JPH0719939B2 - Flexible double-sided metal foil laminate - Google Patents

Flexible double-sided metal foil laminate

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JPH0719939B2
JPH0719939B2 JP63232187A JP23218788A JPH0719939B2 JP H0719939 B2 JPH0719939 B2 JP H0719939B2 JP 63232187 A JP63232187 A JP 63232187A JP 23218788 A JP23218788 A JP 23218788A JP H0719939 B2 JPH0719939 B2 JP H0719939B2
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plastic film
sided
double
fmcl
metal foil
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秀介 山中
拓志 佐藤
相沢  浩一
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Mitsui Toatsu Chemicals Inc
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Mitsui Toatsu Chemicals Inc
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、プラスチックフィルム中の溶剤含有量が低
く、接着強度が高く、耐熱性、機械的特性および電気的
特性に優れた新規なフレキシブル両面金属箔積層板(Fl
exible Metal Double Clad Laminate、以下、略記 両
面FMCL)に関するものであり、フレキシブルプリント回
路用基板、電磁波シールドフィルム、包装用材料などに
使用される。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial field of application] The present invention provides a novel flexible double-sided film having a low solvent content in a plastic film, high adhesive strength, and excellent heat resistance, mechanical properties and electrical properties. Metal foil laminate (Fl
exible Metal Double Clad Laminate (hereinafter abbreviated as double-sided FMCL) and is used for flexible printed circuit boards, electromagnetic wave shielding films, packaging materials, etc.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

両面FMCLは、フレキシブルプリント回路用基板、電磁波
シールドフィルム、包装材料などとして、金属とプラス
チックの両者の特徴が総合的に活用される素材として使
用されている。
The double-sided FMCL is used as a material for comprehensively utilizing the characteristics of both metal and plastic, such as a flexible printed circuit board, an electromagnetic wave shielding film, and a packaging material.

このような両面FMCLは、従来、例えば特開昭51-13617
3、同55-91895、同62-183592に開示されているように、
プラスチックフィルムと金属箔を、接着剤または接着シ
ートによって貼り合わせた後、プラスチックフィルムの
反対面に金属箔を同様に接着剤または接着シートにより
貼り合わせるか、接着剤を塗布した金属箔の間にプラス
チックフィルムを挟んで貼り合わせるか、金属箔とプラ
スチックフィルムの間に接着シートを挟んで貼り合わせ
ることなどにより製造されており、アクリル系、あるい
はエポキシ系などの低耐熱性の接着層が介在することが
特徴である。
Such a double-sided FMCL has hitherto been disclosed in, for example, JP-A-51-13617.
3, as disclosed in the same 55-91895, 62-183592,
After sticking the plastic film and metal foil with an adhesive or an adhesive sheet, also stick the metal foil on the opposite side of the plastic film with an adhesive or an adhesive sheet, or between the metal foil coated with the adhesive It is manufactured by sandwiching a film, or by sandwiching an adhesive sheet between a metal foil and a plastic film and laminating it, and an acrylic or epoxy-based low heat resistant adhesive layer may be present. It is a feature.

しかるに近年、両面FMCLにおいても、薄型化、軽量化、
耐熱性の向上などによる高性能化および高生産性に対す
る要望が強くなってきている。
However, in recent years, even in the double-sided FMCL, thinning, weight reduction,
There is an increasing demand for higher performance and higher productivity by improving heat resistance.

特に、フレキシブルプリント回路用基板においては、回
路の高密度化、ワイヤーボンドを伴う表面実装方法、製
品の小型化、および高生産性化などが進められているの
であり、これに対応して耐熱性、機械的特性、電気的特
性に優れた両面FMCLの提供が切望されている。
In particular, for flexible printed circuit boards, circuit densification, surface mounting methods involving wire bonding, product miniaturization, and high productivity are being promoted. It is earnestly desired to provide double-sided FMCL with excellent mechanical and electrical characteristics.

しかし、前記の従来品の両面FMCLは、本質的には不要の
接着層があり、かつ接着層が通常はアクリル系、エポキ
シ系の接着剤であるため高温時の接着強度および耐熱劣
化性などの所謂、耐熱性が低く高温半田に耐え得ず、高
温の使用条件においては電気絶縁特性が低下し、更には
接着強度の低下を招いて、実用上、問題を生じている。
However, the above-mentioned conventional double-sided FMCL has an essentially unnecessary adhesive layer, and since the adhesive layer is usually an acrylic or epoxy adhesive, the adhesive strength at high temperature and heat deterioration resistance etc. So-called low heat resistance cannot withstand high-temperature solder, electrical insulation characteristics deteriorate under high-temperature use conditions, and further adhesive strength decreases, causing problems in practical use.

このような接着層がある積層板の問題は、通常の片面型
のフレキシブル金属箔積層板(FMCL=Flexible Metal C
lad Laminate)においても生じているのであり、片面型
FMCLにおいては例えば、特開昭52-35281、同56-23791な
どにより示されるように、金属箔上に耐熱プラスチック
ワニスをTダイか、各種のコーターを使用して流延塗布
し、これを乾燥固化させる、所謂、流延法によって接着
層を介在させることがない片面型FMCLの製造方法が提案
されている。
The problem of the laminated board with such an adhesive layer is that a normal single-sided type flexible metal foil laminated board (FMCL = Flexible Metal C
lad laminate), it is a single-sided type.
In FMCL, for example, as shown in JP-A-52-35281 and JP-A-56-23791, heat-resistant plastic varnish is cast-coated on a metal foil using a T-die or various coaters, and dried. There has been proposed a method for producing a single-sided FMCL in which an adhesive layer is not interposed by a so-called casting method of solidifying.

これらの片面型FMCLの製法は、製法自体が簡潔であり、
しかも接着層が設けられていないために得られる片面型
FMCLの諸特性は、プラスチックの諸特性が直接反映され
るようになるのであって特に高温時においても、金属箔
との接着力の低下が殆どないのであり、耐熱性に優れる
という利点を有している。
The manufacturing method of these single-sided FMCL is simple,
Moreover, it is a single-sided type obtained because no adhesive layer is provided.
The FMCL properties are directly reflected in the plastic properties, and the adhesive strength with the metal foil hardly decreases even at high temperatures, which has the advantage of excellent heat resistance. ing.

しかし、両面FMCLにおいては、その積層の構成上、片面
型FMCLに利用されている上記の流延法の適用は不適当で
ある。
However, in the double-sided FMCL, the above casting method used in the single-sided FMCL is unsuitable due to its laminated structure.

このために流延法によって接着剤を介在させることなく
金属箔上に直接にプラスチックフィルムを形成させた二
枚の片面型FMCLのプラスチック面を対面させて貼り合わ
せて、接着層を含まない両面FMCLを製造する方法が特開
昭56-139953に提案されている。
For this reason, two single-sided FMCLs that have a plastic film directly formed on the metal foil by the casting method are made to face each other with the plastic surface facing each other, and the double-sided FMCL does not include an adhesive layer. A method for producing a is proposed in JP-A-56-139953.

しかし、この方法では、プラスチックフィルム中に揮発
分が5〜50%も含有されているために、260℃以上の半
田浴中、あるいは製品となった後200℃以上の高温下の
使用中に空隙部分が生じること、あるいは、プラスチッ
クフィルムの収縮によって変形が生じることなどにより
実際上の使用に当っては問題が生じる。
However, in this method, since 5% to 50% of the volatile content is contained in the plastic film, voids are generated in the solder bath at 260 ° C or higher, or after the product is used at high temperature of 200 ° C or higher. Problems occur in practical use due to the formation of parts or the deformation caused by shrinkage of the plastic film.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problems to be Solved by the Invention]

この発明の目的は、金属箔二枚がプラスチックフィルム
の両面に接着剤を介在させることなしに直接的に固着
し、プラスチックフィルム中の溶剤含有量は低く、接着
強度は高く、耐熱性、機械的特性および電気的特性に優
れた両面FMCLを提供することである。
The object of the present invention is that two metal foils are directly fixed on both sides of a plastic film without interposing an adhesive, the solvent content in the plastic film is low, the adhesive strength is high, the heat resistance and the mechanical strength are high. It is to provide a double-sided FMCL having excellent characteristics and electrical characteristics.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

耐熱性、機械的特性および電気的特性に優れる高性能化
された両面FMCLの創出には、プラスチックフィルムの諸
特性、プラスチックフィルム中に残留している溶剤量、
プラスチックフィルムと金属箔との最適化が必要である
ものと発明者らは推測して、試作と試験を反復した結果
として、 (イ) プラスチックフィルムと金属箔とは接着層を介
在させることなく直接に接着していること。
To create a high-performance double-sided FMCL with excellent heat resistance, mechanical properties, and electrical properties, various properties of the plastic film, the amount of solvent remaining in the plastic film,
The inventors have speculated that the plastic film and the metal foil need to be optimized, and as a result of repeating the trial manufacture and the test, (a) the plastic film and the metal foil are directly connected without interposing an adhesive layer. Be adhered to.

(ロ) プラスチックフィルムと金属箔の90度ピール強
度は常温にて0.7〜22kgf/cm、200℃にて0.4〜20kgf/cm
であること。
(B) 90 degree peel strength of plastic film and metal foil is 0.7-22kgf / cm at room temperature and 0.4-20kgf / cm at 200 ℃.
To be.

(ハ) プラスチック中の溶剤含有量が重量基準にて1
〜0.01%であること。
(C) Solvent content in plastic is 1 by weight
~ 0.01%.

(ニ) 両面FMCLの半田耐熱性が300℃の浴中で30秒間
浸漬させた場合、形状変化が認められないものであるこ
と。
(D) The solder heat resistance of the double-sided FMCL shall not show any change in shape when immersed in a bath at 300 ° C for 30 seconds.

以上の(イ)〜(ニ)の条件が全て満足させられる必要
があることを発明者らは見出し、これを確認して、この
発明を完成し得た。
The inventors have found that it is necessary to satisfy all of the above conditions (a) to (d), and have confirmed this, and have completed the present invention.

即ち、この発明の両面FMCLは、プラスチックフィルムと
金属箔が接着層を介在させることなく直接的に固着して
いることなどにより、接着層の介在に起因する耐熱性低
下、機械的性能の低下、電気的特性の低下を避け得たも
のである。
That is, the double-sided FMCL of the present invention is such that the plastic film and the metal foil are directly fixed to each other without the interposition of an adhesive layer, so that the heat resistance is lowered due to the interposition of the adhesive layer, the mechanical performance is lowered, It is possible to avoid deterioration of electrical characteristics.

また、この発明の両面FMCLにおいてはプラスチックフィ
ルム金属箔間の90度ピール強度が、常温にて0.7kgf/cm
以上であり、200℃にて0.4kgf/cm以上であることによっ
て、優れた接着強度、耐熱性、機械的性質を保有するこ
とが可能となっているのであるが、これ以下の低いピー
ル強度を持つ場合には加工中にプラスチックフィルムと
金属箔間に剥離が生じて、満足できる高性能化された両
面FMCLとはなり得ない。
Further, in the double-sided FMCL of the present invention, the 90 degree peel strength between the plastic film metal foil is 0.7 kgf / cm at room temperature.
It is possible to have excellent adhesive strength, heat resistance, and mechanical properties by being 0.4 kgf / cm or more at 200 ° C., but a low peel strength of less than this is possible. In the case of holding, peeling occurs between the plastic film and the metal foil during processing, and it is not possible to obtain a satisfactory high performance double-sided FMCL.

また、この発明の両面FMCLにおいてはプラスチックフィ
ルム中の溶剤含有量が1〜0.01%好ましくは0.1%以
下、更に好ましくは0.02%以下であることにより、プラ
スチックフィルムと金属箔との間の高温における接着力
の低下がなくプラスチックフィルムの寸法変化も少なく
良好な耐熱性を保有することとなったのである。溶剤含
有量が1%を越える場合には、高温での使用時に溶剤の
蒸気圧に起因して発生する膨張、溶剤の蒸発による寸法
変化、接着強度低下などが生じ、耐熱性両面FMCLとはな
り得ず、特に耐熱性を必要とするプリント回路用基板と
しては使用不能である。
Further, in the double-sided FMCL of the present invention, the solvent content in the plastic film is 1 to 0.01%, preferably 0.1% or less, more preferably 0.02% or less, thereby the adhesion at high temperature between the plastic film and the metal foil. The strength of the plastic film did not decrease, and the dimensional change of the plastic film was small, and it possessed good heat resistance. If the solvent content exceeds 1%, expansion due to the vapor pressure of the solvent when used at high temperatures, dimensional changes due to evaporation of the solvent, decrease in adhesive strength, etc. will result in heat-resistant double-sided FMCL. In particular, it cannot be used as a printed circuit board requiring heat resistance.

更に、半田耐熱性が300℃の浴中で30秒間浸漬させた場
合、形状変化が認められないものであることによる高密
度化回路への半田工程の汎用と半田工程の高速化が可能
となり、優れた両面FMCLが出現することとなった。
Furthermore, when immersed in a bath with a soldering heat resistance of 300 ° C for 30 seconds, no change in shape is observed, which allows general-purpose soldering processes for high-density circuits and high-speed soldering processes. Excellent double-sided FMCL has emerged.

発明者らは、更に検討を重ねた結果として、基材である
プラスチックフィルムが、前記条件に併せて、 (ホ) 室温における引張弾性率が100〜800kgf/mm2
あり、かつ伸び率が30〜200%であること。
As a result of further studies, the inventors have found that the plastic film as the base material has a tensile elastic modulus at room temperature of 100 to 800 kgf / mm 2 and an elongation of 30 in accordance with the above conditions. ~ 200%.

(ヘ) 1KHzで3.0〜3.5の誘電率を有すること。(F) A dielectric constant of 3.0 to 3.5 at 1 KHz.

(ト) ガラス転移点温度280〜390℃の網目状プラスチ
ックまたは/およびガラス転移点温度150〜260℃の線状
プラスチックからなること。
(G) It consists of a network plastic having a glass transition temperature of 280 to 390 ° C and / or a linear plastic having a glass transition temperature of 150 to 260 ° C.

の条件を満たす場合には耐熱性、機械特性および電気的
特性が、更に優れて、高性能化された両面FMCLとなるこ
とも見出して、この発明を完成するに至った。
It was also found that, when the condition of (2) is satisfied, the double-sided FMCL is further improved in heat resistance, mechanical properties and electrical properties and has high performance, and the present invention has been completed.

即ち、その基材であるプラスチックフィルムの引張弾性
率が100〜800kgf/mm2、伸び率が30〜200%であることに
よって、両面FMCLとして優れた機械的性質を示し得ると
となるのであるが、引張弾性率が100kgf/mm2より小か、
あるいは伸び率が200%を越える場合には、両面FMCLと
しては柔らか過ぎるのであって、引張弾性率が800kgf/m
m2より大か、あるいは伸び率が30%よりも小である場合
には、硬きに過ぎるのであっていずれの場合において機
械的性質の優れた両面FMCLとはなり得ない。
That is, the tensile elastic modulus of the plastic film as the base material is 100 to 800 kgf / mm 2 , and the elongation percentage is 30 to 200%, whereby it is possible to exhibit excellent mechanical properties as a double-sided FMCL. , The tensile modulus is less than 100kgf / mm 2 ,
Alternatively, if the elongation exceeds 200%, it is too soft for the double-sided FMCL and the tensile modulus is 800 kgf / m.
If it is larger than m 2 or if the elongation is smaller than 30%, it is too hard to be a double-sided FMCL having excellent mechanical properties in any case.

また、プラスチックフィルムの誘電率が1KHzで3.5以下
であることにより、両面FMCLとして優れた電気的性質を
示すことができるのであるが、この値を越えた場合に
は、両面FMCLとして電気的性質が不良であり、特に高密
度化されたプリント回路用基板として使用する場合に、
信号伝達速度の低下などの問題が生じる。
Also, since the dielectric constant of the plastic film is 3.5 or less at 1 KHz, it is possible to show excellent electrical properties as a double-sided FMCL, but if this value is exceeded, the electrical properties as a double-sided FMCL will be It is defective, especially when used as a high-density printed circuit board,
Problems such as a decrease in signal transmission speed occur.

更に、この発明の両面FMCLが、ガラス転移点温度280℃
以上である網目状プラスチックまたは/およびガラス転
移点温度が150℃以上の線状プラスチックからなること
により、高温での連続使用が可能になること、あるいは
高温半田が可能となることなど、両面FMCLとして優れた
耐熱性を示すが、これらの特定温度以下のものの場合
は、基材自体の耐熱性が低いために耐熱性の優れた両面
FMCLとはなり得ない。
Furthermore, the double-sided FMCL of the present invention has a glass transition temperature of 280 ° C.
As it is made of reticulated plastic and / or linear plastic with a glass transition temperature of 150 ° C or higher, it can be used continuously at high temperature, or high temperature solder can be used. It shows excellent heat resistance, but if it is below these specified temperatures, the heat resistance of the base material itself is low, so both sides with excellent heat resistance
It cannot be FMCL.

前記(イ)〜(ト)の条件を満足させるために鋭意検討
した結果、プラスチックフィルムの素材には特願昭61-6
6049に開示されているような、 (1) 対称型芳香族メタ置換第1級ジアミンと対称型
芳香族パラ置換第1級ジアミンを、当量比0〜100:100
〜0の範囲内にて含有する物質が調製された後、芳香族
テトラカルボン酸無水物と反応させられて生成するポリ
イミド、 (2) 対称型芳香族メタ置換第1級ジアミンと芳香族
テトラカルボン酸無水物が反応させられて生成するポリ
アミド酸(A)と、対称型芳香族パラ置換第1級ジアミ
ンと芳香族テトラカルボン酸無水物が反応させられて生
成するポリアミド酸(B)を当量比0〜100:100〜0の
範囲内にて含有する物質が調製された後、調製物中の反
応が更に進行して生成するポリイミド、 などが適当しており、 (3) 蒸気の(1)および(2)において 対称型芳香族メタ置換第1級ジアミンが、次式 (ただし、上記の式中のXは、O、SO2、CO、CH2、C(CH3)2、C
(CF3)2または直結を表示。)であるポリイミドが特に適
当であるが、これらに特に限定されるものではなく、プ
ラスチックと金属箔との密着性、溶剤含有量、引張弾性
率、伸び率、誘電率、およびガラス転移点温度が前記の
範囲内にあるものであればよい。
As a result of extensive studies to satisfy the conditions (a) to (g), Japanese Patent Application No. 61-6
(1) a symmetrical aromatic meta-substituted primary diamine and a symmetric aromatic para-substituted primary diamine, in an equivalence ratio of 0-100: 100.
A polyimide produced by reacting with an aromatic tetracarboxylic acid anhydride after the substance contained within the range of 0 to (2), (2) symmetric aromatic meta-substituted primary diamine and aromatic tetracarboxylic acid An equivalent ratio of polyamic acid (A) produced by reacting an acid anhydride with polyamic acid (B) produced by reacting a symmetric aromatic para-substituted primary diamine and an aromatic tetracarboxylic acid anhydride After the substances contained in the range of 0 to 100: 100 to 0 are prepared, polyimide, which is produced by further progress of the reaction in the preparation, is suitable. (3) Steam (1) And in (2), the symmetric aromatic meta-substituted primary diamine has the following formula (However, X in the above formula is O, SO 2 , CO, CH 2 , C (CH 3 ) 2 , C
(CF 3 ) 2 or Direct connection is displayed. ) Is particularly suitable, but is not particularly limited to these, adhesiveness between plastic and metal foil, solvent content, tensile modulus, elongation, dielectric constant, and glass transition temperature is Anything within the above range may be used.

プラスチックフィルムの厚さは好ましくは5〜100μm
程度、更に好ましくは10〜50μmの範囲内である。
The thickness of the plastic film is preferably 5-100 μm
It is in the range of 10 to 50 μm, and more preferably in the range of 10 to 50 μm.

また、金属箔としては、好ましくは、銅、アルミニウ
ム、金、銀、ニッケル、これらを含む合金か、その他の
合金製であり、特に好ましくは、銅および/またはアル
ミニウムからなる金属箔である。
The metal foil is preferably made of copper, aluminum, gold, silver, nickel, alloys containing these, or other alloys, and particularly preferably metal foil made of copper and / or aluminum.

金属箔の厚さは、好ましくは5〜100μm程度の範囲内
とされる。
The thickness of the metal foil is preferably in the range of about 5 to 100 μm.

プラスチックフィルムが直接結合する金属箔面は、接合
表面積を大きくするために、銅箔の表面処理などにおい
て汎用される電気鍍金により粒子を付着させるか、ある
いは交流エッチングなどが施されるか、あるいは交流エ
ッチングなどが施されることが、接着力増大のために好
ましく、また、有機重合体に適当するシランカップリン
グ処理、チタネートカップリング処理などによって接着
力が増強されてもよい。
In order to increase the bonding surface area, the metal foil surface to which the plastic film is directly bonded is attached with particles by electroplating generally used in the surface treatment of copper foil, or subjected to AC etching, or AC It is preferable to apply etching or the like to increase the adhesive force, and the adhesive force may be enhanced by a silane coupling treatment or a titanate coupling treatment suitable for the organic polymer.

また、銅箔の防錆剤として広く使用されている亜鉛との
結合性が高い−SH基を含むモノマーか、あるいはポリマ
ーを以て表面処理が施されることにより接着力が向上さ
せられてもよい。
Further, the adhesive strength may be improved by performing a surface treatment with a monomer containing —SH group, which has a high bonding property with zinc, which is widely used as a rust preventive agent for copper foil, or a polymer.

この発明は、例えば、下記のような方法により具体化さ
れ得るが、これらにより限定されるものではない。
The present invention can be embodied by, for example, the following methods, but is not limited thereto.

a.(1) 金属箔上にポリアミド酸をワニスをTダイ、
あるいはエンマコーターなどを利用して流延塗布し、次
いで加熱乾燥させて、溶剤含有量を1%以下にするとと
もに、ポリアミド酸を網目状ポリイミドに転化させる。
a. (1) Titanium varnish with polyamic acid on metal foil,
Alternatively, an emma coater or the like is used for casting and coating, followed by heating and drying to reduce the solvent content to 1% or less and to convert the polyamic acid into a network polyimide.

(2) 他の金属箔上に線状ポリイミドの先駆体である
ポリアミド酸ワニスを、同様に流延塗布し、次いで加熱
乾燥させ、溶剤含有量を1%以下にするとともに、ポリ
アミド酸を線状ポリイミドに転化させる。
(2) A polyamic acid varnish, which is a precursor of linear polyimide, is cast-coated on another metal foil in the same manner, and then dried by heating to reduce the solvent content to 1% or less and to linearize polyamic acid. Convert to polyimide.

(3) 第1図に示すように、上記の(1)と(2)に
より得られた積層用材のポリイミド面相互を重ね合わせ
て積層し、加熱加圧し、ポリイミドを一体化させる。
(3) As shown in FIG. 1, the polyimide surfaces of the laminating materials obtained in (1) and (2) above are superposed and laminated, and heated and pressed to integrate the polyimides.

あるいは、 b.(4) 金属箔上に網目状ポリイミドの先駆体である
ポリアミド酸ワニスを流延塗布し、加熱して指触乾燥か
ら網目状ポリイミドに転化するまでの間の中間的状態に
する。
Alternatively, b. (4) Cast a polyamic acid varnish, which is a precursor of mesh polyimide, onto a metal foil, and heat it to an intermediate state between touch drying and conversion to mesh polyimide. .

(5) 上記(4)により得られた積層用材のポリアミ
ド酸ワニス面に線状ポリイミド先駆体であるポリアミド
酸ワニスを流延塗布し、次いで加熱乾燥させて溶剤含有
量を1%以下にするとともにポリアミド酸を線状ポリイ
ミドに転化させる。
(5) A polyamic acid varnish that is a linear polyimide precursor is cast-coated on the polyamic acid varnish surface of the laminating material obtained in (4) above, and then heat-dried to reduce the solvent content to 1% or less. Convert polyamic acid to linear polyimide.

(6) 第2図に示すように、上記の(5)によって得
られた積層用材のポリイミド面に金属箔を重ね合わせて
積層し、加熱加圧して、金属箔を一体化させる。
(6) As shown in FIG. 2, the metal foil is laminated on the polyimide surface of the laminating material obtained in the above (5) and laminated by heating and pressing to integrate the metal foil.

あるいは、 c.第3図に示すように、上記(1)にて得られた積層用
材と、(5)にて得られた積層用材ポリイミド面を重ね
合わせて、加熱加圧し、ポリイミドを一体化させる。
Alternatively, c. As shown in FIG. 3, the laminating material obtained in (1) above and the laminating material polyimide surface obtained in (5) are superposed and heated and pressed to integrate the polyimide. Let

更に、例えば d.上記(5)の積層用材相互を一体化させる。Further, for example, d. The laminating materials of (5) above are integrated.

e.上記(2)の積層用材と金属箔とを、一体化させる。e. The above-mentioned lamination material (2) and the metal foil are integrated.

f.上記(2)の積層用材相互を一体化させる。f. The laminating materials described in (2) above are integrated.

などの方法によっても具体化され得る。It can also be embodied by methods such as.

上記製造方法において、各ポリアミド酸ワニスの塗布厚
さは、乾燥硬化後の一体化したフィルムの厚さが好まし
くは5〜100μm、更に好ましくは10〜50μm程度の範
囲内となる限りにおいて、任意であるが、線状ポリイミ
ドがフィルム厚さの半分以下となるように塗布すること
が好ましい。
In the above production method, the coating thickness of each polyamic acid varnish is optional as long as the thickness of the integrated film after drying and curing is preferably in the range of 5 to 100 μm, more preferably 10 to 50 μm. However, it is preferable that the linear polyimide is applied so as to have a thickness of half or less of the film thickness.

また、網目状ポリイミドとしては、前記対称型芳香族メ
タ置換第1級ジアミンと、対称型芳香族パラ置換第1級
ジアミンの当量比が0〜50:100〜50の範囲内のものが好
ましく、線状ポリイミドとしては、前記当量比が100〜9
0:0〜10のものが好ましい。
The network polyimide is preferably one having an equivalent ratio of the symmetrical aromatic meta-substituted primary diamine and the symmetrical aromatic para-substituted primary diamine in the range of 0 to 50: 100 to 50, As the linear polyimide, the equivalent ratio is 100 to 9
It is preferably 0: 0 to 10.

加熱温度は種々の条件により変えられ得るが、通常、約
100〜400℃、好ましくは150〜350℃の範囲内である。
The heating temperature can be changed by various conditions, but is usually about
It is in the range of 100 to 400 ° C, preferably 150 to 350 ° C.

加圧力は、通常0.1〜200kgf/cm2、好ましくは10〜100kg
f/cm2である。
Pressure is usually 0.1 to 200 kgf / cm 2 , preferably 10 to 100 kg
f / cm 2 .

〔作用および効果〕[Action and effect]

この発明の両面FMCLは、耐熱性、機械的および電気的性
能において優れており、フラットケーブル、電磁波シー
ルド材料、包装用材料など多くの用途において、高温雰
囲気中にあっても、高い耐久性と信頼性を以ての使用を
可能とする。
The double-sided FMCL of this invention is excellent in heat resistance, mechanical and electrical performance, and has high durability and reliability even in a high temperature atmosphere in many applications such as flat cables, electromagnetic shielding materials, and packaging materials. It is possible to use it by nature.

特に、この発明の両面FMCLがフレキシブルプリント回路
の基板として使用される場合には、レーザー光線による
スルーホール処理、あるいは高温半田にも安定して耐え
得るために、生産性を向上させ、回路の高密度化を容易
化させ、更に、ワイヤボンド加工性と信頼性を向上させ
得るのであり、表面実装密度は高くなり、耐熱性、電気
的および機械的特性に優れたフレキシブルプリント回路
を得ることを可能とするのであって、大巾に用途範囲は
拡大されるのである。
In particular, when the double-sided FMCL of the present invention is used as a substrate for a flexible printed circuit, it can withstand through-hole processing by laser beam or high-temperature solder stably, thus improving productivity and increasing the circuit density. It is possible to obtain a flexible printed circuit that has excellent heat resistance, electrical and mechanical properties, because surface mounting density is high and wire bond processability and reliability can be improved. Therefore, the range of applications is greatly expanded.

以下に、この発明の実施例と比較例を示して、この発明
と、その効果を具体的に説明する。
Hereinafter, the present invention and its effects will be specifically described by showing Examples and Comparative Examples of the present invention.

なお、実施例と比較例中において、 (1) 90度ピール強度測定はIPC-FC-241Aに準じ、 (2) 半田耐熱性測定はJIS C-6481に準じ、膨張波打
ち変形など形状の異常化の有無を以て、判定した。
In the examples and comparative examples, (1) 90 degree peel strength measurement conforms to IPC-FC-241A, (2) Solder heat resistance measurement conforms to JIS C-6481, abnormal shape such as expansion wavy deformation It was judged by the presence or absence of.

実施例1 (a) 攪拌器、還流冷却器および窒素導入管を備えた
容器中にて、4,4′−ビス(3−アミノフェノキシ)ビ
フェニル221g(0.60モル)と、4,4′−ジアミノジフェ
ニルエーテル280g(1.4モル)を、N,N−ジメチルアセト
アミド3500mlに溶解させ0℃付近まで冷却し、これに窒
素雰囲気下、ピロメリット酸二無水物436g(2.0モル)
を添加し0℃付近で2時間攪拌し反応させた。
Example 1 (a) In a container equipped with a stirrer, a reflux condenser and a nitrogen introducing tube, 221 g (0.60 mol) of 4,4′-bis (3-aminophenoxy) biphenyl and 4,4′-diamino were added. 280 g (1.4 mol) of diphenyl ether was dissolved in 3500 ml of N, N-dimethylacetamide and cooled to around 0 ° C, and under this nitrogen atmosphere, 436 g (2.0 mol) of pyromellitic dianhydride.
Was added, and the mixture was reacted at 0 ° C. for 2 hours with stirring.

次に、上記溶液を室温に上げて、窒素雰囲気下約20時間
の攪拌を行った。
Next, the solution was raised to room temperature and stirred under a nitrogen atmosphere for about 20 hours.

こうして得られたポリアミド酸溶液の対数粘度は、1.7d
l/gであった。
The polyamic acid solution thus obtained had an inherent viscosity of 1.7d.
It was l / g.

このポリアミド酸溶液をN,N−ジメチルアセトアミドを
以て濃度19%まで希釈した。
This polyamic acid solution was diluted with N, N-dimethylacetamide to a concentration of 19%.

この(a)溶液を、厚さ35μmの市販の圧延銅箔に均一
に流延塗布して、130℃にて5分間、更に160℃にて5分
間、加熱し乾燥させた後に、酸素濃度0.5%の330℃の窒
素雰囲気中で20分間加熱して、銅箔上に膜厚20μmのポ
リイミドが直接的に接着された積層用材(イ)を得た。
The solution (a) was uniformly cast-coated on a commercially available rolled copper foil having a thickness of 35 μm, heated at 130 ° C. for 5 minutes, and further heated at 160 ° C. for 5 minutes to be dried, and then the oxygen concentration was 0.5. % In a nitrogen atmosphere at 330 ° C. for 20 minutes to obtain a laminate material (a) in which a polyimide having a film thickness of 20 μm was directly adhered to a copper foil.

この積層用材(イ)の銅箔を全面エッチングして得られ
たプラスチックフィルムのガラス転移点温度は340℃で
あった。
The glass transition temperature of the plastic film obtained by etching the entire copper foil of the laminating material (a) was 340 ° C.

また、その溶剤含有量は0.02%であった。The solvent content was 0.02%.

(b) 攪拌器、還流冷却器および窒素導入管を備えた
容器中にて、4,4′−ビス(3−アミノフェノキシ)ビ
フェニル737g(2モル)を、N,N−ジメチルアセトアミ
ド3500mlに溶解させ、0℃付近まで冷却し窒素雰囲気
下、ピロメリット酸二無水物436g(2.0モル)を添加し
0℃付近で2時間攪拌した。
(B) In a container equipped with a stirrer, a reflux condenser and a nitrogen inlet tube, 737 g (2 mol) of 4,4′-bis (3-aminophenoxy) biphenyl was dissolved in 3500 ml of N, N-dimethylacetamide. The mixture was cooled to about 0 ° C., 436 g (2.0 mol) of pyromellitic dianhydride was added under a nitrogen atmosphere, and the mixture was stirred at about 0 ° C. for 2 hours.

次に、上記溶液を室温に上げ、窒素雰囲気下、約20時間
の攪拌を行った。
Next, the solution was raised to room temperature and stirred under a nitrogen atmosphere for about 20 hours.

こうして得られたポリアミド酸溶液の対数粘度は1.5dl/
gであった。このポリアミド酸溶液をN,N−ジメチルアセ
トアミドを以て濃度19%まで希釈した。この(b)溶液
を、厚さ35μmの市販圧延銅箔に均一に流延塗布し、13
0℃にて5分間更に160℃にて5分間、加熱し乾燥させた
後に、酸素濃度が0.5%の330℃の窒素雰囲気中にて20分
間加熱し、銅箔上に膜厚20μmの線状ポリイミドが直接
に固着した積層用材(ロ)を得た。
The polyamic acid solution thus obtained had an inherent viscosity of 1.5 dl /
It was g. This polyamic acid solution was diluted with N, N-dimethylacetamide to a concentration of 19%. This solution (b) was uniformly cast-coated on a commercial rolled copper foil having a thickness of 35 μm.
After heating at 0 ° C for 5 minutes and further heating at 160 ° C for 5 minutes and drying, it is heated in a nitrogen atmosphere at 330 ° C with an oxygen concentration of 0.5% for 20 minutes to form a linear film with a thickness of 20 μm on the copper foil. A laminate material (b) in which the polyimide was directly adhered was obtained.

この積層用材(ロ)の銅箔を全面エッチングして得られ
たプラスチックフィルムのガラス転移点温度は260℃で
あった。
The glass transition temperature of the plastic film obtained by completely etching the copper foil of the laminating material (b) was 260 ° C.

また、その溶剤含有量は0.01%であった。The solvent content was 0.01%.

(イ)および(ロ)の積層用材をポリイミド面相互を対
面させて、290℃にて20分間・50kgf/cm2のプレス処理を
加えて、両面FMCLを得た。
The laminated materials of (a) and (b) were faced to each other with their polyimide surfaces facing each other and subjected to a press treatment of 50 kgf / cm 2 at 290 ° C. for 20 minutes to obtain a double-sided FMCL.

この両面FMCLの銅箔プラスチックフィルムの90度ピール
強度は、積層用材(イ)側において常温にて1.7kgf/c
m、200℃にて1.5kgf/cm、積層用材(ロ)側において、
常温にて22kgf/cm、200℃にて20kgf/cmであった。
The 90-degree peel strength of this double-sided FMCL copper foil plastic film is 1.7 kgf / c at room temperature on the laminating material (a) side.
m, 1.5 kgf / cm at 200 ° C, on the laminating material (b) side,
It was 22 kgf / cm at room temperature and 20 kgf / cm at 200 ° C.

この両面FMCLの銅箔を全面エッチングして得られたプラ
スチックフィルムの室温における引張弾性率は250kg/mm
2、引張伸び率は135%、誘電率は1KHzで3.0であった。
The plastic film obtained by completely etching the copper foil of this double-sided FMCL has a tensile modulus of elasticity of 250 kg / mm at room temperature.
2. The tensile elongation was 135% and the dielectric constant was 3.0 at 1KHz.

この両面FMCLの銅箔面にフォトエッチング法によって印
刷回路を形成させて、これにスルーホールメッキを施
し、300℃の半田浴中に30秒間浮遊させたが、回路形成
済の積層物には、波打状変形、層間剥離、ボイド、ブリ
スターの発生など状態の変化現象は皆無であった。
A printed circuit was formed on the copper foil surface of this double-sided FMCL by a photo-etching method, plated with through holes, and floated in a solder bath at 300 ° C for 30 seconds. There were no state change phenomena such as wavy deformation, delamination, voids and blister formation.

また、積層物を200℃の恒温槽中に240時間放置したが、
波打状変形、層間剥離・ブリスターなどの欠陥の発生は
皆無であった。
The laminate was left in a constant temperature bath at 200 ° C for 240 hours.
There was no occurrence of defects such as wavy deformation, delamination and blisters.

即ち、この発明の両面FMCLは、高温半田に耐え得ること
により、その生産性を向上させ、高温中の接着強度が高
いため、回路の高密度化、ワイヤーボンドを伴う表面実
装方法の採用を可能にし、更に、熱劣化性が小さいこと
により、高温中における長期間の使用を可能にしたので
ある。
In other words, the double-sided FMCL of the present invention can withstand high-temperature solder, improve its productivity, and has high adhesive strength at high temperatures, so circuit densification and surface mounting method involving wire bonding can be adopted. In addition, the small heat deterioration property enables long-term use at high temperature.

実施例2 (c) 攪拌器、還流冷却器および窒素導入管を備えた
容器中にて、4,4′−ビス(3−アミノフェノキシ)ビ
フェニル73g(0.60モル)と、4,4′−ジアミノジフェニ
ルエーテル360g(1.8モル)を、N,N−ジメチルアセトア
ミド3500ml中に溶解させ、0℃付近まで冷却し、これに
窒素雰囲気下、ピロメリット酸二無水物436g(2.0モ
ル)を添加して0℃付近で2時間攪拌した。次に、上記
溶液を室温に上昇させ、窒素雰囲気下、約20時間の攪拌
を行った。
Example 2 (c) In a container equipped with a stirrer, a reflux condenser and a nitrogen introducing tube, 73 g (0.60 mol) of 4,4'-bis (3-aminophenoxy) biphenyl and 4,4'-diamino were added. Dissolve 360 g (1.8 mol) of diphenyl ether in 3500 ml of N, N-dimethylacetamide, cool to around 0 ° C., and add 436 g (2.0 mol) of pyromellitic dianhydride to this under a nitrogen atmosphere and add 0 ° C. It was stirred for 2 hours in the vicinity. Next, the solution was raised to room temperature and stirred under a nitrogen atmosphere for about 20 hours.

こうして得られたポリアミド酸溶液の対数粘度は1.6dl/
gであった。
The polyamic acid solution thus obtained had an inherent viscosity of 1.6 dl /
It was g.

このポリアミド酸溶液をN,N−ジメチルアセトアミドを
以て濃度19%まで希釈した。
This polyamic acid solution was diluted with N, N-dimethylacetamide to a concentration of 19%.

この(c)溶液を厚さ35μmの市販の圧延銅箔に均一に
流延塗布し130℃にて5分間、更に160℃にて5分間、加
熱し乾燥させた後、酸素濃度0.5%の330℃の窒素雰囲気
中にて10分間加熱し、銅箔上に膜厚20μmのポリイミド
が、直接的に固着された積層用材(ハ)を得た。
This solution (c) was uniformly cast-coated on a commercially available rolled copper foil having a thickness of 35 μm, heated at 130 ° C. for 5 minutes, and further heated at 160 ° C. for 5 minutes to be dried, and then 330 with an oxygen concentration of 0.5%. The laminate was heated in a nitrogen atmosphere at 0 ° C. for 10 minutes to obtain a lamination material (c) in which a polyimide having a film thickness of 20 μm was directly adhered to a copper foil.

この積層用材(ハ)の銅箔を全面エッチングして得られ
たプラスチックフィルムのガラス転移点温度は390℃で
あった。
The glass transition temperature of the plastic film obtained by etching the entire copper foil of the laminating material (C) was 390 ° C.

また、その溶剤含有量は0.4%であった。The solvent content was 0.4%.

(d) 攪拌器、還流冷却器および窒素導入管を備えた
容器中へ、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼ
ン584g(2.0モル)とN,N−ジメチルアセトアミド3700ml
を装入し、これに室温にて窒素雰囲気下3、3′,4,4′
−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物644g(2.0
モル)を、溶液温度の上昇に注意しつつ4分割して添加
して、室温にて約24時間反応させた。
(D) In a container equipped with a stirrer, a reflux condenser and a nitrogen inlet tube, 584 g (2.0 mol) of 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene and 3700 ml of N, N-dimethylacetamide.
, And put it in a nitrogen atmosphere at room temperature under the conditions of 3, 3 ', 4, 4'
-Benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride 644 g (2.0
Mol) was added in four portions while paying attention to the rise in solution temperature, and the mixture was reacted at room temperature for about 24 hours.

こうして得られたポリアミド酸溶液の対数粘度は1.2dl/
gであった。
The polyamic acid solution thus obtained had an inherent viscosity of 1.2 dl /
It was g.

このポリアミド酸溶液をN,N−ジメチルアセトアミドを
以て濃度21%まで希釈した。
This polyamic acid solution was diluted with N, N-dimethylacetamide to a concentration of 21%.

この(d)溶液を厚さ35μmの市販の圧延銅箔に均一に
流延塗布して、130℃にて5分間、更に160℃にて5分
間、加熱し乾燥させた後に、酸素濃度3%の250℃の窒
素雰囲気中において30分間加熱して、銅箔上に膜厚10μ
mの線状ポリイミドが直接固着させられた積層用材
(ニ)が得られた。
This (d) solution was uniformly cast-coated on a commercially available rolled copper foil having a thickness of 35 μm, heated at 130 ° C. for 5 minutes, further heated at 160 ° C. for 5 minutes and dried, and then the oxygen concentration was 3%. Heated in a nitrogen atmosphere at 250 ℃ for 30 minutes to obtain a film thickness of 10μ on the copper foil.
A layering material (d) to which the linear polyimide of m was directly adhered was obtained.

この積層用材(ニ)の銅箔を全面エッチングして得られ
たプラスチックフィルムのガラス転移点温度は260℃で
あった。
The glass transition temperature of the plastic film obtained by completely etching the copper foil of the laminating material (d) was 260 ° C.

また、その溶剤含有量は0.3%であった。The solvent content was 0.3%.

積層用材(ハ)と(ニ)のポリイミド面相互を対面さ
せ、240℃・50kgf/cm2・20分間のプレス処理を施して、
両面FMCLを得た。
The polyimide surfaces of the laminating materials (C) and (D) are faced to each other and subjected to a press treatment at 240 ° C., 50 kgf / cm 2 for 20 minutes,
A double-sided FMCL was obtained.

この両面FMCLの銅箔プラスチックフィルムの90°ピール
強度は積層用材(ハ)の側において常温にて0.8kgf/c
m、200℃にて0.6kgf/cmであった。積層用材(ニ)側は
常温にて2.5kgf/cm、200℃にて0.5kgf/cmであった。
The 90 ° peel strength of this double-sided FMCL copper foil plastic film is 0.8 kgf / c at room temperature on the laminating material (c) side.
It was 0.6 kgf / cm at m and 200 ° C. The laminating material (d) side was 2.5 kgf / cm at room temperature and 0.5 kgf / cm at 200 ° C.

この両面FMCLの銅箔を全面エッチングして得られたプラ
スチックフィルムの室温における引張弾性率は260kg/mm
2、引張伸び率は95%、誘電率は1KHzで3.0であった。
The tensile modulus at room temperature of the plastic film obtained by completely etching the copper foil of this double-sided FMCL is 260 kg / mm.
2. The tensile elongation was 95% and the dielectric constant was 3.0 at 1KHz.

この両面FMCLの銅箔面にフォトエッチング法により印刷
回路を形成し、スルーホールメッキを施して、300℃の
半田浴中に30秒間浮遊させたが、回路形成済の積層物に
波打状変形、層間剥離、ボイド、あるいはブリスターの
発生その他の状態の変化は何ら認められなかった。
A printed circuit was formed on the copper foil surface of this double-sided FMCL by photo-etching, plated with through holes, and then floated in a solder bath at 300 ° C for 30 seconds. No delamination, voids, blister formation or any other change in state was observed.

また、この両面FMCLを200℃の恒温槽中に240時間放置し
たが、波打状変形、層間剥離、ブリスターなどの欠陥の
発生は見られなかった。
The double-sided FMCL was left in a constant temperature bath at 200 ° C for 240 hours, but no defects such as wavy deformation, delamination, and blister were observed.

即ち、実施例1同様に、生産性、耐熱性、機械的性質お
よび電気的性質に優れた両面FMCLが得られた。
That is, as in Example 1, a double-sided FMCL having excellent productivity, heat resistance, mechanical properties and electrical properties was obtained.

比較例1 実施例1において、積層用材(イ)の製造工程中の330
℃の窒素雰囲気内の加熱時間を5分間に変更したことを
除き、その他は完全に同一の手順の方法によって積層用
材(ホ)を得た。
Comparative Example 1 In Example 1, 330 during the manufacturing process of the laminating material (a)
A laminate material (e) was obtained by the same procedure except that the heating time in a nitrogen atmosphere at ℃ was changed to 5 minutes.

この積層用材(ホ)のプラスチックフィルムのガラス転
移点温度は340℃であった。
The glass transition temperature of the plastic film of this laminating material (e) was 340 ° C.

また、その溶剤含有量は1.4%であった。The solvent content was 1.4%.

積層用材(ホ)と実施例1の積層用材(ロ)とを実施例
1の場合と完全に同一の方法により積層して、両面FMCL
を得た。この両面FMCLの銅箔とプラスチックフィルムの
90度ピール強度は、積層用材(ホ)側では、常温にて1.
7kgf/cm、200℃にて1.5kgf/cmであり、積層用材(ロ)
側は常温にて2.2kgf/cm、200℃にて2.0kgf/cmであっ
た。この両面FMCLの銅箔を全面エッチングして得られた
プラスチックフィルムの室温における引張弾性率は250k
g/mm2、引張伸び率は135%、誘電率は1KHzにて3.0であ
った。即ち、プラスチックフィルム中の溶剤含有量が1.
4%であることを除き、実施例1とほぼ同一の両面FMCL
が得られた。
The laminating material (e) and the laminating material (b) of Example 1 were laminated by the completely same method as the case of Example 1, and double-sided FMCL
Got This double sided FMCL copper foil and plastic film
90 degree peel strength is 1.
7kgf / cm, 1.5kgf / cm at 200 ℃, laminated material (b)
The side was 2.2 kgf / cm at room temperature and 2.0 kgf / cm at 200 ° C. The tensile modulus at room temperature of the plastic film obtained by completely etching the copper foil of this double-sided FMCL is 250k.
g / mm 2, tensile elongation rate of 135% and a dielectric constant of 3.0 at 1KHz. That is, the solvent content in the plastic film is 1.
Double-sided FMCL that is almost the same as in Example 1 except that it is 4%
was gotten.

また両面FMCLの銅箔面にフォトエッチング法により印刷
回路を形成させ、スルーホールメッキを施したが、波打
状変形、層間剥離、ボイド、あるいはブリスターの発生
はなかった。
Further, a printed circuit was formed on the copper foil surface of the double-sided FMCL by a photo-etching method and through-hole plating was performed, but there was no wavy deformation, delamination, voids, or blisters.

回路形成済のこの両面FMCLを300℃の半田浴中に30秒間
浮遊させたところ、波打状の変形が生じて、積層用材
(ホ)側の銅箔と、プラスチックフィルムの間に層間剥
離が生じたため使用可能なフレキシブルプリント回路は
得られなかった。
When this double-sided FMCL on which a circuit was formed was suspended in a solder bath at 300 ° C for 30 seconds, a wavy deformation occurred and delamination occurred between the copper foil on the laminating material (e) side and the plastic film. As a result, a usable flexible printed circuit could not be obtained.

また、260℃の半田浴中に20秒間、浮遊させた場合にも
波打状変形が生じ、銅箔とプラスチックフィルムの間に
層間剥離が生じ、使用に耐え得るフレキシブルプリント
回路は得られなかった。
Also, when it was floated in a solder bath at 260 ° C for 20 seconds, wavy deformation occurred and delamination occurred between the copper foil and the plastic film, and a flexible printed circuit that could withstand use could not be obtained. .

更に、この両面FMCLを200℃の恒温槽中に240時間放置し
た場合も波打状変形と層間剥離が生じた。
Furthermore, when this double-sided FMCL was left in a constant temperature bath at 200 ° C for 240 hours, wavy deformation and delamination occurred.

即ち、比較例1では、プラスチックフィルム中の溶剤含
有量が1%を越えているため、300℃は勿論260℃の半田
浴にも耐え得ず、加えて高温劣化が激しく、耐熱両面FM
CLとはなり得なかった。
That is, in Comparative Example 1, since the solvent content in the plastic film exceeds 1%, the plastic film cannot withstand a solder bath at 260 ° C as well as 300 ° C, and in addition, the high temperature deterioration is severe and the heat-resistant double-sided FM
It couldn't be CL.

比較例2 (e) 攪拌器、還流冷却器および窒素導入管を備えた
容器中にて、4,4−ジアミノジフェニルエーテル400g
(2モル)をN,N−ジメチルアセトアミド3500mlに溶解
させ、0℃付近まで冷却し、窒素雰囲気下にピロメリッ
ト酸二無水物436g(2.0モル)を添加し0℃付近で2時
間攪拌した。次に、上記溶液を室温に上げて、窒素雰囲
気下に約20時間の攪拌を行った。こうして得られたポリ
アミド酸溶液の対数粘度は1.6dl/gであった。
Comparative Example 2 (e) 400 g of 4,4-diaminodiphenyl ether in a container equipped with a stirrer, a reflux condenser and a nitrogen introducing tube.
(2 mol) was dissolved in 3500 ml of N, N-dimethylacetamide, cooled to around 0 ° C, 436 g (2.0 mol) of pyromellitic dianhydride was added under a nitrogen atmosphere, and the mixture was stirred at around 0 ° C for 2 hours. Next, the solution was raised to room temperature and stirred under a nitrogen atmosphere for about 20 hours. The polyamic acid solution thus obtained had an inherent viscosity of 1.6 dl / g.

このポリアミド酸溶液を、N,N−ジメチルアセトアミド
を以て濃度16%まで希釈した。
This polyamic acid solution was diluted with N, N-dimethylacetamide to a concentration of 16%.

この(e)溶液を厚さ35μmの市販の圧延銅箔に均一に
流延塗布し、130℃で5分間、更に160℃で5分間、加熱
し乾燥させた後、330℃の酸素濃度3%の窒素雰囲気下
に20分間加熱して、銅箔上に膜厚20μmのポリイミドが
直接固着された積層用材(ヘ)を得られた。
This solution (e) was uniformly cast-coated on a commercially available rolled copper foil having a thickness of 35 μm, heated at 130 ° C. for 5 minutes, and further heated at 160 ° C. for 5 minutes to be dried, and then the oxygen concentration at 330 ° C. was 3%. Was heated in a nitrogen atmosphere for 20 minutes to obtain a laminate material (f) in which a polyimide having a film thickness of 20 μm was directly adhered to a copper foil.

この積層用材(ヘ)の銅箔を全面エッチングして得られ
たプラスチックフィルムのガラス転移点温度は400℃以
上であった。
The glass transition temperature of the plastic film obtained by completely etching the copper foil of the laminating material (f) was 400 ° C or higher.

また、その溶剤含有量は0.05%であった。The solvent content was 0.05%.

この積層用材(ヘ)と実施例2における積層用材(ニ)
を実施例2の同一の方法を以て積層して、両面FMCLを得
た。
This laminating material (f) and the laminating material (d) in Example 2
Were laminated in the same manner as in Example 2 to obtain a double-sided FMCL.

この両面FMCLの銅箔プラスチックフィルムの90度ピール
強度は、積層用材(ヘ)側で、常温0.35kgf/cm、200℃
にて0.2kgf/cmであり、積層用材(ニ)側では、常温2.5
kgf/cm、200℃にて0.5kgf/cmであった。
The 90 degree peel strength of this double-sided FMCL copper foil plastic film is 0.35kgf / cm at room temperature and 200 ℃ at the laminating material (f) side.
Is 0.2 kgf / cm at room temperature on the laminating material (d) side at room temperature of 2.5
kgf / cm, 0.5 kgf / cm at 200 ° C.

この両面FMCLの銅箔を全面エッチングして得られたプラ
スチックフィルムの室温における引張弾性率は320kg/mm
2、引張伸び率は80%、誘電率は1KHzにて3.0であった。
The tensile elastic modulus at room temperature of the plastic film obtained by completely etching the copper foil of this double-sided FMCL is 320 kg / mm.
2. The tensile elongation was 80% and the dielectric constant was 3.0 at 1KHz.

この両面FMCLにプリント回路のスルーホールの形成のた
めの打抜きを行ったところ、孔の周囲に層間剥離が生じ
て、良好なフレキシブル印刷回路は得られなかった。
When this double-sided FMCL was punched to form through holes in the printed circuit, delamination occurred around the holes, and a good flexible printed circuit could not be obtained.

更に、この回路形成済の両面FMCLにワイヤボンド加工を
行ったところ、銅箔とプラスチックフィルム間に層間剥
離が生じた。
Furthermore, when wire bonding was applied to the double-sided FMCL on which the circuit was formed, delamination occurred between the copper foil and the plastic film.

即ち、比較例2のものは銅箔とプラスチックフィルムと
のピール強度が、常温にて0.7kgf/cm未満、200℃にて0.
4kgf/cm未満であるために、スルーホール加工も、ま
た、ワイヤボンド加工も不可能であり、両面プリント回
路用の基板として到底、満足できるものではなかった。
That is, in Comparative Example 2, the peel strength between the copper foil and the plastic film was less than 0.7 kgf / cm at room temperature, and was 0.2 at 200 ° C.
Since it is less than 4 kgf / cm, neither through-hole processing nor wire-bonding processing was possible, and it was not at all satisfactory as a substrate for double-sided printed circuits.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図〜第6図は、この発明の両面FMCLの構成例の断面
模式図である。 1……金属箔 2……網目状プラスチックフィルム 3……線状プラスチックフィルム
1 to 6 are schematic cross-sectional views of configuration examples of the double-sided FMCL of the present invention. 1 ... Metal foil 2 ... Mesh plastic film 3 ... Linear plastic film

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】プラスチックフィルムの両面に金属箔が接
着されたフレキシブル両面金属箔積層板において、金属
箔が接着剤の介在なく直接的にプラスチックフィルムに
接着され、90度ピール強度が常温にて0.7〜22kgf/cm、2
00℃にて0.4〜20kgf/cmであり、プラスチックフィルム
の溶剤含有量が1〜0.01%であり、半田耐熱性が300℃
の浴中で30秒間浸漬させた場合、形状変化が認められな
いものであることを特徴とするフレキシブル両面金属箔
積層板。
1. In a flexible double-sided metal foil laminate having a metal film adhered to both sides of a plastic film, the metal foil is directly adhered to the plastic film without an adhesive, and the 90 degree peel strength at room temperature is 0.7. ~ 22kgf / cm, 2
0.4 ~ 20kgf / cm at 00 ℃, solvent content of plastic film is 1 ~ 0.01%, solder heat resistance is 300 ℃
A flexible double-sided metal foil laminate, which does not show any change in shape when immersed in the bath for 30 seconds.
【請求項2】プラスチックフィルムの室温における引張
弾性率が100〜800kgf/mm2、引張伸び率が30〜200%の範
囲内であり、誘電率が1KHzにおいて3.0〜3.5であること
を特徴とする請求項1記載の積層板。
2. The plastic film has a tensile elastic modulus at room temperature of 100 to 800 kgf / mm 2 , a tensile elongation of 30 to 200%, and a dielectric constant of 3.0 to 3.5 at 1 KHz. The laminated board according to claim 1.
【請求項3】プラスチックフィルムが、ガラス転移点温
度280〜390℃の網目状プラスチックまたは/およびガラ
ス転移点温度150〜260℃の線状プラスチックからなる請
求項1、または2記載の積層板。
3. The laminate according to claim 1, wherein the plastic film is made of a network plastic having a glass transition temperature of 280 to 390 ° C. and / or a linear plastic having a glass transition temperature of 150 to 260 ° C.
【請求項4】プラスチックがポリイミドである請求項1
〜3のいずれかに記載の積層板。
4. The plastic is a polyimide.
The laminated plate according to any one of 1 to 3.
【請求項5】積層板の用途がフレキシブルプリント回路
用基板である請求項1〜4のいずれかに記載の積層板。
5. The laminated board according to claim 1, wherein the laminated board is used for a flexible printed circuit board.
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