JPH07185483A

JPH07185483A - 一槽式クローズ処理システム

Info

Publication number: JPH07185483A
Application number: JP33794393A
Authority: JP
Inventors: Kenji Watanabe; 謙二渡辺
Original assignee: Fujitsu VLSI Ltd; Fujitsu Ltd
Current assignee: Fujitsu VLSI Ltd; Fujitsu Ltd
Priority date: 1993-12-28
Filing date: 1993-12-28
Publication date: 1995-07-25
Anticipated expiration: 2018-01-08
Also published as: JP3363557B2

Abstract

(57)【要約】【目的】従来の不都合が効果的・効率的に解消でき、
精密治具の洗浄や精密部品等の薬品処理等を安全且つ経
済的に合理的に行うことが可能となる。【構成】（ａ）タンク（３；３Ａ，３Ｂ）と、濾過送
液ユニット、とを含む貯蔵部（１；１Ａ，１Ｂ）と、
（ｂ）温風発生ユニット（１７；１７’）と、（ｃ）供
給及び回収ラインを介して貯蔵部（１；１Ａ，１Ｂ）に
接続され、排液バルブ（３９；３９’）を具え、乾燥エ
アー供給ダクト（４１；４１’）を具える処理槽（２
１；２１’）と、処理槽（２１；２１’）を囲うドレン
パン（３７；３７’）と、処理槽（２１；２１’）の上
部開口を塞ぐ水洗ノズル（２３；２３’）を具えた開閉
式扉（２５；２５’）と、その上部を被うクリーンブー
ス（２７；２７’）、とを含む処理部（１１；１
１’）、とを有して成る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造装置用の大
型治具等の洗浄等の各種処理を、同一の処理槽へ薬品を
供給、回収し、純水、クリーン温風を所定順序で供給す
ることにより各種処理（洗浄等）から乾燥までの一連の
工程を行い得る一槽式クローズシステムに関する。

【０００２】

【従来の技術】近年ウェハの大口径化が進み、装置の大
型化に伴う大型治具の洗浄が要求され、治具等のクリー
ン洗浄だけでなく、薬液洗浄から乾燥まで自動で行い洗
浄の信頼性及び安全性の向上、洗浄薬品、純水及び排気
量のランニングコスト低減ができる治具洗浄ドラフトが
要求されている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかるに、従来装置に
あっては、大型の処理槽に任意で選択した洗浄薬品を溜
め、洗浄毎に人手により様々の寸法・形状の被洗浄物を
漬け洗いする方法が採用されているが、出し入れが容易
でなく、また大型の処理槽で完全な排気を行う機構がな
く、例えば、酸洗浄槽とアンモニア洗浄槽とが隣接して
いる場合、両者の雰囲気ガスが反応して生成物が治具洗
浄ドラフト内の壁や床に析出し、装置や被洗浄物を汚染
することがある。そして、処理槽に洗浄薬品を溜めるた
め池式のため、被洗浄物の処理量により洗浄薬品の汚れ
が増加し処理槽の汚れも蓄積する。また、薬品槽と水洗
槽とが独立しているため、槽間の移載時に被洗浄物から
の液垂れ等で洗浄ドラフト内を汚し、更に、乾燥機構が
無いため水洗槽から濡れた状態で取り出すために洗浄ド
ラフト前を汚す等といった不都合がある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明に係る一槽式処理装置は、（ａ）処理薬品の
秤量及び貯蔵が可能なタンクと、処理薬品の供給、回収
及び循環を行うポンプ、フィルタ及び制御バルブを有す
る濾過送液ユニット、とを含む貯蔵部と、（ｂ）温風発
生装置及びエアフィルタを有する温風発生ユニットと、
（ｃ）処理薬品の供給ライン及び回収ラインを介して貯
蔵部に接続され、水洗用純水等の排出を行う排液バルブ
を具え、温風発生ユニットからの温風を供給する乾燥エ
アー供給ダクトを具える処理槽と、排気ダクト及びドレ
ン口を具えた処理槽を囲うドレンパンと、処理槽の上部
開口を塞ぐ水洗ノズルを具えた開閉式扉と、その上部を
被う空間部、とを含む処理部、とを有することを特徴と
し、開閉式扉を閉じ、低排気量で貯蔵部より処理薬品を
処理部へ供給、循環濾過を行って薬液処理を行い、回収
し貯蔵する一方、処理部でシャワー水洗、浸漬水洗及び
急速排水を繰り返して効率的に水洗を行い、温風発生ユ
ニットによって処理部へ温風を供給し乾燥させることに
より、半導体製造装置用大型治具等の薬品処理、水洗、
乾燥を同一処理槽で行う。

【０００５】別の本発明に係る一槽式処理装置は、
（ａ）処理薬品の秤量及び貯蔵が可能なタンクと、処理
薬品の供給、回収及び循環を行うポンプ、フィルタ、温
度調整ユニット及び制御バルブを有する濾過送液ユニッ
ト、とを含む貯蔵部と、（ｂ）温風発生装置及びエアフ
ィルタを有する温風発生ユニットと、（ｃ）処理薬品の
供給ライン及び回収ラインを介して貯蔵部に接続され、
水洗用純水等の排出を行う大型排液バルブを具え、温風
発生ユニットからの温風を供給する乾燥エアー供給ダク
トを具え、ウェハを少なくとも１枚支持し得る機構を具
える処理槽と、排気ダクト及びドレン口を具えた処理槽
を囲うドレンパンと、処理槽の上部開口を塞ぐ水洗ノズ
ルを具えた開閉式扉と、その上部を被う空間部、とを含
む処理部、とを有することを特徴とし、開閉式扉を閉
じ、低排気量で貯蔵部より処理薬品を処理部へ供給、循
環濾過を行って薬液処理を行い、回収し貯蔵する一方、
処理部でシャワー水洗、浸漬水洗及び急速排水を繰り返
して効率的に水洗を行い、温風発生ユニットによって処
理部へ温風を供給し乾燥させることにより、ウェハの薬
品処理、水洗、乾燥を同一処理槽で行う。

【０００６】

【作用】被処理物（被洗浄物）と同一処理槽で処理（洗
浄）されるため、移載の必要性がなく被処理物（洗浄
物）からの液垂れ等で装置内外の汚れがなく、薬品別の
排気ダクトを系統別に切り換え、雰囲気ガスの反応を無
くし、薬品洗浄中は循環濾過を行い薬品の清浄維持を行
うことができる。薬品が洗浄後に貯蔵部のタンクへ回収
し貯蔵されるので、薬品使用量が減少し、洗浄中に処理
槽上部の扉が閉められるので、装置内排気を行うことな
く雰囲気ガスの装置外への拡散が抑制される。水洗は、
効率向上のため槽上部からシャワー水洗を行い、次に槽
内へ純水を供給し、設定時間水洗後、排液バルブを開い
て急速排水をする工程を繰り返し行い、純水オーバーフ
ロー式の水洗と比較して少量の純水及び短時間に水洗を
行うことができる。乾燥は、フィルターとファンヒータ
を組み合わせた温風ユニットによって温風をエアー供給
ダクトを介して槽内へ供給し対流乾燥を行うので効率が
良い。

【０００７】

【実施例】以下、本発明の複数の実施例を図面を参照し
て説明する。先ず、第１の実施例について図１を参照し
て説明するに、本システムは、貯蔵部と処理部を各１つ
有して成る。貯蔵部１は、その外側面に容量測定（秤
量）用のセンサ（Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３、Ｓ６）を具えたタ
ンク３と、液材の供給・循環等のための配管系（多数の
バルブ、パイプ等）やポンプ等から成る送液ユニット、
とを有する。例えば、タンク３内には、純水（ＰＷ
１）が、バルブＶ９の開閉により、センサＳ３の検知高
さまで供給され、第１の薬品が、バルブＶ１１の開閉
により、センサＳ２の検知高さまで供給され、第２の
薬品が、バルブＶ１０の開閉により、センサＳ１の高さ
まで供給される（尚、その他の薬品を同様の構成及び手
順でタンク内に供給し調合し得る）。このようにタンク
３内に供給された複数の液材は、バルブＶ１、Ｖ３の開
閉とポンプ５の所定時間運転により、濾過フィルタ７を
介して、循環ミキシング（調合）が為される。この際、
温度制御ユニット９によって温度管理が為される。尚、
タンク３内の液材（洗浄薬品）は、所定のライフサイク
ルの完了後に、バルブＶ１，Ｖ４の開閉とポンプ５の運
転により、タンク３内のそれがセンサＳ６の検知高さに
減るまで、ドレンへの排出（廃液処理）が行われる。

【０００８】処理部１１は、液材の供給及び回収のため
の行きと帰りの一対の配管系（ライン）を介して、貯蔵
部１と接続されており、温風発生用のファンヒータ１３
とＨＥＰＡ（あるいはＵＬＰＡ）フィルタ１５とから成
るクリーン温風発生ユニット１７が付設される。処理部
１１の、不純物の発生しない材料、例えばテフロン等の
樹脂で構成された処理槽２１は、水洗ノズル２３を具え
た開閉式（片開き式）の扉２５で開閉されるその上部開
口が、クリーンブース２７で被われ、それ以外の周囲
が、２つの排気系２９、３１（（酸系統）排気切換バル
ブ３３及び（アンモニア系統）排気切換バルブ３５）と
ドレンに接続されたドレンパン３７で被われ、処理槽内
の液材を急速排出するための大型排液バルブ３９を具
え、クリーン温風発生ユニット１７からの温風を内部へ
供給するための乾燥エアー供給ダクト４１を具える。

【０００９】以上の構成を有する本実施例システムの作
動例について以下簡単に説明する。先ず、処理槽２１内
に被洗浄物（図示せず）を入れて扉２５を閉じ、排気系
統（２９、３１）の切換バルブ（３３、３５）を選択
し、その後、処理槽２１には、貯蔵部１のタンク３内の
調合された液材（薬品）が、バルブＶ１、Ｖ５の開閉と
ポンプ５の所定時間運転により、濾過フィルタ７を介し
て、（薬品レベル）センサＳ４の検知高さまで供給され
る。その後、バルブＶ２、Ｖ５、Ｖ７の開閉とポンプ５
の所定時間運転により、液材（洗浄薬品）を循環濾過し
ながら処理槽２１内の被洗浄物（図示せず）の薬品洗浄
を行う。そして、洗浄終了後に、バルブＶ２、Ｖ３、Ｖ
７の開閉とポンプ５の運転により、処理槽２１内の液材
がセンサＳ５（処理槽底部）の検知高さに減るまで、貯
蔵部１のタンク３への液材の回収を行う。

【００１０】次に、バルブＶ８及び大型廃液バルブ３９
を開いて、純水（ＰＷ２）を扉２５の裏面側の水洗ノズ
ル２３から処理槽２１内の被洗浄物（図示せず）に向か
ってシャワー式に供給（シャワー水洗）し、所定時間経
過後、バルブＶ８及び大型廃液バルブ３９を閉じて、代
わりにバルブＶ６を開いて、別の純水（ＰＷ１）を供給
（ｄｉｐ水洗）し、処理槽２１からドレンパン３７に所
定時間オーバーフローさせ、その後、バルブＶ６を閉じ
て純水供給を止め、バルブＶ１２を開いて、薬品回収ラ
インのパージを設定時間行い、その後、大型廃液バルブ
３９を開いて、処理槽２１内の純水をドレンパン３７に
急速排水し、センサＳ５の検知高さまで減ったら、大型
廃液バルブ３９及びバルブＶ１２を閉じる。この一連の
水洗工程を設定回数繰り返して、効率的な水洗処理を行
う。尚、この水洗処理の前に、別の薬品洗浄工程がある
場合には、排気系統切換バルブ（３３、３５）を介して
排気系統（２９、３１）を選択し、図示しない別の貯蔵
部より処理槽２１へ薬品を供給し、薬品洗浄後に、これ
を回収し、その後、上記水洗工程を繰り返すことができ
る（これについては、第２実施例を参照のこと）。

【００１１】最後に、クリーン温風発生ユニット１７
（ファンヒータ１３、ＵＬＰＡフィルタ１５）の駆動と
ゲートバルブ４３の開閉により、乾燥エアー供給ダクト
４１を介して処理槽２１へクリーン温風を設定時間送風
供給し、被洗浄物（図示せず）の対流乾燥を行う。以上
の記載から、本システムには、次のような利点があるこ
とが理解されよう。すなわち、（ａ）薬品等の液材が、
貯蔵部１のタンク３から処理槽２１を経て再度タンク３
に回収されるので、いわゆる液材の使い捨てをしなくて
済み、経済的であり、（ｂ）洗浄中に、処理槽２１の上
部開口（及びドレンパン３７）が扉２５で閉塞されるの
で、好ましくない気体の排出量を低減でき、（ｃ）シャ
ワー水洗と急速排水を伴うｄｉｐ水洗とを必要回数繰り
返すので、効率的・効果的な水洗を行うことができ且つ
純水の使用量を実質的に低減することができ、（ｄ）ク
リーン温風による対流乾燥をで行うので、洗浄後の被洗
浄物を乾燥状態で取り出すことができ、（ｅ）薬液線上
から乾燥までの一連の工程を同一の処理槽２１で省エネ
ルギ的にシンプルな構成で行い得るので、極めて合理的
であり、槽から槽への移載機等を不要にでき、（ｆ）従
来のように作業者が防具を付けて洗浄したような作業が
不要となり、安全な洗浄作業を行うことができる。従っ
て、本システムは、クリーン洗浄を要する例えば半導体
製造装置の大型治具や薬液によるクリーンな処理を要す
る例えばウェハ等にとって好適な処理装置となり得る。

【００１２】次に、第２の実施例について、主として図
２を参照して説明する。図示した一槽式治具洗浄システ
ムは、２つの貯蔵部（１Ａ、１Ｂ）と１つの処理部（１
１’）を有して成り（図３及び４参照）、図２で左側の
貯蔵部１Ａは、酸系統の液材、右側の貯蔵部１Ｂは、ア
ンモニア系統の液材を調合等するものであり、両者は、
基本構造的に上記第１実施例の貯蔵部１と同じである。
従って、重複する説明は省略し、特徴的な作用・効果を
以下詳説する。

【００１３】予め、各貯蔵部１Ａ、１Ｂの、例えばクリ
ーンＰＶＣ（塩ビ）で製作された酸用のタンク３Ａとア
ンモニア用のタンク３Ｂにおいて、それぞれ洗浄薬品を
調合・製造しておく。先ず、アンモニア用の貯蔵部１
Ｂのタンク３Ｂ内の薬品が、関連するバルブ（特に参照
番号を付さない）の開閉とポンプ５Ｂの運転により、濾
過フィルタ７Ｂを介して、処理部１１’の被洗浄物（図
示せず）のセットされた処理槽２１’の所定高さレベル
（上限）まで、供給ラインを通して供給される。次い
で、処理槽２１’内の薬品をバルブの開閉とポンプ５Ｂ
の運転により設定時間循環濾過しながら浸漬洗浄した後
に、処理槽２１’内の薬品は、関連するバルブの開閉と
ポンプ５Ｂの運転により、処理槽２１’の所定高さレベ
ル（下限）に減るまで、回収ラインを通してタンク３Ｂ
内に回収・貯蔵される。そして、上記第１実施例と同様
に、関連するバルブ及び大型廃液バルブ３９’の開閉に
より、水洗ノズル２３’によるシャワー式の純水の供給
（シャワー水洗）とｄｉｐ水洗を行い、この一連の水洗
工程を設定回数繰り返して、効率的な水洗処理を行う。
尚、処理槽２１’は、この工程中、その上部開口が開閉
式扉２５’で閉塞され得る。

【００１４】次に、上記と同様に、酸用の貯蔵部１Ａの
タンク３Ａ内の薬品が、関連するバルブの開閉とポンプ
５Ａの運転により、濾過フィルタ７Ａを介して、処理槽
２１’の所定高さレベル（上限）まで、供給ラインを通
して供給される。次いで、処理槽２１’内の薬品をバル
ブの開閉とポンプ５Ａの運転により設定時間循環濾過し
ながら浸漬洗浄した後に、処理槽２１’内の薬品は、関
連するバルブの開閉とポンプ５Ａの運転により、処理槽
２１’の所定高さレベル（下限）に減るまで、回収ライ
ンを通してタンク３Ａ内に回収・貯蔵される。そして、
上記と同様に、関連するバルブ及び大型廃液バルブ３
９’の開閉により、水洗ノズル２３’によるシャワー式
の純水の供給（シャワー水洗）とｄｉｐ水洗を行い、こ
の一連の水洗工程を設定回数繰り返して、効率的な水洗
処理を行う。尚、処理槽２１’は、この工程中、その上
部開口が開閉式扉２５’で閉塞され得る。

【００１５】次に、クリーン温風発生ユニット１７’
（ファンヒータ１３’、ＵＬＰＡフィルタ１５’）の駆
動とゲートバルブ４３’の開閉により、乾燥エアー供給
ダクト４１’を介して処理槽２１’へクリーン温風を設
定時間送風供給し、被洗浄物（図示せず）の対流乾燥を
行う。以上のように、本第２実施例においては、２つの
貯蔵部により複数の液材を用いて、例えば半導体製造装
置用大型治具等の自動洗浄（薬品洗浄から水洗、乾燥ま
で）を安全且つクリーンに行うことができ、作業者の負
担を大幅に軽減することが可能である。また、薬品及び
純水等のランニングコスト低減を行うことができる。更
に、好ましくない排気ガス（ミスト等）につき、被洗浄
物の出し入れ時を除いて処理槽上部の扉（シャッタ）を
閉めることによって低減することが可能である。

【００１６】最後に、本発明の様々な変更例につき以下
に簡単に説明する。先ず、ウェハ６１の両側から挟着し
てそれを支持し得るような腕部６３を具える、ウェハ６
１を少なくとも１枚支持し得る機構６５を処理槽２１’
内に設け（図５及び６参照）、ウェハ６１の薬品処理、
水洗、乾燥を同一処理槽（２１’）で行うことが考えら
れる。また、貯蔵部とクリーン温風発生ユニットと処
理部とを、それぞれユニット化し、分離レイアウト及び
一体レイアウトの選択を可能にして、ウェハや半導体製
造装置用大型治具等を処理することが考えられる。

【００１７】更に、任意の処理薬品を貯蔵する複数の貯
蔵部とクリーン温風発生ユニットと処理部を一体にした
装置一台で構成し、任意に選択した薬品処理、水洗を設
定した処理工程に基づいて行い、クリーン温風発生ユニ
ットより処理部へクリーン温風を供給し乾燥させること
により、ウェハや半導体製造装置用大型治具等の複数の
薬品処理、水洗、乾燥を同一処理槽で行うことを特徴と
する一槽式処理システムが考えられる。

【００１８】更にまた、任意の処理薬品を貯蔵する複数
の貯蔵部と任意の数のクリーン温風発生ユニットと処理
部を一体にした装置で構成し、選択した処理部に選択し
た処理薬品を供給し薬品処理、水洗、乾燥ができ、一つ
の処理部に対し多種の薬品処理が任意で行うことができ
る処理部の効率利用が可能な、ウェハや半導体製造装置
用大型治具等の多槽式洗浄システムが考えられる。

【００１９】更に、水の貯蔵が可能なタンクと、水の供
給、回収及び循環を行うポンプ、フィルタ、イオン交換
物質フィルタ、温度調節ユニット、紫外線殺菌灯及び制
御バルブを有する濾過再生ユニット、とを含む貯蔵部
と；温風発生装置及びＨＥＰＡ（あるいはＵＬＰＡ）フ
ィルターを有する温風発生ユニットと；貯蔵部から濾過
再生された水の供給、回収ラインと接続され、温風発生
ユニットからクリーン温風を供給する乾燥エアー供給ダ
クトを持つ処理槽と、処理槽を囲う、排気ダクトに接続
されるドレンパンと、処理槽上部のドレンパンをふさぐ
開閉式扉と、その上部を覆うクリンブース、とを含む処
理部、とを有し；以て、開閉式扉を閉じ、低排気量で貯
蔵部より水を処理部へクリーンに供給、循環濾過を行っ
て水洗処理を行い、回収して、貯蔵部内循環濾過再生を
行い貯蔵する一方、クリーン温風発生ユニットより処理
部へクリーン温風を供給し乾燥させることによりクリー
ン水洗を必要とする被洗浄物の水洗、乾燥を同一処理槽
で行うことを特徴とする一槽式水洗装置が考えられる。
これらの貯蔵部と処理部とを、それぞれユニット化し、
分離レイアウト及び一体レイアウトの選択が可能にする
こともできる。

【００２０】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
従来の不都合が効果的・効率的に解消し、精密治具の洗
浄や精密部品等の薬品処理等を安全且つ経済的に合理的
に行うことが可能となり、集積度が高まる半導体製造技
術のプロセス工程以外の作業に対しての信頼性向上に多
大に寄与することができた。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は、本発明の第１の実施例の全体概略構成
図である。

【図２】図２は、本発明の第２の実施例の全体概略構成
図である。

【図３】図３は、一体レイアウト化された、第２実施例
装置の全体外観正面図である。

【図４】図４は、図３の上方側から見た平面図である。

【図５】図５は、ウェハ支持機構の正面図である。

【図６】図６は、ウェハ支持機構の側面図である。

【符号の説明】

１、１Ａ、１Ｂ…貯蔵部３、３Ａ、３Ｂ…タンク５、５Ａ、５Ｂ…ポンプ７、７Ａ、７Ｂ…フィルタ９…温度制御ユニット１１、１１’…処理部１３、１３’…ファンヒータ１５、１５’…ＵＬＰＡフィルタ１７、１７’…クリーン温風発生ユニット２１、２１’…処理槽２３、２３’…水洗ノズル２５、２５’…開閉式扉２７、２７’…クリーンブース２９、２９’…（酸系統）排気系３１、３１’…（アンモニア系統）排気系３３、３３’、３５、３５’…排気切換バルブ３７、３７’…ドレンパン３９、３９’…大型廃液バルブ４１、４１’…乾燥エアー供給ダクト４３、４３’…ゲートバルブ６１…ウェハ６３…腕部６５…ウェハ支持機構

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】（ａ）処理薬品の秤量及び貯蔵が可能な
タンク（３；３Ａ，３Ｂ）と、処理薬品の供給、回収及
び循環を行うポンプ（５；５Ａ，５Ｂ）、フィルタ
（７；７Ａ，７Ｂ）及び制御バルブを有する濾過送液ユ
ニット、とを含む貯蔵部（１；１Ａ，１Ｂ）と、（ｂ）温風発生装置（１３；１３’）及びエアフィルタ
（１５；１５’）を有する温風発生ユニット（１７；１
７’）と、（ｃ）処理薬品の供給ライン及び回収ラインを介して貯
蔵部（１；１Ａ，１Ｂ）に接続され、水洗用純水等の排
出を行う排液バルブ（３９；３９’）を具え、温風発生
ユニット（１７；１７’）からの温風を供給する乾燥エ
アー供給ダクト（４１；４１’）を具える処理槽（２
１；２１’）と、排気ダクト及びドレン口を具えた処理
槽（２１；２１’）を囲うドレンパン（３７；３７’）
と、処理槽（２１；２１’）の上部開口を塞ぐ水洗ノズ
ル（２３；２３’）を具えた開閉式扉（２５；２５’）
と、その上部を被う空間部（２７；２７’）、とを含む
処理部（１１；１１’）、とを有し、以て、開閉式扉（２５；２５’）を閉じ、低排気量で貯
蔵部（１；１Ａ，１Ｂ）より処理薬品を処理部（１１；
１１’）へ供給、循環濾過を行って薬液処理を行い、回
収し貯蔵する一方、処理部（１１；１１’）でシャワー
水洗、浸漬水洗及び急速排水を繰り返して効率的に水洗
を行い、温風発生ユニット（１７；１７’）によって処
理部（１１；１１’）へ温風を供給し乾燥させることに
より、半導体製造装置用大型治具等の薬品処理、水洗、
乾燥を同一処理槽で行うことを特徴とする一槽式処理装
置。
【請求項２】（ａ）処理薬品の秤量及び貯蔵が可能な
タンク（３；３Ａ，３Ｂ）と、処理薬品の供給、回収及
び循環を行うポンプ（５；５Ａ，５Ｂ）、フィルタ
（７；７Ａ，７Ｂ）、温度調整ユニット（９）及び制御
バルブを有する濾過送液ユニット、とを含む貯蔵部
（１；１Ａ，１Ｂ）と、（ｂ）温風発生装置（１３；１３’）及びエアフィルタ
（１５；１５’）を有する温風発生ユニット（１７；１
７’）と、（ｃ）処理薬品の供給ライン及び回収ラインを介して貯
蔵部（１；１Ａ，１Ｂ）に接続され、水洗用純水等の排
出を行う排液バルブ（３９；３９’）を具え、温風発生
ユニット（１７；１７’）からの温風を供給する乾燥エ
アー供給ダクト（４１；４１’）を具え、ウェハ（６
１）を少なくとも１枚支持し得る機構（６５）を具える
処理槽（２１；２１’）と、排気ダクト及びドレン口を
具えた処理槽（２１；２１’）を囲うドレンパン（３
７；３７’）と、処理槽（２１；２１’）の上部開口を
塞ぐ水洗ノズル（２３；２３’）を具えた開閉式扉（２
５；２５’）と、その上部を被う空間部（２７；２
７’）、とを含む処理部（１１；１１’）、とを有し、以て、開閉式扉（２５；２５’）を閉じ、低排気量で貯
蔵部（１；１Ａ，１Ｂ）より処理薬品を処理部（１１；
１１’）へ供給、循環濾過を行って薬液処理を行い、回
収し貯蔵する一方、処理部（１１；１１’）でシャワー
水洗、浸漬水洗及び急速排水を繰り返して効率的に水洗
を行い、温風発生ユニット（１７；１７’）よって処理
部（１１；１１’）へ温風を供給し乾燥させることによ
り、ウェハ（６１）の薬品処理、水洗、乾燥を同一処理
槽で行うことを特徴とする一槽式処理装置。
【請求項３】請求項１記載の貯蔵部と温風発生ユニッ
トと処理部とを、それぞれユニット化し、分離レイアウ
ト及び一体レイアウトの選択を可能にすることを特徴と
する半導体製造装置用大型治具等の一槽式処理システ
ム。
【請求項４】請求項２記載の貯蔵部と温風発生ユニッ
トと処理部とを、それぞれユニット化し、分離レイアウ
ト及び一体レイアウトの選択を可能にすることを特徴と
するウェハの一槽式処理システム。
【請求項５】任意の処理薬品を貯蔵する複数の請求項
１記載の貯蔵部と請求項１記載の温風発生ユニットと処
理部を一体にした装置一台で構成し、任意に選択した薬
品処理、水洗を設定した処理工程に基づいて行い、温風
発生ユニットより処理部へ温風を供給し乾燥させること
により、半導体製造装置用大型治具等の複数の薬品処
理、水洗、乾燥を同一処理槽で行うことを特徴とする一
槽式処理システム。
【請求項６】任意の処理薬品を貯蔵する複数の請求項
２記載の貯蔵部と請求項２記載の温風発生ユニットと処
理部を一体にした装置一台で構成し、任意に選択した薬
品処理、水洗を設定した処理工程に基づいて行い、温風
発生ユニットより処理部へ温風を供給し乾燥させること
により、ウェハの複数の薬品処理、水洗、乾燥を同一処
理槽で行うことを特徴とする一槽式処理システム。
【請求項７】任意の処理薬品を貯蔵する複数の請求項
１記載の貯蔵部と任意の数の請求項１記載の温風発生ユ
ニットと処理部を一体にした装置で構成し、選択した処
理部に選択した処理薬品を供給し薬品処理、水洗、乾燥
ができ、一つの処理部に対し多種の薬品処理が任意で行
うことができる処理部の効率利用が可能な、半導体製造
装置用大型治具等の多槽式洗浄システム。
【請求項８】任意の処理薬品を貯蔵する複数の請求項
２記載の貯蔵部と任意の数の請求項２記載の温風発生ユ
ニットと処理部を一体にした装置で構成し、選択した処
理部に選択した処理薬品を供給し薬品処理、水洗、乾燥
ができ、一つの処理部に対し多種の薬品処理が任意で行
うことができる処理部の効率利用が可能な、ウェハの多
槽式洗浄システム。
【請求項９】ポンプ、フィルタ、温度調節ユニット及
び制御バルブを有する濾過送液ユニットの一式により、
貯蔵部のタンク内の処理薬品の循環濾過、処理部への濾
過送液、処理槽内の処理薬品の循環濾過及び処理部から
貯蔵部への回収を行う効率的なマルチ薬品送液システ
ム。
【請求項１０】請求項１，２記載の貯蔵部から処理部
へ処理薬品を濾過供給、循環濾過及び濾過回収して薬品
処理を行い、次いで処理部でシャワー水洗、浸漬水洗及
び急速排水を繰り返し効率的に水洗を行う、薬品処理、
水洗を同一処理槽で行う薬品処理方法。
【請求項１１】処理薬品の秤量及び貯蔵が可能なタン
クと、処理薬品の供給、回収及び循環を行うポンプ、フ
ィルタ、温度調節ユニット及び制御バルブを有する濾過
送液ユニット、とを含む薬品秤量貯蔵送液装置。
【請求項１２】（ａ）水の貯蔵が可能なタンクと、水
の供給、回収及び循環を行うポンプ、フィルタ、イオン
交換物質フィルタ、温度調節ユニット、紫外線殺菌灯及
び制御バルブを有する濾過再生ユニット、とを含む貯蔵
部と、（ｂ）温風発生装置及びＨＥＰＡフィルターを有する温
風発生ユニットと、（ｃ）貯蔵部から濾過再生された水の供給、回収ライン
と接続され、温風発生ユニットから温風を供給する乾燥
エアー供給ダクトを持つ処理槽と、処理槽を囲う、排気
ダクトに接続されるドレンパンと、処理槽上部のドレン
パンをふさぐ開閉式扉と、その上部を覆う空間部、とを
含む処理部、とを有し、以て、開閉式扉を閉じ、低排気量で貯蔵部より水を処理
部へ供給、循環濾過を行って水洗処理を行い、回収し
て、貯蔵部内循環濾過再生を行い貯蔵する一方、温風発
生ユニットより処理部へ温風を供給し乾燥させることに
より水洗を必要とする被洗浄物の水洗、乾燥を同一処理
槽で行うことを特徴とする一槽式水洗装置。
【請求項１３】請求項１２記載の貯蔵部と処理部と
を、それぞれユニット化し、分離レイアウト及び一体レ
イアウトの選択を可能にする、クリーン水洗を必要とす
る被洗浄物の水洗、乾燥を同一処理槽で行うことを特徴
とする一槽式処理システム。