JPH07192335A - 光磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents
光磁気記録媒体およびその製造方法Info
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- JPH07192335A JPH07192335A JP5331362A JP33136293A JPH07192335A JP H07192335 A JPH07192335 A JP H07192335A JP 5331362 A JP5331362 A JP 5331362A JP 33136293 A JP33136293 A JP 33136293A JP H07192335 A JPH07192335 A JP H07192335A
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- G11B11/10—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field
- G11B11/105—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field using a beam of light or a magnetic field for recording by change of magnetisation and a beam of light for reproducing, i.e. magneto-optical, e.g. light-induced thermomagnetic recording, spin magnetisation recording, Kerr or Faraday effect reproducing
- G11B11/10582—Record carriers characterised by the selection of the material or by the structure or form
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- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
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- G—PHYSICS
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- G11B11/10—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】本発明は、光磁気記録媒体において、プラスチ
ック基板面と第一窒化珪素誘電体層面間剥離強度が適切
で、耐久性としてのBER が小さく、チルト等の機械的特
性に優れた光磁気記録媒体を提供する。 【構成】プラスチック基板上に少なくとも該基板側から
第一窒化けい素誘電体層と記録層から成る光磁気記録媒
体の各層を単一真空槽内で対向式スパッタによって成膜
するスパッタ装置において、第一窒化けい素誘電体層の
ターゲットと該基板間の距離を30mm以上、75mm以下に設
定し、その成膜速度を10Å/sec. 以上、150 Å/sec. 以
下とすることを特徴とする光磁気記録媒体の製造方法、
及び前記製造方法で作製された光磁気記録媒体の複層成
膜面の第一窒化けい素誘電体層面と基板面間の剥離強度
がテープ剥離試験において50g/cm以上、400g/cm 以下で
ある光磁気記録媒体。
ック基板面と第一窒化珪素誘電体層面間剥離強度が適切
で、耐久性としてのBER が小さく、チルト等の機械的特
性に優れた光磁気記録媒体を提供する。 【構成】プラスチック基板上に少なくとも該基板側から
第一窒化けい素誘電体層と記録層から成る光磁気記録媒
体の各層を単一真空槽内で対向式スパッタによって成膜
するスパッタ装置において、第一窒化けい素誘電体層の
ターゲットと該基板間の距離を30mm以上、75mm以下に設
定し、その成膜速度を10Å/sec. 以上、150 Å/sec. 以
下とすることを特徴とする光磁気記録媒体の製造方法、
及び前記製造方法で作製された光磁気記録媒体の複層成
膜面の第一窒化けい素誘電体層面と基板面間の剥離強度
がテープ剥離試験において50g/cm以上、400g/cm 以下で
ある光磁気記録媒体。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光磁気記録媒体および
その製造方法に関するものである。
その製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】光磁気記録媒体は、一般に基板としてポ
リカーボネート（PC）等のプラスチックが用いられてお
り、通常その上に第一誘電体層、記録層、第二誘電体
層、反射層の順に、DCまたはRFスバッタリング法によっ
て成膜される。誘電体層の材質はは通常Ｓi Ｎ（窒化け
い素）で、Ｓi ＮスパッタまたはＳi 反応性スパッタに
よって成膜される。従来、これら各層の付着強度を大き
くするには、成膜する前にプラスチック基板に逆スバッ
タ或はイオン照射（特開平 03-268249号参照）を行なう
という方法があり、これによって基板表面に微視的な凹
凸ができ付着力が増加する。また別法として基板の表面
を酸素プラズマで処理をすると、基板と成膜面間に酸素
結合した中間層ができ付着力が増加する。更に別法とし
ては、基板を加熱し薄膜と基板間で拡散を起こさせ付着
力を増加するという方法がある。
リカーボネート（PC）等のプラスチックが用いられてお
り、通常その上に第一誘電体層、記録層、第二誘電体
層、反射層の順に、DCまたはRFスバッタリング法によっ
て成膜される。誘電体層の材質はは通常Ｓi Ｎ（窒化け
い素）で、Ｓi ＮスパッタまたはＳi 反応性スパッタに
よって成膜される。従来、これら各層の付着強度を大き
くするには、成膜する前にプラスチック基板に逆スバッ
タ或はイオン照射（特開平 03-268249号参照）を行なう
という方法があり、これによって基板表面に微視的な凹
凸ができ付着力が増加する。また別法として基板の表面
を酸素プラズマで処理をすると、基板と成膜面間に酸素
結合した中間層ができ付着力が増加する。更に別法とし
ては、基板を加熱し薄膜と基板間で拡散を起こさせ付着
力を増加するという方法がある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の様な方
法ではいずれも工程数が多くなるため生産性が低下し、
装置が複雑になるという欠点があった。また、剥離強度
が強くなれば耐久試験におけるBER （ビットエラーレー
トの略称）が少なくなるという結果が特開平03-268249
号等に記載されているが、これらはイオン照射や、剥離
強度を向上する等の何等かの措置を取らねばならなかっ
た。また、剥離強度があまりにも強過ぎると、基板が薄
膜の反りによって曲げられ、チルト等機械特性の劣化の
原因となるためこれを防止する必要があった。本発明
は、適度の剥離強度を持ち、機械特性に優れた光磁気記
録媒体と生産性が高い製造方法を提供しようとするもの
である。
法ではいずれも工程数が多くなるため生産性が低下し、
装置が複雑になるという欠点があった。また、剥離強度
が強くなれば耐久試験におけるBER （ビットエラーレー
トの略称）が少なくなるという結果が特開平03-268249
号等に記載されているが、これらはイオン照射や、剥離
強度を向上する等の何等かの措置を取らねばならなかっ
た。また、剥離強度があまりにも強過ぎると、基板が薄
膜の反りによって曲げられ、チルト等機械特性の劣化の
原因となるためこれを防止する必要があった。本発明
は、適度の剥離強度を持ち、機械特性に優れた光磁気記
録媒体と生産性が高い製造方法を提供しようとするもの
である。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、このよう
な問題点を解決するために、基板面と直接接触する第一
窒化けい素誘電体層の剥離強度（接着強度ともいう）を
適切な値とする成膜条件を詳細に検討して本発明を完成
したもので、その要旨は、プラスチック基板上に少なく
とも該基板側から第一窒化けい素誘電体層と記録層から
成る光磁気記録媒体の各層を単一真空槽内で対向式スパ
ッタによって成膜するスパッタ装置において、第一窒化
けい素誘電体層のターゲットと該基板間の距離を30mm以
上、75mm以下に設定し、その成膜速度を10Å/sec. 以
上、150 Å/sec. 以下とすることを特徴とする光磁気記
録媒体の製造方法、及び該製造方法で作製された光磁気
記録媒体の成膜面と基板面間の剥離強度がテープ剥離試
験において50g/cm以上、400g/cm 以下である光磁気記録
媒体にある。
な問題点を解決するために、基板面と直接接触する第一
窒化けい素誘電体層の剥離強度（接着強度ともいう）を
適切な値とする成膜条件を詳細に検討して本発明を完成
したもので、その要旨は、プラスチック基板上に少なく
とも該基板側から第一窒化けい素誘電体層と記録層から
成る光磁気記録媒体の各層を単一真空槽内で対向式スパ
ッタによって成膜するスパッタ装置において、第一窒化
けい素誘電体層のターゲットと該基板間の距離を30mm以
上、75mm以下に設定し、その成膜速度を10Å/sec. 以
上、150 Å/sec. 以下とすることを特徴とする光磁気記
録媒体の製造方法、及び該製造方法で作製された光磁気
記録媒体の成膜面と基板面間の剥離強度がテープ剥離試
験において50g/cm以上、400g/cm 以下である光磁気記録
媒体にある。
【０００５】以下、本発明を詳細に説明する。
【作用】本発明は光磁気記録媒体の製造方法及びそれに
よって作製された光磁気記録媒体に関するもので、プラ
スチック基板上に少なくとも基板側から第一窒化けい素
誘電体層と記録層が形成されている光磁気記録媒体にお
いて、各層が単一真空槽内で成膜される薄膜形成装置に
おいて、各層は該基板上に対向式スパッタによって成膜
されるが、その時の第一窒化けい素誘電体層の原料とな
る窒化けい素ターゲットと該基板間の距離を30mm以上75
mm以下とし、成膜速度を10Å/sec. 以上、150 Å/sec.
以下とすることによって適切な剥離強度が得られる。こ
の距離が30mm未満では成膜時に放電不良を生じ、 75mm
を越えると充分な成膜速度が得られなくなって剥離強度
が弱くなり適切な剥離強度が得られない。また、成膜速
度が10Å/sec. 未満では剥離強度が弱く、150 Å/sec.
を越えると剥離強度が強くなり適切な剥離強度が得られ
ない。また、成膜速度を上記範囲に制御することによっ
て、［従来の技術］欄で説明したように、適切な剥離強
度にするため、基板表面を粗らすためのイオン照射や、
基板と成膜面で中間相を形成するため基板表面を酸素プ
ラズマで処理したり、基板を加熱する等の工程を短縮で
き、かつそのために組み込まれている装置の構造をなく
し、簡略化することができる。
よって作製された光磁気記録媒体に関するもので、プラ
スチック基板上に少なくとも基板側から第一窒化けい素
誘電体層と記録層が形成されている光磁気記録媒体にお
いて、各層が単一真空槽内で成膜される薄膜形成装置に
おいて、各層は該基板上に対向式スパッタによって成膜
されるが、その時の第一窒化けい素誘電体層の原料とな
る窒化けい素ターゲットと該基板間の距離を30mm以上75
mm以下とし、成膜速度を10Å/sec. 以上、150 Å/sec.
以下とすることによって適切な剥離強度が得られる。こ
の距離が30mm未満では成膜時に放電不良を生じ、 75mm
を越えると充分な成膜速度が得られなくなって剥離強度
が弱くなり適切な剥離強度が得られない。また、成膜速
度が10Å/sec. 未満では剥離強度が弱く、150 Å/sec.
を越えると剥離強度が強くなり適切な剥離強度が得られ
ない。また、成膜速度を上記範囲に制御することによっ
て、［従来の技術］欄で説明したように、適切な剥離強
度にするため、基板表面を粗らすためのイオン照射や、
基板と成膜面で中間相を形成するため基板表面を酸素プ
ラズマで処理したり、基板を加熱する等の工程を短縮で
き、かつそのために組み込まれている装置の構造をなく
し、簡略化することができる。
【０００６】本発明における適切な剥離強度とは、プラ
スチック基板面と第一窒化けい素誘電体層面間の剥離強
度がテープ剥離試験において50g/cm以上、400g/cm 以下
の範囲であって、50g/cm未満では接着力が不足し該媒体
を使用中に複層成膜が剥離する恐れがあり、400g/cm を
越えると接着強度が強過ぎて該媒体全体に反りを生じ、
チルト等機械的特性の劣化の原因となる。このようにし
て作製した光磁気記録媒体は、耐久試験においてBER が
少なく、反り、チルト等の機械的特性に優れている。
スチック基板面と第一窒化けい素誘電体層面間の剥離強
度がテープ剥離試験において50g/cm以上、400g/cm 以下
の範囲であって、50g/cm未満では接着力が不足し該媒体
を使用中に複層成膜が剥離する恐れがあり、400g/cm を
越えると接着強度が強過ぎて該媒体全体に反りを生じ、
チルト等機械的特性の劣化の原因となる。このようにし
て作製した光磁気記録媒体は、耐久試験においてBER が
少なく、反り、チルト等の機械的特性に優れている。
【０００７】
【実施例】次に本発明の実施態様を実施例を挙げて具体
的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものでは
ない。 （実施例１〜２、比較例１〜２）PC（ポリカーボネー
ト）製基板にはトラッキンググルーブ付き（86mmφ×1.
2mmt）のものを用いた。このPC基板をディスクキャリア
に装着し、各層が単一真空槽内で成膜される対向式スパ
ッタ装置内にセットし、真空排気した。次いでこのPC基
板上に第一誘電体層として窒化けい素層を 350Å、希土
類と鉄族の非晶質合金からなる記録層を 130Å、第二誘
電体層として窒化けい素層を 300Å、Ａl 合金からなる
反射層を1000Åの４層をDCまたはRFスパッタリング法に
よって順次成膜した。最後にこの基板の成膜面にダイキ
ュアクリアーSD301 （大日本インキ社製商品名）のオー
バーコート約10μｍを施し光磁気記録媒体を作製した。
各層の成膜条件及び第一Ｓi Ｎ成膜面と基板面間剥離強
度を表１に示した。次に耐久試験による実施例と比較例
の結果を図２に示す。また機械特性（チルト）と剥離強
度との関係を図３に示す。
的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものでは
ない。 （実施例１〜２、比較例１〜２）PC（ポリカーボネー
ト）製基板にはトラッキンググルーブ付き（86mmφ×1.
2mmt）のものを用いた。このPC基板をディスクキャリア
に装着し、各層が単一真空槽内で成膜される対向式スパ
ッタ装置内にセットし、真空排気した。次いでこのPC基
板上に第一誘電体層として窒化けい素層を 350Å、希土
類と鉄族の非晶質合金からなる記録層を 130Å、第二誘
電体層として窒化けい素層を 300Å、Ａl 合金からなる
反射層を1000Åの４層をDCまたはRFスパッタリング法に
よって順次成膜した。最後にこの基板の成膜面にダイキ
ュアクリアーSD301 （大日本インキ社製商品名）のオー
バーコート約10μｍを施し光磁気記録媒体を作製した。
各層の成膜条件及び第一Ｓi Ｎ成膜面と基板面間剥離強
度を表１に示した。次に耐久試験による実施例と比較例
の結果を図２に示す。また機械特性（チルト）と剥離強
度との関係を図３に示す。
【０００８】（実施例３）第一及び第二誘電体層の材質
を反応性Ｓi とし、表１に示した成膜条件とした以外は
実施例と同様に成膜処理し、物性を測定して表１に併記
した。
を反応性Ｓi とし、表１に示した成膜条件とした以外は
実施例と同様に成膜処理し、物性を測定して表１に併記
した。
【０００９】
【表１】
【００１０】（光磁気記録媒体物性測定方法） （１）成膜面と基板間の剥離強度（図１−（ａ）〜
（ｄ）参照） 図１（ａ）に示したように基板の成膜面側に片刃の剃刀
で幅 1.8cmの切り込み線５を入れる。この時、各切り込
みの深さは基板にまで及ぶものとする。次にこの幅1.8c
m の切り込みに対して、正確に重なるよう、幅1.8 cmの
メンディングテープ２を貼る。テープは、端部に垂直な
切れ込みを入れた部分から、基板の延長線上に、10cmの
余分な部分を持たせておく（図１（ｂ）参照）。この
時、テープの接着面が基板に密着していない箇所がない
ように注意する。膜を引き剥す際に、膜に切れ込みを入
れたにも拘らず剥離しない場合があるため、膜を剥す部
分の先端は予めテープを何回も往復動させて一部を剥離
しておく。テープに余分を持たせた箇所の先端にクリッ
プ６を止め、そのクリップをオートグラフに取り付け
る。基板はテープがオートグラフの引き剥し方向に対し
て180 度折り曲げられる方向に固定（図１（ｃ），
（ｄ）参照）し、オートグラフを30cm/min. の速度で始
動し薄膜の基板に対する剥離強度を測定する。
（ｄ）参照） 図１（ａ）に示したように基板の成膜面側に片刃の剃刀
で幅 1.8cmの切り込み線５を入れる。この時、各切り込
みの深さは基板にまで及ぶものとする。次にこの幅1.8c
m の切り込みに対して、正確に重なるよう、幅1.8 cmの
メンディングテープ２を貼る。テープは、端部に垂直な
切れ込みを入れた部分から、基板の延長線上に、10cmの
余分な部分を持たせておく（図１（ｂ）参照）。この
時、テープの接着面が基板に密着していない箇所がない
ように注意する。膜を引き剥す際に、膜に切れ込みを入
れたにも拘らず剥離しない場合があるため、膜を剥す部
分の先端は予めテープを何回も往復動させて一部を剥離
しておく。テープに余分を持たせた箇所の先端にクリッ
プ６を止め、そのクリップをオートグラフに取り付け
る。基板はテープがオートグラフの引き剥し方向に対し
て180 度折り曲げられる方向に固定（図１（ｃ），
（ｄ）参照）し、オートグラフを30cm/min. の速度で始
動し薄膜の基板に対する剥離強度を測定する。
【００１１】（２）耐久試験：ＢＥＲを環境温度80℃、
湿度90％で測定した。ＢＥＲはディスク上の全バイトに
対してエラーのバイトが何個有るかの割合で有り、EXPE
RT EOM-501S 光磁気媒体評価装置によって測定した。
湿度90％で測定した。ＢＥＲはディスク上の全バイトに
対してエラーのバイトが何個有るかの割合で有り、EXPE
RT EOM-501S 光磁気媒体評価装置によって測定した。
【００１２】（３）チルトは、JIS X 6272-1992 の9.4.
9 チルトに準拠し、LM-100A （小野測器社製商品名）光
ディスク機械特性測定装置によって測定した。
9 チルトに準拠し、LM-100A （小野測器社製商品名）光
ディスク機械特性測定装置によって測定した。
【００１３】
【発明の効果】本発明によれば、第一窒化けい素誘電体
層面とプラスチック基板面間剥離強度が適切で、耐久性
としてのBER が小さく、機械的特性チルトに優れた光磁
気記録媒体を提供することができ、産業上その利用価値
は極めて高い。
層面とプラスチック基板面間剥離強度が適切で、耐久性
としてのBER が小さく、機械的特性チルトに優れた光磁
気記録媒体を提供することができ、産業上その利用価値
は極めて高い。
【図１】本発明の光磁気記録媒体の薄膜剥離強度測定方
法を示す説明図である。 （ａ）試料の採取位置を示す上面図である。 （ｂ）剥離用テープの貼り付け状態を示す上面図であ
る。 （ｃ）オートグラフの剥離用テープの引っ張り方向を示
す正面図である。 （ｄ）（ｃ）図の側面図である。
法を示す説明図である。 （ａ）試料の採取位置を示す上面図である。 （ｂ）剥離用テープの貼り付け状態を示す上面図であ
る。 （ｃ）オートグラフの剥離用テープの引っ張り方向を示
す正面図である。 （ｄ）（ｃ）図の側面図である。
【図２】実施例と比較例の耐久試験の経過時間とＢＥＲ
との関係を示すグラフである。
との関係を示すグラフである。
【図３】本発明の薄膜の剥離強度とチルトとの関係を示
したグラフである。
したグラフである。
１ 光磁気記録媒体 ２ メンデ
ィングテープ ３ 基板固定治具 ４ オート
グラフの引張り軸 ５ 切り込み線 ６ クリッ
プ
ィングテープ ３ 基板固定治具 ４ オート
グラフの引張り軸 ５ 切り込み線 ６ クリッ
プ
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成７年１月３１日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００８】（実施例３、比較例３）ターゲットの材質
を反応性Ｓi とし、真空排気後窒素ガスを導入してスパ
ッタリングし、かつ表１に示した成膜条件とした以外は
実施例１と同様に成膜処理し、物性を測定して表１に併
記した。
を反応性Ｓi とし、真空排気後窒素ガスを導入してスパ
ッタリングし、かつ表１に示した成膜条件とした以外は
実施例１と同様に成膜処理し、物性を測定して表１に併
記した。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００９】
【表１】
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正内容】
【図２】
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正内容】
【図３】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 斉藤 誠 群馬県安中市磯部２丁目13番１号 信越化 学工業株式会社精密機能材料研究所内 (72)発明者 吉川 博樹 群馬県安中市磯部２丁目13番１号 信越化 学工業株式会社精密機能材料研究所内 (72)発明者 小林 利美 群馬県安中市磯部２丁目13番１号 信越化 学工業株式会社精密機能材料研究所内
Claims (2)
- 【請求項１】プラスチック基板上に少なくとも該基板側
から第一窒化けい素誘電体層と記録層から成る光磁気記
録媒体の各層を単一真空槽内で対向式スパッタによって
成膜するスパッタ装置において、第一窒化けい素誘電体
層のターゲットと該基板間の距離を30mm以上、75mm以下
に設定し、その成膜速度を10Å/sec. 以上、150 Å/se
c. 以下とすることを特徴とする光磁気記録媒体の製造
方法。 - 【請求項２】請求項１に記載の製造方法で作製された光
磁気記録媒体の複層成膜面の第一窒化けい素誘電体層面
と基板面間の剥離強度がテープ剥離試験において50g/cm
以上、400g/cm 以下である光磁気記録媒体。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5331362A JPH07192335A (ja) | 1993-12-27 | 1993-12-27 | 光磁気記録媒体およびその製造方法 |
| EP94119793A EP0660316A3 (en) | 1993-12-27 | 1994-12-15 | Magneto-optical recording medium and method for its preparation. |
| KR1019940037559A KR950020438A (ko) | 1993-12-27 | 1994-12-27 | 광자기 기록 매체 및 그의 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5331362A JPH07192335A (ja) | 1993-12-27 | 1993-12-27 | 光磁気記録媒体およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07192335A true JPH07192335A (ja) | 1995-07-28 |
Family
ID=18242839
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5331362A Pending JPH07192335A (ja) | 1993-12-27 | 1993-12-27 | 光磁気記録媒体およびその製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0660316A3 (ja) |
| JP (1) | JPH07192335A (ja) |
| KR (1) | KR950020438A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100755089B1 (ko) * | 1999-02-12 | 2007-09-03 | 제너럴 일렉트릭 캄파니 | 저장 매체, 기판 제조 방법, 데이터 검색 방법, 엠보싱 방법 및 데이터 저장 매체 형성 방법 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63117356A (ja) * | 1986-11-05 | 1988-05-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光磁気記録媒体の製造方法 |
| US5084355A (en) * | 1988-04-13 | 1992-01-28 | Hitachi, Ltd. | Laminar structure comprising organic material and inorganic material |
| JP2829335B2 (ja) * | 1990-03-16 | 1998-11-25 | 株式会社リコー | 光磁気記録媒体 |
| JP3159742B2 (ja) * | 1991-10-07 | 2001-04-23 | キヤノン株式会社 | 光磁気記録再生方法 |
| EP0592174B1 (en) * | 1992-10-05 | 2001-09-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Process for producing optical recording medium, sputtering method |
-
1993
- 1993-12-27 JP JP5331362A patent/JPH07192335A/ja active Pending
-
1994
- 1994-12-15 EP EP94119793A patent/EP0660316A3/en not_active Withdrawn
- 1994-12-27 KR KR1019940037559A patent/KR950020438A/ko not_active Application Discontinuation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR950020438A (ko) | 1995-07-24 |
| EP0660316A3 (en) | 1995-10-18 |
| EP0660316A2 (en) | 1995-06-28 |
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