JPS62104840A - Production of flexible printed circuit board - Google Patents

Production of flexible printed circuit board

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JPS62104840A
JPS62104840A JP24293685A JP24293685A JPS62104840A JP S62104840 A JPS62104840 A JP S62104840A JP 24293685 A JP24293685 A JP 24293685A JP 24293685 A JP24293685 A JP 24293685A JP S62104840 A JPS62104840 A JP S62104840A
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polyimide film
film
adhesive
metal foil
printed circuit
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守次 森田
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宮崎 和夫
Teruhiro Yamaguchi
彰宏 山口
Masahiro Oota
正博 太田
Masaji Tamai
正司 玉井
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Abstract

PURPOSE:To obtain a circuit board having all good heat resistance, electrical characteristic, adhesive property, mechanical characteristic, e.g. flexibility, and dimensional stability, by laminating a metal foil to a thermosetting polyimide film with a specific polyimide film as an adhesive. CONSTITUTION:A polyimide film produced by reacting a symmetric aromatic primary amine group containing a symmetric aromatic meta-substituted primary amine at 100-20% equivalent ratio with an aromatic tetracarboxylic acid anhydride is used as an adhesive in laminating a metal foil to a thermosetting polyimide film. The formed polyimide film is inserted between a film without adhesive property and a metal foil to laminate both film and foil while heating under pressure. The above-mentioned formed film is used as both an adhesive and an insulating layer for lamination.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、耐熱性、電気特性0機械特性および寸法安定
性に優れたフレキシブルプリント回路基板の製法に関し
、片面゛金属箔張シおよび両面金属箔張りポリイミドフ
レキシブルプリント回路基板並びに片面銅箔張りに於い
て一層の寸法安定性と熱放散性を良くした金属箔裏打ポ
リイミドフレキシブルプリント回路基板の製法に関する
Detailed Description of the Invention [Field of Industrial Application] The present invention relates to a method for manufacturing a flexible printed circuit board having excellent heat resistance, electrical properties, zero mechanical properties, and dimensional stability. This invention relates to a method for manufacturing a foil-lined polyimide flexible printed circuit board and a metal foil-backed polyimide flexible printed circuit board that has improved dimensional stability and heat dissipation when one side is covered with copper foil.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

フレキシブルプリント回路基板は可撓性を有するプリン
ト回路を製造するための基板であって、近年に於いて、
プリント回路が納まるケース類がコンパクト化されなど
のために利用が増大している。このようなフレキシブル
プリント回路基板は従来、銅箔にポリイミドフィルムを
接着剤を用いて張り合せて製造されている。この基板に
おいて、ポリイミドフィルムは十分に耐熱性、電気特性
および機械特性が良いが、接着剤の特性が不十分である
ため、ポリイミドフィルムの特性が十分に生かされてい
ない問題があった。
A flexible printed circuit board is a board for manufacturing flexible printed circuits, and in recent years,
Their use is increasing as the cases that house printed circuits become more compact. Such flexible printed circuit boards have conventionally been manufactured by laminating a polyimide film to a copper foil using an adhesive. In this substrate, although the polyimide film has sufficiently good heat resistance, electrical properties, and mechanical properties, there is a problem in that the properties of the polyimide film are not fully utilized because the properties of the adhesive are insufficient.

そこで、接着剤層を用いずに、ポリイミド金属張板から
力るフレキシブルプリント回路基板を製造する方法が従
来より検討されており、例としては、米国特許第8,1
79,684号、特開昭49−129862号、特開昭
58−190091号。
Therefore, methods of manufacturing flexible printed circuit boards from polyimide metal clad plates without using an adhesive layer have been studied, for example, US Pat.
No. 79,684, JP-A-49-129862, and JP-A-58-190091.

特開昭58−190092号などかあふ。しかしながら
、耐熱性、接着性、可撓性及び寸法安定性のいずれもが
十分であるフレキシブルプリント回路基板は得られてい
々い。
JP-A No. 58-190092, etc. However, it is still difficult to obtain a flexible printed circuit board that has sufficient heat resistance, adhesiveness, flexibility, and dimensional stability.

〔発明が解決しようとする問題点〕 本発明の目的は、耐熱性、電気特性9機械特性及び寸法
安定性の全てに優れた、片面及び両面金属箔張bポリイ
ミドフレキシブルプリント回路基板並びに片面銅箔張り
に於いて一層の寸法安定性と熱放散性を良くした金纏箔
裏打ちポリイミドフレキシブルプリント回路基板の製造
法を提供することにある。
[Problems to be Solved by the Invention] The purpose of the present invention is to provide a single-sided and double-sided metal foil-clad polyimide flexible printed circuit board and a single-sided copper foil-covered polyimide printed circuit board that is excellent in heat resistance, electrical properties, mechanical properties, and dimensional stability. To provide a method for manufacturing a polyimide flexible printed circuit board lined with gold foil, which has further improved dimensional stability and heat dissipation in tension.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

上記の目的は、次のフレキシブルプリント回路基板の製
造法により達成される。片面金属箔張りポリイミドフレ
キシブルプリント回路基板については、対称型芳香族メ
タ置換第一級アミンを当量での割合で100〜20係含
む対称型芳香族第一級アミン群と芳香族テトラカルボン
酸無水物とを反応させて生成したポリイミドフィルム^
を金属箔と熱硬化性ポリイミドフィルムを積層するため
の接着剤として用いることを特徴とする製造方法。
The above object is achieved by the following method for manufacturing a flexible printed circuit board. For single-sided metal foil-covered polyimide flexible printed circuit boards, a symmetrical aromatic primary amine group containing 100 to 20 symmetrical aromatic meta-substituted primary amines in an equivalent proportion and an aromatic tetracarboxylic acid anhydride. A polyimide film produced by reacting with
A manufacturing method characterized in that it is used as an adhesive for laminating metal foil and thermosetting polyimide film.

また、ポリイミドフィルム囚を金属箔に直接加圧、加熱
下で積層することもできる。両面金属箔張りポリイミド
フレキシブルプリント回路基板については、ポリイミド
フィルム囚を金属箔と金属箔との積層用接着剤兼絶縁層
として用いることができる。さらに、寸法安定性を一層
良くするため及び熱放散性の改良のために、金属箔を裏
打ちしたポリイミドフレキシブルプリント回路基板につ
いては、ポリイミドフィルム囚を銅箔と寸法安定性改良
のための金属箔との積層用接着剤兼絶縁層として用いる
ことができる。
Moreover, the polyimide film can also be laminated directly onto the metal foil under pressure and heat. For double-sided metal foil-covered polyimide flexible printed circuit boards, the polyimide film can be used as an adhesive and an insulating layer for laminating metal foils. Furthermore, for polyimide flexible printed circuit boards lined with metal foil to further improve dimensional stability and improve heat dissipation, the polyimide film core is replaced with copper foil and metal foil to improve dimensional stability. It can be used as a lamination adhesive and an insulating layer.

本発明に用いられる対称型芳香族メタ置換第1級アミン
(以後、m−ジアミンと略す)は次に示す一般式により
表わすことができる。
The symmetrical aromatic meta-substituted primary amine (hereinafter abbreviated as m-diamine) used in the present invention can be represented by the following general formula.

〔上記一般式において、×は0,802,8.Co。[In the above general formula, × is 0,802,8. Co.

CH2、C(CH3)2 、 C(CF3)2から選ば
れ、それぞれの×は同じであっても異なっても良い。〕
上記一般式で表やされるm−ジアミンの例としては8.
3′−ジアミノジフェニルエーテル、8゜8′−ジアミ
ノジフェニルスルフィド、3.f13’−ジアミノジフ
ェニルスルホキシド、8.8’−ジアミノジフェニルス
ルホン、8.8’−ジアミノベンゾフェノン、ビスI”
4−(8−アミノフェノキシ)フェニルコメタン、2.
2−ビスC4−(8−アミノフェノキシ)フェニル〕プ
ロパン、2.2−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)
フェニル〕−1,1,1,8,8,8−へキサフルオロ
プロパン、l、8−ビス(8−アミノフェノキシ)ベン
ゼン14.4’−ビス(3−アミノフェノキシ)ビフェ
ニル、ビス[4−(8−アミノフェノキシ)フェニルコ
ケトン、ビス[:4−(3−アミノフェノキシ)フェニ
ル〕スルフィド、ビスC+−(8−アミノフェノキシ)
フェニル〕スルホキシド。
It is selected from CH2, C(CH3)2, and C(CF3)2, and each x may be the same or different. ]
An example of m-diamine represented by the above general formula is 8.
3'-diaminodiphenyl ether, 8°8'-diaminodiphenyl sulfide, 3. f13'-diaminodiphenylsulfoxide, 8,8'-diaminodiphenylsulfone, 8,8'-diaminobenzophenone, bis I"
4-(8-aminophenoxy)phenylcomethane, 2.
2-bisC4-(8-aminophenoxy)phenyl]propane, 2.2-bis[4-(3-aminophenoxy)
phenyl]-1,1,1,8,8,8-hexafluoropropane, l,8-bis(8-aminophenoxy)benzene 14.4'-bis(3-aminophenoxy)biphenyl, bis[4- (8-aminophenoxy)phenylkoketone, bis[:4-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfide, bisC+-(8-aminophenoxy)
phenyl] sulfoxide.

ビス(+−(a−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホ
ン、ビス(4−(8−アミノフェノキシ)フェニル〕エ
ーテル、4.4’−ビス(8−アミノフェニルスルホニ
ル)ジフェニルエーテル、4゜47−ビス(8−アミン
千オフエノキシ)ジフェニルスルホン、1.4−ビスC
4−(8−アミノフエノキシ)ベンゾイル〕ベンゼン等
が挙ケラレ、これ等は単独あるいは2種以上混合して用
いることができる。
Bis(+-(a-aminophenoxy)phenyl]sulfone, bis(4-(8-aminophenoxy)phenyl)ether, 4.4'-bis(8-aminophenylsulfonyl)diphenyl ether, 4゜47-bis(8 -Amine 100-enoxy) diphenyl sulfone, 1,4-bisC
Examples include 4-(8-aminophenoxy)benzoyl]benzene, which can be used alone or in combination of two or more.

対称型芳香族第一級アミン群は、m−ジアミン100係
あるいは、m−ジアミンと対称型芳香族バラ置換第一級
アミン(以降、p−ジアミ/と略す)との混合体を表わ
している。P−ジアミンは次に示す一般式により表わす
ことができる。
The symmetrical aromatic primary amine group represents m-diamine 100 or a mixture of m-diamine and a symmetrical aromatic rose-substituted primary amine (hereinafter abbreviated as p-diamine). . P-diamine can be represented by the general formula shown below.

HzN−〈;;〉−ゞ−くご閣〉−りζシ>−x  −
、’)o    N[1z   、〔上記一般式におい
て、×は0,802.S。
HzN-〈;;〉-ゞ-kugokaku〉-riζshi〉-x-
,')o N[1z, [In the above general formula, × is 0,802. S.

CO、CH2、C(CH3)2 、 C(CF3)2か
ら選ばれ、それぞれの×は同じであっても異なっても良
い。〕上記一般式で表わされるp−ジアミンの例として
は、杢、4′−ジアミノジフェニルエーテル、44′−
ジアミノジフェニルスルフィド、4.4’−ジアミノジ
フェニルスルホキシド、4.4’−ジアミノジフェニル
スルホン+ 4 s 4’ −ジアミノベンゾフェノ/
、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕メタ
7.2.2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェ
ニル〕プロパン、2.2−ビス(4−(4−アミノフェ
ノキシ)フェニル〕−1,1,1,8,8,8−へキサ
フルオロプロパン、1.3−ビス(4−アミノフェノキ
シ)ベンゼン、4.4’−ビス(4−アミノフェノキシ
)ビフェニル、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フ
ェニルコケトン、ビス(:4−(4−アミノフェノキシ
)フェニル〕スルフィド、ビスC+−(奎−アミノフェ
ノキシ)フェニル〕スルホキシド。
It is selected from CO, CH2, C(CH3)2, and C(CF3)2, and each x may be the same or different. ] Examples of p-diamines represented by the above general formula include heather, 4'-diaminodiphenyl ether, 44'-
Diaminodiphenylsulfide, 4.4'-diaminodiphenylsulfoxide, 4.4'-diaminodiphenylsulfone + 4s 4'-diaminobenzopheno/
, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]meta7.2.2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 2.2-bis(4-(4-aminophenoxy)phenyl) -1,1,1,8,8,8-hexafluoropropane, 1,3-bis(4-aminophenoxy)benzene, 4,4'-bis(4-aminophenoxy)biphenyl, bis[4-( 4-aminophenoxy)phenylkoketone, bis(:4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfide, bisC+-(k-aminophenoxy)phenyl)sulfoxide.

ビス[+−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホ
ン、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕エ
ーテル、4.4’−ビス(4−アミノフェニルスルホニ
ル)ジフェニルエーテル、4゜4′−ビス(4−アミン
チオフェノキシ)ジフェニルスルホンs1.4−ビス(
4−(8−アミノフェノキシ)ベンゾイル〕ベンゼン等
が挙ケラレ、これ等は単独あるいは2種以上混合して用
いることができる。
Bis[+-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfone, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]ether, 4.4'-bis(4-aminophenylsulfonyl)diphenyl ether, 4゜4'-bis( 4-Aminethiophenoxy)diphenylsulfones1.4-bis(
Examples include 4-(8-aminophenoxy)benzoyl]benzene, which can be used alone or in combination of two or more.

ジアミンと反応させる芳香族テトラカルボ/酸無水物と
してはピロメリット酸二無水物%8j8′、4.4’−
ぺ/シフエノンテトラカルボン酸二無水物、2.2’、
 3.3’−べ/シフエノン酸二無水m、l 3’、4
.4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2.2
’、 g、 8′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水
物、2.2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プ
ロパン二無水物、2.2−ビス(2,8−ジカルボキシ
フェニル)プロパン二無水物、ビス(3#4−ジカルボ
キシフェニル)エーテルニ無水物、ビス(8,4−ジカ
ルボキシフェニル)スルホンニ無水物、1.t−ビス(
2,8−ジカルボキシフェニル)エタンニ無水物、ビス
(2,3−ジカルボキシフェニル)メタンニ無水物、ビ
ス(3゜4−ジカルボキシフェニル)メタンニ無水物、
2.8,6.7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物
、]、]4.5.8−ナフタレンテトラカルボン酸二無
水物1.2.5゜6−ナフタレンテトラカルボン酸二無
水物、l。
The aromatic tetracarbo/acid anhydride to be reacted with diamine is pyromellitic dianhydride%8j8',4.4'-
Pe/siphenotetracarboxylic dianhydride, 2.2',
3.3'-be/siphenoic dianhydride m,l 3',4
.. 4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2.2
', g, 8'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, 2,2-bis(2,8-dicarboxyphenyl)propane dianhydride Anhydride, bis(3#4-dicarboxyphenyl)ether dianhydride, bis(8,4-dicarboxyphenyl)sulfone dianhydride, 1. t-bis (
2,8-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, bis(2,3-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, bis(3゜4-dicarboxyphenyl)methane dianhydride,
2.8,6.7-Naphthalenetetracarboxylic dianhydride, ], ]4.5.8-Naphthalenetetracarboxylic dianhydride 1.2.5°6-Naphthalenetetracarboxylic dianhydride, l.

Z、8.4−ベンゼンテトラカルボン酸二無水物、8.
4.9.10−ペリレンテトラカルボン酸二無水物、2
.3.6.7−アントラセンテトラカルボン酸二無水物
、1.2.7.8−7エナントレンテトラカルボン酸二
無水物等が用いられる。
Z, 8.4-benzenetetracarboxylic dianhydride, 8.
4.9.10-perylenetetracarboxylic dianhydride, 2
.. 3.6.7-anthracenetetracarboxylic dianhydride, 1.2.7.8-7 enanthrenetetracarboxylic dianhydride, etc. are used.

これらは単独或いは2種以上混合して用いられる。These may be used alone or in a mixture of two or more.

有機溶剤としては、例えば、N−メチル−2−ピロリド
ン、N、N−ジメチルアセトアミド、N、N−ジメチル
ホルムアミド、1.3−ジメチル−2−イミダゾリジノ
ン、N、N−ジエチルアセトアミド、N、N−ジメチル
メトキシアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ピリジ
ン、ジメチルスルホン、ヘキサメチルホスホルアミド、
テトラメチル尿素、N−メチルカプロラクタム、↑トラ
ヒドロフラン、m−ジオキサン、p−ジオキサン、1、
z−ジメトキシエタノ1ビス(2−メトキシエチル)エ
ーテル、1.2−ビス(2−メトキシエトキシ)エタン
、ビス−(:2−(2−メトキシエトキシ)エチル〕エ
ーテル等がある。
Examples of the organic solvent include N-methyl-2-pyrrolidone, N,N-dimethylacetamide, N,N-dimethylformamide, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, N,N-diethylacetamide, N, N-dimethylmethoxyacetamide, dimethylsulfoxide, pyridine, dimethylsulfone, hexamethylphosphoramide,
Tetramethylurea, N-methylcaprolactam, ↑trahydrofuran, m-dioxane, p-dioxane, 1,
Examples include z-dimethoxyethano1bis(2-methoxyethyl)ether, 1,2-bis(2-methoxyethoxy)ethane, bis-(:2-(2-methoxyethoxy)ethyl)ether, and the like.

本発明に於いては、ポリアミド酸を製造する際、m−ジ
アミンとp−ジアミンを有機溶剤中に於いて、あらかじ
め、m−ジアミンとp−ジアミンとの当量比を100〜
20:θ〜80、好ましくは100〜30:0〜70、
特に好ましくは100〜50:0〜50で混合した後、
芳香族テトラカルボン酸無水物と反応させることが肝要
である。
In the present invention, when producing polyamic acid, m-diamine and p-diamine are placed in an organic solvent, and the equivalent ratio of m-diamine and p-diamine is adjusted in advance to 100 to 100.
20:θ~80, preferably 100~30:0~70,
Particularly preferably after mixing at a ratio of 100 to 50:0 to 50,
It is important to react with aromatic tetracarboxylic acid anhydride.

ジアミンの中でp−ジアミンが当量比で80係以上の場
合には、生成したポリイミドの接着剤としての特性が低
く、フレキシブルプリント回路の回路が容易にポリイミ
ドフィルムから剥れ易く実用に供し得ないという欠点が
生じる。
When the equivalent ratio of p-diamine among diamines is 80 or more, the properties of the produced polyimide as an adhesive are low, and the circuit of the flexible printed circuit easily peels off from the polyimide film, making it impossible to put it to practical use. There is a drawback.

また、ポリアミド酸を製造する際、m−ジアミンとして
、1.8−ビス(8−アミノフェノキシ)ベンゼン、8
.8’−ジアミノベンゾフェノン、4.4′−ビス(8
−アミノフェノキシ)ビフェニルを単独あるいは混合し
て用い、p−ジアミンとして1.8−ビス(4−アミノ
フエキシ)ベンゼン。
In addition, when producing polyamic acid, 1,8-bis(8-aminophenoxy)benzene, 8-bis(8-aminophenoxy)benzene,
.. 8'-diaminobenzophenone, 4,4'-bis(8
-aminophenoxy)biphenyl alone or in combination, and 1,8-bis(4-aminophexy)benzene as p-diamine.

4.4′−ジアミノジフェニルエーテル、4.4’−ビ
ス(4−アミノフェノキシ)ビフェニルヲ単独あるいは
混合して用い、芳香族テトラカルボン酸無水物としては
ピロメリット酸二無水物、8.8′、4.4’−ベンゾ
フェノンテトラカルボン酸二無水物を単独あるいは混合
して用いた場合は特に好ましく、耐熱性、1気特性、接
着性、可撓性等の機械特性及び寸法安定性に優れたフレ
キシブルプリント回路基板を製造することができる。
4.4'-diaminodiphenyl ether, 4.4'-bis(4-aminophenoxy)biphenyl are used alone or in combination, and the aromatic tetracarboxylic acid anhydride is pyromellitic dianhydride, 8.8', It is particularly preferable to use 4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride alone or in combination, and it is a flexible material with excellent mechanical properties such as heat resistance, 1-air properties, adhesiveness, and flexibility, and dimensional stability. Printed circuit boards can be manufactured.

これ等、ポリアミド酸溶液からポリイミドフィルみを生
成させる場合は、先ず、スチール等のシートの上に、一
定厚みにポリアミド酸溶液をコートする。これ等、ポリ
アミド酸溶液をシート上にコートする場合は、ポリアミ
ド酸を5〜40重量パーセント含有する溶液であること
が好ましく、また、対数粘度が0.5〜6 (1/ /
 g  (85’O1濃g O,5g / m1% N
、N−ジメチルアセトアミドで測定した値)、特に0.
7〜4であるものが好ましい。
When producing a polyimide fill from a polyamic acid solution, first, a sheet of steel or the like is coated with the polyamic acid solution to a certain thickness. When coating a sheet with such a polyamic acid solution, it is preferable that the solution contains 5 to 40 weight percent of polyamic acid, and the logarithmic viscosity is 0.5 to 6 (1//
g (85'O1 concentrated g O, 5g/m1% N
, N-dimethylacetamide), especially 0.
7 to 4 is preferred.

ポリアミド酸溶液をシート上にコートする操作は、流延
塗布により行なわれることが好ましく、具体的には、次
のよう表方法が利用される。シート上にポリアミド酸溶
液を製膜用スリットから吐出させて均一な厚さく厚さは
、一般的には、80〜800μと表るように調節される
)のm膜層を形成させる。コーティング手段としては、
ロールコータ−、ナイフコーター、ドフターブレード、
フローコーターなど他の公知の手段を利用することも可
能である。
The operation of coating the sheet with the polyamic acid solution is preferably carried out by casting, and specifically, the following method is used. A polyamic acid solution is discharged onto the sheet from a film-forming slit to form a uniform film layer (the thickness is generally adjusted to be 80 to 800 μm). As a coating method,
Roll coater, knife coater, dofter blade,
It is also possible to use other known means such as a flow coater.

上記のようにして調製されたポリアミド酸塗布層を、次
に加熱して脱溶媒、脱水縮合反応を行なう。この操作は
、常圧、減圧あるいは加圧など任意の条件で行々うこと
ができる。
The polyamic acid coating layer prepared as described above is then heated to perform solvent removal and dehydration condensation reactions. This operation can be carried out under any conditions such as normal pressure, reduced pressure, or increased pressure.

一般的には、所要時間80〜200°0.好ましくは1
00〜150“0に加熱し、溶剤の大部分を除去する。
Generally, the required time is 80~200°0. Preferably 1
Heat to 0-150"0 to remove most of the solvent.

温度が80゛C以下の場合は溶剤の5除去が遅く経済的
でなく、ZOO°0以上では溶剤の除去が速すぎるため
、皮膜形成、泡の発生等でフィルム形状に悪影響を与え
たり、一部脱水、縮合反応が始まるに伴いシートへの接
着も始まり、フィルムがシートから離型しにく\なるた
めに好ましくない。
If the temperature is below 80°C, the removal of the solvent is slow and uneconomical, and if the temperature is above 0°C, the removal of the solvent is too fast, which may adversely affect the film shape due to film formation, bubble generation, etc. As the partial dehydration and condensation reactions begin, adhesion to the sheet also begins, making it difficult for the film to be released from the sheet, which is undesirable.

溶剤の大部分を除去し、ポリアミド酸フィルムを形成し
た後、シートから剥離し、ピンテンターにかけて溶剤の
完全な除去と共に脱水、縮合反応を行なってイミド化し
ポリイミドフィルム内を形成させる。溶剤の完全表除去
と脱4水、縮合反応は、150〜850°0好ましくは
、200〜800°Cに加熱して行なう。150°C以
下では溶剤の除去あるいは縮合反応が十分で力いため、
フレキシブルプリント基板を製造する際の積層工程で、
ポリイミドフィルム内にボイドの発生が起り絶縁性。
After most of the solvent is removed and a polyamic acid film is formed, it is peeled off from the sheet and passed through a pin tenter to completely remove the solvent and undergo dehydration and condensation reactions to imidize and form a polyimide film. Complete surface removal of the solvent, de4hydration, and condensation reaction are carried out by heating to 150 to 850°C, preferably 200 to 800°C. At temperatures below 150°C, the removal of the solvent or the condensation reaction is sufficient and strong;
In the lamination process when manufacturing flexible printed circuit boards,
Voids occur within the polyimide film, resulting in insulating properties.

接着性等が不十分となる。また、350°C以上ではポ
リイミドの劣化や、ポリイミドのガラス転移、点が高く
なり、積層工程での接着温度を高くする必要など積層が
困難になるために好ましく力い。
Adhesion, etc. becomes insufficient. In addition, temperatures above 350°C are not preferred because the polyimide deteriorates, the polyimide undergoes a glass transition, and the point becomes high, making it difficult to lamination due to the need to increase the bonding temperature in the lamination process.

上記のようにして生成したポリイミドフィルム内を使用
して、フレキシブルプリント基板ヲ展造する際に用いる
金属箔導電体としては、一般に、銅箔、アルミニウム箔
、ニッケル箔などの金属箔が用いられる。また、基板の
寸法安定性を向上させるための基板裏打ち用金属箔とし
ては、ステンレス箔、アルミニウム箔、ニッケル箔、銅
箔々どの金属が用いられる。
Metal foils such as copper foil, aluminum foil, and nickel foil are generally used as the metal foil conductor used when a flexible printed circuit board is developed using the inside of the polyimide film produced as described above. Furthermore, metals such as stainless steel foil, aluminum foil, nickel foil, and copper foil are used as the substrate lining metal foil to improve the dimensional stability of the substrate.

ポリイミドフィルム^を使用して金属箔等と積層し、基
板に成形するためには、加熱温度と圧力のコントロール
が肝要である。
Control of heating temperature and pressure is essential in laminating polyimide film with metal foil and forming it into a substrate.

基板として成形するための温度としては、使用するポリ
イミドフィルム囚のガラス転移点以上が必要で、好まし
くは、ガラス転移温度プラス15〜l OO’Oが適当
であり、基板として成形するための圧力としては1〜5
00kII/cII、好ましくは5〜100kJ/dが
適当である。また、加熱、加圧する時間は、1〜200
分、好ましくは、5〜60分である。上記の基板に成形
する工程に於いて、金属箔表面が酸化される温度以上の
温度にさらされる場合には、金属箔表面の酸化が起こり
、金属箔の機械特性、電気特性及び接着性の低下が起り
易くなることがあるため、金属箔表面が酸化される温度
以上で成形する場合は不活性ガス中で行なうことが特に
好ましい。こ\で不活性ガス中とは、金属箔表面が、所
定時間の加熱の際、実質的に電気特性1機械特性あるい
は接着力等に悪影響を与える酸化反応を受けない気体雰
囲気中であることを意味し、加熱温度と時間に依存する
が、多くの場合、酸素濃度が2×10 モル/I!以下
である気体雰囲気を意味し、以下の方法等で実行できる
。耐熱性フィルムからなる袋状物の中に、積層すべき材
料を入れ、先ず、真空ポンプで袋状物の中の空気を抜く
。その後、不活性ガスで加圧。
The temperature for forming the substrate must be higher than the glass transition point of the polyimide film to be used, preferably 15 to 100000000000000000000000000000000000000000000000000000000000000000000000000000000000000000000000000000000000000000000000000 000 form. is 1-5
00kII/cII, preferably 5 to 100kJ/d is suitable. In addition, the heating and pressurizing time is 1 to 200
minutes, preferably 5 to 60 minutes. If the metal foil surface is exposed to a temperature higher than the oxidation temperature during the process of forming the metal foil onto the substrate, oxidation of the metal foil surface will occur, resulting in a decrease in the mechanical properties, electrical properties, and adhesion of the metal foil. When molding is carried out at a temperature higher than that at which the surface of the metal foil is oxidized, it is particularly preferable to carry out the molding in an inert gas. In this case, being in an inert gas atmosphere means that the surface of the metal foil is in a gas atmosphere that does not substantially undergo oxidation reactions that adversely affect electrical properties, mechanical properties, adhesive strength, etc. when heated for a predetermined period of time. Although it depends on the heating temperature and time, in many cases the oxygen concentration is 2 x 10 mol/I! It means a gas atmosphere that is as follows, and can be carried out by the following methods, etc. The materials to be laminated are placed in a bag made of heat-resistant film, and the air inside the bag is first removed using a vacuum pump. Then pressurize with inert gas.

加熱を行なう、いわゆる真空プレス(米国バキュームプ
レス社製など)で成形する。また、ポリイミドフィルム
への片面だけに金属箔を直接積層する場合は、ポリイミ
ドフィルム囚とは接着性のないフィルムと金属箔の間に
ポリイミドフィルム(2)を挿入し加圧、加熱下で積層
することにより行うことができる−。ポリイミドフィル
ム囚と加圧、加熱下で接着性のないフィルムとしては、
テフロン(デュポン社製弗素樹脂)、ユービレツクスS
(宇部興産社製ポリイミド)などがある。
It is molded using a so-called vacuum press (manufactured by Vacuum Press, Inc., USA, etc.) that uses heating. In addition, when directly laminating metal foil on only one side of the polyimide film, insert the polyimide film (2) between the metal foil and the film, which has no adhesive properties, and laminate it under pressure and heat. This can be done by -. Polyimide film is a film that does not adhere under pressure or heat.
Teflon (fluororesin manufactured by DuPont), Ubilex S
(polyimide manufactured by Ube Industries, Ltd.).

以上に述べたような方法で代表される本発明により製造
されるポリイミド金属張シートからまるフレキシブルプ
リント回路基板は、接着剤層を含まないこと、接着剤兼
絶縁層となるポリイミドフィルム囚が実質的に溶剤を含
まず、縮合反応を終えた特性の優れたポリイミドである
ことなどにより、耐熱性、電気特性1機械特性及び寸法
安定性に優れている。
A flexible printed circuit board made of a polyimide metal-clad sheet manufactured by the present invention represented by the method described above does not contain an adhesive layer, and the polyimide film that serves as an adhesive and insulating layer is substantially Because it is a polyimide with excellent properties that does not contain a solvent and has undergone a condensation reaction, it has excellent heat resistance, electrical properties 1 mechanical properties, and dimensional stability.

〔実施例〕〔Example〕

次に実施例および比較例を示して本発明およびその効果
を具体的に説明する。
Next, the present invention and its effects will be specifically explained with reference to Examples and Comparative Examples.

実施例中の対数粘度は85°O10,5g/ 100m
/ 。
The logarithmic viscosity in the examples is 85°O10.5g/100m
/ .

N、N−ジメチルアセトアミドで測定した値であり、回
転粘度はE型粘度計の高粘度用ロータを用いて25°C
で測定した値いであ石。プリント回路基板としての各種
の性能は以下に示す方法により測定した。
The value was measured with N,N-dimethylacetamide, and the rotational viscosity was measured at 25°C using the high viscosity rotor of an E-type viscometer.
The value measured in stone. Various performances as a printed circuit board were measured by the methods shown below.

+1+  箔引き剥し強さ IPC−FC−241Aの方法に準じて行なった。+1+ Foil peeling strength It was carried out according to the method of IPC-FC-241A.

已)表面抵抗 JIS  C−6481に準じて行なった。已)Surface resistance It was conducted according to JIS C-6481.

■ 耐半田性 JIS  C−6481に準じて行々つた試料をa o
 o ’oの半田浴中に60秒浸漬したのち、「フクレ
」、「ポリイミドフィルムの変形」を観察した。
■ Solder resistance Samples were tested in accordance with JIS C-6481.
After 60 seconds of immersion in the o'o solder bath, "blister" and "deformation of the polyimide film" were observed.

(4) 耐折強さ JIS  P−8115に準じ、折曲げ面の曲率半径0
.8fl、静止荷重500gで測定を行なった。両面金
属箔張基板の場合は片面の金属箔を全面エツチングして
除いた後、測定を行なった。
(4) Bending strength According to JIS P-8115, the radius of curvature of the bending surface is 0.
.. The measurement was performed with 8 fl and a static load of 500 g. In the case of a double-sided metal foil-clad substrate, the metal foil on one side was removed by etching the entire surface, and then measurements were performed.

(5)寸法安定性 IPC−FC−241Aの方法に単じて行ない、収縮率
で表わした。
(5) Dimensional stability It was measured by the method of IPC-FC-241A and expressed as shrinkage percentage.

実施例1 攪拌器、還流冷却器及び窒素導入管を備えた容器で46
4′−ビス(3−アミノフェノキシ)ビフェニル73.
7 g (0,2モル)をN、N−ジメチルアセトアミ
ド250 m/ に溶解し、0°0付近まで冷却し、窒
素雰囲気下に於いてピロメリット酸二無水物48.6g
(0,2モル)を加え、0°C付近で2時間攪拌した。
Example 1 In a container equipped with a stirrer, a reflux condenser and a nitrogen inlet tube,
4'-bis(3-aminophenoxy)biphenyl73.
7 g (0.2 mol) was dissolved in 250 m/m of N,N-dimethylacetamide, cooled to around 0°0, and 48.6 g of pyromellitic dianhydride was dissolved in a nitrogen atmosphere.
(0.2 mol) was added and stirred at around 0°C for 2 hours.

次に上記溶液を室温に戻し、窒素雰囲気下で約20時間
攪拌′を行なった。こうして得られたポリアミド酸溶液
の対数粘度は1.9L47gであった。このポリアミド
酸溶液をN、N−ジメチルアセトアミドで12ts迄希
釈し、粘度を80.000CP、8ticy4節した。
Next, the solution was returned to room temperature and stirred for about 20 hours under a nitrogen atmosphere. The logarithmic viscosity of the polyamic acid solution thus obtained was 1.9L and 47g. This polyamic acid solution was diluted to 12ts with N,N-dimethylacetamide, and the viscosity was adjusted to 80.000CP and 8ticy4.

 こo溶液に平Mtなガラス板上にドクターブレードを
用いて均一にコートした。このコートされたガラス板を
185°Cで1時間加熱し、ポリアミド酸のフィルムを
得た。
The solution was uniformly coated onto a flat glass plate using a doctor blade. This coated glass plate was heated at 185°C for 1 hour to obtain a polyamic acid film.

このフィルムをガラス板から剥し、ピンテンターに設置
し、再加熱を打力った。その時の加熱は100 ’Oか
ら280“0迄2時間かけて徐々に行なった。その後2
80°0で1時間保った後、室温迄冷却しポリイミドフ
ィルムを得た。膜厚は15μであり残存溶剤量は0.1
=1以下であった。このポリイミドフィルムを圧延銅箔
(厚さ85μ)とカプトンフィルム(デュポン社製ポリ
イミドフィルム、厚さ25μ)の間に挿入して積層しバ
キュームプレス(米国バキュームプレス社製)を使い窒
素にて800°0.20kj/dで80分間成形を行い
、カプトンベースの片面銅張フレキシブルプリント回路
基板を得た。この基板の特性は表−1の通りであった。
This film was peeled off from the glass plate, placed on a pin tenter, and reheated. Heating at that time was carried out gradually from 100'O to 280'0 over 2 hours.
After being kept at 80°0 for 1 hour, it was cooled to room temperature to obtain a polyimide film. The film thickness is 15μ and the amount of residual solvent is 0.1
=1 or less. This polyimide film was laminated by inserting it between rolled copper foil (85μ thick) and Kapton film (polyimide film manufactured by DuPont, thickness 25μ), and heated to 800° with nitrogen using a vacuum press (manufactured by Vacuum Press, USA). Molding was performed for 80 minutes at 0.20 kj/d to obtain a Kapton-based single-sided copper-clad flexible printed circuit board. The characteristics of this substrate were as shown in Table-1.

実施例2 実施例1と同様にして作成した厚さ25μのポリイミド
フィルム(残存溶剤量は0,1係以下)を圧延鋼箔(厚
さ85μ)とユーピレツクスSフィルム(25μ)との
間に挿入して積層し、バキュームプレスを使い、窒素に
て280°0.20kp/dで40分間成形を行なった
。室温に冷却後、ユービレツクスSフィルムを積層シー
トから剥し、接着層を使用しない片面銅張フレキシブル
プリント回路基板を得た。この基板の特性は表−1の通
りであった。
Example 2 A polyimide film with a thickness of 25μ (residual solvent amount is 0.1 or less) prepared in the same manner as in Example 1 was inserted between rolled steel foil (thickness 85μ) and Upilex S film (25μ). They were laminated and molded using a vacuum press in nitrogen at 280° and 0.20 kp/d for 40 minutes. After cooling to room temperature, the Ubilex S film was peeled off from the laminated sheet to obtain a single-sided copper-clad flexible printed circuit board without using an adhesive layer. The characteristics of this substrate were as shown in Table-1.

実施例8 攪拌器、還流冷却器及び窒素導入管を備えた容器で4.
4′−ビス(8−アミノフェノキシ)ビフェニル51.
6g(0,14モル)と1.8−ビス(8−アミノフェ
ノキシ)ベンゼy 1 ?、 5 g (0,06モル
)とをN、N−ジメチルアセトアミド250m/に溶解
し、0“0付近まで冷却し、窒素雰囲気1  71C:
l?7t?cr711J 9 )!ユ。□8.6g(0
,2モル)を加え、0°0付近で2時間攪拌した。次に
−上記溶液を室温に戻し、窒素雰囲気下で約20時:1
   間攪拌を行なった。こうして得られたポリアミド
(酸溶液の対数粘度は、1.617gであった。この1
.1.アオ、酸溶液をN、N−−))f1アヤ、アミ:
    ドで15係迄希釈シ、粘度’t25.000C
P8&C調節した。この溶液を平滑なガラス板上にドク
ターブレードを用いて均一にコートした。このコートさ
れたガラス板を185°0で1時間加熱し、ポリアミド
酸のフィルムを得た。このフィルムをガラス板から剥し
、ピンテンターに設置し、再加熱を行なった。その時の
加熱#−t100℃から250゛0迄2時間かけ徐々に
行なった。その後2i50°0で1時間保った後、室温
迄冷却しポリアミド酸イ1   ルムを得た。膜厚は2
5μであり、残存溶剤量は検出されなかった。このポリ
イミドを2枚の電解銅箔(厚さ18μ)の間に挿入して
積層し、熱圧プレスにて250°0.40m/dで20
分間成形を行い、ポリアミドが接着層兼絶縁層である両
面銅張フレキシブルプリント回路基板を得た。この基板
の特性は表−1の通シであった。
Example 8 4. In a vessel equipped with a stirrer, a reflux condenser and a nitrogen inlet tube.
4'-bis(8-aminophenoxy)biphenyl51.
6 g (0.14 mol) and 1,8-bis(8-aminophenoxy)benzey 1 ? , 5 g (0.06 mol) was dissolved in 250 m/N,N-dimethylacetamide, cooled to around 0"0, and placed in a nitrogen atmosphere at 171C:
l? 7t? cr711J 9)! Yu. □8.6g (0
, 2 mol) and stirred at around 0°0 for 2 hours. Then - bring the solution back to room temperature and under a nitrogen atmosphere about 20:1
Intermittent stirring was performed. The polyamide thus obtained (the logarithmic viscosity of the acid solution was 1.617 g.
.. 1. Ao, acid solution N, N--)) f1 Aya, Ami:
Dilute up to 15 degrees with a viscosity of 25.000C.
Adjusted P8&C. This solution was uniformly coated onto a smooth glass plate using a doctor blade. This coated glass plate was heated at 185°0 for 1 hour to obtain a polyamic acid film. This film was peeled off from the glass plate, placed in a pin tenter, and reheated. Heating #-t at that time was gradually carried out from 100°C to 250°C over 2 hours. Thereafter, the mixture was kept at 2i50°0 for 1 hour, and then cooled to room temperature to obtain a polyamic acid lume. Film thickness is 2
5μ, and no residual solvent amount was detected. This polyimide was inserted between two sheets of electrolytic copper foil (thickness 18μ) and laminated.
Molding was performed for minutes to obtain a double-sided copper-clad flexible printed circuit board in which polyamide serves as both an adhesive layer and an insulating layer. The characteristics of this substrate were as shown in Table 1.

実施例4 攪拌器、還流冷却器及び窒素導入管を備えた容器で1.
8−ビス(8−アミノフェノキシ)ベンゼン14.6g
(0,05モル)と4.4′−ジアミノジフェニルエー
テル10.0g(0,05モル)とをN、N−ジメチル
アセトアミド200 mlに溶解し、窒素雰囲気下に於
いて室温に於いて3.3’。
Example 4 In a container equipped with a stirrer, a reflux condenser, and a nitrogen inlet tube, 1.
8-bis(8-aminophenoxy)benzene 14.6g
(0.05 mol) and 10.0 g (0.05 mol) of 4,4'-diaminodiphenyl ether were dissolved in 200 ml of N,N-dimethylacetamide, and 3.3 '.

4.4′−ベンゾフェノンテトラカルボ/酸二無水物8
i2.2g(0,1モル)を加え、窒素雰囲気下で約2
2時間攪拌を行々つた。こうして得られたポリアミド酸
溶液を実施例8と同様な方法(最終乾燥温度250°0
)でポリイミドフィルムを作製した。このポリイミドフ
ィルムの厚さは25μであり、残存溶剤は0.2%であ
った。このフィルムを電解銅箔(85μ)とユーピレツ
クスSフイルム(25μ)との間に挿入して積層し、バ
キュームプレスを使い、窒素にて280°0.20に#
/a11で30分間成形を行なつ九。室温に冷却後°ユ
ービレツクスSフィルムを積層シートから剥し、接着層
を使用しない片面鋼張フレキシブルプリント回路基板を
得た。この基板の特性は表−1の通りであった。
4.4'-benzophenone tetracarbo/acid dianhydride 8
Add 2.2 g (0.1 mol) of i, and add about 2.2 g (0.1 mol) of i
Stirring was continued for 2 hours. The polyamic acid solution thus obtained was dried in the same manner as in Example 8 (final drying temperature 250°0
) to prepare a polyimide film. The thickness of this polyimide film was 25μ, and the residual solvent was 0.2%. This film was inserted between an electrolytic copper foil (85μ) and an Upilex S film (25μ) to laminate it, and using a vacuum press, it was heated to 280° and 0.20° with nitrogen.
9. Perform molding for 30 minutes at /a11. After cooling to room temperature, the Ubilex S film was peeled off from the laminated sheet to obtain a single-sided steel-clad flexible printed circuit board without using an adhesive layer. The characteristics of this substrate were as shown in Table-1.

実施例5 攪拌器、還流冷却器及び窒素導入管を備えた容器で1.
3ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン29.2g(
0,1モル)をN、N−ジメチルアセトアミド200 
mlに溶解し、窒素雰囲気下に於いて室温で8 、8’
、 4.4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水
物82.2g(0,1モル)を加え、窒素雰囲気下で約
20時間攪拌を行なった。
Example 5 1. In a container equipped with a stirrer, a reflux condenser and a nitrogen inlet tube.
29.2 g of 3-bis(3-aminophenoxy)benzene (
0.1 mol) to N,N-dimethylacetamide 200
8,8' at room temperature under nitrogen atmosphere.
, 82.2 g (0.1 mol) of 4.4'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride was added, and the mixture was stirred for about 20 hours under a nitrogen atmosphere.

こうして得られたポリアミド酸溶液の対数粘度は1、7
2 az/gであった。このポリアミド酸溶液をN、N
−ジメチルアセトアミドで14俤迄希釈し、粘度を31
.000CP8に調節した。この溶液を平滑なガラス板
上にドクターブレードを用いて均一にコートした。この
コートしたガラス板を185°Cで1時間加熱し、ポリ
アミド酸のフィルムを得た。このフィルムをガラス板か
ら剥し、ピンテンターに設置し再加熱を行なった。その
時の加熱は100 ’Oから240゛○迄90分かけ徐
々に行々つた。その後2200で1時間保った後、室温
迄冷却しポリイミドフィルムを得た。膜厚は25μであ
り、残存溶剤量は検出されなかった。このポリイミドフ
ィルムを電解鋼箔(85μ)とアルミニウム箔(50μ
)の間に挿入して積層し、熱圧プレスにて280°○、
40に#、/!80分間成形を行い、アルミニウム箔を
寸法安定性を改良するための裏打材とした、片面銅張フ
レキシブルプリント回路基板を得た。この基板の特性は
表−1の通りであつ之。
The logarithmic viscosity of the polyamic acid solution obtained in this way is 1.7
It was 2 az/g. This polyamic acid solution was
- diluted with dimethylacetamide to 14 ml and reduced viscosity to 31 ml.
.. Adjusted to 000CP8. This solution was uniformly coated onto a smooth glass plate using a doctor blade. This coated glass plate was heated at 185°C for 1 hour to obtain a polyamic acid film. This film was peeled off from the glass plate, placed in a pin tenter, and reheated. At that time, heating was gradually carried out from 100'O to 240'O over 90 minutes. Thereafter, the temperature was kept at 2200 for 1 hour, and then cooled to room temperature to obtain a polyimide film. The film thickness was 25μ, and no residual solvent amount was detected. This polyimide film was coated with electrolytic steel foil (85μ) and aluminum foil (50μ).
), laminated and pressed at 280°○ with a hot press.
40 #, /! Molding was carried out for 80 minutes to obtain a single-sided copper-clad flexible printed circuit board with aluminum foil as a backing material to improve dimensional stability. The characteristics of this board are as shown in Table-1.

比較例1 攪拌器、還流冷却器及び窒素導入管を備えた容器で4.
47−ジアミツジフエニルエーテル20.0g(0,1
モル)をN、N−ジメチルアセトアミド200 mlに
溶解し、窒素雰囲気下に於いて、5○でピロメリット酸
二無水物21.8g(0,1モル)を加え約2時間攪拌
した後、室温に戻し更に約20時間攪拌を行なった。こ
うして得られたポリアミド酸溶液の対数粘度は1.64
//gであった。このポリアミド酸溶液をN、N−ジメ
チルアセトアミドで15係迄希釈し、粘度を28,0O
OCP8に調節した。この溶液を228gとり、実施例
−5で得た希釈溶液88gと窒素雰囲気下で良く混合し
、m−ジアミン:p−ジアミン=0.2:0.8(当量
比)のポリアミド酸溶液を得た。この溶液を実施例1と
同様の方法(最終乾燥温度280 O)でポリイミドフ
ィルムを作製した。このポリイミドフィルムの膜厚は2
5μであり、残存溶剤量は0.1係であった。このフィ
ルムを使い実施例2と同一方法で片面鋼張フレキシブル
プリント回路基板を得た。この基板の特性は表−1の通
りであった。
Comparative Example 1 4. In a container equipped with a stirrer, a reflux condenser, and a nitrogen introduction tube.
47-diamitsiphenyl ether 20.0g (0,1
mol) in 200 ml of N,N-dimethylacetamide, 21.8 g (0.1 mol) of pyromellitic dianhydride was added at 5°C under nitrogen atmosphere, and the mixture was stirred for about 2 hours, then cooled to room temperature. The mixture was returned to the original temperature and further stirred for about 20 hours. The logarithmic viscosity of the polyamic acid solution thus obtained was 1.64.
//g. This polyamic acid solution was diluted to 15% with N,N-dimethylacetamide, and the viscosity was adjusted to 28.0O
Adjusted to OCP8. 228 g of this solution was taken and mixed well with 88 g of the diluted solution obtained in Example 5 under a nitrogen atmosphere to obtain a polyamic acid solution with m-diamine: p-diamine = 0.2:0.8 (equivalent ratio). Ta. A polyimide film was prepared using this solution in the same manner as in Example 1 (final drying temperature 280 O). The thickness of this polyimide film is 2
5 μm, and the amount of residual solvent was 0.1 μm. Using this film, a single-sided steel-clad flexible printed circuit board was obtained in the same manner as in Example 2. The characteristics of this substrate were as shown in Table-1.

比較例−2 実施例2に於いて、バキュームプレスの代りに通常の熱
圧プレスヲ用い、280“0,40ゆ/dで40分間成
形を行々つた。室温に冷却後、ユービレツクスSフィル
ムを積層シートから剥し、接着層を使用しない片面鋼張
フレキシブルプリント回路基板を得た。この基板の特性
は表−1の通りであった。
Comparative Example 2 In Example 2, a normal hot press was used instead of the vacuum press, and molding was carried out at 280" 0.40 yu/d for 40 minutes. After cooling to room temperature, Ubilex S film was laminated. The sheet was peeled off to obtain a single-sided steel-clad flexible printed circuit board without an adhesive layer.The characteristics of this board were as shown in Table 1.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明によれば、上記実施例の説明のように、接着能力
を有する絶縁性に優れたポリイミドフィルムを用いるこ
とにより、ポリイミドフィルムを直接、金属箔に積層す
ることが可能になり、耐熱性、電気特性および接着性、
可撓性等の機械特性並びに寸法安定性の全てに良好な片
面及び両面金属箔張りポリイミドフレキシブルプリント
回路基板の製造が可能になった。
According to the present invention, as described in the above embodiment, by using a polyimide film with excellent insulating properties and adhesive ability, it is possible to directly laminate the polyimide film on the metal foil, and the heat resistance and electrical properties and adhesion;
It has become possible to manufacture polyimide flexible printed circuit boards with metal foil cladding on one and both sides that have good mechanical properties such as flexibility and dimensional stability.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、対称型芳香族メタ置換第一級アミンを当量での割合
で100〜20%含む対称型芳香族第一級アミン群と芳
香族テトラカルボン酸無水物とを反応させ、生成したポ
リイミドフイルムを金属箔と熱硬化性ポリイミドフイル
ムとを積層するための接着剤として用いることを特徴と
するフレキシブルプリント回路基板の製造法。 2、生成したポリイミドフイルムとは接着性のないフィ
ルムと金属箔との間に、生成したポリイミドフィルムを
挿入して積層し、加圧、加熱下に、生成したポリイミド
フィルムを金属箔に直接積層する特許請求の範囲第1項
に記載の方法。 3、生成したポリイミドフィルムを金属箔と金属箔との
積層用接着剤兼絶縁層として用いる特許請求の範囲第1
項に記載の方法。 4、生成したポリイミドフィルムを銅箔と金属箔との積
層用接着兼絶縁層として用いる特許請求の範囲第1項に
記載の方法。 5、積層工程を不活性ガス中で加熱、加圧して行なう特
許請求の範囲第1項〜第4項のいずれかに記載の方法。
[Claims] 1. A symmetrical aromatic primary amine group containing 100 to 20% of a symmetrical aromatic meta-substituted primary amine in an equivalent proportion is reacted with an aromatic tetracarboxylic acid anhydride. A method for manufacturing a flexible printed circuit board, characterized in that the produced polyimide film is used as an adhesive for laminating a metal foil and a thermosetting polyimide film. 2. The produced polyimide film is laminated by inserting the produced polyimide film between a non-adhesive film and metal foil, and the produced polyimide film is directly laminated on the metal foil under pressure and heat. A method according to claim 1. 3. Claim 1 in which the produced polyimide film is used as a laminating adhesive and insulating layer between metal foils
The method described in section. 4. The method according to claim 1, in which the produced polyimide film is used as an adhesive and insulating layer for laminating copper foil and metal foil. 5. The method according to any one of claims 1 to 4, wherein the lamination step is carried out by heating and pressurizing in an inert gas.
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