JPH08281866A - Production of flexible metal foil laminated sheet - Google Patents

Production of flexible metal foil laminated sheet

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JPH08281866A
JPH08281866A JP7092572A JP9257295A JPH08281866A JP H08281866 A JPH08281866 A JP H08281866A JP 7092572 A JP7092572 A JP 7092572A JP 9257295 A JP9257295 A JP 9257295A JP H08281866 A JPH08281866 A JP H08281866A
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JP
Japan
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metal foil
polyimide
layer
laminate
polyimide layer
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Pending
Application number
JP7092572A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Naoshi Mineta
直志 峯田
Takashi Kayama
孝 加山
Takayuki Ishikawa
孝幸 石川
Seiichi Takahashi
清一 高橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui Toatsu Chemicals Inc
Original Assignee
Mitsui Toatsu Chemicals Inc
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Publication date
Application filed by Mitsui Toatsu Chemicals Inc filed Critical Mitsui Toatsu Chemicals Inc
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Publication of JPH08281866A publication Critical patent/JPH08281866A/en
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Abstract

PURPOSE: To produce a flexible metal foil laminated sheet reduced in material cost by requiring no special surface treatment to metal foil, capable of corresponding to various metal foils and excellent in heat resistance, chemical resistance and electric characteristics. CONSTITUTION: In a method for producing a flexible metal foil laminated sheet wherein a polyimide layer is provided between two metal foil layers, the amt. of the volatile component present in the polyimide layer is below 0.3% by wt. of the polyimide layer.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、電子工業分野において
普及しつつある、フレキシブル金属箔積層板の製造方法
に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a flexible metal foil laminate, which is becoming popular in the electronic industry.

【0002】[0002]

【従来の技術】ポリイミド金属箔積層板は、主として可
撓性を有するプリント配線板用の基材として使用され、
その他に面状発熱体、電磁波シールド材料、フラットケ
ーブル、包装材料等にも使用される。近年においては、
プリント配線板を使用した電子機器が小型化、高密度化
されるに伴い、部品・素子の高密度実装が可能な、ポリ
イミド金属箔積層板の利用が増大している。しかしなが
ら、従来のフレキシブル金属箔積層板は、エポキシ樹脂
等の接着剤を用いて、ポリイミドフィルムと金属箔とを
貼り合わせることにより製造されているために、耐熱性
・耐薬品性・電気特性等の特性は、使用される接着剤の
特性に支配され、ポリイミドの優れた諸特性が十分に活
かされず、特に耐熱性の点で十分なものではなかった。
2. Description of the Related Art A polyimide metal foil laminate is mainly used as a base material for a flexible printed wiring board,
In addition, it is also used for sheet heating elements, electromagnetic wave shielding materials, flat cables, packaging materials, etc. In recent years,
As electronic devices using printed wiring boards are becoming smaller and higher in density, the use of polyimide metal foil laminates, which enables high-density mounting of components and elements, is increasing. However, since the conventional flexible metal foil laminate is manufactured by bonding a polyimide film and a metal foil using an adhesive such as an epoxy resin, heat resistance, chemical resistance, electrical characteristics, etc. The characteristics are dominated by the characteristics of the adhesive used, the excellent various characteristics of the polyimide are not fully utilized, and particularly the heat resistance is not sufficient.

【0003】この、接着剤を有する従来のフレキシブル
金属箔積層板の欠点を克服するために、金属箔上にポリ
イミド溶液またはポリイミドの前駆体であるポリアミド
酸溶液を直接流延塗布することにより、通常の接着剤層
を有しない、絶縁層が全てポリイミドから成るフレキシ
ブル金属箔積層板を得ようとする試みがなされている。
また、ポリイミドフィルムの片面または両面に、接着性
を有するポリイミドを積層し、このポリイミド積層体と
金属箔とを重ね合わせ加熱圧着して、同様な絶縁層が全
てポリイミドから成るフレキシブル金属箔積層板を得よ
うとする試みもなされている。
In order to overcome the drawbacks of the conventional flexible metal foil laminate having an adhesive, usually, a polyimide solution or a polyamic acid solution which is a precursor of a polyimide is directly cast and coated on the metal foil, Attempts have been made to obtain a flexible metal foil laminate which has no adhesive layer and whose insulating layer is entirely made of polyimide.
In addition, one or both sides of the polyimide film, laminated polyimide having adhesiveness, the polyimide laminate and a metal foil are overlaid and thermocompression bonded, a flexible metal foil laminate plate in which the same insulating layer is entirely made of polyimide. Attempts have been made to obtain it.

【0004】しかし、これらの方法を用いて、例えば金
属箔として銅箔を選択した場合、表面が平滑面である銅
箔とポリイミドとの接着力は低く、満足なものは得られ
ない。この欠点を克服するために、銅箔のポリイミドと
接する面に対して、予めその表面に凹凸を付け、表面積
を増すような各種の表面処理を施すことが行われてい
る。
However, when a copper foil is selected as the metal foil by using these methods, the adhesive strength between the copper foil having a smooth surface and the polyimide is low, and a satisfactory product cannot be obtained. In order to overcome this drawback, the surface of the copper foil in contact with the polyimide is subjected to various surface treatments such that the surface of the copper foil is made uneven in advance to increase the surface area.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、フレキ
シブル金属箔積層板の用途が拡大するに伴い、銅箔のみ
ならず各種の金属箔に対してそれぞれ、ポリイミドに対
して効果のある表面処理を開発しなければならず、素材
のコストや開発期間を増大させることに繋がっている。
それゆえ、表面処理を施されていない金属箔の平滑面に
対しても十分な接着力を得ることができる、金属とポリ
イミドとの接着技術が要望されている。本発明は、優れ
た耐熱性・耐薬品性・電気特性等を有するポリイミドを
絶縁体として用いたフレキシブル金属箔積層板におい
て、平滑な表面を有する金属箔とポリイミドとの間に十
分な接着力を得ることができる、フレキシブル金属箔積
層板の製造方法を提供するものである。
However, as the applications of flexible metal foil laminates have expanded, a surface treatment effective for polyimide has been developed not only for copper foil but also for various metal foils. It is necessary to increase the material cost and development period.
Therefore, there is a demand for a technique for adhering a metal and a polyimide that can obtain a sufficient adhesive force even on a smooth surface of a metal foil that has not been surface-treated. The present invention is a flexible metal foil laminate using polyimide having excellent heat resistance, chemical resistance, electrical characteristics, etc. as an insulator, and provides sufficient adhesion between the metal foil having a smooth surface and the polyimide. The present invention provides a method for producing a flexible metal foil laminate, which can be obtained.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意検討し
た結果、ポリイミド層中に存在する揮発成分の量を制御
することにより、従来は金属箔とポリイミド層の接着層
との界面の接着力の低かった平滑な金属箔とも、良好な
接着力を得られることを見いだし、本発明を完成した。
Means for Solving the Problems As a result of intensive investigations by the present inventors, by controlling the amount of volatile components present in the polyimide layer, conventionally, the adhesion of the interface between the metal foil and the adhesive layer of the polyimide layer was adhered. The inventors have found that good adhesive strength can be obtained even with a smooth metal foil having low strength, and completed the present invention.

【0007】すなわち本発明は、二層の金属箔層の層間
にポリイミド層を有するフレキシブル金属箔積層板の製
造方法であって、該ポリイミド層が、ポリイミドフィル
ムの両面に熱可塑性ポリイミドが形成された、三層構造
のポリイミド積層体から成り、該ポリイミド積層体の両
側に金属箔層を重ね合わせ、加熱圧着することによって
製造されるフレキシブル金属箔積層板において、該ポリ
イミド層中に存在する揮発成分の量が、該ポリイミド層
に対する重量比率で0.3 %未満であることを特徴とす
る、フレキシブル金属箔積層板の製造方法、であり、ま
た、二層の金属箔層の層間にポリイミド層を有するフレ
キシブル金属箔積層板の製造方法であって、一方の金属
箔層上に、少なくとも金属箔層に対して最も外側のポリ
イミド層が熱可塑性ポリイミドから成るポリイミド層が
形成された、ポリイミド/金属箔積層体と、もう一方の
金属箔層とを、熱可塑性ポリイミド層と金属箔層とを重
ね合わせ、加熱圧着することによって製造されるフレキ
シブル金属箔積層板において、ポリイミド層中に存在す
る揮発成分の量が、該ポリイミド層に対する重量比率で
0.3 %未満であることを特徴とする、フレキシブル金属
箔積層板の製造方法、であり、また、該金属箔層の少な
くとも一方の、金属箔表面の中心線平均粗さが0.10μm
未満および/または十点平均粗さが1.00μm未満である
ことを特徴とする、フレキシブル金属箔積層板の製造方
法、であり、また、該金属箔層の種類として、銅、鉄、
ニッケル、クロム、モリブデン、アルミニウムまたはこ
れらを主体とする合金から成る金属箔であることを特徴
とする、フレキシブル金属箔積層板の製造方法である。
以下、本発明を詳細に説明する。
That is, the present invention is a method for producing a flexible metal foil laminate having a polyimide layer between two metal foil layers, wherein the polyimide layer is formed with thermoplastic polyimide on both sides. , A flexible metal foil laminate comprising a polyimide laminate having a three-layer structure, and laminating metal foil layers on both sides of the polyimide laminate, followed by thermocompression bonding, of a volatile component present in the polyimide layer. A method for producing a flexible metal foil laminate, characterized in that the amount is less than 0.3% by weight relative to the polyimide layer, and a flexible metal having a polyimide layer between two metal foil layers. A method for manufacturing a foil laminate, wherein at least the outermost polyimide layer with respect to the metal foil layer is thermoplastic thermoplastic resin on one metal foil layer. Flexible metal produced by stacking a thermoplastic polyimide layer and a metal foil layer on a polyimide / metal foil laminate on which a polyimide layer made of rimide is formed, and the other metal foil layer, and heating and pressing the thermoplastic polyimide layer and the metal foil layer. In the foil laminate, the amount of volatile components present in the polyimide layer is in a weight ratio to the polyimide layer.
A method for producing a flexible metal foil laminate, wherein the center line average roughness of the metal foil surface of at least one of the metal foil layers is 0.10 μm.
And / or a ten-point average roughness of less than 1.00 μm, which is a method for producing a flexible metal foil laminate, wherein the type of the metal foil layer is copper, iron,
A method for producing a flexible metal foil laminate, which is a metal foil made of nickel, chromium, molybdenum, aluminum or an alloy mainly containing these.
Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【0008】本発明に用いられる金属箔の種類には特に
制限はなく、銅および銅合金、鉄、ニッケル、クロム、
モリブデン、アルミニウム、ステンレス鋼、ベリリウム
銅合金などが使用できる。
There is no particular limitation on the type of metal foil used in the present invention, and copper and copper alloys, iron, nickel, chromium,
Molybdenum, aluminum, stainless steel, beryllium copper alloy, etc. can be used.

【0009】本発明に用いられる金属箔の厚みは特に制
限はないが、通常5 〜175 μmの範囲内であり、好まし
くは9 〜105 μmの範囲内のものが一般に用いられる。
The thickness of the metal foil used in the present invention is not particularly limited, but it is usually in the range of 5 to 175 μm, and preferably in the range of 9 to 105 μm.

【0010】本発明は、ポリイミドと接する金属箔の表
面粗さについて支配されないが、JIS B 0601(表面粗さ
の定義と表示)における、中心線平均粗さ(以下、Raと
表記する)および十点平均粗さ(以下、Rzと表記する)
で表示されるところの値が、Raについて0.10μm未満お
よび/またはRzについて1.00μm未満であるものについ
て特に効果が大きい。
Although the present invention is not governed by the surface roughness of the metal foil in contact with the polyimide, the center line average roughness (hereinafter referred to as Ra) and the standard roughness in JIS B 0601 (definition and indication of surface roughness) and Point average roughness (hereinafter referred to as Rz)
The value indicated by is less than 0.10 μm for Ra and / or less than 1.00 μm for Rz, the effect is particularly great.

【0011】また、本発明は、ポリイミドと接する金属
箔の表面粗さについて支配されないが、金属箔上に、金
属単体やその酸化物などの無機物、あるいはアミノシラ
ン、エポキシシラン、メルカプトシラン等のカップリン
グ剤を形成したり、金属箔表面にサンドブラスト処理、
ホーニング処理、コロナ処理、プラズマ処理、エッチン
グ処理等の処理を併用することも可能である。
Further, the present invention is not governed by the surface roughness of the metal foil in contact with the polyimide, but on the metal foil, an inorganic substance such as a simple substance of metal or its oxide, or a coupling of aminosilane, epoxysilane, mercaptosilane, etc. Forming an agent, sandblasting the metal foil surface,
Treatments such as honing treatment, corona treatment, plasma treatment, and etching treatment can be used together.

【0012】本発明のポリイミド層は、ポリイミドフィ
ルムの両面に、熱可塑性ポリイミドを積層することによ
って形成される。ここで用いられるポリイミドフィルム
は、市販されているポリイミドフィルムを使用しても、
流延法、射出法、延伸法等で形成したものを使用しても
よい。
The polyimide layer of the present invention is formed by laminating thermoplastic polyimide on both sides of a polyimide film. The polyimide film used here, even if using a commercially available polyimide film,
A material formed by a casting method, an injection method, a stretching method or the like may be used.

【0013】本発明における熱可塑性ポリイミドとは、
主鎖にイミド構造を有するポリマーであって、ガラス転
移温度が、好ましくは150 〜350 ℃の範囲内にあり、こ
のガラス転移温度以上の温度領域では、弾性率が急激に
低下するものを言う。
The thermoplastic polyimide in the present invention is
A polymer having an imide structure in its main chain, which has a glass transition temperature preferably in the range of 150 to 350 ° C., and whose elastic modulus sharply decreases in the temperature range above this glass transition temperature.

【0014】また、本発明のポリイミド層は、金属箔に
ポリイミドおよび/または熱可塑性ポリイミドを積層す
ることによっても形成される。該ポリイミド層は、金属
箔層との接着に関わる最も表側の層が熱可塑性ポリイミ
ドであればよく、単一の層でも、異なる多層のポリイミ
ド層から成ってもよい。該表側の層のポリイミド以外
は、必ずしも熱可塑性ポリイミドである必要はない。ま
た、該表側の層さえ熱可塑性ポリイミドであるならば、
複数のポリイミド成分から成る傾斜材料でもよい。
The polyimide layer of the present invention can also be formed by laminating a metal foil with polyimide and / or thermoplastic polyimide. The polyimide layer may be thermoplastic polyimide as the outermost layer involved in the adhesion with the metal foil layer, and may be a single layer or different polyimide layers. The polyimide other than the polyimide of the surface layer is not necessarily a thermoplastic polyimide. Also, if even the surface layer is a thermoplastic polyimide,
A gradient material composed of a plurality of polyimide components may be used.

【0015】本発明における、絶縁層であるポリイミド
層の厚みは特に制限はないが、通常5 〜150 μmの範囲
内であり、好ましくは8 〜50μmの範囲内のものが一般
に用いられる。また、熱可塑性ポリイミド層の厚みは、
金属箔の表面粗さを下回らない範囲内で、十分薄くする
ことができる。しかし、加熱圧着工程で用いられる装置
や副資材の凹凸があっても容易に積層できるように、1
μm以上が好ましい。
The thickness of the polyimide layer as the insulating layer in the present invention is not particularly limited, but is usually in the range of 5 to 150 μm, and preferably in the range of 8 to 50 μm. Further, the thickness of the thermoplastic polyimide layer,
It can be made sufficiently thin within a range not lower than the surface roughness of the metal foil. However, even if there are irregularities in the equipment and auxiliary materials used in the thermocompression bonding process, 1
μm or more is preferred.

【0016】本発明のポリイミド層またはポリイミドフ
ィルムの表面に、サンドブラスト処理、ホーニング処
理、コロナ処理、プラズマ処理、エッチング処理等の処
理を施してもよい。
The surface of the polyimide layer or the polyimide film of the present invention may be subjected to treatments such as sandblasting, honing, corona treatment, plasma treatment and etching treatment.

【0017】本発明では、ポリイミド層を形成するため
に、ポリイミドフィルムに熱可塑性ポリイミドを積層す
る、あるいは金属箔にポリイミドおよび/または熱可塑
性ポリイミドを積層するが、このポリイミドおよび/ま
たは熱可塑性ポリイミドは、該ポリイミド、または該ポ
リイミドの前駆体が溶媒に溶解した状態でポリイミドフ
ィルム上あるいは金属箔上に塗布し、これをタックフリ
ーの状態まで加熱することが好ましい。塗布する方法に
は特に限定はなく、コンマコーター、ナイフコーター、
ロールコーター、リバースコーター、ダイコーター、グ
ラビアコーター、ワイヤーバー等公知の塗布装置を使用
することができる。また、加熱方法には熱風、熱窒素、
遠赤外線、高周波等公知の方法を使用することができ
る。
In the present invention, a thermoplastic polyimide is laminated on a polyimide film or a polyimide and / or a thermoplastic polyimide is laminated on a metal foil to form a polyimide layer. The polyimide and / or the thermoplastic polyimide is It is preferable that the polyimide or a precursor of the polyimide is dissolved in a solvent and applied onto a polyimide film or a metal foil, and this is heated to a tack-free state. There is no particular limitation on the coating method, and a comma coater, knife coater,
A known coating device such as a roll coater, a reverse coater, a die coater, a gravure coater, and a wire bar can be used. The heating method is hot air, hot nitrogen,
A well-known method such as far infrared ray or high frequency wave can be used.

【0018】ポリイミドフィルムまたは金属箔上に、所
望のポリイミド層が形成された後、層中の揮発成分を除
去し、かつポリイミドの前駆体を塗布した場合には縮合
反応を完了するため、十分に加熱することが必要であ
る。この場合の加熱方法も、上記に準じた各種の公知の
方法を使用することができる。加熱温度は、積層される
ポリイミドのガラス転移温度より以上の温度が好まし
い。ポリイミドフィルムの両面にポリイミド層が形成さ
れている場合には、加熱途中での他の物体との接触を避
けるため、エアフロート方式を用いることは特に有用で
ある。また、金属箔層上に形成した場合には、金属箔の
酸化劣化を避けるため、不活性ガス中で加熱することも
有用である。
After the desired polyimide layer is formed on the polyimide film or the metal foil, the volatile components in the layer are removed, and when the polyimide precursor is applied, the condensation reaction is completed, so it is sufficient. It is necessary to heat. As the heating method in this case, various known methods according to the above can be used. The heating temperature is preferably higher than the glass transition temperature of the polyimide to be laminated. When the polyimide layers are formed on both sides of the polyimide film, it is particularly useful to use the air float method in order to avoid contact with other objects during heating. When formed on the metal foil layer, heating in an inert gas is also useful in order to avoid oxidative deterioration of the metal foil.

【0019】本発明において非常に重要なことは、ポリ
イミド層中に含まれる揮発成分の量を、ポリイミド層に
対する重量比率で0.3 %未満にすることである。ここで
言う揮発成分とは、ポリイミドの前駆体が脱水閉環する
際に発生する水、残留溶媒等を指す。これらを定量する
方法としては、例えば、ガスクロマトグラフ装置によ
り、300 ℃程度の温度下で発生する成分を捕捉する方法
等が用いられる。この揮発成分の量が、ポリイミド層に
対する重量比率で0.3 %以上であると、平滑な金属面と
の接着力が低下する。この揮発成分は、上記の加熱工
程、および加熱圧着前にポリイミド積層体またはポリイ
ミド/金属箔積層体を乾燥することにより、除去するこ
とができる。
In the present invention, it is very important that the amount of volatile components contained in the polyimide layer is less than 0.3% by weight with respect to the polyimide layer. The volatile component mentioned here refers to water, residual solvent, and the like generated when the polyimide precursor undergoes dehydration ring closure. As a method for quantifying these, for example, a method of capturing a component generated at a temperature of about 300 ° C. by a gas chromatograph device and the like are used. If the amount of this volatile component is 0.3% or more in terms of weight ratio with respect to the polyimide layer, the adhesive force with a smooth metal surface is reduced. This volatile component can be removed by drying the polyimide laminate or the polyimide / metal foil laminate before the above heating step and thermocompression bonding.

【0020】ポリイミド層中の揮発成分を0.3 %未満ま
で減少せしめる方法としては、加熱工程での温度を、該
ポリイミドまたはポリイミドの前駆体の溶媒の沸点と、
該ポリイミドのガラス転移温度の、両者の温度より高い
温度、好ましくは40℃以上高い温度とし、加熱すること
が必要である。加熱温度が単に溶媒の沸点より高いだけ
では、加熱時間の長短に関わらず、揮発成分の量を0.3
%未満にすることは困難である。溶媒の沸点のみなら
ず、該ポリイミドのガラス転移温度より高い温度で加熱
することによって、ポリイミド層中の揮発成分を0.3 %
未満にすることができるのである。このように、ポリイ
ミド層中の揮発成分を0.3 %未満とすることにより、金
属箔に対して表面処理を施さなくとも、ポリイミドと金
属箔との間の十分な接着力を得ることができる。
As a method of reducing the volatile component in the polyimide layer to less than 0.3%, the temperature in the heating step, the boiling point of the solvent of the polyimide or polyimide precursor,
It is necessary to set the glass transition temperature of the polyimide to a temperature higher than both of them, preferably to 40 ° C. or higher, and to heat. If the heating temperature is simply higher than the boiling point of the solvent, the amount of volatile components will be 0.3% regardless of the heating time.
It is difficult to make it less than%. By heating not only at the boiling point of the solvent but also at a temperature higher than the glass transition temperature of the polyimide, the volatile component in the polyimide layer is 0.3%.
It can be less than. In this way, by setting the volatile component in the polyimide layer to less than 0.3%, it is possible to obtain a sufficient adhesive force between the polyimide and the metal foil without subjecting the metal foil to the surface treatment.

【0021】上記のごとくして得られたポリイミド積層
体あるいはポリイミド/金属箔積層体と金属箔とを重ね
合わせ、加熱圧着することによりフレキシブル金属箔積
層板が完成する。この加熱圧着する方法は、熱ロールを
用いて熱ラミネートする方法やホットプレス等公知の方
法を適宜使用することができる。加熱条件は、用いられ
る熱可塑性ポリイミドのガラス転移温度に依存するが、
好ましくはガラス転移温度以上、より好ましくはこの点
より20℃以上あればよい。加圧条件は、一般に20〜150k
g/cm2 の範囲が用いられる。
The flexible metal foil laminate is completed by stacking the polyimide laminate or the polyimide / metal foil laminate and the metal foil obtained as described above and heat-pressing them. As the method for thermocompression bonding, a known method such as hot lamination using a hot roll or hot pressing can be appropriately used. The heating conditions depend on the glass transition temperature of the thermoplastic polyimide used,
It is preferably at least the glass transition temperature, more preferably at least 20 ° C from this point. Pressurization conditions are generally 20-150k
A range of g / cm2 is used.

【0022】[0022]

【実施例】以下の実施例および比較例によって、本発明
を更に詳細に説明する。 [実施例1〜3および比較例1〜3]市販のポリイミド
フィルム(鐘淵化学工業製, アピカルAH, 厚み;25 μ
m)に、熱可塑性ポリイミドの前駆体であるポリアミド
酸溶液(三井東圧化学製, PI-A)を、塗工機によってポ
リイミドフィルムの両面に塗布・乾燥してポリイミド積
層体を得た。この時、以下のごとく乾燥条件を変化させ
ることにより、ポリイミド積層体中の揮発成分の量を制
御した。実施例1〜3に対しては、ガラス転移温度より
ほぼ40℃高い温度である240 ℃でそれぞれ30, 20, 10
分加熱した。比較例1〜3に対しては、はぼガラス転移
温度である200 ℃でそれぞれ30, 20, 10分加熱した。揮
発成分の量は、ガスクロマトグラフ装置(島津製作所
製, GC-14A)を用いて測定した。得られた熱可塑性ポリ
イミド層の厚みは、各実施例および比較例に対していず
れも、各面ともそれぞれ2.5 μmであった。
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples and comparative examples. [Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 3] Commercially available polyimide film (Kanefuchi Chemical Co., Ltd., Apical AH, thickness; 25 μm)
m) was applied with a polyamic acid solution (PI-A, manufactured by Mitsui Toatsu Chemical Co., Inc.), which is a precursor of thermoplastic polyimide, on both sides of the polyimide film with a coater and dried to obtain a polyimide laminate. At this time, the amount of volatile components in the polyimide laminate was controlled by changing the drying conditions as follows. For Examples 1 to 3, 30, 20, and 10 at 240 ° C., which is approximately 40 ° C. higher than the glass transition temperature, respectively.
Heated for minutes. Comparative Examples 1 to 3 were respectively heated at 200 ° C., which is a glass transition temperature, for 30, 20 and 10 minutes. The amount of volatile components was measured using a gas chromatograph (manufactured by Shimadzu Corporation, GC-14A). The thickness of the obtained thermoplastic polyimide layer was 2.5 μm on each side for each of the examples and comparative examples.

【0023】このポリイミド積層体に対し、圧延銅箔
(ジャパンエナジー製, BHY-02B-T,厚み;18 μm, Ra;
0.14 μm, Rz;1.85 μm)とステンレス箔(日新製鋼
製, SUS304H-TA, 厚み;50 μm, Ra;0.04 μm, Rz;0.4
7 μm)を、両面とも圧延銅箔、両面ともステンレス
箔、および片面を圧延銅箔他面をステンレス箔、という
3種類の組み合わせで重ね合わせ、ホットプレスを用い
て加熱圧着した。なお銅箔およびステンレス箔の表面粗
さは、表面粗さ計(小坂研究所製, サーフコーダーSE-3
0D)で測定した値である。得られたフレキシブル金属箔
積層板について、各金属箔/ポリイミド界面のピール強
度を測定した。以上、実施例1〜3および比較例1〜3
の結果を表1に示す。表中のSUS はステンレス箔を、RC
u は圧延銅箔を示す。
A rolled copper foil (manufactured by Japan Energy, BHY-02B-T, thickness: 18 μm, Ra;
0.14 μm, Rz; 1.85 μm) and stainless steel foil (Nisshin Steel, SUS304H-TA, thickness; 50 μm, Ra; 0.04 μm, Rz; 0.4
7 μm) were laminated in a combination of three types, that is, rolled copper foil on both sides, stainless steel foil on both sides, and rolled copper foil on one side and stainless steel foil on the other side, and hot pressed using a hot press. The surface roughness of copper foil and stainless steel foil is measured by a surface roughness meter (Kosaka Laboratory, Surfcoder SE-3).
It is the value measured in 0D). The peel strength of each metal foil / polyimide interface of the obtained flexible metal foil laminate was measured. As described above, Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 3
The results are shown in Table 1. SUS in the table is stainless steel foil, RC
u indicates rolled copper foil.

【0024】[0024]

【表1】 [Table 1]

【0025】[実施例4〜6および比較例4〜6]市販
の電解銅箔(日本電解製, SLP,厚み;35 μm, Ra;0.52
μm, Rz;4.48 μm)に、ポリアミド酸溶液(三井東圧
化学製, PI-KBP2 )を、塗工機によって塗布・乾燥し、
更にその上に熱可塑性ポリイミドの前駆体であるポリア
ミド酸溶液(三井東圧化学製, PI-A)を塗布・乾燥して
ポリイミド/金属箔積層体を得た。この時、以下のごと
く乾燥条件を変化させることにより、ポリイミド層中の
揮発成分の量を制御した。実施例4〜6に対しては、ガ
ラス転移温度よりほぼ50℃高い温度である400 ℃でそ
れぞれ15分, 10分, 5 分加熱した。比較例4〜6に対し
ては、ほぼガラス転移温度である350 ℃でそれぞれ15
分, 10分, 5 分加熱した。得られたポリイミド層の厚み
は、各実施例および比較例に対していずれも、ポリイミ
ド層全体で15μmであり、そのうち熱可塑性ポリイミド
層の厚みは2.5 μmであった。
[Examples 4 to 6 and Comparative Examples 4 to 6] Commercially available electrolytic copper foil (manufactured by Nippon Denshoku Co., Ltd., SLP, thickness; 35 μm, Ra; 0.52)
μm, Rz; 4.48 μm) with a polyamic acid solution (Mitsui Toatsu Chemical Co., PI-KBP2) applied by a coating machine and dried,
Further, a polyamic acid solution (PI-A manufactured by Mitsui Toatsu Chemical Co., Inc.), which is a precursor of thermoplastic polyimide, was applied and dried to obtain a polyimide / metal foil laminate. At this time, the amount of volatile components in the polyimide layer was controlled by changing the drying conditions as follows. For Examples 4 to 6, heating was carried out for 15 minutes, 10 minutes, and 5 minutes at 400 ° C., which is approximately 50 ° C. higher than the glass transition temperature. For Comparative Examples 4 to 6, the glass transition temperature was about 15 ° C.
Heated for min, 10 min, 5 min. The thickness of the obtained polyimide layer was 15 μm in all the polyimide layers for each of the examples and comparative examples, and the thickness of the thermoplastic polyimide layer was 2.5 μm.

【0026】このポリイミド/金属箔積層体のポリイミ
ド側に、上記ステンレス箔、圧延銅箔、ニッケル箔(東
洋製箔製, 厚み;20 μm, Ra;0.05 μm, Rz;0.55 μ
m)をそれぞれ重ね合わせ、ホットプレスを用いて加熱
圧着した。得られたフレキシブル金属箔積層板につい
て、各金属箔/ポリイミド界面のピール強度を測定し
た。以上、実施例4〜6および比較例4〜6の結果を表
2に示す。表中のECu は電解銅箔を、RCu は圧延銅箔
を、SUS はステンレス箔を、Niはニッケル箔を示す。
On the polyimide side of this polyimide / metal foil laminate, the above-mentioned stainless steel foil, rolled copper foil, nickel foil (made by Toyo Seifun, thickness: 20 μm, Ra; 0.05 μm, Rz; 0.55 μ
m) were overlaid and thermocompression bonded using a hot press. The peel strength of each metal foil / polyimide interface of the obtained flexible metal foil laminate was measured. The results of Examples 4 to 6 and Comparative Examples 4 to 6 are shown in Table 2 above. In the table, ECu indicates electrolytic copper foil, RCu indicates rolled copper foil, SUS indicates stainless steel foil, and Ni indicates nickel foil.

【0027】[0027]

【表2】 [Table 2]

【0028】[0028]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
平滑な表面を有する金属箔とポリイミドとの界面での高
い接着力を有する、耐熱性・耐薬品性・電気特性等に優
れたフレキシブル金属箔積層板を製造することができ
る。このことにより、これまで必須であった金属箔に対
する表面処理工程を省くことができ、材料費のコストを
削減することができる。さらに、金属箔の表面状態に支
配されずに、多種多様な金属箔に対応可能なフレキシブ
ル金属箔積層板を製造することができる。
As described above, according to the present invention,
It is possible to manufacture a flexible metal foil laminate having excellent adhesiveness at the interface between a metal foil having a smooth surface and a polyimide and having excellent heat resistance, chemical resistance, electrical characteristics, and the like. As a result, it is possible to omit the surface treatment step for the metal foil, which has been essential until now, and it is possible to reduce the material cost. Further, it is possible to manufacture a flexible metal foil laminated plate which can be applied to a wide variety of metal foils regardless of the surface condition of the metal foil.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高橋 清一 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 東圧化学株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Seiichi Takahashi 1190 Kasama-cho, Sakae-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Mitsui Toatsu Chemical Co., Ltd.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 二層の金属箔層の層間にポリイミド層を
有するフレキシブル金属箔積層板の製造方法であって、
該ポリイミド層が、ポリイミドフィルムの両面に熱可塑
性ポリイミドが形成された、三層構造のポリイミド積層
体から成り、該ポリイミド積層体の両側に金属箔層を重
ね合わせ、加熱圧着することによって製造されるフレキ
シブル金属箔積層板において、該ポリイミド層中に存在
する揮発成分の量が、該ポリイミド層に対する重量比率
で0.3 %未満であることを特徴とする、フレキシブル金
属箔積層板の製造方法。
1. A method for producing a flexible metal foil laminate having a polyimide layer between two metal foil layers, the method comprising:
The polyimide layer is composed of a polyimide laminate having a three-layer structure in which thermoplastic polyimide is formed on both sides of the polyimide film, and is manufactured by stacking metal foil layers on both sides of the polyimide laminate and thermocompression bonding. In the flexible metal foil laminate, the amount of volatile components present in the polyimide layer is less than 0.3% in weight ratio with respect to the polyimide layer.
【請求項2】 二層の金属箔層の層間にポリイミド層を
有するフレキシブル金属箔積層板の製造方法であって、
一方の金属箔層上に、少なくとも金属箔層に対して最も
外側のポリイミド層が熱可塑性ポリイミドから成るポリ
イミド層が形成された、ポリイミド/金属箔積層体と、
もう一方の金属箔層とを、熱可塑性ポリイミド層と金属
箔層とを重ね合わせ、加熱圧着することによって製造さ
れるフレキシブル金属箔積層板において、ポリイミド層
中に存在する揮発成分の量が、該ポリイミド層に対する
重量比率で0.3 %未満であることを特徴とする、フレキ
シブル金属箔積層板の製造方法。
2. A method for producing a flexible metal foil laminate having a polyimide layer between two metal foil layers, the method comprising:
A polyimide / metal foil laminate in which a polyimide layer in which at least the outermost polyimide layer is made of thermoplastic polyimide is formed on at least one metal foil layer,
The other metal foil layer, the thermoplastic polyimide layer and the metal foil layer are overlapped, in a flexible metal foil laminate produced by heat-pressing, the amount of volatile components present in the polyimide layer, A method for producing a flexible metal foil laminate, characterized in that the weight ratio to the polyimide layer is less than 0.3%.
【請求項3】 金属箔層の少なくとも一方の、金属箔表
面の中心線平均粗さが0.10μm未満および/または十点
平均粗さが1.00μm未満であることを特徴とする、請求
項1または2に記載のフレキシブル金属箔積層板の製造
方法。
3. The center line average roughness of the metal foil surface of at least one of the metal foil layers is less than 0.10 μm and / or the ten-point average roughness is less than 1.00 μm. 2. The method for producing a flexible metal foil laminate according to 2.
【請求項4】 金属箔層の種類として、銅、鉄、ニッケ
ル、クロム、モリブデン、アルミニウムまたはこれらを
主体とする合金から成る金属箔であることを特徴とす
る、請求項1〜3のいずれかに記載のフレキシブル金属
箔積層板の製造方法。
4. The type of metal foil layer is a metal foil made of copper, iron, nickel, chromium, molybdenum, aluminum or an alloy mainly containing these, and any one of claims 1 to 3 is provided. A method for producing a flexible metal foil laminate according to.
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002226928A (en) * 2001-01-30 2002-08-14 Nippon Mining & Metals Co Ltd Copper alloy foil for laminated board
JP2002290034A (en) * 2001-03-26 2002-10-04 Denso Corp Laminated board and its manufacturing method
JP2003055486A (en) * 2001-05-24 2003-02-26 Hitachi Chem Co Ltd Prepreg and laminate
JP2007102117A (en) * 2005-10-07 2007-04-19 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The Image forming material for laser and image forming method for pattern plating
JP2007302003A (en) * 2007-06-15 2007-11-22 Mitsui Chemicals Inc Polyimide metal foil laminated sheet and method for manufacturing the same
WO2008032770A1 (en) * 2006-09-15 2008-03-20 Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. Metal composite laminate for manufacturing flexible wiring board abd flexible wiring board
WO2010010892A1 (en) * 2008-07-22 2010-01-28 古河電気工業株式会社 Flexible copper-clad laminate
JP2011219789A (en) * 2010-04-06 2011-11-04 Fukuda Metal Foil & Powder Co Ltd Treated copper foil for copper-clad laminate, copper-clad laminate obtained by sticking the treated copper foil to insulating resin substrate, and printed wiring board obtained by using the copper-clad laminate

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62104840A (en) * 1985-10-31 1987-05-15 Mitsui Toatsu Chem Inc Production of flexible printed circuit board
JPH02168694A (en) * 1988-12-22 1990-06-28 Mitsui Toatsu Chem Inc Flexible laminate and manufacture thereof
JPH06200218A (en) * 1993-01-05 1994-07-19 Mitsui Toatsu Chem Inc Heat-resistant adhesive sheet

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62104840A (en) * 1985-10-31 1987-05-15 Mitsui Toatsu Chem Inc Production of flexible printed circuit board
JPH02168694A (en) * 1988-12-22 1990-06-28 Mitsui Toatsu Chem Inc Flexible laminate and manufacture thereof
JPH06200218A (en) * 1993-01-05 1994-07-19 Mitsui Toatsu Chem Inc Heat-resistant adhesive sheet

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002226928A (en) * 2001-01-30 2002-08-14 Nippon Mining & Metals Co Ltd Copper alloy foil for laminated board
JP2002290034A (en) * 2001-03-26 2002-10-04 Denso Corp Laminated board and its manufacturing method
JP2003055486A (en) * 2001-05-24 2003-02-26 Hitachi Chem Co Ltd Prepreg and laminate
JP2007102117A (en) * 2005-10-07 2007-04-19 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The Image forming material for laser and image forming method for pattern plating
WO2008032770A1 (en) * 2006-09-15 2008-03-20 Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. Metal composite laminate for manufacturing flexible wiring board abd flexible wiring board
JP2007302003A (en) * 2007-06-15 2007-11-22 Mitsui Chemicals Inc Polyimide metal foil laminated sheet and method for manufacturing the same
WO2010010892A1 (en) * 2008-07-22 2010-01-28 古河電気工業株式会社 Flexible copper-clad laminate
US8557392B2 (en) 2008-07-22 2013-10-15 Furukawa Electric Co., Ltd. Flexible copper clad laminate
JP5638951B2 (en) * 2008-07-22 2014-12-10 古河電気工業株式会社 Flexible copper clad laminate
JP2011219789A (en) * 2010-04-06 2011-11-04 Fukuda Metal Foil & Powder Co Ltd Treated copper foil for copper-clad laminate, copper-clad laminate obtained by sticking the treated copper foil to insulating resin substrate, and printed wiring board obtained by using the copper-clad laminate

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