JPH06192865A - 洗浄乾燥装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】メッキ処理後のワークを、シミやシワ等を何等
発生させることなく、確実に洗浄乾燥することができ、
また良好なイオン交換機能を維持し、かつ槽内への有機
物発生を防止すると共に、廃水処理が不要で、さらにラ
ンニングコストの低減を図ると共に、ワークの自動搬送
により大幅な省力化を図ることができ、しかも大気汚染
の影響がない洗浄乾燥装置の提供を目的とする。 【構成】列状に配設され、オーバフロー構造に形成され
た複数の洗浄槽３〜７と、下流側の洗浄槽３または５と
上流の洗浄槽７とを結ぶ送液ライン１０と、送液ライン
１０に介設されたイオン交換樹脂塔１１と、イオン交換
樹脂塔１１の純水出口ライン１８に接続された塩素含有
水供給ライン２５と、上流の洗浄槽７上方に配設された
エアナイフと、メッキ処理後のワークを上記下流側の洗
浄槽から上流の洗浄槽へ順次搬送する搬送手段とを備
え、上流の洗浄槽７における純水温度を４５℃未満に設
定したことを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、例えば、メッキ処理
後のワークを洗浄乾燥するようなメッキ後処理用の洗浄
乾燥装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、例えば、合成樹脂表面および金属
表面に無電解メッキ処理および電気メッキ処理を施した
ワークを、水洗、湯洗後に熱風乾燥すると、水洗および
湯洗に用いられる洗浄水（一般に水道水）の影響により
製品表面に水垢によるシミや湯皺が発生する問題点があ
った。

【０００３】このような問題点を解決するために、フロ
ン溶剤（例えばＲ１１３）を用いて上述のワークを洗浄
した後に、溶剤蒸気洗浄を行なうと、シミや湯皺の発生
を抑制することができる利点がある反面、大気汚染を招
く問題点があった。一方、超音波洗浄装置を用いた場合
には、装置全体が極めて高価となる問題点があった。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】この発明は、メッキ処
理後のワーク（全ての被メッキ体）を、シミやシワ等を
何等発生させることなく、確実に洗浄乾燥することがで
き、また良好なイオン交換機能を維持し、かつ槽内への
有機物発生を防止すると共に、廃水処理が不要で、さら
にランニングコストの低減を図ると共に、ワークの自動
搬送により大幅な省力化を図ることができ、しかも大気
汚染の影響がない洗浄乾燥装置の提供を目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】この発明は、列状に配設
され、オーバフロー構造に形成された複数の洗浄槽と、
下流側の洗浄槽と上流の洗浄槽とを結ぶ送液ラインと、
上記送液ラインに介設されたイオン交換樹脂塔と、上記
イオン交換樹脂塔の純水出口ラインに接続された塩素含
有水供給ラインと、上記上流の洗浄槽上方に配設された
エアナイフと、メッキ処理後のワークを上記下流側の洗
浄槽から上流の洗浄槽へ順次搬送する搬送手段とを備
え、上流の洗浄槽における純水温度を４５℃未満に設定
した洗浄乾燥装置であることを特徴とする。

【０００６】

【発明の効果】この発明によれば、上述のイオン交換樹
脂塔によりアニオン（anion 、陰イオン）とカチオン
（cation、陽イオン）とが除去された純水（脱イオン
水、イオン交換水）を用いて、４５℃未満の低温での洗
浄を行なうので、メッキ処理後のワークを、シミやシワ
等を何等発生させることなく、確実に洗浄し、かつ洗浄
後のワークに対してエアナイフによりエアを吹き付け
て、ワーク表面に付着した水粒子を確実に除去し、乾燥
することができる効果がある。

【０００７】しかも、上流の洗浄槽における純水温度４
５℃未満に設定したので、良好なイオン交換機能を維持
することができる効果がある。

【０００８】また上述の複数の洗浄槽をオーバフロー構
造に形成したので、ワーク洗浄後の廃水を上流側から下
流側へ自然流下させ、廃水処理が不要になると共に、イ
オン交換樹脂塔の純粋出口ラインには塩素含有水供給ラ
インを接続し、洗浄槽内へ所定量の塩素含有水を供給す
べく構成したので、洗浄槽内に藻などの有機物が発生す
るのを塩素により防止することができる効果がある。

【０００９】さらに、従来の各種溶剤を用いる装置と比
較して、ランニングコストの低減を図ることができるう
え、大気汚染の懸念もなく、加えて、上述の搬送手段で
メッキ処理後のワークを下流側の洗浄槽から上流の洗浄
槽に向流方向へ順次搬送するので、ワークの自動搬送に
より大幅な省力化を図ることができる効果がある。

【００１０】さらにまた、従来の超音波洗浄装置と比較
して、装置全体の低コスト化を図ることができる効果が
あるうえ、下流側の廃水と云えども純度が高いので、他
の洗浄に有効利用することが可能である。

【００１１】加えて、上述のエアナイフを上流の洗浄槽
上方に配設したので、装置スペースの狭小化と、エアに
より除去された水粒子の回収性能の向上を図ることがで
きる効果がある。

【００１２】

【実施例】この発明の一実施例を以下図面に基づいて詳
述する。図面は洗浄乾燥装置を示し、図１、図２におい
て、基台としてのベース１上には所定形状に枠組みされ
た架構２を立設固定すると共に、ベース１の長手方向中
央部にはオーバフロー構造に形成された合計５槽の洗浄
タンク３，４，５，６，７を列状に配設し、これら各洗
浄タンク３〜７の延長線上におけるベース１中央には２
台の真空乾燥装置８，９を配置している。

【００１３】一方、図２に示すように最下流の洗浄タン
ク３と最上流の洗浄タンク７とを結ぶ送液ライン１０を
設け、この送液ライン１０の中途部にイオン交換樹脂塔
１１を介設している。このイオン交換樹脂塔１１は原水
として使用する水道水の水中に含まれる塩類や遊離した
酸、塩基などをイオン交換反応を応用して除去し、純水
を得る装置である。また、このイオン交換樹脂塔１１は
洗浄された洗浄水中の不純物をも除去する。

【００１４】ここで、上述の送液ライン１０は最下流の
洗浄タンク３と電磁三方切換弁により構成された第１バ
ルブ１２の一方のインレットポートとを結ぶリターンラ
イン１３と、このリターンライン１３に介設したフィル
タ１４と、上述の第１バルブ１２のアウトレットポート
と流体ポンプ１５とを結ぶサクションライン１６と、流
体ポンプ１５の吐出側とイオン交換樹脂塔１１とを結ぶ
吐出ライン１７と、このイオン交換樹脂塔１１の純水出
口と最上流の洗浄タンク７とを結ぶ純水出口ライン１８
と、上述のサクションライン１６に介設し、電磁三方切
換弁により構成された第２バルブ１９と、中央の洗浄タ
ンク５と上述の第２バルブ１９の一方のインレットポー
トとを結ぶバイパスライン２０と、このバイパスライン
２０に介設したフィルタ２１とを備えている。

【００１５】また上述の第１バルブ１２における他方の
インレットポートには各洗浄タンク３〜７に純水を充満
させる運転初期時にのみ使用する原水供給ライン２２を
接続し、この原水供給ライン２２には例えば電磁開閉弁
等により構成された第３バルブ２３を介設している。な
お、上述の原水供給ライン２２としては水道水供給ライ
ンを用いる。

【００１６】さらに上述の純水出口ライン１８の中途部
２４には、塩素含有水としての水道水を供給する原水供
給ライン２５を接続し、この原水供給ライン２５には逆
止弁２６を介設している。

【００１７】そして上述の第１バルブ１２および第２バ
ルブ１９の切換操作により、洗浄水（純水）を各要素１
５，１７，１１，２４，１８，７，６，５，４，３，１
３，１４，１２，１６，１９の順に循環させる第１送液
経路Ａと、洗浄水を各要素１５，１７，１１，２４，１
８，７，６，５，２０，２１，１９の順に循環させる第
２送液経路Ｂとを被洗浄物（ワーク）の種類に対応して
選択すべく構成している。

【００１８】一方、上述の各真空乾燥装置８，９は乾燥
処理能力いわゆるランニングサイクルを倍加するために
その何れかを選択して交互に使用するもので、これら各
真空乾燥装置８，９のチャンバには減圧ライン２７，２
８を介して単一の真空ポンプ２９を接続すると共に、上
述の各減圧ライン２７，２８には電磁開閉弁により構成
される第４バルブ３０、第５バルブ３１をそれぞれ介設
している。なお、上述の各減圧ライン２７，２８にそれ
ぞれ別々の真空ポンプを接続してもよい。

【００１９】ところで、上述の架構２には図１、図３に
示すようにレール支持部材３２を介して一対のレール３
３，３３を水平に横架し、このレール３３，３３には、
メッキ処理後のワークを最下流の洗浄タンク３から最上
流の洗浄タンク７へ順次搬送した後に、ワークを真空乾
燥装置８，９に往復搬送する搬送手段３４を取付けてい
る。

【００２０】上述の搬送手段３４は、左右に複数の車輪
３５，３５を備えた水平走行装置３６と、この水平走行
装置３６の下部中央に吊設されたガイド３７に取付けた
昇降装置３８と、治具ホルダ３９を着脱する着脱装置４
０とを備え、上述の治具ホルダ３９いわゆるハンガに対
してメッキ処理時とメッキ処理後の洗浄乾燥とに共用す
る複数の治具４１，４１（但し、図においては簡略的に
図示している）を離脱可能に取付けている。なお、上述
の水平走行装置３６は例えばハウジング内に交流可逆モ
ータを配設し、この交流可逆モータの回転軸を、減速機
構等を介して車輪３５，３５と連動させることにより構
成し、上述の昇降装置３８は流体シリンダまたはラック
＆ピニオン機構により構成し、上述の着脱装置４０はロ
ボットアームまたはマグネットキャッチ機構その他によ
り構成することができる。

【００２１】また図３に示すように上述の最上流の洗浄
タンク７の上方には、治具４１，４１いわゆるラックに
係止された多数個のワークに対して所定温度のエアを吹
き付けるエアナイフ４２を配設している。このエアナイ
フ４２はワークに対して異角多方向からエアを吹き付け
るが、図面では概略的に示している。

【００２２】一方、上述の各真空乾燥装置８，９上部の
リッド４３を開閉するリッド開閉装置は、図４、図５に
示す構造か、或は図６、図７に示す構造かの何れかに構
成する。すなわち、図４、図５に示すリッド開閉装置４
４はリッド４３の背面に流体シリンダ４５のピストンロ
ッド４６を連結して、リッド４３を水平方向に直線往復
動させて開閉すべく構成している。

【００２３】また図６、図７に示すリッド開閉装置４７
は、支軸４８を支点として開閉するリッド４３の突片４
９に、流体シリンダ５０のピストンロッド５１を連結し
て、リッド４３の起伏動により開閉すべく構成してい
る。

【００２４】ここで、上述の図４、図５に示す構造の場
合には、リッド開閉装置４４の占有スペースが比較的大
となるが、搬送手段３４のリッド開成待ち時間を大幅に
短縮することができ、一方、上述の図６、図７に示す構
造の場合は、搬送手段３４のリッド開成待ち時間を要す
るが、リッド開閉装置４７の占有スペースが小となる。

【００２５】図８は洗浄乾燥装置の制御回路を示し、Ｃ
ＰＵ６０は、各洗浄タンク３〜７の液温を検出する液温
センサ群５２からの温度信号と、搬送手段３４およびリ
ッド４３の位置を検出する位置センサ群５３からの位置
信号と、真空乾燥装置８，９のチャンバ内の減圧度を検
出する減圧度センサ５４からの減圧信号と、真空乾燥装
置８，９のチャンバ内の室温を検出する室温センサ５５
からの温度信号と、送液経路Ａ，Ｂを切換える経路選定
スイッチ６１からのスイッチ信号との各入力に基づい
て、ＲＯＭ５６に格納されたプログラムに従って、加熱
装置群５７、水平走行装置３６、昇温装置３８、着脱装
置４０、各バルブ１２，１９，２３，３０，３１からな
るバルブ群５８、流体ポンプ１５、エアナイフ４２、リ
ッド開閉装置４４または４７、真空ポンプ２９を駆動制
御し、またＲＡＭ５９は各洗浄タンク３〜７の設定液温
データ、各真空乾燥装置８，９の設定減圧度データ、各
真空乾燥装置８，９の設定室温データ、搬送手段３４に
よるワーク搬送パターンなどの必要なデータを記憶す
る。

【００２６】さらに、上述の加熱装置群５７は、各洗浄
タンク３〜７の洗浄水（純水）を加熱する手段と、各真
空乾燥装置８，９のチャンバ内を加熱する手段とを含
む。

【００２７】ここで、上述の各洗浄タンク３〜７の液温
設定値は、例えば合成樹脂表面に無電解メッキ処理およ
び電気メッキ処理が施された衣服用のボタンを洗浄乾燥
する場合には次のように設定する。

【００２８】すなわち、洗浄タンク３，４の液温設定値
を、水切り後の乾燥を容易にする目的で約７０℃に設定
し、洗浄タンク５，６，７の液温設定値を、純水のイオ
ン交換機能を確保する目的で４５℃未満の例えば約４２
℃に設定する。

【００２９】また上述の経路選定スイッチ６１により図
２に示す第１送液経路Ａが選定された場合には、原水供
給ライン２５から循環総量の約１％の水道水を補給し、
これと同等の約１％のオーバフロー水を洗浄タンク３か
ら流出させ、上述の経路選定スイッチ６１により図２に
示す第２送液経路Ｂが選定された場合には、原水供給ラ
イン２５から循環総量の約２０〜２５％の水道水を補給
し、これと同等の約２０〜２５％のオーバフロー水を洗
浄タンク３から流出させる。

【００３０】なお、上述の洗浄タンク３に電導計を配設
すると共に、原水供給ライン２５における逆止弁２６上
流に電磁弁を介設し、電導計の出力により純水度が低下
した時（不純物の量が所定値を超えた時）にのみ、該電
磁弁を開弁をし、節水を図るように構成してもよい。

【００３１】図示実施例は上記の如く構成するものにし
て、以下作用を説明する。まず、メッキ処理槽から引き
上げたワークおよび治具４１（治具４１に多数のワーク
が係止されている）を搬送手段３４の治具ホルダ３９に
取付け、次に同搬送手段３４の駆動によりワークおよび
治具４１を最下流の洗浄タンク３に浸漬する。

【００３２】次に、上述の洗浄タンク３内に所定時間浸
漬されて、メッキ液等が洗浄されたワークを治具４１と
共に引上げ、搬送手段３４の駆動により上述のワークお
よび治具４１を次段の洗浄タンク４に浸漬する。

【００３３】以下同様にして、上述のワークおよび治具
４１を上述の洗浄タンク４から洗浄タンク５，６，７に
向流方向へ順次浸漬した後に、最上流の洗浄タンク７か
らワークおよび治具４１を引き上げ、この洗浄タンク７
上方に図３に示すように静止させる。

【００３４】次に、エアナイフ４２を駆動して、同エア
ナイフ４２のエアノズルから所定温度のエアをワークに
対して異角多方向から吹き付けて、ワーク表面に付着し
た水粒子を除去し、乾燥する。以上の処理より表面が滑
らかなワークに関しては、水粒子の確実な除去、乾燥が
できるが、ヘアーラインを有するワークやガイドホール
を有するワーク、或はその他の凹部を有するワークに対
しては水粒子が残存する場合があるので、このようなワ
ークは上述の搬送手段３４により次段の真空乾燥装置
８，９に搬送し、所定温度および所定減圧度に保持され
た同真空乾燥装置８，９のチャンバ内で真空乾燥（vacu
um drying ）する。つまり液体は圧力が低い程、気化し
やすいことを利用して、上述のチャンバ内を所定減圧度
に保持することで水粒子の潜熱を奪って、乾燥させる。

【００３５】以上要するに、上述のイオン交換樹脂塔１
１により水中の不純物塩類、炭酸、ケイ酸などが除去さ
れた純水を用いて、４５℃未満（但し最上流の洗浄タン
ク７の液温）の低温での洗浄を行なうので、メッキ処理
後のワークを、シミやシワ等を何等発生させることな
く、確実に洗浄し、かつ洗浄後のワークに対してエアナ
イフ４２によりエアを吹き付けて、ワーク表面に付着し
た水粒子を確実に除去し、乾燥することができる効果が
ある。

【００３６】しかも、上流の洗浄タンク７における純水
温度を４５℃未満に設定したので、良好なイオン交換機
能を維持することができる効果がある。

【００３７】また上述の複数の洗浄タンク３〜７をオー
バフロー構造に形成したので、ワーク洗浄後の廃水を上
流側から下流側へ自然流下させ、廃水処理が不要になる
と共に、イオン交換樹脂塔１１の純水出口ライン１８に
は塩素含有水供給ラインとしての原水供給ライン２５を
接続し、洗浄タンク３〜７内へ所定量の塩素含有水（具
体的には水道水）を供給すべく構成したので、洗浄タン
ク３〜７内に藻などの有機物が発生するのを塩素Ｃｌに
より防止することができる効果がある。

【００３８】さらに、従来の各種溶剤（フロン溶剤や界
面活性剤など）を用いる装置と比較して、ランニングコ
ストの低減を図ることができるうえ、大気汚染の懸念も
一切なく、加えて、上述の搬送手段３４でメッキ処理後
のワークを下流の洗浄タンク３から上流の洗浄タンク７
に向流方向へ順次搬送するので、ワークの自動搬送によ
り大幅な省力化を図ることができる効果がある。

【００３９】さらにまた、従来の超音波洗浄装置と比較
して、装置全体の低コスト化を図ることができる効果が
あるうえ、上述の洗浄タンク３からオーバフローして流
出される廃水と云えども、純度が高いので、他の洗浄に
有効利用することが可能である。

【００４０】加えて、上述のエアナイフ４２を上流の洗
浄タンク７の上方に配設したので、装置スペースの狭小
化と、エアにより除去された水粒子の回収性能の向上を
図ることができる効果がある。

【００４１】この発明の構成と、上述の実施例との対応
において、この発明の複数の洗浄槽は、実施例の５槽構
造の洗浄タンク３，４，５，６，７に対応し、以下同様
に、下流側の洗浄槽は、洗浄タンク３，４，５に対応
し、上述の洗浄槽は、洗浄タンク７に対応し、塩素含有
水供給ラインは、原水供給ライン２５に対応するも、こ
の発明は、上述の実施例の構成のみに限定されるもので
はなく、例えば洗浄タンクは５槽構造の他に４槽以下の
複数構造でもよく、６槽以上の多槽構造でもよい。また
被洗浄乾燥物としては全ての被メッキ物に適用できるこ
とは勿論である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の洗浄乾燥装置を示す正面図。

【図２】同洗浄乾燥装置の平面系統図。

【図３】図１のＣ−Ｃ線矢視図。

【図４】リッド開閉装置の概略図。

【図５】リッド開成状態の説明図。

【図６】リッド開閉装置の他の実施例を示す概略図。

【図７】リッド開成状態の説明図。

【図８】制御回路ブロック図。

【符号の説明】

３〜７…洗浄タンク １０…送液ライン １１…イオン交換樹脂塔 １８…純水出口ライン ２５…原水供給ライン ３４…搬送手段 ４２…エアナイフ

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】列状に配設され、オーバフロー構造に形成
   された複数の洗浄槽と、下流側の洗浄槽と上流の洗浄槽
   とを結ぶ送液ラインと、上記送液ラインに介設されたイ
   オン交換樹脂塔と、上記イオン交換樹脂塔の純水出口ラ
   インに接続された塩素含有水供給ラインと、上記上流の
   洗浄槽上方に配設されたエアナイフと、メッキ処理後の
   ワークを上記下流側の洗浄槽から上流の洗浄槽へ順次搬
   送する搬送手段とを備え、上流の洗浄槽における純水温
   度を４５℃未満に設定した洗浄乾燥装置。