JPH0719556B2 - 走査電子顕微鏡 - Google Patents
走査電子顕微鏡Info
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- JPH0719556B2 JPH0719556B2 JP58017490A JP1749083A JPH0719556B2 JP H0719556 B2 JPH0719556 B2 JP H0719556B2 JP 58017490 A JP58017490 A JP 58017490A JP 1749083 A JP1749083 A JP 1749083A JP H0719556 B2 JPH0719556 B2 JP H0719556B2
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- Japan
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- sample
- reaction gas
- sample chamber
- electron microscope
- scanning electron
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Links
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/28—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams
-
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/305—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating, or etching
- H01J37/3053—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating, or etching for evaporating or etching
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 この発明は、走査電子顕微鏡に係り、特に、試料に試料
室内でプラズマエツチングを行なうことが可能な走査電
子顕微鏡に関する。
室内でプラズマエツチングを行なうことが可能な走査電
子顕微鏡に関する。
近年、生体試料等を走査電子顕微鏡で観察することがよ
く行なわれる。これは、走査電子顕微鏡での観察は試料
表面の観察であり、試料はバルクのままでよく、光学顕
微鏡の観察像との対応をつけやすいためでもある。また
像の集点深度も深いため立体的な試料を観察するのに適
している。
く行なわれる。これは、走査電子顕微鏡での観察は試料
表面の観察であり、試料はバルクのままでよく、光学顕
微鏡の観察像との対応をつけやすいためでもある。また
像の集点深度も深いため立体的な試料を観察するのに適
している。
ここで生体の試料を作成して、その内部の観察を行なう
場合には、試料の観察したい部分を露出する必要があ
る。そのため試料を剃刃等で切断する方法もあるがその
切断面を顕微鏡で観察すると、刃物によつて試料につぶ
れが発生していたり、引つかき傷ができていたりして適
当ではない。
場合には、試料の観察したい部分を露出する必要があ
る。そのため試料を剃刃等で切断する方法もあるがその
切断面を顕微鏡で観察すると、刃物によつて試料につぶ
れが発生していたり、引つかき傷ができていたりして適
当ではない。
そこでプラズマエツチング法で試料表面のエツチングを
行ない、試料内部を表面に出し、この表面の観察を行な
つている。この方法は、プラズマ化した反応ガスを、試
料の表面に衝突させ、試料表面の原子、分子をはじき飛
ばすことによつて、試料の表面を徐々に削り取つて内部
を暴露していくものである。
行ない、試料内部を表面に出し、この表面の観察を行な
つている。この方法は、プラズマ化した反応ガスを、試
料の表面に衝突させ、試料表面の原子、分子をはじき飛
ばすことによつて、試料の表面を徐々に削り取つて内部
を暴露していくものである。
しかし、このプラズマエツチング装置は、一般には走査
電子顕微鏡とは、別体の装置であるから、試料を希望す
る程度までエツチングするためには、試料を少しづつエ
ツチングしては、そのエツチングの程度を走査電子顕微
鏡で観察し、エツチングが適度になされるまでエツチン
グと観察をくり返していた。この方法では、エツチング
の度に走査電子顕微鏡の試料台に試料を設置しなおすた
めその設置に誤差があり、同一視野の観察を行なうこと
は非常に困難であつた。また、このような方法にあつて
は、エツチングをしてから実際に試料観察を行なうまで
に時間がかかるため、その間に試料表面が変化してしま
つたり、移動の際のシヨツク等で表面の微細構造が破壊
されてしまい、試料の正確な状態の観察は困難であると
いう不具合があつた。また、電子顕微鏡の試料室内で試
料をエッチングしようとすると、プラズマ化した反応ガ
スや試料表面をエッチングした原子や電子によって試料
室内と対物レンズが汚れるという問題があった。
電子顕微鏡とは、別体の装置であるから、試料を希望す
る程度までエツチングするためには、試料を少しづつエ
ツチングしては、そのエツチングの程度を走査電子顕微
鏡で観察し、エツチングが適度になされるまでエツチン
グと観察をくり返していた。この方法では、エツチング
の度に走査電子顕微鏡の試料台に試料を設置しなおすた
めその設置に誤差があり、同一視野の観察を行なうこと
は非常に困難であつた。また、このような方法にあつて
は、エツチングをしてから実際に試料観察を行なうまで
に時間がかかるため、その間に試料表面が変化してしま
つたり、移動の際のシヨツク等で表面の微細構造が破壊
されてしまい、試料の正確な状態の観察は困難であると
いう不具合があつた。また、電子顕微鏡の試料室内で試
料をエッチングしようとすると、プラズマ化した反応ガ
スや試料表面をエッチングした原子や電子によって試料
室内と対物レンズが汚れるという問題があった。
本発明は、以上のような従来の不具合に鑑みなされたも
のであつて、その目的は、試料室内で試料のプラズマエ
ツチングが可能な走査電子顕微鏡を提供することであ
る。
のであつて、その目的は、試料室内で試料のプラズマエ
ツチングが可能な走査電子顕微鏡を提供することであ
る。
本発明は、上記目的を達成するために、走査電子顕微鏡
の試料室にプラズマ発生装置を取付ける一方、この試料
室に、上記プラズマ発生装置に連結されプラズマ発生装
置でプラズマ化した反応ガスを試料台上の試料に向けて
吹付ける反応ガス導入管と、排気ポンプに連結され、反
応ガス導入管に対向して開口し上記反応ガスと試料面を
エッチングしたガスとを試料室外に排出する反応ガス排
出管と、試料室内に外気、又は不活性ガスを導入するバ
リアブルリークバルブとを備えたことを要旨とするもの
である。反応ガス導入管と排出管とは、試料をはさん
で、互いに対向して開口しているので反応ガスは、反応
ガス導入管から試料へ吹きつけられ試料表面をエッチン
グしてから排出管へと吸収され、試料室内に充満するこ
とは殆どない。
の試料室にプラズマ発生装置を取付ける一方、この試料
室に、上記プラズマ発生装置に連結されプラズマ発生装
置でプラズマ化した反応ガスを試料台上の試料に向けて
吹付ける反応ガス導入管と、排気ポンプに連結され、反
応ガス導入管に対向して開口し上記反応ガスと試料面を
エッチングしたガスとを試料室外に排出する反応ガス排
出管と、試料室内に外気、又は不活性ガスを導入するバ
リアブルリークバルブとを備えたことを要旨とするもの
である。反応ガス導入管と排出管とは、試料をはさん
で、互いに対向して開口しているので反応ガスは、反応
ガス導入管から試料へ吹きつけられ試料表面をエッチン
グしてから排出管へと吸収され、試料室内に充満するこ
とは殆どない。
更に、試料室にバリアブルリークバルブを備え付け、こ
の試料室内に外気又は、不活性ガスを導入出来るように
しているので、試料室内への反応ガスの滞留を防止する
ことが可能となる。また、試料と対物レンズとの間に可
動シヤツターを配設すれば、この可動シヤツターの遮蔽
機能により反応ガスの粒子の飛散をさえぎり、対物レン
ズ等を保護することが可能である。
の試料室内に外気又は、不活性ガスを導入出来るように
しているので、試料室内への反応ガスの滞留を防止する
ことが可能となる。また、試料と対物レンズとの間に可
動シヤツターを配設すれば、この可動シヤツターの遮蔽
機能により反応ガスの粒子の飛散をさえぎり、対物レン
ズ等を保護することが可能である。
以下図面に基づいて本発明の実施例を説明する。
第１図は、本願の第１の発明の実施例を示している。こ
の実施例において走査電子顕微鏡の試料室Ｓには、プラ
ズマ発生装置１が取り付けられている。このプラズマ発
生装置は、高周波電源ＨとマツチングネツトワークＭと
プラズマ発生部Ｐとからなる。プラズマ発生部Ｐは石英
ガラスの筒体で形成され、この筒体の外周に電極対が設
けられており、この電極対e,eには、高周波電源Ｈとマ
ツチングネツトワークＭからの高周波電圧が引加され
る。プラズマ発生部Ｐには、反応ガスボンベＢがバルブ
９を介して接続されている。このプラズマ発生部Ｐの反
応ガスボンベＢと接続された側と反対側には、石英ガラ
ス等の耐蝕性に富んだ材料で出来た反応ガス導入管２が
接続されており、この反応ガス導入管２は、走査電子顕
微鏡の試料室Ｓ内に突設されている。試料室Ｓと反応ガ
ス導入管２との接続部は、Ｏリング等でシールされ、試
料室Ｓの真空が破れないようにしている。反応ガス導入
管２の試料室Ｓ側の先端部は、試料室Ｓ内に設置された
試料台４上の試料５近傍で試料５に向け開口しており、
略円錐形状に先端が絞られてノズル構造をなし、試料５
に効率よく反応ガスが吹き付けられるようになつてい
る。反応ガス排出管３はこの反応ガス導入管２の開口に
試料５をはさんで対向し且つガス導入管２のノズル径よ
りも大きく開口して設置されている。この反応ガス排出
管３は、反応ガス導入管２と同様に石英ガラスで形成さ
れており、試料室Ｓ内の試料５の近傍から試料室Ｓ外へ
と突設されている。この場合も反応ガス導入管と同様に
試料室Ｓとの接続部はＯリングでシールされている。反
応ガス排出管３の試料室Ｓ外の端部には、排気ポンプＥ
が接続されている。この排気ポンプＥには、高真空吸引
を行い得る油回転ポンプ等が用いられる。また、試料室
Ｓには、バリアブルリークバルブ６が設置され、試料室
Ｓ内に外気又は不活性ガスを導入することができるよう
にしている。
の実施例において走査電子顕微鏡の試料室Ｓには、プラ
ズマ発生装置１が取り付けられている。このプラズマ発
生装置は、高周波電源ＨとマツチングネツトワークＭと
プラズマ発生部Ｐとからなる。プラズマ発生部Ｐは石英
ガラスの筒体で形成され、この筒体の外周に電極対が設
けられており、この電極対e,eには、高周波電源Ｈとマ
ツチングネツトワークＭからの高周波電圧が引加され
る。プラズマ発生部Ｐには、反応ガスボンベＢがバルブ
９を介して接続されている。このプラズマ発生部Ｐの反
応ガスボンベＢと接続された側と反対側には、石英ガラ
ス等の耐蝕性に富んだ材料で出来た反応ガス導入管２が
接続されており、この反応ガス導入管２は、走査電子顕
微鏡の試料室Ｓ内に突設されている。試料室Ｓと反応ガ
ス導入管２との接続部は、Ｏリング等でシールされ、試
料室Ｓの真空が破れないようにしている。反応ガス導入
管２の試料室Ｓ側の先端部は、試料室Ｓ内に設置された
試料台４上の試料５近傍で試料５に向け開口しており、
略円錐形状に先端が絞られてノズル構造をなし、試料５
に効率よく反応ガスが吹き付けられるようになつてい
る。反応ガス排出管３はこの反応ガス導入管２の開口に
試料５をはさんで対向し且つガス導入管２のノズル径よ
りも大きく開口して設置されている。この反応ガス排出
管３は、反応ガス導入管２と同様に石英ガラスで形成さ
れており、試料室Ｓ内の試料５の近傍から試料室Ｓ外へ
と突設されている。この場合も反応ガス導入管と同様に
試料室Ｓとの接続部はＯリングでシールされている。反
応ガス排出管３の試料室Ｓ外の端部には、排気ポンプＥ
が接続されている。この排気ポンプＥには、高真空吸引
を行い得る油回転ポンプ等が用いられる。また、試料室
Ｓには、バリアブルリークバルブ６が設置され、試料室
Ｓ内に外気又は不活性ガスを導入することができるよう
にしている。
反応ガスボンベＢ内の反応ガスは、酸素ガスや酸素ガス
と四フツ化炭素ガスを混合したガス等であつて、上記プ
ラズマ発生部Ｐの電極対間e.eを通過する際に高周波電
圧を引加され、プラズマ状態となる。このプラズマ状態
となつた反応ガスは、反応ガス導入管２を通り、その開
口から試料台４上の試料５に吹き付けられる。
と四フツ化炭素ガスを混合したガス等であつて、上記プ
ラズマ発生部Ｐの電極対間e.eを通過する際に高周波電
圧を引加され、プラズマ状態となる。このプラズマ状態
となつた反応ガスは、反応ガス導入管２を通り、その開
口から試料台４上の試料５に吹き付けられる。
試料５は、例えば生体の組織等であるが、プラズマ化し
た反応ガスをその表面に吹き付けると、試料５の表面の
原子、分子ははじき飛ばされエツチングされる。そし
て、時間がたつにつれて試料表面は徐々に削り取られて
内部を暴露していく。この反応ガス導入管２からの反応
ガスの吹出し中には、反応ガス排出管３に接続された排
出ポンプＥを運転し、上記反応ガス導入管２から吹出さ
れた反応ガス及び、この反応ガスによつてはじき飛ばさ
れた原子、分子を反応ガス排出管３開口部から取入れ、
且つ試料室外に排出するものである。ここで、外気又は
不活性ガスの導入は、プラズマエッチングを行なう際に
行なわれる。この時の各部の気体の圧力を、反応ガス導
入管２内のガス圧力をP2、反応ガス排出管３内のガス圧
力をP3、試料室Ｓ内のガス圧力をPSとすると、PS＞P2＞
P3の関係になるように圧力を調整され、バリアブルリー
クバルブ６で外気又は不活性ガスを試料室Ｓ内に導入す
る。このようにすれば、第２図に示すように、反応ガス
導入管２から吹出される反応ガスと試料表面からエッチ
ングされたガスとは、反応ガス排出管３に吸い込まれる
際に、試料室内に導入された外気又は不活性ガスに包み
込まれる様に排出されるため反応ガス等は試料室内に散
乱することがなく、すべて反応ガス排出管３に吸い込ま
れる。
た反応ガスをその表面に吹き付けると、試料５の表面の
原子、分子ははじき飛ばされエツチングされる。そし
て、時間がたつにつれて試料表面は徐々に削り取られて
内部を暴露していく。この反応ガス導入管２からの反応
ガスの吹出し中には、反応ガス排出管３に接続された排
出ポンプＥを運転し、上記反応ガス導入管２から吹出さ
れた反応ガス及び、この反応ガスによつてはじき飛ばさ
れた原子、分子を反応ガス排出管３開口部から取入れ、
且つ試料室外に排出するものである。ここで、外気又は
不活性ガスの導入は、プラズマエッチングを行なう際に
行なわれる。この時の各部の気体の圧力を、反応ガス導
入管２内のガス圧力をP2、反応ガス排出管３内のガス圧
力をP3、試料室Ｓ内のガス圧力をPSとすると、PS＞P2＞
P3の関係になるように圧力を調整され、バリアブルリー
クバルブ６で外気又は不活性ガスを試料室Ｓ内に導入す
る。このようにすれば、第２図に示すように、反応ガス
導入管２から吹出される反応ガスと試料表面からエッチ
ングされたガスとは、反応ガス排出管３に吸い込まれる
際に、試料室内に導入された外気又は不活性ガスに包み
込まれる様に排出されるため反応ガス等は試料室内に散
乱することがなく、すべて反応ガス排出管３に吸い込ま
れる。
第３図は、本願の第２の発明の実施例を示している。こ
の実施例において、走査電子顕微鏡の試料室には、プラ
ズマ発生装置１と、反応ガス導入管２と、反応ガス排出
管３と、試料台４と対物レンズ10との間に可動シヤツタ
７が設けられている。プラズマ発生装置１と、反応ガス
導入管２と反応ガス排出管３の構成は、前述した第１の
発明と同様である。本発明においては、走査顕微鏡の試
料室Ｓの試料台４と対物レンズ10との間に、試料室Ｓ外
から水平方向にその設置位置を変えられる可動シヤツタ
ー７を設けている。本実施例においては、この可動シヤ
ツター７は、耐蝕性の材質で例えばステンレス製あるい
は、ステンレスをフツ素樹脂で被膜したものが用いられ
る。そしてこの可動シヤツター７は、試料室Ｓ外からつ
まみ８の操作によつて試料５のエツチング時には、反応
ガス導入管２から吹き出される反応ガスから走査電子顕
微鏡の対物レンズ10を遮蔽する位置に移動され、エツチ
ングの後、試料５の観察時には、試料５に入射する電子
線の経路に影響を与えない位置まで移動させることがで
きる。
の実施例において、走査電子顕微鏡の試料室には、プラ
ズマ発生装置１と、反応ガス導入管２と、反応ガス排出
管３と、試料台４と対物レンズ10との間に可動シヤツタ
７が設けられている。プラズマ発生装置１と、反応ガス
導入管２と反応ガス排出管３の構成は、前述した第１の
発明と同様である。本発明においては、走査顕微鏡の試
料室Ｓの試料台４と対物レンズ10との間に、試料室Ｓ外
から水平方向にその設置位置を変えられる可動シヤツタ
ー７を設けている。本実施例においては、この可動シヤ
ツター７は、耐蝕性の材質で例えばステンレス製あるい
は、ステンレスをフツ素樹脂で被膜したものが用いられ
る。そしてこの可動シヤツター７は、試料室Ｓ外からつ
まみ８の操作によつて試料５のエツチング時には、反応
ガス導入管２から吹き出される反応ガスから走査電子顕
微鏡の対物レンズ10を遮蔽する位置に移動され、エツチ
ングの後、試料５の観察時には、試料５に入射する電子
線の経路に影響を与えない位置まで移動させることがで
きる。
これらの発明は、以上のような構成を有するから、走査
電子顕微鏡の試料室内で試料のエツチングを行なう際試
料以外の部分を腐蝕することなく、プラズマエツチング
を行なうことができるため、試料のエツチングと観察を
くり返し同一試料台上で行なえ、同一視野のエツチング
の程度を確認しながら試料の観察を容易に行なうことが
できる他、試料の経時変化をおこさせたり試料台への再
設置の際のシヨツク等で微細構造を破壊することがない
ため試料の正確な観察を行うことができる他、生体試料
のような柔らかい試料でも試料室内において試料表面を
エッチングすることによって試料作成時及び試料を作成
してから観察するまでに生じる試料表面の傷や潰れ、或
は酸化等を除去して、試料本来の姿をありのままに観察
することができるという効果を奏するものである。
電子顕微鏡の試料室内で試料のエツチングを行なう際試
料以外の部分を腐蝕することなく、プラズマエツチング
を行なうことができるため、試料のエツチングと観察を
くり返し同一試料台上で行なえ、同一視野のエツチング
の程度を確認しながら試料の観察を容易に行なうことが
できる他、試料の経時変化をおこさせたり試料台への再
設置の際のシヨツク等で微細構造を破壊することがない
ため試料の正確な観察を行うことができる他、生体試料
のような柔らかい試料でも試料室内において試料表面を
エッチングすることによって試料作成時及び試料を作成
してから観察するまでに生じる試料表面の傷や潰れ、或
は酸化等を除去して、試料本来の姿をありのままに観察
することができるという効果を奏するものである。
第１図は第１の発明の実施例に係る走査電子顕微鏡を示
す断面図、第２図は第１図に示す走査電子顕微鏡の試料
台付近の気体の流れを示す説明図、第３図は第２図の発
明の実施例に係る走査電子顕微鏡を示す説明図である。 １……プラズマ発生装置、２……反応ガス導入管 ３……反応ガス排出管、４……試料台 ６……バリアブルリークバルブ ７……可動シヤツター、Ｓ……試料室 Ｅ……排気ポンプ
す断面図、第２図は第１図に示す走査電子顕微鏡の試料
台付近の気体の流れを示す説明図、第３図は第２図の発
明の実施例に係る走査電子顕微鏡を示す説明図である。 １……プラズマ発生装置、２……反応ガス導入管 ３……反応ガス排出管、４……試料台 ６……バリアブルリークバルブ ７……可動シヤツター、Ｓ……試料室 Ｅ……排気ポンプ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭53−56962（ＪＰ，Ａ) 特開 昭47−37279（ＪＰ，Ａ) 特公 昭30−6923（ＪＰ，Ｂ１) 実公 昭55−31733（ＪＰ，Ｙ２) 実公 昭51−35951（ＪＰ，Ｙ２)
Claims (2)
- 【請求項１】走査電子顕微鏡の試料室にプラズマ発生装
置を取り付ける一方、この試料室に上記プラズマ発生装
置に連結されプラズマ発生装置でプラズマ化した反応ガ
スを試料台上の試料に向けて吹き付ける反応ガス導入管
と、排気ポンプに連結され、上記反応ガス導入管に対向
して開口し上記反応ガスと試料表面をエッチングしたガ
スとを試料室外に排出する反応ガス排出管と、試料室内
に外気、又は不活性ガスを導入するバリアブルリークバ
ルブとを備えることにより、試料室内で試料にプラズマ
エッチング処理を行えるようにしたことを特徴とする走
査電子顕微鏡。 - 【請求項２】走査電子顕微鏡の試料室にプラズマ発生装
置を取り付ける一方、この試料室に上記プラズマ発生装
置に連結されプラズマ発生装置でプラズマ化した反応ガ
スを試料台上の試料に向けて吹き付ける反応ガス導入管
と、排気ポンプに連結され、上記反応ガス導入管に対向
して開口し上記反応ガスと試料表面をエッチングしたガ
スとを試料室外に排出する反応ガス排出管と、上記試料
台と対物レンズとの間に設置される可動シャッターとを
備えることにより、試料室内で試料にプラズマエッチン
グ処理を行えるようにしたことを特徴とする走査電子顕
微鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58017490A JPH0719556B2 (ja) | 1983-02-07 | 1983-02-07 | 走査電子顕微鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58017490A JPH0719556B2 (ja) | 1983-02-07 | 1983-02-07 | 走査電子顕微鏡 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59143249A JPS59143249A (ja) | 1984-08-16 |
| JPH0719556B2 true JPH0719556B2 (ja) | 1995-03-06 |
Family
ID=11945441
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58017490A Expired - Lifetime JPH0719556B2 (ja) | 1983-02-07 | 1983-02-07 | 走査電子顕微鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0719556B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4543047B2 (ja) * | 2006-01-31 | 2010-09-15 | 株式会社東芝 | 荷電ビーム装置および欠陥修正方法 |
| JP4991206B2 (ja) * | 2006-08-15 | 2012-08-01 | 株式会社三友製作所 | 顕微鏡微細作業用マイクロマニピュレーション装置 |
| JP2010153278A (ja) * | 2008-12-26 | 2010-07-08 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線加工装置 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS586268B2 (ja) * | 1976-11-02 | 1983-02-03 | 新日本製鐵株式会社 | 電子顕微鏡用カプセル装置 |
| JPS6127797Y2 (ja) * | 1978-08-21 | 1986-08-19 |
-
1983
- 1983-02-07 JP JP58017490A patent/JPH0719556B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59143249A (ja) | 1984-08-16 |
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