JPH0719730A - 真空乾燥装置 - Google Patents

真空乾燥装置

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JPH0719730A
JPH0719730A JP16137793A JP16137793A JPH0719730A JP H0719730 A JPH0719730 A JP H0719730A JP 16137793 A JP16137793 A JP 16137793A JP 16137793 A JP16137793 A JP 16137793A JP H0719730 A JPH0719730 A JP H0719730A
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JP
Japan
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vacuum
gas
vacuum tank
tank
condenser
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Application number
JP16137793A
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English (en)
Inventor
Toshiro Iida
俊郎 飯田
Shotaro Isozaki
昭太郎 磯崎
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Ulvac Inc
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Ulvac Inc
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 炭化水素系溶剤、水系溶剤或いはアルコール
系溶剤を用いて洗浄される品物の真空乾燥装置において
乾燥時間を短縮させしかも安定して安全に動作できるよ
うにする。 【構成】 真空槽内にガスを噴入して真空槽内ガスを吸
引し、乾燥すべき処理物を通って循環させるガス噴射装
置が設けられ、乾燥すべき処理物から蒸発した溶剤を凝
縮回収する凝縮器に、装置の乾燥操作終了時に凝縮器1
4内を大気圧に開放し、空気を流入して回収洗浄剤及び
内壁に付着した洗浄剤を排出させる弁装置が組み込まれ
る。また安全対策として真空計16の作動は一定圧力以
下にしてから作動するように制御装置25が設けられ
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、機械部品、電気部品、
電子部品、光学部品等の洗浄した品物の乾燥に用いられ
得る真空乾燥装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、このような部品の洗浄にはフロン
や1−1−1トリクロロエタン等の有機溶剤が広く使用
されてきたが、オゾン層を破壊するために全廃されるこ
とになり、代替溶剤として炭化水素系溶剤、水系溶剤或
いはアルコール系溶剤等が使用されるようになってきて
いる。しかしこれらの代替溶剤は、安全性を高めるため
に沸点が高く揮発しにくく乾燥しにくい。そのためこの
ような溶剤を使用して洗浄した部品においてはその表面
に染みや錆等が発生し易くなる。そこで作業性及び品質
向上のために真空乾燥装置が使用される。ところで、通
常被洗浄部品は40℃〜80℃の温度で洗浄され、洗浄され
た部品は高温のまま乾燥槽に仕込まれ、真空排気するこ
とにより部品に付着した溶剤を蒸発、乾燥させている。
一回の真空排気で乾燥できない場合や比較的低温で乾燥
槽内に仕込まれる場合には、真空中で加熱しようとする
と輻射加熱が直接伝導加熱によらざるを得ないので、非
常に昇温に時間が掛かり、作業性が悪い。そのため真空
乾燥では従来から乾燥槽を大気圧に戻し、対流伝熱によ
り加熱して物品を昇温させ、真空排気する方法を繰り返
すことによって乾燥時間の短縮が計られてきた。例えば
添付図面の図4に示すように、真空槽A内に設けた被処
理物Bの受台Cと真空槽Aの内側壁との間に開口部D、
Eを設け、受台Cの下側に位置したノズルFからN2 ガ
スまたは圧搾空気を噴射し、手前の開口部Dから槽内ガ
スを吸引し、後ろ側の開口部Eを通って真空槽Aの内側
壁と被処理物Bとの間の隙間に循環させる方法が知られ
ている。また、従来の真空乾燥装置では乾燥槽と真空ポ
ンプとの間に凝縮器を設けて、品物から蒸発した洗浄剤
が真空ポンプへ吸引される前に回収して操作圧力の劣化
を防止するようにしている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】このように、従来の真
空乾燥装置においては、乾燥時間を短くするため、乾燥
槽内を大気圧に戻して、対流伝熱により加熱し、そして
真空排気する方法が採られてきたが、乾燥槽内を大気圧
に戻して、対流伝熱により加熱するだけでは伝熱効率が
必ずしも十分ではなく、加熱効率は悪いという問題点が
ある。また、従来の真空乾燥装置では、乾燥操作が繰り
返されるうちに凝縮器に凝縮回収された洗浄剤が再蒸発
したり或いは凝縮器の温度に飽和する蒸気圧分が真空ポ
ンプに吸引されて次第に圧力劣化を来すことになるとい
う問題点がある。さらに、このような品物の洗浄に用い
られる溶剤は危険物が多いため、真空乾燥装置に使用さ
れているピラニ真空計による熱で発火したり、破損した
りする危険があるという問題点がある。
【0004】そこで、本発明は、上記の問題点を解決し
て効率よくしかも安全に品物を乾燥できる真空乾燥装置
を提供することを目的としている。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明の第1の発明による真空乾燥装置は、乾燥
すべき処理物を収容する真空槽と、この真空槽の中央部
付近より乾燥すべき処理物内部を通って真空槽内へガス
が流れるようにしたガス噴射装置と、真空槽を排気する
排気ポンプと、真空槽と排気ポンプとの間に設けられ、
真空槽内の処理物から蒸発した洗浄剤を回収する凝縮器
と、真空槽内を加熱する加熱装置とで構成される。ま
た、本発明の第2の発明による真空乾燥装置は、乾燥す
べき処理物を収容する真空槽と、この真空槽内にガスを
噴入して乾燥すべき処理物を通って循環させるガス噴射
装置と、真空槽を排気する排気ポンプと、真空槽と排気
ポンプとの間に設けられ、真空槽内の処理物から蒸発し
た洗浄剤を回収し、装置の乾燥操作終了時に凝縮器内を
大気圧に開放し、空気またはN2 ガスを流入して回収洗
浄剤及び内壁に付着した洗浄剤を排出させる弁装置を備
えた凝縮器と、真空槽内を加熱する加熱装置とで構成さ
れる。第1及び第2の発明において、ガス噴射装置は好
ましくは高温ガスを真空槽内に噴入するようにされ得
る。さらに、本発明の第3の発明による真空乾燥装置
は、乾燥すべき処理物を収容する真空槽とこの真空槽内
にガスを噴入して真空槽内ガスを吸引し、乾燥すべき処
理物を通って循環させるガス噴射装置と、真空槽を排気
する排気ポンプと、真空槽と排気ポンプとの間に設けら
れ、真空槽内の処理物から蒸発した洗浄剤を回収する凝
縮器と、真空槽内を加熱する加熱装置と、排気ポンプの
作動後真空槽に設けた真空計を作動させる制御装置とを
有することを特徴としている。制御装置は、排気ポンプ
の作動後の排気時間を設定するタイマを備えることがで
きる。代わりに、制御装置は、真空槽内の圧力が予定の
レベルまで減圧した時に真空計を作動させるようにされ
得る。
【0006】
【作用】このように構成された本発明の真空乾燥装置に
おいては、ガス噴射装置により真空槽内にガスを噴入し
て真空槽の中央部付近より、乾燥すべき処理物内部を通
って循環させているので、乾燥すべき処理物における熱
交換が促進され、熱交換効率を大幅に向上させることが
できるようになる。例えば処理物を所定の温度へ昇温さ
せるのに要する時間は従来の方式に比べて約半分以下に
短縮できる。この場合、ガス噴射装置により高温ガスを
噴入した場合には昇温時間はさらに短縮することが可能
となる。また、凝縮器に、装置の乾燥操作終了時に凝縮
器内を大気圧に開放し、空気またはN2 ガスを流入して
回収洗浄剤及び内壁に付着した洗浄剤を排出させる弁装
置を組み込むことにより、凝縮回収した洗浄剤を凝縮器
内に保有したまま乾燥操作が繰返し行われることがなく
なり、真空ポンプの機能を常に安定した状態に保つこと
ができるようになる。さらに、制御装置を設けて排気ポ
ンプの作動後真空槽における真空計を作動させるように
しているので、真空計はある程度減圧(例えば、2.6664
4 ×102 Pa以下の)状態になってから作動することにな
り、危険な溶剤でも発火や爆発等の危険なしに動作させ
ることができるようになる。
【0007】
【実施例】以下図面を参照して本発明の実施例について
説明する。図1には本発明の一実施例による真空乾燥装
置を示し、1は真空槽で、内部に乾燥すべき処理物を入
れたバスケット2が受け部材3に載置されている。この
受け部材3は図2に示すように中央に開口部3aを備え、
手前には開口部3bを備えている。また4は真空槽1の蓋
で、この蓋4及び真空槽1の外側には図示したようにヒ
ータ5が組み込まれている。真空槽1内のバスケット2
の下方位置にはガス噴射ノズル6が設けられ、このガス
噴射ノズル6は入口弁7及び流量調節弁8を介して窒素
ガスまたは圧搾空気の供給源(図示してない)に連結さ
れ、ガス噴射装置を構成している。この供給源は好まし
くは加熱した高温の窒素ガスまたは圧搾空気を供給し得
る。また9は窒素ガス出口弁である。10は真空槽1に連
接された排気系で、ピラニ真空計11、主弁12、真空計1
3、凝縮器14、元弁15、真空計16、真空ポンプ17及びリ
ーク弁18を備えている。これらの要素は図示したように
接続されている。凝縮器14は主弁12の下流に設けたリー
ク弁18によって大気に開放でき、凝縮器14からの凝縮液
はドレン弁19を介してドレーンタンク20に回収される。
また21は真空ポンプ17の上流に設けられた真空破壊電磁
弁である。さらにまた、ヒータ、真空ポンプ、各弁及び
各真空計並びに真空槽1の適当な位置に設けられた大気
圧確認器22、品温指示計23及び加熱温度指示調節計24の
それぞれの動作を制御する制御装置をブロック25で示
し、この制御装置25は図示実施例では真空ポンプ17によ
る排気操作時間設定用タイマと、ガス噴流による熱交換
時間設定用タイマとを備えている。また制御装置25に
は、真空槽1内で処理物から蒸発した洗浄剤が発火や爆
発し易い危険物である場合には安全のためある程度減圧
した状態になってからピラニ真空計11を作動させるイン
ターロック回路が設けられている。具体的には例えば真
空ポンプ17の作動後の排気時間を排気操作時間設定用タ
イマで設定する。例えば容積40リットルの真空乾燥装置
では真空ポンプ作動後30秒〜1分程度に設定され得る。
代わりに、ブルドン式真空計を併設した場合には、ブル
ドン管の接点からの信号を用いてピラニ真空計11の動作
を制御するようにすることもできる。
【0008】このように構成した図示装置の動作につい
て図3に示す動作のフローチャートを参照して説明す
る。装置の準備操作においては、まず電源を投入して真
空ポンプ17を作動し、凝縮器14の冷却水元弁を開いて冷
却水を循環させる。一方、真空槽1における各ヒータ5
を付勢し、槽温度を設定する。しかる後、洗浄剤を用い
て洗浄した処理物の入ったバスケット2を真空槽1内に
入れ、蓋4を閉じる。制御装置25のタイマ及びカウンタ
を設定し、これによりの準備は完了する。このようにし
て準備された装置の自動操作は次のようにして行われ
る。まず、リーク弁18及びドレン弁19が閉成され、元弁
15及び主弁12が開放され、排気が開始される。真空槽1
内が設定圧、例えば66.661Paになり、排気操作時間設定
用タイマで設定された時間経過した後、主弁12が閉じら
れ、排気が終了される。この状態で、ガス噴射装置にお
ける入口弁7及び出口弁9が開放され、真空槽1内に窒
素ガスまたは圧搾空気がガス噴射ノズル6から噴入さ
れ、噴入したガスは受け部材3の手前の開口部3bから槽
内ガスを吸引し、そして受け部材3の中央開口部3aから
処理物の入ったバスケット2の内部を通過し、熱交換を
行ないながら、開放した出口弁9を介して外部へ放出さ
れる。この熱交換により各処理物に付着している洗浄剤
が蒸発するに必要な熱量が供給される。こうして制御装
置25におけるガス噴流による熱交換時間設定用タイマで
予め設定された時間が経過すると、入口弁7及び出口弁
9は閉成される。そして再び排気が開始され、蒸発した
洗浄剤は凝縮器14で回収される。このようにして排気操
作と熱交換操作とが必要回数繰り返され、処理物が所定
の乾燥状態に達すると、元弁15は閉じられ、そして凝縮
器14に対するリーク弁18が開放され、凝縮器14を大気圧
にリークすると同時に、ドレン弁19も開放され、凝縮器
14内に回収されている洗浄剤と共に壁面に付着した洗浄
剤は、リーク弁18を介して導入された空気流により吹き
落とされ、開いたドレン弁19を通ってドレンタンク20へ
強制的に排出される。このようにして一連の自動操作は
終了し、作業者にブザーで知らせるようにしている。
【0009】図示装置と図4に示すような従来装置とに
よる比較実験例では、処理物を10℃から40℃へ昇温する
のに従来装置では12分要したが、図示装置では5分とな
り、熱交換効率が大幅に向上することが認められた。ま
た図示装置では溶剤としてナフテン系(ナフテゾール
M)を使用した場合に乾燥操作毎に凝縮器を大気圧にリ
ークさせることにより、操作圧力を66.661〜106.657Pa
に保つことができた。これに対して従来装置の場合のよ
うに凝縮器を大気圧にリークさせないと、同じ使用溶剤
で1日の操作(1回20分で15回)を行なったところ、6
6.661Paの操作圧力が、133.322Pa 〜199.983Pa と劣化
した。
【0010】
【発明の効果】以上説明してきたように本発明による真
空乾燥装置においては、真空槽内にガスを噴入して真空
槽内ガスを吸引し、乾燥すべき処理物を通って循環させ
るガス噴射装置を設けているので、乾燥すべき処理物に
おける熱交換が促進され、処理物に付着している溶剤を
短時間で蒸発させることができるようになる。また、装
置の乾燥操作終了時に凝縮器内を大気圧に開放し、空気
を流入して回収洗浄剤及び内壁に付着した洗浄剤を排出
させる弁装置を凝縮器に組み込んでいるので、乾燥操作
の繰返し実施により凝縮回収した洗浄剤が再蒸発して真
空ポンプへ吸引されるのが防止でき、操作圧力を安定し
た状態に維持することができるようになる。さらに、制
御装置を設けて排気ポンプの作動後真空槽の圧力が低下
してから真空計を作動させるようにしているので、本真
空乾燥装置は危険な溶剤でも発火や爆発等の危険なしに
動作させることができるようになる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の一実施例による真空乾燥装置の構成
を示す概略線図。
【図2】 図1の装置の真空槽内のガス噴射装置の構造
を示す概略底断面図。
【図3】 図1の装置における動作を説明するフローチ
ャート。
【図4】 aは従来装置の一例の要部を示す概略縦断面
図。bはaに示す装置の概略底断面図。
【符号の説明】
1:真空槽 2:乾燥すべき処理物のバスケット 3:受け部材 3a:中央開口部 4:蓋 5:ヒータ 6:ガス噴射ノズル 7:入口弁 8:流量調節弁 9:出口弁 10:排気系 11:ピラニ真空計 12:主弁 13:真空計 14:凝縮器 15:元弁 16:真空計 17:真空ポンプ 18:リーク弁 19:ドレン弁 20:ドレンタンク 21:真空破壊電磁弁 25:制御装置

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 乾燥すべき処理物を収容する真空槽と、
    この真空槽の中央部付近より乾燥すべき処理物内部を通
    って真空槽内へガスが流れるようにしたガス噴射装置
    と、真空槽を排気する排気ポンプと、真空槽と排気ポン
    プとの間に設けられ、真空槽内の処理物から蒸発した洗
    浄剤を回収する凝縮器と、真空槽内を加熱する加熱装置
    とを有することを特徴とする真空乾燥装置。
  2. 【請求項2】 ガス噴射装置が高温ガスを真空槽内に噴
    入するようにした請求項1に記載の真空乾燥装置。
  3. 【請求項3】 乾燥すべき処理物を収容する真空槽と、
    この真空槽内にガスを噴入させるガス噴射装置と、真空
    槽を排気する排気ポンプと、真空槽と排気ポンプの間に
    設けられ、真空槽内の処理物から蒸発した洗浄剤を回収
    し、装置の乾燥操作終了時に凝縮器内を大気圧に開放
    し、空気またはN2 ガスを流入して回収洗浄剤及び内壁
    に付着した洗浄剤を排出させる弁装置を備えた凝縮器
    と、真空槽内を加熱する加熱装置とを有することを特徴
    とする真空乾燥装置。
  4. 【請求項4】 ガス噴射装置が高温ガスを真空槽内に噴
    入するようにした請求項3に記載の真空乾燥装置。
  5. 【請求項5】 乾燥すべき処理物を収容する真空槽と、
    この真空槽内にガスを噴入して、乾燥すべき処理物を通
    って循環させるガス噴射装置と、真空槽を排気する排気
    ポンプと、真空槽と排気ポンプの間に設けられ、真空槽
    内の処理物から蒸発した洗浄剤を回収する凝縮器と、真
    空槽内を加熱する加熱装置と、排気ポンプの作動後真空
    槽に設けた真空計を作動させる制御装置とを有すること
    を特徴とする真空乾燥装置。
  6. 【請求項6】 制御装置が、排気ポンプの作動後の排気
    時間を設定するタイマを備えている請求項5に記載の真
    空乾燥装置。
  7. 【請求項7】 制御装置が、真空槽内の圧力が予定のレ
    ベルまで減圧した時に真空計を作動させるようにした請
    求項5に記載の真空乾燥装置。
JP16137793A 1993-06-30 1993-06-30 真空乾燥装置 Pending JPH0719730A (ja)

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JP16137793A Pending JPH0719730A (ja) 1993-06-30 1993-06-30 真空乾燥装置

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JP (1) JPH0719730A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015010790A (ja) * 2013-07-01 2015-01-19 株式会社サムソン 真空冷却装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015010790A (ja) * 2013-07-01 2015-01-19 株式会社サムソン 真空冷却装置

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