JPH0686534B2 - Flexible printed circuit board manufacturing method - Google Patents

Flexible printed circuit board manufacturing method

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JPH0686534B2
JPH0686534B2 JP60242936A JP24293685A JPH0686534B2 JP H0686534 B2 JPH0686534 B2 JP H0686534B2 JP 60242936 A JP60242936 A JP 60242936A JP 24293685 A JP24293685 A JP 24293685A JP H0686534 B2 JPH0686534 B2 JP H0686534B2
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printed circuit
film
flexible printed
circuit board
polyimide film
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守次 森田
和夫 宮崎
彰宏 山口
正博 太田
正司 玉井
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三井東圧化学株式会社
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、耐熱性,電気特性,機械特性および寸法安定
性に優れたフレキシブルプリント回路基板の製法に関
し、片面金属箔張りおよび両面金属箔張りポリイミドフ
レキシブルプリント回路基板並びに片面金属箔張りに於
いて一層の寸法安定性と熱放散性を良くした金属箔裏打
ちポリイミドフレキシブルプリント回路基板の製法に関
する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for manufacturing a flexible printed circuit board having excellent heat resistance, electrical characteristics, mechanical characteristics and dimensional stability. The present invention relates to a polyimide flexible printed circuit board and a method for producing a metal foil lined polyimide flexible printed circuit board having improved dimensional stability and heat dissipation in one-sided metal foil bonding.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

フレキシブルプリント回路基板は可撓性を有するプリン
ト回路を製造するための基板であつて、近年に於いて、
プリント回路が納まるケース類がコンパクト化されるな
どのために利用が増大している。このようなフレキシブ
ルプリント回路基板は従来、銅箔にポリイミドフイルム
を接着剤を用いて張り合せて製造されている。この基板
において、ポリイミドフイルムは十分に耐熱性,電気特
性および機械特性が良いが、接着剤の特性は不十分であ
るため、ポリイミドフイルムの特性が十分に生かされて
いないという問題があつた。
A flexible printed circuit board is a board for manufacturing a flexible printed circuit, and in recent years,
The use of the printed circuit is increasing because the cases that house the printed circuit are made compact. Conventionally, such a flexible printed circuit board is manufactured by laminating a polyimide film on a copper foil with an adhesive. In this substrate, the polyimide film has sufficiently good heat resistance, electrical properties and mechanical properties, but the adhesive property is insufficient, so that the polyimide film properties are not fully utilized.

そこで、接着剤層を用いずに、ポリイミド金属張板から
なるフレキシブルプリント回路基板を製造する方法が従
来より検討されており、例としては、米国特許第3,179,
634号,特開昭49-129862号,特開昭58-190091号,特開
昭58-190092号などがある。しかしながら、耐熱性,接
着性,可撓性及び寸法安定性のいずれもが十分であるフ
レキシブルプリント回路基板は得られていない。
Therefore, a method of manufacturing a flexible printed circuit board made of a polyimide metal-clad board without using an adhesive layer has been conventionally studied, and as an example, U.S. Pat.
No. 634, JP-A-49-129862, JP-A-58-190091, and JP-A-58-190092. However, a flexible printed circuit board having sufficient heat resistance, adhesiveness, flexibility and dimensional stability has not been obtained.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problems to be solved by the invention]

本発明の目的は、耐熱性,電気特性,機械特性及び寸法
安定性の全てに優れた、片面及び両面金属箔張りポリイ
ミドフレキシブルプリント回路基板並びに片面銅箔張り
に於いて一層の寸法安定性と熱放散性を良くした金属箔
裏打ちポリイミドフレキシブルプリント回路基板の製造
法を提供することにある。
The object of the present invention is to provide further dimensional stability and heat resistance in single-sided and double-sided metal foil-clad polyimide flexible printed circuit boards and single-sided copper foil-clad, which are all excellent in heat resistance, electrical properties, mechanical properties and dimensional stability. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a polyimide flexible printed circuit board lined with a metal foil having improved radiation.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

上記の目的は、次のフレキシブルプリント回路基板の製
造法により達成される。片面銅箔張りポリイミドフレキ
シブルプリント回路基板については、対称型芳香族メタ
置換第一級アミンを当量での割合で100〜20%含む対称
型芳香族第一級アミン群と芳香族テトラカルボン酸無水
物とを反応させて生成したポリイミド(ただし、ポリイ
ミドが である場合を除く)のフイルム(A)を金属箔と熱硬化
性ポリイミドフイルムとを積層するための接着剤として
用いることを特徴とする製造方法。
The above object is achieved by the following method for manufacturing a flexible printed circuit board. For single-sided copper foil-clad polyimide flexible printed circuit boards, symmetrical aromatic primary amine groups and aromatic tetracarboxylic anhydrides containing symmetrical aromatic meta-substituted primary amine in an equivalent ratio of 100 to 20%. Polyimide produced by reacting with Film (A) (excluding the case) is used as an adhesive for laminating a metal foil and a thermosetting polyimide film.

対称型芳香族メタ置換第一級アミンを当量での割合で10
0〜20%含む対称型芳香族第一級アミン群と芳香族テト
ラカルボン酸二無水物とを反応させ、生成したポリイミ
ドフィルムを、該生成したポリイミドフィルムとは接着
性のないフィルムと金属箔との間に挿入して積層し、加
圧、加熱下に、該生成したポリイミドフィルムを金属箔
に直接積層することを特徴とするフレキシブルプリント
回路基板の製造法。
Symmetric aromatic meta-substituted primary amine in equivalent ratio of 10
A polyimide film produced by reacting a symmetrical aromatic primary amine group containing 0 to 20% with an aromatic tetracarboxylic dianhydride, a film and a metal foil having no adhesiveness with the produced polyimide film. A method for manufacturing a flexible printed circuit board, characterized in that the polyimide film thus produced is directly laminated on a metal foil under pressure and heating.

また、対称型芳香族メタ置換第一級アミンを当量での割
合で100〜20%含む対称型芳香族第一級アミン群と芳香
族テトラカルボン酸二無水物とを反応させ、生成したポ
リイミドフィルムを金属箔と金属箔との積層用接着剤兼
絶縁層として用いることを特徴とするフレキシブルプリ
ント回路基板の製造法。
Further, a polyimide film produced by reacting a symmetric aromatic primary amine group containing a symmetrical aromatic meta-substituted primary amine in an equivalent ratio of 100 to 20% with an aromatic tetracarboxylic dianhydride. Is used as an adhesive and an insulating layer for laminating metal foils to each other, and a method for manufacturing a flexible printed circuit board.

さらに寸法安定性を一層良くするため及び熱放散性の改
良のために、金属箔を裏打ちしたポリイミドフレキシブ
ルプリント回路基板については、ポリイミドフイルム
(A)を銅箔と寸法安定性改良のための金属箔との積層
用接着剤兼絶縁層として用いることができる。
For a polyimide flexible printed circuit board lined with a metal foil for further improving dimensional stability and heat dissipation, a polyimide film (A) is used as a copper foil and a metal foil for improving dimensional stability. Can be used as an adhesive layer and an insulating layer for laminating.

本発明に用いられる対称型芳香族メタ置換第1級アミン
(以後、m−ジアミンと略す)は次に示す一般式により
表わすことができる。
The symmetrical aromatic meta-substituted primary amine (hereinafter abbreviated as m-diamine) used in the present invention can be represented by the following general formula.

〔上記一般式において、×はO,SO2,S,CO,CH2,C(C
H3)2,C(CF3)2から選ばれ、それぞれの×は同じであつ
ても異なつても良い。〕 上記一般式で表わされるm−ジアミンの例としては3,
3′−ジアミノジフエニルエーテル,3,3′−ジアミノジ
フエニルスルフイド,3,3′−ジアミノジフエニルスルホ
キシド,3,3′−ジアミノジフエニルスルホン,3,3′−ジ
アミノベンゾフエノン,ビス〔4−(3−アミノフエノ
キシ)フエニル〕メタン,2,2−ビス〔4−(3−アミノ
フエノキシ)フエニル〕プロパン,2,2−ビス〔4−(3
−アミノフエノキシ)フエニル〕−1,1,1,3,3,3−ヘキ
サフルオロプロパン,1,3−ビス(3−アミノフエノキ
シ)ベンゼン,4,4′−ビス(3−アミノフエノキシ)ビ
フエニル,ビス〔4−(3−アミノフエノキシ)フエニ
ル〕ケトン,ビス〔4−(3−アミノフエノキシ)フエ
ニル〕スルフイド,ビス〔4−(3−アミノフエノキ
シ)フエニル〕スルホキシド,ビス〔4−(3−アミノ
フエノキシ)フエニル〕スルホン,ビス〔4−(3−ア
ミノフエノキシ)フエニル〕エーテル,4,4′−ビス(3
−アミノフエニルスルホニル)ジフエニルエーテル,4,
4′−ビス(3−アミノチオフエノキシ)ジフエニルス
ルホン,1,4−ビス〔4−(3−アミノフエノキシ)ベン
ゾイル〕ベンゼン等が挙げられ、これ等は単独あるいは
2種以上混合して用いることができる。
[In the above general formula, × is O, SO 2 , S, CO, CH 2 , C (C
H 3 ) 2 and C (CF 3 ) 2 and each x may be the same or different. ] Examples of m-diamine represented by the above general formula are 3,
3'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenyl sulfoxide, 3,3'-diaminodiphenyl sulfoxide, 3,3'-diaminodiphenyl sulfone, 3,3'-diaminobenzophenone, Bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] methane, 2,2-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (3
-Aminophenoxy) phenyl] -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 4,4'-bis (3-aminophenoxy) biphenyl, bis [4 -(3-aminophenoxy) phenyl] ketone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfide, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfoxide, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] ether, 4,4'-bis (3
-Aminophenylsulfonyl) diphenyl ether, 4,
4'-bis (3-aminothiophenoxy) diphenyl sulfone, 1,4-bis [4- (3-aminophenoxy) benzoyl] benzene and the like can be mentioned. These can be used alone or in admixture of two or more. be able to.

対称型芳香族第一級アミン群は、m−ジアミン100%あ
るいは、m−ジアミンと対称型芳香族パラ置換第一級ア
ミン(以降、p−ジアミンと略す)との混合体を表わし
ている。p−ジアミンは次に示す一般式により表わすこ
とができる。
The symmetric aromatic primary amine group represents 100% of m-diamine or a mixture of m-diamine and a symmetric aromatic para-substituted primary amine (hereinafter abbreviated as p-diamine). The p-diamine can be represented by the following general formula.

〔上記一般式において、×はO,SO2,S,CO,CH2,C(C
H3)2,C(CF3)2から選ばれ、それぞれの×は同じであつ
ても異なつても良い。〕 上記一般式で表わされるp−ジアミンの例としては、4,
4′−ジアミノジフエニルエーテル,4,4′−ジアミノジ
フエニルスルフイド,4,4′−ジアミノジフエニルスルホ
キシド,4,4′−ジアミノジフエニルスルホン,4,4′−ジ
アミノベンゾフエノン,ビス〔4−(4−アミノフエノ
キシ)フエニル〕メタン,2,2−ビス〔4−(4−アミノ
フエノキシ)フエニル〕プロパン,2,2−ビス〔4−(4
−アミノフエノキシ)フエニル〕−1,1,1,3,3,3−ヘキ
サフルオロプロパン,1,3−ビス(4−アミノフエノキ
シ)ベンゼン,4,4′−ビス(4−アミノフエノキシ)ビ
フエニル,ビス〔4−(4−アミノフエノキシ)フエニ
ル〕ケトン,ビス〔4−(4−アミノフエノキシ)フエ
ニル〕スルフイド,ビス〔4−(4−アミノフエノキ
シ)フエニル〕スルホキシド,ビス〔4−(4−アミノ
フエノキシ)フエニル〕スルホン,ビス〔4−(4−ア
ミノフエノキシ)フエニル〕エーテル,4,4′−ビス(4
−アミノフエニルスルホニル)ジフエニルエーテル,4,
4′−ビス(4−アミノチオフエノキシ)ジフエニルス
ルホン,1,4−ビス〔4−(3−アミノフエノキシ)ベン
ゾイル〕ベンゼン等が挙げられ、これ等は単独あるいは
2種以上混合して用いることができる。
[In the above general formula, × is O, SO 2 , S, CO, CH 2 , C (C
H 3 ) 2 and C (CF 3 ) 2 and each x may be the same or different. ] Examples of p-diamine represented by the above general formula include 4,
4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl sulfoxide, 4,4'-diaminodiphenyl sulfoxide, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 4,4'-diaminobenzophenone, Bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] methane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (4
-Aminophenoxy) phenyl] -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, bis [4 -(4-Aminophenoxy) phenyl] ketone, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfide, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfoxide, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] ether, 4,4'-bis (4
-Aminophenylsulfonyl) diphenyl ether, 4,
4'-bis (4-aminothiophenoxy) diphenyl sulfone, 1,4-bis [4- (3-aminophenoxy) benzoyl] benzene and the like can be mentioned. These can be used alone or in admixture of two or more. be able to.

ジアミンと反応させる芳香族テトラカルボン酸無水物と
してはピロメリツト酸二無水物、3,3′,4,4′−ベンゾ
フエノンテトラカルボン酸二無水物、2,2′,3,3′−ベ
ンゾフエノン酸二無水物、3,3′,4,4′−ビフエニルテ
トラカルボン酸二無水物、2,2′,3,3′−ビフエニルテ
トラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキ
シフエニル)プロパン二無水物、2,2−ビス(2,3−ジカ
ルボキシフエニル)プロパン二無水物、ビス(3,4−ジ
カルボキシフエニル)エーテル二無水物、ビス(3,4−
ジカルボキシフエニル)スルホン二無水物、1,1−ビス
(2,3−ジカルボキシフエニル)エタン二無水物、ビス
(2,3−ジカルボキシフエニル)メタン二無水物、ビス
(3,4−ジカルボキシフエニル)メタン二無水物、2,3,
6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,4,5,8−
ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,2,5,6−ナフ
タレンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−ベンゼン
テトラカルボン酸二無水物、3,4,9,10−ペリレンテトラ
カルボン酸二無水物、2,3,6,7−アントラセンテトラカ
ルボン酸二無水物、1,2,7,8−フエナントレンテトラカ
ルボン酸二無水物等が用いられる。これらは単独或いは
2種以上混合して用いられる。
Aromatic tetracarboxylic acid anhydrides to be reacted with diamines include pyromellitic acid dianhydride, 3,3 ', 4,4'-benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride and 2,2', 3,3'-benzophenone. Acid dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2 ′, 3,3′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (3 , 4-Dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) ether dianhydride, bis (3,4-
Dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride, 1,1-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (3, 4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, 2,3,
6,7-Naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,4,5,8-
Naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,2,5,6-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-benzenetetracarboxylic dianhydride, 3,4,9,10-perylenetetra Carboxylic dianhydride, 2,3,6,7-anthracenetetracarboxylic dianhydride, 1,2,7,8-phenanthrenetetracarboxylic dianhydride and the like are used. These may be used alone or in combination of two or more.

有機溶剤としては、例えば、N−メチル−2−ピロリド
ン、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルム
アミド、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、N,N−
ジエチルアセトアミド、N,N−ジメチルメトキシアセト
アミド、ジメチルスルホキシド、ピリジン、ジメチルス
ルホン、ヘキメチルホスホルアミド、テトラメチル尿
素、N−メチルカプロラクタム、テトラヒドロフラン、
m−ジオキサン、p−ジオキサン、1,2−ジメトキシエ
タン、ビス(2−メトキシエチル)エーテル、1,2−ビ
ス(2−メトキシエトキシ)エタン、ビス−〔2−(2
−メトキシエトキシ)エチル〕エーテル等がある。
Examples of the organic solvent include N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, N, N-
Diethylacetamide, N, N-dimethylmethoxyacetamide, dimethylsulfoxide, pyridine, dimethylsulfone, hexmethylphosphoramide, tetramethylurea, N-methylcaprolactam, tetrahydrofuran,
m-dioxane, p-dioxane, 1,2-dimethoxyethane, bis (2-methoxyethyl) ether, 1,2-bis (2-methoxyethoxy) ethane, bis- [2- (2
-Methoxyethoxy) ethyl] ether and the like.

本発明に於いては、ポリアミド酸を製造する際、m−ジ
アミンとp−ジアミンを有機溶剤中に於いて、あらかじ
め、m−ジアミンとp−ジアミンとの当量比を100〜20:
0〜80、好ましくは100〜30:0〜70、特にこのましくは10
0〜50:0〜50で混合した後、芳香族テトラカルボン酸無
水物と反応させることが肝要である。ジアミンの中でp
−ジアミンが当量比で80%以上の場合には、生成したポ
リイミドの接着剤としての特性が低く、フレキシブルプ
リント回路の回路が容易にポリイミドフイルムから剥れ
易く実用に供し得ないという欠点が生じる。
In the present invention, when the polyamic acid is produced, the equivalent ratio of m-diamine and p-diamine is 100 to 20: m-diamine and p-diamine in an organic solvent in advance.
0-80, preferably 100-30: 0-70, particularly preferably 10
It is important to react with aromatic tetracarboxylic acid anhydride after mixing at 0 to 50: 0 to 50. P in the diamine
-When the equivalent ratio of diamine is 80% or more, the resulting polyimide has poor adhesive properties and the circuit of the flexible printed circuit easily peels off from the polyimide film and cannot be put to practical use.

また、ポリアミド酸を製造する際、m−ジアミンとし
て、1,3−ビス(3−アミノフエノキシ)ベンゼン、3,
3′−ジアミノベンゾフエノン、4,4′−ビス(3−アミ
ノフエノキシ)ビフエニルを単独あるいは混合して用
い、p−ジアミンとして1,3−ビス(4−アミノフエノ
キシ)ベンゼン、4,4′−ジアミノジフエニルエーテ
ル、4,4′−ビス(4−アミノフエノキシ)ビフエニル
を単独あるいは混合して用い、芳香族テトラカルボン酸
無水物としてはピロメリツト酸二無水物、3,3′,4,4′
−ベンゾフエノンテトラカルボン酸二無水物を単独ある
いは混合して用いた場合は特に好ましく、耐熱性,電気
特性,接着性,可撓性等の機械特性及び寸法安定性に優
れたフレキシブルプリント回路基板を製造することがで
きる。
Further, when producing a polyamic acid, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene,
3'-diaminobenzophenone and 4,4'-bis (3-aminophenoxy) biphenyl are used alone or in combination, and 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene and 4,4'-diamino are used as p-diamine. Diphenyl ether and 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl are used alone or in combination, and aromatic tetracarboxylic acid anhydrides are pyromellitic dianhydride, 3,3 ', 4,4'.
-The use of benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride alone or in combination is particularly preferable, and it is a flexible printed circuit board excellent in mechanical properties such as heat resistance, electrical properties, adhesiveness, flexibility and dimensional stability. Can be manufactured.

これ等、ポリアミド酸溶液からポリイミドフイルムを生
成させる場合は、先ず、スチール等のシートの上に、一
定厚みのポリアミド酸溶液をコートする。これ等、ポリ
アミド酸溶液をシート上にコートする場合は、ポリアミ
ド酸を5〜40重量パーセント含有する溶液であることが
好ましく、また、対数粘度が0.5〜6dl/g(85℃、濃度0.
5g/ml、N,N−ジメチルアセトアミドで測定した値)、特
に0.7〜4であるものが好ましい。
In the case of producing a polyimide film from a polyamic acid solution, first, a sheet of steel or the like is coated with a polyamic acid solution having a constant thickness. When coating a sheet with a polyamic acid solution, it is preferable that the solution contains 5 to 40 weight percent of polyamic acid, and the logarithmic viscosity is 0.5 to 6 dl / g (85 ° C., concentration 0.
5 g / ml, a value measured with N, N-dimethylacetamide), and particularly preferably 0.7 to 4.

ポリアミド酸溶液をシート上にコートする操作は、流延
塗布により行なわれることが好ましく、具体的には、次
のような方法が利用される。シート上にポリアミド酸溶
液を製膜用スリツトから吐出させて均一な厚さ(厚さ
は、一般的には、30〜300μとなるように調節される)
の塗膜層を形成させる。コーテイング手段としては、ロ
ールーコーター、ナイフコーター、ドクターブレード、
フローコーターなど他の公知の手段を利用することも可
能である。
The operation of coating the polyamic acid solution on the sheet is preferably carried out by cast coating, and specifically, the following method is used. A polyamic acid solution is ejected onto the sheet from the film-forming slit to obtain a uniform thickness (the thickness is generally adjusted to 30 to 300μ).
To form a coating layer. As coating means, roll coater, knife coater, doctor blade,
It is also possible to use other known means such as a flow coater.

上記のようにして調製されたポリアミド酸塗布層を、次
に加熱して脱溶媒、脱水縮合反応を行なう。この操作
は、常圧,減圧あるいは加圧など任意の条件で行なうこ
とができる。
The polyamic acid coating layer prepared as described above is then heated to perform solvent removal and dehydration condensation reaction. This operation can be performed under any conditions such as normal pressure, reduced pressure or increased pressure.

一般的には、所要時間80〜200℃、好ましくは100〜150
℃に加熱し、溶剤の大部分を除去する。温度が80℃以下
の場合は溶剤の除去が遅く経済的でなく、200℃以上で
は溶剤の除去が速すぎるため、皮膜形成,泡の発生等で
フイルム形状に悪影響を与えたり、一部脱水,縮合反応
が始まるに伴いシートへの接着も始まり、フイルムがシ
ートから離型しにくゝなるために好ましくない。
Generally, the time required is 80-200 ° C, preferably 100-150
Heat to ° C to remove most of the solvent. When the temperature is 80 ° C or lower, the removal of the solvent is slow and not economical, and when the temperature is 200 ° C or higher, the removal of the solvent is too fast, which may adversely affect the film shape due to film formation, foaming, etc. Adhesion to the sheet starts as the condensation reaction starts, and the film becomes difficult to release from the sheet, which is not preferable.

溶剤の大部分を除去し、ポリアミド酸フイルムを形成し
た後、シートから剥離し、ピンテンターにかけて溶剤の
完全な除去と水に脱水,縮合反応を行なってイミド化し
ポリイミドフイルム(A)を形成させる。溶剤の完全な
除去と脱水,縮合反応は、150〜350℃好ましくは、200
〜300℃に加熱して行なう。150℃以下では溶剤の除去あ
るいは縮合反応が十分でないため、フレキシブルプリン
ト基板を製造する際の積層工程で、ポリイミドフイルム
内にボイドの発生が起り絶縁性,接着性等が不十分とな
る。また、350℃以上ではポリイミドの劣化や、ポリイ
ミドのガラス転移点が高くなり、積層工程の接着温度を
高くする必要など積層が困難になるために好ましくな
い。
After removing most of the solvent to form a polyamic acid film, it is peeled off from the sheet and completely removed of the solvent by a pin tenter and dehydration and condensation reaction in water are carried out to form an imidized polyimide film (A). Complete removal of the solvent, dehydration, and condensation reaction should be carried out at 150-350 ° C, preferably 200
Heat to ~ 300 ° C. At 150 ° C or lower, the solvent removal or condensation reaction is not sufficient, so that voids occur in the polyimide film during the laminating step when manufacturing a flexible printed circuit board, resulting in insufficient insulation and adhesion. Further, if the temperature is 350 ° C. or higher, the polyimide is deteriorated, the glass transition point of the polyimide is increased, and it becomes difficult to perform the lamination because the adhesion temperature in the lamination process is required to be high, which is not preferable.

上記のようにして生成したポリイミドフイルム(A)を
使用して、フレキシブルプリント基板を製造する際に用
いる金属箔導電体としては、一般に、銅箔、アルミニウ
ム箔、ニツケル箔などの金属箔が用いられる。また、基
板の寸法安定性を向上させるための基板裏打ち用金属箔
としては、ステンレス箔、アルミニウム箔、ニツケル
箔、銅箔などの金属が用いられる。
As a metal foil conductor used when manufacturing a flexible printed circuit board using the polyimide film (A) produced as described above, a metal foil such as a copper foil, an aluminum foil, and a nickel foil is generally used. . As the metal foil for backing the substrate for improving the dimensional stability of the substrate, metals such as stainless steel foil, aluminum foil, nickel foil, and copper foil are used.

ポリイミドフイルム(A)を使用して金属箔等と積層
し、基板に成形するためには、加熱温度と圧力のコント
ロールが肝要である。
In order to laminate the polyimide film (A) with a metal foil or the like to form a substrate, it is essential to control the heating temperature and pressure.

基板として成形するための温度としては、使用するポリ
イミドフイルム(A)のガラス転移点以上が必要で、好
ましくは、ガラス転移温度プラス15〜100℃が適当であ
り、基板として成形するための圧力としては1〜500kg/
cm3、好ましくは5〜100kg/cm3が適当である。また、加
熱,加圧する時間は、1〜200分、好ましくは、5〜60
分である。上記の基板に成形する工程に於いて、金属箔
表面が酸化される温度以上の温度にさらされる場合に
は、金属箔表面の酸化が起こり、金属箔の機械特性,電
気特性及び接着性の低下が起り易くなることがあるた
め、金属箔表面が酸化される温度以上で成形する場合は
不活性ガス中で行なうことが特に好ましい。こゝで不活
性ガス中とは、金属箔表面が、所定時間の加熱の際、実
質的に電気特性,機械特性あるいは接着力等に悪影響を
与える酸化反応を受けない気体雰囲気中であることを意
味し、加熱温度と時間に依存するが、多くの場合、酸素
濃度が2×10-3モル/l以下である気体雰囲気を意味し、
以下の方法等で実行できる。耐熱性フイルムからなる袋
状物の中に、積層すべき材料を入れ、先ず、真空ポンプ
で袋状物の中の空気を抜く。その後、不活性ガスで加
圧,加熱を行なう、いわゆる真空プレス(米国バキユー
ムプレス社製など)で成形する。また、ポリイミドフイ
ルム(A)の片面だけに金属箔を直接積層する場合は、
ポリイミドフイルム(A)とは接着性のないフイルムと
金属箔の間にポリイミドフイルム(A)を挿入し加圧,
加熱下で積層することにより行うことができる。ポリイ
ミドフイルム(A)と加圧,加熱下で接着性のないフイ
ルムとしては、テフロン(デユポン社製弗素樹脂)、ユ
ーピレツクスS(宇部興産社製ポリイミド)などがあ
る。
As a temperature for molding as a substrate, a glass transition point of the polyimide film (A) to be used is required or more, preferably a glass transition temperature plus 15 to 100 ° C. is suitable, and a pressure for molding as a substrate is Is 1 to 500 kg /
cm 3 is suitable, preferably 5 to 100 kg / cm 3 . The time of heating and pressurizing is 1 to 200 minutes, preferably 5 to 60 minutes.
Minutes. When the surface of the metal foil is exposed to a temperature higher than the temperature at which it is oxidized in the process of molding into the above-mentioned substrate, oxidation of the surface of the metal foil occurs and the mechanical, electrical and adhesive properties of the metal foil deteriorate. When the molding is carried out at a temperature above the temperature at which the surface of the metal foil is oxidized, it is particularly preferable to carry out in an inert gas. The term "inert gas" as used herein means that the surface of the metal foil is in a gas atmosphere that does not undergo an oxidation reaction that adversely affects electrical properties, mechanical properties, adhesive strength, etc. when heated for a predetermined time. Meaning, depending on the heating temperature and time, in many cases it means a gas atmosphere with an oxygen concentration of 2 × 10 −3 mol / l or less,
It can be executed by the following method. The material to be laminated is put in a bag-shaped product made of a heat-resistant film, and first, the air in the bag-shaped product is removed by a vacuum pump. Then, it is molded by a so-called vacuum press (manufactured by Bakium Press, Inc., USA) which is pressurized and heated with an inert gas. When the metal foil is laminated directly on only one side of the polyimide film (A),
The polyimide film (A) is not adhesive and the polyimide film (A) is inserted between the metal foil and the pressure,
It can be carried out by laminating under heating. Examples of the film that does not adhere to the polyimide film (A) under pressure and heating include Teflon (fluorine resin manufactured by Dyupon Co., Ltd.) and Upilex S (polyimide manufactured by Ube Industries, Ltd.).

以上に述べたような方法で代表される本発明により製造
されるポリイミド金属張シートからなるフレキシブルプ
リント回路基板は、接着剤層を含まないこと、接着剤兼
絶縁層となるポリイミドフイルム(A)が実質的に溶剤
を含まず、縮合反応を終えた特性の優れたポリイミドで
あることなどにより、耐熱性,電気特性,機械特性及び
寸法安定性に優れている。
The flexible printed circuit board made of the polyimide metal-clad sheet produced by the present invention represented by the above-described method does not include an adhesive layer, and the polyimide film (A) serving as an adhesive and an insulating layer is It is excellent in heat resistance, electrical characteristics, mechanical characteristics, and dimensional stability because it is a polyimide that does not substantially contain a solvent and has completed the condensation reaction and has excellent characteristics.

〔実施例〕〔Example〕

次に実施例および比較例を示して本発明およびその効果
を具体的に説明する。
Next, the present invention and its effects will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples.

実施例中の対数粘度は35℃、0.5g/100ml、N,N−ジメチ
ルアセトアミドで測定した値であり、回転粘度はE型粘
度計の高粘度用ロータを用いて25℃で測定した値であ
る。プリント回路基板としての各種の性能は以下に示す
方法により測定した。
The logarithmic viscosity in the examples is a value measured at 35 ° C., 0.5 g / 100 ml, N, N-dimethylacetamide, and the rotational viscosity is a value measured at 25 ° C. using a high viscosity rotor of an E-type viscometer. is there. Various performances as a printed circuit board were measured by the methods described below.

(1)箔引き剥し強さ IPC-FC-241Aの方法に準じて行なつた。(1) Foil peeling strength It was performed according to the method of IPC-FC-241A.

(2)表面抵抗 JIS C−6481に準じて行なつた。(2) Surface resistance Measured according to JIS C-6481.

(3)耐半田性 JIS C−6481に準じて行なつた試料を300℃の半田浴中に
60秒浸漬したのち、「フクレ」、「ポリイミドフイルム
の変形」を観察した。
(3) Solder resistance A sample prepared according to JIS C-6481 is placed in a solder bath at 300 ° C.
After soaking for 60 seconds, "blister" and "deformation of polyimide film" were observed.

(4)耐折強さ JIS P−8115に準じ、折曲げ面の曲率半径0.8mm、静止荷
重500gで測定を行なつた。両面金属箔張基板の場合は片
面の金属箔を全面エツチングして除いた後、測定を行な
つた。
(4) Folding endurance According to JIS P-8115, the bending radius was 0.8 mm and the static load was 500 g. In the case of a double-sided metal foil-clad substrate, the metal foil on one side was entirely removed by etching, and then the measurement was performed.

(5)寸法安定性 IPC-FC-241Aの方法に準じて行ない、収縮率で表わし
た。
(5) Dimensional stability The shrinkage rate was calculated according to the method of IPC-FC-241A.

実施例1 攪拌器、還流冷却器及び窒素導入管を備えた容器で4,
4′−ビス(3−アミノフエノキシ)ビフエニル73.7g
(0.2モル)をN,N−ジメチルアセトアミド250mlに溶解
し、0℃付近まで冷却し、窒素雰囲気下に於いてピロメ
リツト酸二無水物43.6g(0.2モル)を加え、0℃付近で
2時間攪拌した。次に上記溶液を室温に戻し、窒素雰囲
気下で約20時間攪拌を行なつた。こうして得られたポリ
アミド酸溶液の対数粘度は1.9dl/gであつた。このポリ
アミド酸溶液をN,N−ジメチルアセトアミドで12%迄希
釈し、粘度を30,000CPSに調節した。この溶液を平滑な
ガラス板上にドクターブレードを用いて均一にコートし
た。このコートされたガラス板を135℃で1時間加熱
し、ポリアミド酸のフイルムを得た。このフイルムをガ
ラス板から剥し、ピンテンターに設置し、再加熱を行な
つた。その時の加熱は100℃から280℃迄2時間かけて徐
々に行なつた。その後280℃で1時間保つた後、室温迄
冷却しポリイミドフイルムを得た。膜厚は15μであり残
存溶剤量は0.1%以下であつた。このポリイミドフイル
ムを圧延銅箔(厚さ35μ)とカプトンフイルム(デユポ
ン社製ポリイミドフイルム、厚さ25μ)の間に挿入して
積層しバキユームプレス(米国バキユームプレス社製)
を使い窒素中で300℃、20kg/cm3で30分間成形を行い、
カプトンベースの片面銅張フレキシブルプリント回路基
板を得た。この基板の特性は表−1の通りであつた。
Example 1 In a container equipped with a stirrer, a reflux condenser and a nitrogen inlet tube,
4'-bis (3-aminophenoxy) biphenyl 73.7g
(0.2 mol) is dissolved in 250 ml of N, N-dimethylacetamide, cooled to around 0 ° C, 43.6 g (0.2 mol) of pyromellitic dianhydride is added under a nitrogen atmosphere, and the mixture is stirred at around 0 ° C for 2 hours. did. Next, the solution was returned to room temperature and stirred under a nitrogen atmosphere for about 20 hours. The polyamic acid solution thus obtained had an inherent viscosity of 1.9 dl / g. The polyamic acid solution was diluted to 12% with N, N-dimethylacetamide and the viscosity was adjusted to 30,000 CPS. This solution was uniformly coated on a smooth glass plate using a doctor blade. The coated glass plate was heated at 135 ° C. for 1 hour to obtain a polyamic acid film. The film was peeled from the glass plate, placed in a pin tenter, and reheated. The heating at that time was gradually performed from 100 ° C to 280 ° C over 2 hours. After that, it was kept at 280 ° C. for 1 hour and then cooled to room temperature to obtain a polyimide film. The film thickness was 15μ and the residual solvent amount was 0.1% or less. This polyimide film is inserted between a rolled copper foil (thickness 35μ) and a Kapton film (polyimide film made by Dyupon Co., thickness 25μ) and laminated to make a Baquium Press (Bakium Press USA).
Molding in nitrogen at 300 ℃, 20kg / cm 3 for 30 minutes,
A Kapton-based single-sided copper-clad flexible printed circuit board was obtained. The characteristics of this substrate are shown in Table 1.

実施例2 実施例1と同様にして作成した厚さ25μのポリイミドフ
イルム(残存溶剤量は0.1%以下)を圧延銅箔(厚さ35
μ)とユーピレツクスSフイルム(25μ)との間に挿入
して積層し、バキユームプレスを使い、窒素中で280
℃、20kg/cm3で40分間成形を行なつた。室温に冷却後、
ユーピレツクスSフイルムを積層シートから剥し、接着
層を使用しない片面銅張フレキシブルプリント回路基板
を得た。この基板の特性は表−1の通りであつた。
Example 2 A polyimide film having a thickness of 25 μm (residual solvent content: 0.1% or less) prepared in the same manner as in Example 1 was rolled into a copper foil (thickness: 35).
μ) and Iupilex S film (25μ), and stack them.
Molding was carried out at 20 ° C. and 20 kg / cm 3 for 40 minutes. After cooling to room temperature,
The Upilex S film was peeled from the laminated sheet to obtain a single-sided copper-clad flexible printed circuit board without using an adhesive layer. The characteristics of this substrate are shown in Table 1.

実施例3 攪拌器、還流冷却器及び窒素導入管を備えた容器で4,
4′−ビス(3−アミノフエノキシ)ビフエニル51.6g
(0.14モル)と1,3−ビス(3−アミノフエノキシ)ベ
ンゼン17.5g(0.06モル)とをN,N−ジメチルアセトアミ
ド250mlに溶解し、0℃付近まで冷却し、窒素雰囲気下
に於いてピロメリツト酸二無水物43.6g(0.2モル)を加
え、0℃付近で2時間攪拌した。次に上記溶液を室温に
戻し、窒素雰囲気下で約20時間攪拌を行なつた。こうし
て得られたポリアミド酸溶液の対数粘度は、1.6dl/gで
あつた。このポリアミド酸溶液をN,N−ジメチルアセト
アミドで15%迄希釈し、粘度を25,000CPSに調節した。
この溶液を平滑なガラス板上にドクターブレードを用い
て均一にコートした。このコートされたガラス板を135
℃で1時間加熱し、ポリアミド酸のフイルムを得た。こ
のフイルムをガラス板から剥し、ピンテンターに設置
し、再加熱を行なつた。その時の加熱は100℃から250℃
迄2時間かけ徐々に行なつた。その後250℃で1時間保
つた後、室温迄冷却しポリイミドフイルムを得た。膜厚
は25μであり、残存溶剤量は検出されなかつた。このポ
リイミドを2枚の電解銅箔(厚さ18μ)の間に挿入して
積層し、熱圧プレスにて250℃、40kg/cm3で20分間成形
を行い、ポリアミドが接着層兼絶縁層である両面銅張フ
レキシブルプリント回路基板を得た。この基板の特性は
表−1の通りであつた。
Example 3 In a container equipped with a stirrer, a reflux condenser and a nitrogen introducing tube,
4'-bis (3-aminophenoxy) biphenyl 51.6g
(0.14 mol) and 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene 17.5 g (0.06 mol) were dissolved in 250 ml of N, N-dimethylacetamide, cooled to around 0 ° C., and pyromellitic acid was added under a nitrogen atmosphere. 43.6 g (0.2 mol) of dianhydride was added, and the mixture was stirred at around 0 ° C for 2 hours. Next, the solution was returned to room temperature and stirred under a nitrogen atmosphere for about 20 hours. The polyamic acid solution thus obtained had an inherent viscosity of 1.6 dl / g. The polyamic acid solution was diluted to 15% with N, N-dimethylacetamide and the viscosity was adjusted to 25,000 CPS.
This solution was uniformly coated on a smooth glass plate using a doctor blade. 135 this coated glass plate
The film was heated at ° C for 1 hour to obtain a polyamic acid film. The film was peeled from the glass plate, placed in a pin tenter, and reheated. The heating at that time is 100 ℃ to 250 ℃
It took about 2 hours until it was done gradually. After that, it was kept at 250 ° C. for 1 hour and then cooled to room temperature to obtain a polyimide film. The film thickness was 25μ, and the amount of residual solvent was not detected. This polyimide was inserted between two electrolytic copper foils (18μ thick) and laminated, and molded by hot pressing at 250 ° C and 40kg / cm 3 for 20 minutes. Polyamide was the adhesive and insulating layer. A double-sided copper clad flexible printed circuit board was obtained. The characteristics of this substrate are shown in Table 1.

実施例4 攪拌器、還流冷却器及び窒素導入管を備えた容器で1,3
−ビス(3−アミノフエノキシ)ベンゼン14.6g(0.05
モル)と4,4′−ジアミノジフエニルエーテル10.0g(0.
05モル)とをN,N−ジメチルアセトアミド200mlに溶解
し、窒素雰囲気下に於いて室温に於いて3,3′,4,4′−
ベンゾフエノンテトラカルボン酸二無水物32.2g(0.1モ
ル)を加え、窒素雰囲気下で約22時間攪拌を行なつた。
こうして得られたポリアミド酸溶液を実施例3と同様な
方法(最終乾燥温度250℃)でポリイミドフイルムを作
製した。このポリイミドフイルムの厚さは25μであり、
残存溶剤は0.2%であつた。このフイルムを電解銅箔(3
5μ)とユーピレツクスSフイルム(25μ)との間に挿
入して積層し、バキユームプレスを使い、窒素中で280
℃、20kg/cm3で30分間成形を行なつた。室温に冷却後ユ
ーピレツクスSフイルムを積層シートから剥し、接着層
を使用しない片面銅張フレキシブルプリント回路基板を
得た。この基板の特性は表−1の通りであつた。
Example 4 1,3 in a container equipped with a stirrer, a reflux condenser and a nitrogen inlet tube
-Bis (3-aminophenoxy) benzene 14.6 g (0.05
Mol) and 4,4'-diaminodiphenyl ether 10.0 g (0.
(05 mol) and N, N-dimethylacetamide (200 ml) and dissolved in a nitrogen atmosphere at room temperature to give 3,3 ', 4,4'-
32.2 g (0.1 mol) of benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride was added, and the mixture was stirred under a nitrogen atmosphere for about 22 hours.
The polyamic acid solution thus obtained was used to prepare a polyimide film in the same manner as in Example 3 (final drying temperature: 250 ° C.). The thickness of this polyimide film is 25μ,
The residual solvent was 0.2%. This film is an electrolytic copper foil (3
5μ) and Iupilex S film (25μ) are inserted and laminated, using a Bakiyumu press in nitrogen at 280
Molding was carried out at 20 ° C. and 20 kg / cm 3 for 30 minutes. After cooling to room temperature, the Upilex S film was peeled off from the laminated sheet to obtain a single-sided copper-clad flexible printed circuit board without using an adhesive layer. The characteristics of this substrate are shown in Table 1.

実施例5 攪拌器、還流冷却器及び窒素導入管を備えた容器で1,3
ビス(3−アミノフエノキシ)ベンゼン29.2g(0.1モ
ル)をN,N−ジメチルアセトアミド200mlに溶解し、窒素
雰囲気下に於いて室温で3,3′,4,4′−ベンゾフエノン
テトラカルボン酸二無水物32.2g(0.1モル)を加え、窒
素雰囲気下で約20時間攪拌を行なつた。こうして得られ
たポリアミド酸溶液の対数粘度は1.72dl/gであつた。こ
のポリアミド酸溶液をN,N−ジメチルアセトアミドで14
%迄希釈し、粘度を31,000CPSに調節した。この溶液を
平滑なガラス板上にドクターブレードを用いて均一にコ
ートした。このコートしガラス板を135℃で1時間加熱
し、ポリアミド酸のフイルムを得た。このフイルムをガ
ラス板から剥し、ピンテンターに設置し再加熱を行なつ
た。その時の加熱は100℃から240℃迄90分かけ徐々に行
なつた。その後220℃で1時間保つた後、室温迄冷却し
ポリイミドフイルムを得た。膜厚は25μであり、残存溶
剤量は検出されなかつた。このポリイミドフイルムを電
解銅箔(35μ)とアルミニウム箔(50μ)の間に挿入し
て積層し、熱圧プレスにて230℃、40kg/cm330分間成形
を行い、アルミニウム箔を寸法安定性を改良するための
裏打材とした。片面銅張フレキシブルプリント回路基板
を得た。この基板の特性は表−1の通りであつた。
Example 5 1,3 in a container equipped with a stirrer, a reflux condenser and a nitrogen inlet tube
29.2 g (0.1 mol) of bis (3-aminophenoxy) benzene was dissolved in 200 ml of N, N-dimethylacetamide, and 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic acid dicarboxylic acid was dissolved at room temperature in a nitrogen atmosphere. Anhydrous 32.2 g (0.1 mol) was added, and the mixture was stirred under a nitrogen atmosphere for about 20 hours. The polyamic acid solution thus obtained had an inherent viscosity of 1.72 dl / g. This polyamic acid solution was diluted with N, N-dimethylacetamide 14
% And diluted to a viscosity of 31,000 CPS. This solution was uniformly coated on a smooth glass plate using a doctor blade. The coated glass plate was heated at 135 ° C. for 1 hour to obtain a polyamic acid film. The film was peeled from the glass plate, placed in a pin tenter, and reheated. The heating at that time was gradually performed from 100 ° C to 240 ° C over 90 minutes. After that, it was kept at 220 ° C. for 1 hour and then cooled to room temperature to obtain a polyimide film. The film thickness was 25μ, and the amount of residual solvent was not detected. The polyimide film was laminated by inserting between the electrolytic copper foil (35micro) and aluminum foil (50.mu.), 230 ° C. at hot press performs molding 40 kg / cm 3 30 minutes, aluminum foil dimensional stability Used as a backing material for improvement. A single-sided copper-clad flexible printed circuit board was obtained. The characteristics of this substrate are shown in Table 1.

比較例1 攪拌器、還流冷却器及び窒素導入管を備えた容器で4,
4′−ジアミノジフエニルエーテル20.0g(0.1モル)を
N,N−ジメチルアセトアミド200mlに溶解し、窒素雰囲気
下に於いて室温に於いて、5℃でピロメリツト酸二無水
物21.8g(0.1モル)を加え約2時間攪拌した後、室温に
戻し更に約20時間攪拌を行なつた。こうして得られたポ
リアミド酸溶液の対数粘度は1.6dl/gであつた。このポ
リアミド酸溶液をN,N−ジメチルアセトアミドで15%迄
希釈し、粘度を28,000CPSに調節した。この溶液を223g
とり、実施例−5で得た希釈溶液88gと窒素雰囲気下で
良く混合し、m−ジアミン:p−ジアミン=0.2:0.8(当
量比)のポリアミド酸溶液を得た。この溶液を実施例1
と同様の方法(最終乾燥温度280℃)でポリイミドフイ
ルムを作製した。このポリイミドフイルムの膜厚は25μ
であり、残存溶剤量は0.1%であつた。このフイルムを
使い実施例2と同一方法で片面銅張フレキシブルプリン
ト回路基板を得た。この基板の特性は表−1の通りであ
つた。
Comparative Example 1 A container equipped with a stirrer, a reflux condenser and a nitrogen inlet tube was used to
4'-diaminodiphenyl ether 20.0 g (0.1 mol)
Dissolve in 200 ml of N, N-dimethylacetamide, add 21.8 g (0.1 mol) of pyromellitic dianhydride at 5 ° C. in a nitrogen atmosphere at room temperature and stir for about 2 hours, then return to room temperature and further Stirred for 20 hours. The polyamic acid solution thus obtained had an inherent viscosity of 1.6 dl / g. This polyamic acid solution was diluted to 15% with N, N-dimethylacetamide and the viscosity was adjusted to 28,000 CPS. 223g of this solution
Then, 88 g of the diluted solution obtained in Example-5 was thoroughly mixed under a nitrogen atmosphere to obtain a polyamic acid solution of m-diamine: p-diamine = 0.2: 0.8 (equivalent ratio). This solution was used in Example 1
A polyimide film was prepared by the same method as above (final drying temperature 280 ° C.). The film thickness of this polyimide film is 25μ
And the residual solvent amount was 0.1%. Using this film, a single-sided copper-clad flexible printed circuit board was obtained in the same manner as in Example 2. The characteristics of this substrate are shown in Table 1.

比較例−2 実施例2に於いて、バキユームプレスの代りに通常の熱
圧プレスを用い、280℃、40kg/cm3で40分間成形を行な
つた。室温に冷却後、ユーピレツクスSフイルムを積層
シートから剥し、接着層を使用しない片面銅張フレキシ
ブルプリント回路基板を得た。この基板の特性は表−1
の通りであつた。
Comparative Example-2 In Example 2, molding was carried out at 280 ° C. and 40 kg / cm 3 for 40 minutes using a normal hot press in place of the vacuum press. After cooling to room temperature, the Upilex S film was peeled from the laminated sheet to obtain a single-sided copper-clad flexible printed circuit board without using an adhesive layer. The characteristics of this board are shown in Table-1.
It was on the street.

〔発明の効果〕 本発明によれば、上記実施例の説明のように、接着能力
を有する絶縁性に優れたポリイミドフイルムを用いるこ
とにより、ポリイミドフイルムを直接、金属箔に積層す
ることが可能になり、耐熱性,電気特性および接着性,
可撓性等の機械特性並びに寸法安定性の全てに良好な片
面及び両面金属箔張りポリイミドフレキシブルプリント
回路基板の製造が可能になつた。
[Effect of the Invention] According to the present invention, as described in the above embodiment, by using a polyimide film having an adhesive property and excellent in insulating property, the polyimide film can be directly laminated on the metal foil. , Heat resistance, electrical characteristics and adhesiveness,
It has become possible to manufacture single-sided and double-sided metal foil-clad polyimide flexible printed circuit boards which are excellent in mechanical properties such as flexibility and dimensional stability.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】対称型芳香族メタ置換第一級アミンを当量
での割合で100〜20%含む対称型芳香族第一級アミン群
と芳香族テトラカルボン酸二無水物とを反応させ、生成
したポリイミド(ただし、ポリイミドが である場合を除く)のフィルムを金属箔と熱硬化性ポリ
イミドフィルムとを積層するための接着剤として用いる
ことを特徴とするフレキシブルプリント回路基板の製造
法。
1. A symmetric aromatic meta-substituted primary amine is produced by reacting a group of symmetric aromatic primary amines containing 100 to 20% in an equivalent ratio with an aromatic tetracarboxylic dianhydride. Polyimide (However, polyimide The method for producing a flexible printed circuit board is characterized in that the film (1) is used as an adhesive for laminating a metal foil and a thermosetting polyimide film.
【請求項2】対称型芳香族メタ置換第一級アミンを当量
での割合で100〜20%含む対称型芳香族第一級アミン群
と芳香族テトラカルボン酸二無水物とを反応させ、生成
したポリイミドフィルムを、該生成したポリイミドフィ
ルムとは接着性のないフィルムと金属箔との間に挿入し
て積層し、加圧、加熱下に、該生成したポリイミドフィ
ルムを金属箔に直接積層することを特徴とするフレキシ
ブルプリント回路基板の製造法。
2. A reaction product of a symmetric aromatic primary amine group containing 100 to 20% of a symmetrical aromatic meta-substituted primary amine in an equivalent ratio, and an aromatic tetracarboxylic dianhydride. The laminated polyimide film is inserted between the film and the metal foil which are not adhesive to the generated polyimide film and laminated, and the laminated polyimide film is laminated directly on the metal foil under pressure and heating. And a method for manufacturing a flexible printed circuit board.
【請求項3】対称型芳香族メタ置換第一級アミンを当量
での割合で100〜20%含む対称型芳香族第一級アミン群
と芳香族テトラカルボン酸二無水物とを反応させ、生成
したポリイミドフィルムを金属箔と金属箔との積層用接
着剤兼絶縁層として用いることを特徴とするフレキシブ
ルプリント回路基板の製造法。
3. A symmetric aromatic meta-substituted primary amine is produced by reacting a group of symmetric aromatic primary amines containing 100 to 20% by weight of an equivalent amount with an aromatic tetracarboxylic dianhydride. A method for manufacturing a flexible printed circuit board, characterized in that the above-mentioned polyimide film is used as an adhesive and insulating layer for laminating metal foils.
【請求項4】二つの金属箔のうち少なくとも一方が銅箔
である特許請求の範囲第3項に記載の方法。
4. The method according to claim 3, wherein at least one of the two metal foils is a copper foil.
【請求項5】積層工程を不活性ガス中で加熱、加圧して
行なう特許請求の範囲第1項〜第4項のいずれかに記載
の方法。
5. The method according to any one of claims 1 to 4, wherein the laminating step is performed by heating and pressurizing in an inert gas.
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