステップＳ７１〜７４で特
定されたｋ（ｋ_t）を代入した基準の照度分布Ｉ（ｒ）
（Ｉ_t（ｒ））と、上記ステップＳ２３で測定された照
度（実測データ）とのズレ量を、全測定位置について算
出する。

【００９３】すなわち、まず、基準の照度分布Ｉ（ｒ）
（上記式（１）参照）のｋの初期値を特定する（ステッ
プＳ７１）。このｋの初期値を特定する方法としては、
例えば、以下の２通りの方法を採ることができる。

【００９４】（ａ）式（１）の分布係数ａ、ｂ、ｃ、
…にパラメータとして登録された値を代入し、上記ステ
ップＳ２３で測定された各測定位置ＤＰ_ij（ｘ_i，
ｙ_j）の照度をＩ（ｒ_ij）として、各測定位置ＤＰ
_ij（ｘ_i，ｙ_j）のｋ_ijを算出し、算出した各ｋ_ijの平
均値を、基準の照度分布Ｉ（ｒ）のｋの初期値とする。
なお、上記ｒ_ijと、ｘ_i、ｙ_jとの関係は、図２０に示
すように、ｒ_ij＝√（ｘｒ_i ²＋ｙｒ_j ²）、ｘｒ_i＝
ｘ_i×（座標ピッチＺＰの実長）、ｙｒ_j＝ｙ_j×（座
標ピッチＺＰの実長）である。

【００９５】（ｂ）式（１）の分布係数ａ、ｂ、ｃ、
…にパラメータとして登録された値を代入し、上記ステ
ップＳ２３で測定された中心位置Ｃ（０，０）の照度を
Ｉ（ｒ₀₀）として、中心位置Ｃのｋ₀₀を算出し、算出し
たｋ₀₀を、基準の照度分布Ｉ（ｒ）のｋの初期値とす
る。なお、この方法は、ステップＳ２３で、中心位置Ｃ
の照度が測定されていることが前提となる。

【００９６】次に、上記ステップＳ７１で特定されたｋ
の初期値を中心として、パラメータとして登録されたｋ
の変動幅ｋｗを加減したｋの変動範囲（ｋの初期値−ｋ
ｗ〜ｋの初期値＋ｋｗ）内で、パラメータとして登録さ
れたｋの変動ピッチｋｐごとにｋの値を変動させ（ｋ
（ｋ₁とする）＝ｋの初期値−ｋｗ、ｋ（ｋ₂）＝ｋの
初期値−ｋｗ＋ｋｐ、ｋ（ｋ₃）＝ｋの初期値−ｋｗ＋
２ｋｐ、…、ｋ（ｋ_n-1＝ｋの初期値＋ｋｗ−ｋｐ、ｋ
（ｋ_n）＝ｋの初期値＋ｋｗ）、各々のｋ（ｋ₁、
ｋ₂、ｋ₃、…、ｋ_n-1、ｋ_n）について以下のステッ
プＳ７２の処理を繰り返す（ステップＳ７３）。

【００９７】すなわち、ステップＳ７２では、ｋ_nn（ｎ
ｎは１、２、３、…、ｎ−１、ｎ）と、パラメータとし
て登録されたａ、ｂ、ｃ、…とを式（１）に代入して求
めた基準の照度分布Ｉ_nn（ｒ）と、上記ステップＳ２３
で測定された各測定位置ＤＰ_ij（ｘ_i，ｙ_j）の照度Ｓ
_ij（実測データ）とのズレ量ΔＩ_nnijを、各測定位置Ｄ
Ｐ_ij（ｘ_i，ｙ_j）ごとに全測定位置について算出し、
｜ΔＩ_nnij｜／Ｉ_nn（ｒ_ij）を、各測定位置ＤＰ_ij（ｘ
_i，ｙ_j）ごとに全測定位置について算出し、その中か
ら最大値ＭＩＳ_mmを求める。以下に算出式を示す。

【００９８】Ｉ_nn（ｒ）＝ｋ_nn（１＋ａｒ²＋ｂｒ⁴＋ｃｒ⁶＋…） ΔＩ_nnij＝Ｉ_nn（ｒ_ij）−Ｓ_ij ＭＩＳ_nn＝ＭＡＸ（｜ΔＩ_nnij｜／Ｉ_nn（ｒ_ij））なお、ＭＡＸ（｜ΔＩ_nnij｜／Ｉ_nn（ｒ_ij））は、各測
定位置ＤＰ_ij（ｘ_i，ｙ_j）についての｜ΔＩ_nnij｜／
Ｉ_nn（ｒ_ij）の算出結果の最大値を求める関数である。

【００９９】次に、ステップＳ７４では、上述ステップ
Ｓ７２、Ｓ７３で求めた各ｋ（ｋ₁、ｋ₂、ｋ₃、…、
ｋ_n-1、ｋ_n）についてのＭＩＳ_nn（ｎｎは１〜ｎ）の
内の最小値ＳＩＳを求める。以下に算出式を示す。

【０１００】ＳＩＳ＝ＭＩＮ（ＭＩＳ_nn）なお、ＭＩＮ（ＭＩＳ_nn）は、各ｋについてのＭＩＳ_nn
の算出結果の最小値を求める関数である。

【０１０１】ステップＳ７４で求めたＳＩＳを採るとき
のｋ_nnを、基準の照度分布Ｉ（ｒ）のｋとして採用す
る。これを、ｋ_tとする。

【０１０２】そして、ステップＳ７５では、ｋをｋ_tと
した基準の照度分布Ｉ_t（ｒ）（Ｉ_t（ｒ）＝ｋ_t（１
＋ａｒ²＋ｂｒ⁴＋ｃｒ⁶＋…））を中心とした許容範
囲（上記（３）式参照：〔Ｉ_t（ｒ）−ｍ×Ｉ
_t（ｒ）〕〜〔Ｉ_t（ｒ）＋ｍ×Ｉ_t（ｒ）〕）と、上
記ステップＳ２３で測定された各測定位置ＤＰ
_ij（ｘ_i，ｙ_j）の照度Ｓ_ij（実測データ）とのズレ量
ΔＩ_tijを、各測定位置ＤＰ_ij（ｘ_i，ｙ_j）ごとに全
測定位置について算出し、メモリ９３に記憶する。この
とき、照度Ｓ_ijが、上記許容範囲内に収まっていれば、
ズレ量ΔＩ_tij＝０とし、照度Ｓ_ijが、上記許容範囲の
上限値（すなわち、〔Ｉ_t（ｒ_ij）＋ｍ×Ｉ
_t（ｒ_ij）〕）を越えていれば、照度Ｓ_ijから上限値を
引いてズレ量ΔＩ_tijを算出し、照度Ｓ_ijが、上記許容
範囲の下限値（すなわち、〔Ｉ_t（ｒ_ij）−ｍ×Ｉ
_t（ｒ_ij）〕）未満であれば、照度Ｓ_ijから下限値を引
いてズレ量ΔＩ_tijを算出する。なお、ｍは、パラメー
タとして登録された許容定数である。また、以下に算出
式を示す。

【０１０３】〔Ｉ_t（ｒ_ij）−ｍ×Ｉ_t（ｒ_ij）〕≦Ｓ_ij≦ 〔Ｉ_t（ｒ_ij）＋ｍ×Ｉ_t（ｒ_ij）〕のとき、 ΔＩ_tij＝０

【０１０４】Ｓ_ij＞〔Ｉ_t（ｒ_ij）＋ｍ×Ｉ_t（ｒ_ij）〕のとき、 ΔＩ_tij＝Ｓ_ij−〔Ｉ_t（ｒ_ij）＋ｍ×Ｉ_t（ｒ_ij）〕

【０１０５】Ｓ_ij＜〔Ｉ_t（ｒ_ij）−ｍ×Ｉ_t（ｒ_ij）〕のとき、 ΔＩ_tij＝Ｓ_ij−〔Ｉ_t（ｒ_ij）−ｍ×Ｉ_t（ｒ_ij）〕

【０１０６】例えば、ｘ座標ｘ_iとして、−ｘ₂、−ｘ
₁、０、ｘ₁、ｘ₂、また、ｙ座標ｙ_jとして、−
ｙ₁、０、ｙ₁とした１５個所の測定位置ＤＰ
_ij（ｘ_i，ｙ_j）について、ステップＳ２３で測定され
た照度が図２１（ａ）に示すような結果であり、ステッ
プＳ７１〜７４で特定された基準の照度分布Ｉ_t（ｒ）
が図２１（ｂ）に示すような結果であったとする。この
とき、許容定数ｍが「０．１」で登録されていれば、基
準の照度分布Ｉ_t（ｒ）の許容範囲は、図２１（ｃ）に
示すようになる。従って、各測定位置ＤＰ_ij（ｘ_i，ｙ
_j）の実測データ（図２１（ａ））と、基準の照度分布
Ｉ_t（ｒ）の許容範囲（図２１（ｃ））とのズレ量を上
記ステップＳ７５で説明したように算出すると、図２１
（ｄ）に示すようになる。例えば、測定位置ＤＰ
_{0 0}（０，０）では、実測データ（「１０」）は、その
測定位置ＤＰ_{0 0}（０，０）の許容範囲（「９．９」〜
「１０．１」）に収まっているので、ズレ量は「０」と
なり、また、測定位置ＤＰ_{2 -1}（ｘ₂，−ｙ₁）では、
実測データ（「１１．３」）は、その測定位置ＤＰ_{2 -1}
（ｘ₂，−ｙ₁）の許容範囲（「９．１９８」〜「１
１．２４２」）の上限値（「１１．２４２」）を越える
ので、ズレ量は「０．０５８」（実測データ「１１．
３」−許容範囲の上限値「１１．２４２」）となり、さ
らに、測定位置ＤＰ_{-2 0}（−ｘ₂，０）では、実測デー
タ（「９．１」）は、その測定位置ＤＰ_{-2 0}（−ｘ₂，
０）の許容範囲（「９．１８」〜「１１．２２」）の下
限値（「９．１８」）未満であるので、ズレ量は「−
０．０８」（実測データ「９．１」−許容範囲の下限値
「９．１８」）となる。

【０１０７】図１１のフローチャートに戻って、次に、
判定部１０３のズレ量判定部１１３によって、ステップ
Ｓ２４で算出された、各測定位置ＤＰ_ij（ｘ_i，ｙ_j）
のズレ量ΔＩ_tijが、全て「０」であるか否かを判定す
る（ステップＳ２５）。ズレ量ΔＩ_tijが全て「０」で
あれば、現在の光源６１の位置において、全測定位置の
照度（露光領域ＲＡの照度分布）が、基準の照度分布Ｉ
_t（ｒ）の許容範囲内に収まっているので、照度分布の
調整を終了するために、ステップＳ３２の処理に進み、
１個でもズレ量ΔＩ_tijが「０」でなければ、現在の光
源６１の位置では、露光領域ＲＡの照度分布が、基準の
照度分布Ｉ_t（ｒ）の許容範囲内に収まないので、光源
６１の位置を調整するために、ステップＳ２６の処理に
進む。

【０１０８】ステップＳ３２では、終了処理部１０７
が、終了処理を実行する。この終了処理としては、ま
ず、光源シャッター６７を閉じ、次に、上述したマスク
交換処理のマスクセッティング処理と同じ処理を実行し
て、マスク２をマスクホルダ２１の所定位置に吸着保持
させる。これにより、露光処理を再開することができ
る。なお、このステップＳ３２が終了すると、照度分布
調整処理が終了する。

【０１０９】また、ステップＳ２６では、中止判定部１
０４が、照度分布調整処理の中止を判定する。すなわ
ち、光源６１の移動回数ＩＮが、パラメータとして登録
されている移動許容回数ＡＮ以下（ＩＮ≦ＡＮ）であれ
ば、以下のステップＳ２７〜３１の光源６１の移動調整
の処理を実行し、一方、光源６１の移動回数ＩＮが、移
動許容回数ＡＮを越える（ＩＮ＞ＡＮ）と、照度分布が
基準の照度分布Ｉ（ｒ）の許容範囲に収束しないのもと
して、ステップＳ３３の異常処理を実行した後、照度分
布調整処理が終了（中止）される。なお、この光源６１
の移動回数ＩＮは、上述した初期処理（ステップＳ２
１）で「０」がセットされ、後述する光源６１の移動を
行うステップＳ３１においてカウントアップされる。

【０１１０】ステップＳ３３の異常処理は、異常処理部
１０８が、例えば、ブザーを鳴動させる等して、露光領
域ＲＡの照度分布が基準の照度分布Ｉ（ｒ）の許容範囲
に収束しなかったことを作業者に知らせる。

【０１１１】次に、ステップＳ２７〜Ｓ３１の光源の移
動調整の処理を説明する。まず、移動量算出部１０５の
光源微小移動部１１４により、光源６１を、ステップＳ
２３、Ｓ２４における光源６１の位置から、パラメータ
として設定された微小移動量Δｘｓ、Δｙｓだけ、Ｘ、
Ｙ方向に移動されるように、ＸＹＺステージ１０３を駆
動する（ステップＳ２７）。

【０１１２】次に、移動量算出部１０５の照度分布測定
部１１１ｂによる照度分布測定処理を行い（ステップＳ
２８）、移動量算出部１０５のズレ量算出部１１２ｂに
よるズレ量算出処理を行う（ステップＳ２９）。なお、
これら照度分布測定処理と、ズレ量算出処理は、上述し
たステップＳ２３、Ｓ２４と同じであるので、ここでの
詳述は省略する。

【０１１３】このステップＳ２７〜Ｓ２９の処理では、
光源６１が、上記ステップＳ２３、Ｓ２４における光源
６１の位置から、微小移動量Δｘｓ、Δｙｓだけ、Ｘ、
Ｙ方向に移動された状態における、各測定位置ＤＰ
_ij（ｘ_i，ｙ_j）のズレ量（これをΔＩ_tij’とする）
を算出して、メモリ９３に記憶する。

【０１１４】次に、移動量算出部１０５の移動方向・移
動量算出部１１５よる、光源６１の移動方向・移動量算
出処理を行う（ステップＳ３０）。この移動方向・移動
量算出処理の具体的な処理手順を図１５を参照して説明
する。

【０１１５】まず、図１１のフローチャートのステップ
Ｓ２３、Ｓ２４で求めたズレ量ΔＩ_tijと、測定位置Ｄ
Ｐ_ij（ｘ_i，ｙ_j）のｘ、ｙ座標とに基づき、光源６１
が微小移動（微小移動量Δｘｓ、Δｙｓの移動）される
前の照度分布の重心位置（ｘ_g1，ｙ_g1）を算出する（ス
テップＳ８１）。この算出式を以下に示す。

【０１１６】

【数１】

【０１１７】例えば、ｘ座標として−４、−２、０、
２、４（ｘ_max＝４、ｘ_min＝−４）、また、ｙ座標と
して−２、０、２（ｙ_max＝２、ｙ_min＝−２）とした
１５個所の測定位置ＤＰ_ij（ｘ_i，ｙ_j）のズレ量ΔＩ
_tijが、図２２（ａ）に示すような結果であった場合、
ｘ_i＝−２に対する全てのズレ量ΔＩ_tij（「−２」
（ｙ_j＝−２）、「−１」（ｙ_j＝０）、「０」（ｙ_j
＝２））の合計ΔＩｘ_iは「−３」となり、同じく、
ｘ_i＝−４に対するΔＩｘ_iは「０」、ｘ_i＝０に対
するΔＩｘ_iは「−１」、ｘ_i＝２に対するΔＩｘ_iは
「１」、ｘ_i＝４に対するΔＩｘ_iは「０」となる。
従って、重心位置のｘ座標ｘ_g1は、（（−４）×０＋
（−２）×（−３）＋０×（−１）＋２×１＋４×０）
／（０＋（−３）＋（−１）＋１＋０）より、約「−
２．６７」となる。また、同様にｙ_j＝−２に対する全
てのズレ量ΔＩ_tij（「０」（ｘ_i＝−４）、「−２」
（ｘ_i＝−２）、「−１」（ｘ_i＝０）、「０」（ｘ_i
＝２）、「０」（ｘ_i＝４））の合計ΔＩｙ_jは「−
３」となり、同じく、ｙ_j＝０に対するΔＩｙ_jは「−
１」、ｘ_j＝２に対するΔＩｘ_jは「１」となる。従っ
て、重心位置のｙ座標ｙ_g1は、（（−２）×（−３）＋
０×（−１）＋２×１）／（（−３）＋（−１）＋１）
より、約「−２．６７」となる。

【０１１８】次に、図１１のフローチャートのステップ
Ｓ２７〜Ｓ２９で求めたズレ量ΔＩ_tij’と、測定位置
ＤＰ_ij（ｘ_i，ｙ_j）のｘ、ｙ座標とに基づき、光源６
１が微小移動された後の照度分布の重心位置（ｘ_g2，ｙ
_g2）を算出する（ステップＳ８２）。この重心位置（ｘ
_g2，ｙ_g2）は、ステップＳ８１で使用した式（４）〜
（７）を用いて、ΔＩ_tijの代わりにΔＩ_tij’を代入
することにより求める。

【０１１９】例えば、ｘ座標として−４、−２、０、
２、４、また、ｙ座標として−２、０、２とした１５個
所の測定位置ＤＰ_ij（ｘ_i，ｙ_j）のズレ量ΔＩ
_tijが、図２２（ｂ）に示すような結果であった場合、
重心位置のｘ座標ｘ_g2は、（（−４）×０＋（−２）×
（−３．２）＋０×（−１．１）＋２×１．３＋４×
０．１）／（０＋（−３．２）＋（−１．１）＋１．３
＋０．１）より、約「−３．２４」となり、また、重心
位置のｙ座標ｙ_g2は、（（−２）×（−３．１）＋０×
（−１．１）＋２×１．３）／（（−３．１）＋（−
１．１）＋１．３）より、約「−３．０３」となる。

【０１２０】そして、ステップＳ８１で求められた重心
位置（ｘ_g1，ｙ_g1）と、ステップＳ８２で求められた重
心位置（ｘ_g2，ｙ_g2）と、微小移動量Δｘｓ、Δｙｓ
と、中心位置ＣＰ（測定座標系の原点（０，０））とに
基づき、以下の算出式で、光源６１の移動すべき方向と
移動量（Δｘ、Δｙ、移動方向はΔｘ、Δｙの符号で与
えられ、移動量は、｜Δｘ｜、｜Δｙ｜で与えられる）
とを算出する（ステップＳ８３）。

【０１２１】 Δｘ＝（Δｘｓ（０−ｘ_g1））／（ｘ_g2−ｘ_g1） Δｙ＝（Δｙｓ（０−ｙ_g1））／（ｙ_g2−ｙ_g1）

【０１２２】すなわち、光源６１の微小移動量（Δｘ
ｓ、Δｙｓ）に対する、照度分布の重心位置の変動
（（ｘ_g2−ｘ_g1）、（ｙ_g2−ｙ_g1））と、光源６１を微
小移動させる前の状態の照度分布の重心位置を中心位置
ＣＰに変動（（０−ｘ_g1）、（０−ｙ_g1））させるとき
の光源６１の移動方向・移動量（Δｘ、Δｙ）とは、以
下の式に示すような比例式で結べるので、この比例式を
変形することにより、上述の算出式が得られる。

【０１２３】 Δｘ：Δｘｓ＝（０−ｘ_g1）：（ｘ_g2−ｘ_g1） Δｙ：Δｙｓ＝（０−ｙ_g1）：（ｙ_g2−ｙ_g1）

【０１２４】光源６１が微小移動される前の重心位置
（ｘ_g1，ｙ_g1）が例えば、（−２．６７，−２．６７）
（例えば、図２２（ａ）の場合）、光源６１が微小移動
された後の重心位置（ｘ_g2，ｙ_g2）が例えば、（−３．
２４，−３．０３）（例えば、図２２（ｂ）の場合）、
微小移動量（Δｘｓ、Δｙｓ）が（「０．１」cm、
「０．１」cm）であった場合、Δｘは、（０．１×（０
−（−２．６７））／（（−３．２４）−（−２．６
７））より、約「−０．４７」cmとなり、また、Δｙ
は、（０．１×（０−（−２．６７））／（（−３．０
３）−（−２．６７））より、約「−０．７４」cmとな
る。

【０１２５】図１１のフローチャートに戻って、次に、
光源移動部１０７は、微小移動される前の状態から光源
６１をΔｘ、Δｙだけ移動させるようにＸＹＺステージ
６０３を駆動し、光源６１の移動回数ＩＮをカウントア
ップする（ステップＳ３１）。なお、このステップＳ３
１により光源６１が移動される際の光源６１の位置は、
ステップＳ２７により微小移動された後の位置であるの
で、ステップＳ３１では、光源６１を（Δｘ−Δｘ
ｓ）、（Δｙ−Δｙｓ）だけ移動させればよいことにな
る。このように、照度分布の重心位置を中心位置ＣＰに
一致させるように光源６１を移動させることにより、照
度分布の調整を精度よく行うことができる。

【０１２６】光源６１の移動が完了すると、再び、ステ
ップＳ２３に戻り、光源６１をΔｘ、Δｙだけ移動した
後の状態で、露光領域ＲＡの照度分布が基準の照度分布
の許容範囲内に収束したか否かを調べる。

【０１２７】このように自動で照度分布調整を行うよう
にしたことにより、光源６１の交換の後の照度分布調整
を行うための専門の技術者が不要となり、誰でも簡単に
光源の交換作業を行うことが可能となる。また、照度分
布調整は自動で行われるので、人手（専門の技術者）が
行う場合に比べて、処理速度が速く、かつ、正確に行う
ことができる。

【０１２８】ここで、上述の実施例の測定例について説
明する。

【０１２９】（ａ）露光領域ＲＡの中心（測定座標系
の原点（０，０））と、その周辺４点の合計５点を測定
位置として照度分布の調整を行う。但し、周辺の４点
は、ｘ、ｙ軸に対称となる位置に決める。測定位置を上
記５点に決めて照度分布の調整を行うと、照度分布の調
整処理の時間の短縮が図れるという長所がある反面、全
露光領域ＲＡにおいて、照度分布が許容範囲内に収まる
保証が低い、すなわち、全露光領域ＲＡの照度分布内
に、基準の照度分布の許容範囲内に収まっていない領域
が生じ易く、照度分布にバラツキが生じる可能性が高い
という短所がある。従って、例えば、照度分布の許容範
囲が広い場合（例えば、露光線幅（露光すべき線幅）が
大きいときや感光材料のγ値が大きいとき等）や、露光
領域ＲＡの面積が小さく、所望の照度分布が容易に得ら
れる場合、全露光領域ＲＡにおいて、照度分布が許容範
囲内に収まる保証が低くても実用上問題ない場合に、こ
のような測定位置で照度分布の調整を行うと、処理時間
の短縮を図ることができる。

【０１３０】（ｂ）格子状の多点（例えば、５０点以
上）を測定位置として照度分布の調整を行う。測定位置
をこのように多数にして照度分布の調整を行うと、上記
（ａ）の場合と逆に、全露光領域ＲＡにおいて、照度分
布が許容範囲内に収まる保証が高いという長所がある反
面、照度分布の調整処理時間に長時間を要するという短
所がある。従って、例えば、照度分布の許容範囲が狭い
場合（例えば、露光線幅（露光すべき線幅）が小さいと
きや感光材料のγ値が小さいとき等）や、露光領域ＲＡ
の面積が大きく、所望の照度分布が容易に得られない場
合等、全露光領域ＲＡにおいて、照度分布が許容範囲内
に収まる保証が高いことが望まれる場合に、このような
測定位置で照度分布の調整を行うのが好ましい。

【０１３１】なお、上述の実施例では、測定位置ＤＰを
登録する際、全照度位置の座標を設定するように構成し
たが、例えば、図２３に示すように、測定エリアの四隅
の位置（ｘ_L，ｙ_U）、（ｘ_L，ｙ_D）、（ｘ_R，
ｙ_U）、（ｘ_R，ｙ_D）とｘ方向の測定点数ｘｍとｙ方
向の測定点数ｙｎとを設定して、格子状の測定位置を登
録するように構成してもよい。このように設定された場
合には、パラメータ登録処理制御部８４は、設定された
測定エリアの四隅の位置とｘ方向の測定点数ｘｍとｙ方
向の測定点数ｙｎとに基づき、以下のようにして、全測
定位置の座標を求めればよい。すなわち、Ｙ座標として
は、ｙ_D、ｙ_D＋（（ｙ_U−ｙ_D）／（ｙｎ−１））、
ｙ_D＋２（（ｙ_U−ｙ_D）／（ｙｎ−１））、…、ｙ_U
−（（ｙ_U−ｙ_D）／（ｙｎ−１））、ｙ_Uを採り、一
方、ｘ座標としては、ｘ_L、ｘ_L＋（（ｘ_R−ｘ_L）／
（ｘｍ−１））、ｘ_L＋２（（ｘ_R−ｘ_L）／（ｘｍ−
１））、…、ｘ_R−（（ｘ_R−ｘ_L）／（ｘｍ−
１））、ｘ_R−２（（ｘ_R−ｘ_L）／（ｘｍ−１））、
ｘ_Rを採るので、これらｘ、ｙ座標の組合わせに係る座
標を測定位置とする。なお、このとき、中央付近の一点
（図では、（ｘ_L＋３（（ｘ_R−ｘ_L）／（ｘｍ−
１）），ｙ_D＋２（（ｙ_U−ｙ_D）／（ｙｎ−１）））
が測定座標系の原点（０，０）に一致するとともに、各
座標は、測定座標系の座標の整数倍、例えば、（ｘ_R−
２（（ｘ_R−ｘ_L）／（ｘｍ−１）），ｙ_U−（（ｙ_U
−ｙ_D）／（ｙｎ−１）））が測定座標系の（２，２）
に一致するように測定エリアの四隅の位置とｘ方向の測
定点数ｘｍとｙ方向の測定点数ｙｎとを設定するのが好
ましい。また、図２１（ａ）において、ｒ₁は、√（ｘ
ｒ₁ ²＋ｙｒ₁ ²）、ｒ₂は、√（ｘｒ₂ ²＋ｙ
ｒ₂ ²）であり、ｘｒ₁＝〔ｘ_R−２（（ｘ_R−ｘ_L）
／（ｘｍ−１））〕×〔測定座標系の座標ピッチの実
長〕、ｙｒ₁＝〔ｙ_U−（（ｙ_U−ｙ_D）／（ｙｎ−
１））〕×〔測定座標系の座標ピッチの実長〕、ｘｒ₂
＝〔ｘ_R〕×〔測定座標系の座標ピッチの実長〕、ｙｒ
₂＝〔ｙ_L〕×〔測定座標系の座標ピッチの実長〕で求
まる。

【０１３２】また、図２４に示すように、測定エリアの
四隅の位置（ｘ_L，ｙ_U）、（ｘ_L，ｙ_D）、（ｘ_R，
ｙ_U）、（ｘ_R，ｙ_D）とｘ方向のピッチＰｘとｙ方向
のピッチＰｙとを設定して、格子状の測定位置を登録す
るように構成してもよい。この場合には、（ｙ_U−
ｙ_D）／Ｐｙ＝ｙｎ、（ｘ_R−ｘ_L）／Ｐｘ＝ｘｍ、と
して上記図２３と同様に測定座標系の各座標を求めるこ
とができる。

【０１３３】さらに、例えば、半導体基板の露光を行う
場合のように露光領域ＲＡが円形である場合にも、格子
状の座標を設定し、図２５に示すように、その座標の
内、露光領域ＲＡ内に位置する座標のみを測定位置の座
標として採用するように処理すれば、測定座標を簡易に
設定することができる。

【０１３４】また、上述の実施例では、基準の照度分布
を測定データに基づいて特定し、特定した基準の照度分
布と測定された照度（実測データ）とのズレ量を算出す
るように構成したが、基準の照度分布を予め実験的に求
めておいて、その基準の照度分布と、実測データとのズ
レ量を算出するように構成してもよい。

【０１３５】さらに、上述の実施例では、ローダロボッ
ト３２に照度センサ３９を取り付け、アンローダロボッ
ト５２でマスク２の交換を行わうように構成している
が、アンローダロボット５２に照度センサ３９を取り付
け、ローダロボット５２でマスク２の交換を行わうよう
に構成してもよいし、ローダロボット３２かアンローダ
ロボット５２のいずれか一方に照度センサ３９を取り付
けるとともに、マスク２の交換も行わわせるように構成
してもよい。

【０１３６】また、上述の実施例では、マスクホルダ２
１と露光ステージ４１との間の平面で照度センサ３９を
移動させ、マスク２をマスクホルダ２１から取り出した
状態で照度分布を測定するように構成したが、例えば、
マスク２の上方の平面内で、照度センサ３９を移動させ
て、照明光学系６から出射され、露光領域ＲＡに照射さ
れる照明光束の照度分布を測定するようにしてもよい。
このように構成すれば、マスク２の取り出し処理を行う
必要がないので、処理手順を簡略化させることができ
る。また、マスクホルダ２１にパターンが描画されてい
ないマスクをセッティングし、マスクホルダ２１と露光
ステージ４１との間の平面で照度センサ３９を移動させ
て照度分布を測定するように構成してもよい。

【０１３７】さらに、上述の実施例では、ローダロボッ
ト３２に１個の照度センサ３９を取り付けて、各測定位
置に照度センサ３９を順次位置付けて、照度分布を測定
するように構成したが、図２６に示すように、全測定位
置に対応させて複数個の照度センサ３９を配置した照度
センサユニット３９０を用いて露光領域ＲＡの照度分布
を同時に測定するように構成してもよい。このとき、照
度センサユニット３９０をローダロボット３２のアーム
３７またはアンローダロボット５２のアーム５７または
露光ステージ４１に支持させて、各照度センサ３９と測
定位置とを位置合わせし、照度分布の測定を行えばよ
い。

【０１３８】また、上述の実施例では液晶表示器用ガラ
ス基板を露光する近接露光装置の照度分布調整を例に採
り説明したが、本発明に係る照度分布調整装置は、その
他の基板（例えば、半導体基板等）を露光する場合にも
同様に適用できるし、また、光源を交換するたびに光源
の位置を調整しながら照度分布の調整を行うその他の露
光装置（例えば投影露光装置等）にも同様に適用するこ
とができる。なお、例えば、ステッパーに適用する場合
には、基板を吸着保持してＸＹ方向に移動させるＸＹス
テージに照度センサを取り付けることにより、照度セン
サを所定の測定位置に移動させることができる。

【０１３９】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、光源の位置の移動が必要か否かを判定し、光
源の位置の移動が必要である場合には必要な光源の移動
方向と移動量とを算出して、光源の位置を算出された移
動方向・移動量で移動させる処理を自動的に行うように
構成したので、光源の交換の後の照度分布調整を行うた
めの専門の技術者が不要となり、誰でも簡単に光源の交
換作業を行うことが可能となった。

【０１４０】また、照度分布調整は自動で行われるの
で、人手（専門の技術者）が行う場合に比べて、正確
に、かつ、処理速度が速く行うことができるので、光源
交換時のダウンタイムを少なくでき、生産性の向上を図
ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例に係る照度分布調整装置を備
えた近接露光装置の全体構成を示す正面図である。

【図２】図１の平面図である。

【図３】（ａ）：ローダロボットの構成を示す正面図で
ある。（ｂ）：ローダロボットの構成を示す平面図である。

【図４】照度センサを露光領域の照度測定位置に位置合
わせした状態を示す図である。

【図５】照明光学系の光源の取り付け部を移動させる移
動機構の構成を示す図である。

【図６】近接露光装置の制御部の構成を示すブロック図
である。

【図７】制御部内の全体制御部の動作を示すフローチャ
ートである。

【図８】測定座標系を説明するための図である。

【図９】照度分布調整処理制御部の詳細構成を示すブロ
ック図である。

【図１０】照度分布を露光処理時の光量分布の関係を説
明するための図である。

【図１１】光量分布調整処理制御部による光量分布調整
処理の手順を示すフローチャートである。

【図１２】ピーキング処理部によるピーキング処理の手
順を示すフローチャートである。

【図１３】照度分布測定部による照度分布測定処理の手
順を示すフローチャートである。

【図１４】ズレ量算出部によるズレ量算出処理の手順を
示すフローチャートである。

【図１５】移動方向・移動量算出部による移動方向・移
動量算出処理の手順を示すフローチャートである。

【図１６】照度センサを露光領域の中心に移動させると
きのローダロボットのアームの伸長量の算出方法を説明
するための図である。

【図１７】ピーキング処理の光源の移動状態を示す図で
ある。

【図１８】最大照度となる光源の位置を特定する方法を
説明するための図である。

【図１９】照度センサを測定位置に移動させるときのロ
ーダロボットのアームの回転方向、回転角度、アームの
伸長量の算出方法を説明するための図である。

【図２０】基準の照度分布のｒと座標との関係を示す図
である。

【図２１】ズレ量算出の方法を説明するための図であ
る。

【図２２】重心位置の算出の方法と、光源の移動方向・
移動量の算出の方法とを説明するための図である。

【図２３】測定位置の設定方法の変形例を説明するため
の図である。

【図２４】測定位置の設定方法の変形例を説明するため
の図である。

【図２５】測定位置の設定方法の変形例を説明するため
の図である。

【図２６】照度センサを多数備えた照度センサユニット
の外観を示す斜視図である。

【符号の説明】

１ … 基板２ … マスク３ … 基板ローダ部４ … 露光部５ … 基板アンローダ部６ … 照明光学系３２ … ローダロボット３９ … 照度センサ６１ … 光源８５ … 照度分布調整処理制御部１０３ … 判定部１０５ … 移動量算出部１０６ … 光源移動部１１１ａ、１１１ｂ … 照度分布測定部６０３ … ＸＹＺステージＲＡ … 露光領域ＣＰ … 露光領域の中心

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】交換可能な光源を含む照明光学系から出
射される照明光によって、マスクに形成されたパターン
を基板に塗布された感光材料に露光する露光装置に備え
られ、前記照明光学系から出射され、前記基板の露光領
域に照射されるべき照明光の照度分布を調整する照度分
布調整装置であって、前記照明光学系から出射され、前記露光領域に照射され
る照明光の照度分布を測定する照度分布測定手段と、前記照度分布測定手段で測定した照度分布と、基準の照
度分布とに基づき、前記光源の位置の移動が必要か否か
を判定する判定手段と、前記判定手段で光源の位置の移動が必要であると判定さ
れた場合、必要な光源の移動方向と移動量とを算出する
移動量算出手段と、前記移動量算出手段で算出された移動方向・移動量で、
前記光源の位置を移動させる光源移動手段と、を備えたことを特徴とする照度分布調整装置。