JPH07183307A - 半導体製造装置 - Google Patents

半導体製造装置

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Publication number
JPH07183307A
JPH07183307A JP5345460A JP34546093A JPH07183307A JP H07183307 A JPH07183307 A JP H07183307A JP 5345460 A JP5345460 A JP 5345460A JP 34546093 A JP34546093 A JP 34546093A JP H07183307 A JPH07183307 A JP H07183307A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
power
unit
generating unit
heating
storage unit
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Pending
Application number
JP5345460A
Other languages
English (en)
Inventor
Noriyuki Fukumura
紀之 福村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kokusai Electric Corp
Original Assignee
Kokusai Electric Corp
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Publication date
Application filed by Kokusai Electric Corp filed Critical Kokusai Electric Corp
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Publication of JPH07183307A publication Critical patent/JPH07183307A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product

Abstract

(57)【要約】 【目的】加熱炉を有する半導体製造装置に於いて、加熱
炉の廃熱を有効利用する。 【構成】加熱炉１からの放熱を廃熱回収ユニット３によ
り吸収し、吸収した廃熱により発電、暖房等を行う。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は半導体製造装置、特に加
熱炉を有する半導体製造装置に於いて廃熱を有効利用し
た半導体製造装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造工程の１つに、反応炉内にシ
リコンウェーハを装入し、高温状態で反応ガスを供給
し、ウェーハ表面に薄膜を生成し、或は不純物の拡散、
或はアニール処理等を行う工程があり、斯かる工程では
反応炉内を所定の温度迄加熱し、ウェーハを装入し、所
定時間を経てウェーハを引出し、処理後は反応炉の加熱
を停止し、前記反応炉内を所定の温度迄放熱冷却させた
後、次のウェーハを装入している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】前記した様に半導体製
造工程では１処理工程毎に、反応炉内の加熱、冷却を行
っており、従来は反応炉内の冷却は、加熱停止後、空気
の流通等により単に放熱させているだけであり、廃熱は
有効利用されていなかった。
【０００４】本発明は斯かる実情に鑑み、反応炉の廃熱
を有効利用しようとするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、加熱炉を囲繞
する廃熱回収ユニットを設け、加熱炉の廃熱を回収する
様構成したことを特徴とするものである。
【０００６】
【作用】加熱炉からの放熱を廃熱回収ユニットにより吸
収し、吸収した廃熱により発電、暖房等を行う。
【０００７】
【実施例】以下、図面を参照しつつ本発明の一実施例を
説明する。
【０００８】図中、１は反応炉、２はウェーハ（図示せ
ず）を水平姿勢で多段に保持するボートである。該ボー
ト２は図示しないボートエレベータにより前記反応炉１
内に装入、引出しされる様になっている。
【０００９】前記反応炉１の周囲に廃熱回収ユニットの
１つである蒸気発生ユニット３を設け、該蒸気発生ユニ
ット３を導管５により電力発生ユニット４に接続する。
又、該電力発生ユニット４は電力蓄電ユニット６に電気
的に接続する。
【００１０】前記蒸気発生ユニット３で発生した蒸気は
前記電力発生ユニット４に導かれ、タービン等を駆動し
て電力を発生する。電力発生ユニット４で復水した水は
前記蒸気発生ユニット３に循環する。前記電力発生ユニ
ット４で発生した電力は、前記電力蓄電ユニット６に出
力され、蓄電される。該電力蓄電ユニット６の出力ライ
ンは、半導体製造装置等の電力供給ラインに接続され、
必要に応じ前記電力蓄電ユニット６から電力の供給がな
される。
【００１１】尚、発生した蒸気は暖房、冷房用の熱源と
して利用してもよい。
【００１２】尚、循環する熱媒体は水等の液体でも、炭
酸ガス、ヘリウム等の気体でもよい。更に、前記蒸気発
生ユニット３を反応炉１加熱中は断熱ユニットとして利
用してもよい。又、反応炉以外の各種加熱炉に実施可能
であることは言う迄もない。
【００１３】
【発明の効果】以上述べた如く本発明によれば、加熱炉
の廃熱を有効利用でき省エネルギ化を促進することがで
きる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例を示す説明図である。
【符号の説明】
１ 反応炉 ２ ボート ３ 蒸気発生ユニット ４ 電力発生ユニット ５ 導管 ６ 電力蓄電ユニット

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 加熱炉を囲繞する廃熱回収ユニットを設
    け、加熱炉の廃熱を回収する様構成したことを特徴とす
    る半導体製造装置。
JP5345460A 1993-12-21 1993-12-21 半導体製造装置 Pending JPH07183307A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019149509A (ja) * 2018-02-28 2019-09-05 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 基板処理装置および基板処理方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019149509A (ja) * 2018-02-28 2019-09-05 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 基板処理装置および基板処理方法
WO2019167516A1 (ja) * 2018-02-28 2019-09-06 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 基板処理装置および基板処理方法

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Effective date: 20040330