JPH07183204A

JPH07183204A - 露光装置

Info

Publication number: JPH07183204A
Application number: JP5345619A
Authority: JP
Inventors: Masahito Kumazawa; 雅人熊澤; Kinya Kato; 欣也加藤
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1993-12-22
Filing date: 1993-12-22
Publication date: 1995-07-21
Anticipated expiration: 2017-08-19
Also published as: JP3316710B2

Abstract

(57)【要約】【目的】スループットを低下させることなく良好な結
像性能をもって、大きな露光領域を一括して走査露光す
ることのできる露光装置を提供することを目的とする。【構成】本発明の露光装置は、投影光学系に対して第
１の基板および第２の基板を相対的に移動させて前記第
１の基板上に形成されたパターンを前記投影光学系を介
して前記第２の基板上に投影露光する露光装置におい
て、前記投影光学系は、前記第１の基板に形成されたパ
ターンの等倍正立像を前記第２の基板上に形成する、少
なくとも像側がテレセントリックな複数の投影光学ユニ
ットからなり、前記複数の投影光学ユニットの各々を介
して前記第２の基板上に形成された複数の露光領域の前
記移動方向に沿った長さの総和が前記移動方向と直交す
る方向に亘り実質的に一定になるように制御するための
制御手段とを備えていることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は露光装置に関し、特に投
影光学系に対して第１の基板と第２の基板とを相対的に
移動させて投影露光を行う走査型の投影露光装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】近年、ワープロ、パソコン、テレビ等の
表示素子として、液晶表示パネルが多用されるようにな
った。液晶表示パネルは、ガラス基板上に透明薄膜電極
をフォトリソグラフィの手法で所望の形状にパターンニ
ングして作られる。このリソグラフィのための装置とし
て、マスク上に形成された原画パターンを投影光学系を
介してガラス基板上のフォトレジスト層に露光するミラ
ープロジェクションタイプのアライナーが使われてい
る。

【０００３】図８は、従来のミラープロジェクションタ
イプのアライナーの構成を示す図であって、（ａ）はア
ライナーの全体構成を示す斜視図であり、（ｂ）はアラ
イナーの投影光学系の構成を示すレンズ断面図である。
図８（ａ）において、図示を省略した照明光学系により
マスク７１ｃが円弧状の照野７２ａにおいて照明され
る。この照野７２ａからの光は、図８（ｂ）に示すよう
に、台形ミラー７３の第１の反射面７３ａにおいてその
光路が９０°偏向され、凹面鏡７４および凸面鏡７５を
介して、再び凹面鏡７４で反射される。凹面鏡７４で反
射された光は、台形ミラーの第２の反射面７３ｂにおい
てその光路が９０°偏向される。こうして、プレート７
６上には、マスク７１ｃの像すなわち照野７２ａの像７
２ｂが形成される。

【０００４】図示のアライナーでは、プレート７６とマ
スク７１ｃとを図中Ｘ方向に移動させながらいわゆる走
査露光を行い、マスク７１ｃ上の回路パターンをプレー
ト７６の所定領域に転写する。最近、液晶表示パネルの
大型化が望まれている。この大型化の要求に伴い、上述
のようなアライナーにおいても、露光領域の拡大が望ま
れている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上述した従来の露光装
置では、露光領域を拡大するために、露光領域を分割し
て露光していた。具体的には、図８（ａ）に示すよう
に、プレート７６上の露光領域を７６ａ乃至７６ｄの４
つの領域に分割し、マスク７１ａと領域７６ａとを走査
露光し、領域７６ａにマスク７１ａの回路パターンを転
写する。次いで、マスク７１ａとマスク７１ｂとを交換
するとともに、投影光学系の露光領域と領域７６ｂとが
重なるように、プレート７６を図中ＸＹ平面内でステッ
プ的に移動させる。そして、マスク７１ｂと領域７６ｂ
とを走査露光して、マスク７１ｂの回路パターンを領域
７６ｂ上に転写する。以下、マスク７１ｃおよび７１ｄ
ならびに領域７６ｃおよび７６ｄについて同様の工程を
繰り返し、マスク７１ｃおよび７１ｄの回路パターンを
それぞれ領域７６ｃおよび７６ｄに転写していた。

【０００６】このように、露光領域を分割して露光する
場合、１つの露光領域に対して複数回の走査露光を行う
ためスループット（単位時間当たりの露光基板量）が低
い。さらに、分割露光の場合には、隣接する露光領域と
の間に継ぎ目が発生するのでその継ぎ精度を高める必要
がある。このため、投影光学系の倍率誤差を０に近づけ
る必要があるとともに、アライメント精度の大幅な向上
が要求され、装置のコスト高を招くという不都合があっ
た。

【０００７】一方、分割露光することなく大きな１つの
露光領域を一括して走査露光するために、投影光学系の
大型化を図ることが考えられる。しかしながら、投影光
学系の大型化を図るためには、大型の光学素子を非常に
高精度に製作する必要があり、その結果製作コストの増
大および装置の大型化を招く。また、投影光学系の大型
化により収差の増大すなわち結像性能の低下を招くとい
う不都合があった。本発明は、前述の課題に鑑みてなさ
れたものであり、スループットを低下させることなく良
好な結像性能をもって、大きな露光領域を一括して走査
露光することのできる露光装置を提供することを目的と
する。

【０００８】

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、本発明においては、投影光学系に対して第１の基板
および第２の基板を相対的に移動させて前記第１の基板
上に形成されたパターンを前記投影光学系を介して前記
第２の基板上に投影露光する露光装置において、前記投
影光学系は、前記第１の基板に形成されたパターンの等
倍正立像を前記第２の基板上に形成する、少なくとも像
側がテレセントリックな複数の投影光学ユニットからな
り、前記複数の投影光学ユニットの各々を介して前記第
２の基板上に形成された複数の露光領域の前記移動方向
に沿った長さの総和が前記移動方向と直交する方向に亘
り実質的に一定になるように制御するための制御手段と
を備えていることを特徴とする露光装置を提供する。

【０００９】本発明の好ましい態様によれば、前記投影
光学ユニットは、少なくとも１つの凹面鏡と、少なくと
も１つの凸面鏡とを備えたオフナー型光学系である。ま
た、前記投影光学ユニットは、前記第１の基板上に形成
されたパターンの中間像を形成する第１の部分光学系
と、前記中間像を前記第２の基板上に再結像させる第２
の部分光学系とを備えているのが好ましい。

【００１０】

【作用】以上のように、本発明では、走査型の露光装置
において、第１の基板であるマスクに形成された回路パ
ターンの等倍正立像（左右上下の横倍率が正となる像）
を複数の投影光学ユニットからなる投影光学系を介して
第２の基板であるプレート上に投影露光する。なお、複
数の投影光学ユニットの各々を介してプレート上に形成
される複数の露光領域は、走査方向に沿った長さの総和
が走査直交方向に亘り一定になるように、すなわちプレ
ート全面に亘り露光光量が一定になるように構成されて
いる。このように、走査方向に沿った露光領域の幅の総
和が走査直交方向に一定になるように複数の投影光学ユ
ニットが配列されているので、個々の投影光学ユニット
が小型でその露光領域が小さくても、１回の走査露光に
より全体として１つの大きな露光領域を得ることができ
る。

【００１１】また、個々の投影光学ユニットが小型であ
るため、収差の発生を最小限に抑え良好な結像性能をも
って走査露光をすることができる。各投影光学ユニット
が２つの部分光学系からなり、第１の部分光学系を介し
てマスクパターンの中間像が形成される位置に配置され
た視野絞りの開口部形状によってプレート上に形成され
る各露光領域を規定する場合、開口部の端部は三角形状
を有し、隣接する開口部の三角形端部と走査方向に重複
するのがよい。また、部分光学系がオフナー型光学系の
場合には、開口部の両端部を除く中央開口部は、２つの
円弧によってあるいは２つの折れ線によって規定されて
いるのが好ましい。

【００１２】

【実施例】本発明の実施例を、添付図面に基づいて説明
する。図１は、本発明の実施例にかかる露光装置の構成
を示す斜視図である。また、図２は、図１の露光装置の
投影光学系の構成を示す図である。図１では、所定の回
路パターンが形成されたマスク８とレジストが塗布され
たガラス基板からなるプレート９とが一体的に搬送され
る方向（走査方向）をＸ軸とし、マスク８の平面内でＸ
軸と直交する方向をＹ軸とし、マスク８の法線方向をＺ
軸としている。

【００１３】図１において、本実施例の露光装置は、図
中ＸＹ平面内のマスク８を均一に照明するための照明光
学系１０を備えている。マスク８の下方には、複数の投
影光学ユニット２ａ乃至２ｇからなる投影光学系が配設
されている。各投影光学ユニットはそれぞれ同じ構成を
有する。投影光学系のさらに下方には、プレート９がＸ
Ｙ平面とほぼ平行になるようにステージ上に載置されて
いる。なお、走査露光中、マスク８とプレート９とは図
中矢印方向（Ｘ０方向）に一体的に移動される。

【００１４】図２は、各投影光学ユニットの構成を概略
的に示す図である。図示の投影光学ユニットは、第１の
部分光学系（２１〜２３）と、視野絞り２４と、第２の
部分光学系（２５〜２７）とから構成されている。第１
部分光学系（２１〜２３）および第２部分光学系（２５
〜２７）は、それぞれオフナー型の光学系であって、同
じ構成を有する。

【００１５】第１の部分光学系は、マスク８からの光を
Ｘ軸方向（図中右側）に偏向する第１の反射面２１ａを
有する等脚台形プリズム２１と、等脚台形プリズム２１
の第１の反射面２１ａで反射された光を図中左方向に反
射する凹面鏡２２と、凹面鏡２２の光軸と同軸に凹面鏡
２２と対向するように配置された凸面鏡２３とからな
る。上述したように、第１の部分光学系と第２の部分光
学系とは全く同じ構成を有する。図２において、第２の
部分光学系の構成要素には第１の部分光学系の構成要素
と異なる符号が付されているが、第２の部分光学系の構
成について重複する説明を省略する。

【００１６】マスク８を透過した照明光は、等脚台形プ
リズム２１の第１の反射面２１ａで図中右側に偏向さ
れ、凹面鏡２２に入射する。凹面鏡２２で図中左方向に
反射された光は、凸面鏡２３で図中右側に反射され、再
び凹面鏡２２に入射する。再び凹面鏡２２で図中左方向
に反射された光は、等脚台形プリズム２１の第２の反射
面２１ｂで図中下方に偏向され、第１の部分光学系と第
２の部分光学系との間にマスク８のパターンの一次像が
形成される。このように、第１の部分光学系（２１〜２
３）によって形成された一次像は、Ｘ方向の横倍率が正
でＹ方向の横倍率が負のマスク８の等倍像である。な
お、一次像が形成される位置には視野絞り２４が配置さ
れている。

【００１７】視野絞り２４を介した一次像からの光は、
等脚台形プリズム２５の第１の反射面２５ａで図中右側
に偏向され、凹面鏡２６に入射する。凹面鏡２６で図中
左方向に反射された光は、凸面鏡２７で図中右側に反射
され、再び凹面鏡２６に入射する。再び凹面鏡２６で図
中左方向に反射された光は、等脚台形プリズム２５の第
２の反射面２５ｂで図中下方に偏向され、プレート９上
にはマスク８のパターンの二次像が形成される。

【００１８】上述したように、第１の部分光学系と第２
の部分光学系とは全く同じ構成を有し、第２の部分光学
系はＸ方向の横倍率が正でＹ方向の横倍率が負の一次像
の等倍像を形成する。したがって、第１および第２の部
分光学系を介してプレート９上に形成される二次像は、
マスク８の等倍正立像（Ｘ方向およびＹ方向の横倍率が
ともに正の像）となる。ここで、第１および第２のオフ
ナー型部分光学系からなる投影光学ユニットは、両側
（物体側および像側の双方）テレセントリック光学系で
ある。なお、図２の投影光学ユニットでは、第１の部分
光学系の凹面鏡２２と第２の部分光学系の凹面鏡２６と
がともに図中左側を向くように構成されており、これに
よって投影光学ユニットの小型化ひいては投影光学系の
小型化を図ることができる。

【００１９】図３は、視野絞りの開口部の形状の第１の
例を示す図であって、（ａ）は視野絞りに形成された開
口部を、（ｂ）は開口部の形状と最大視野領域との関係
を示している。図３（ｂ）において破線で示すように、
オフナー型光学系では収差が十分小さい領域として規定
される最大視野領域はほぼ半円環状となる。したがっ
て、視野絞り２４に形成される開口部２４Ａの形状は上
記半円環状の最大視野領域内において規定される。

【００２０】図３（ｂ）において、開口部２４Ａの走査
方向と直交する方向（図中左右方向に対応）の幅は２４
Ｍで示されており、そのうち幅が２４Ｌで２つの円弧２
４ｃおよび２４ｄによって規定された中央開口部分２４
ａにおいては、その走査方向（図中上下方向に対応）の
幅が一定（２４Ｗ）になるように構成されている。な
お、走査速度を最大限に向上させるために、中央開口部
分２４ａの走査方向の幅２４Ｗは、最大視野領域に対し
て最大になるように選定するのが好ましい。一方、幅２
４Ｌの中央開口部分２４ａ以外の両端開口部分２４ｂ
（図中、破線部分）では、その走査方向の幅が端部に向
かって線形的に減少するように三角形状に構成されてい
る。

【００２１】図４は、視野絞りの開口部の形状の第２の
例を示す図であって、（ａ）は視野絞りに形成された開
口部を、（ｂ）は開口部の形状と最大視野領域との関係
を示している。図４（ｂ）において、開口部２４Ｂの走
査方向と直交する方向（図中左右方向に対応）の幅は２
４Ｍで示されており、そのうち幅が２４Ｌで２つの折れ
線２４ｃおよび２４ｄによって規定されたの中央開口部
分２４ａにおいては、その走査方向（図中上下方向に対
応）の幅が一定（２４Ｗ）になるように構成されてい
る。なお、走査速度を最大限に向上させるために、中央
開口部分２４ａの走査方向の幅２４Ｗは、最大視野領域
に対して最大になるように選定するのが好ましい。

【００２２】一方、幅２４Ｌの中央開口部分２４ａ以外
の両端開口部分２４ｂ（図中、破線部分）では、その走
査方向の幅が端部に向かって線形的に減少するように三
角形状に構成されている。このように、図３に示す視野
絞りの開口部ではその中央開口部分が２つの円弧で規定
されているのに対し、図４に示す視野絞りの開口部では
その中央開口部分が２つの折れ線で規定されている点が
基本的に相違する。

【００２３】図１において、投影光学ユニット２ａ乃至
２ｇにそれぞれ配置された視野絞りにより、マスク８上
において視野領域８ａ乃至８ｇが規定される。これらの
視野領域８ａ乃至８ｇの像は、投影光学系を介してプレ
ート９上の露光領域９ａ乃至９ｇにおいて等倍正立像と
して形成される。ここで、投影光学ユニット２ａ乃至２
ｄは、対応する視野領域８ａ乃至８ｄが図中Ｙ方向すな
わち走査直交方向に沿って直線状に並ぶように配設され
ている。一方、投影光学ユニット２ｅ乃至２ｇは、対応
する視野領域８ｅ乃至８ｇがＹ方向に沿って視野領域８
ａ乃至８ｄとは異なる直線状に並ぶように配設されてい
る。

【００２４】なお、投影光学ユニット２ａ乃至２ｄの光
軸および投影光学ユニット２ｅ乃至２ｇの光軸はともに
Ｘ軸に平行で、且つ投影光学ユニット２ａ乃至２ｄの等
脚台形プリズムと投影光学ユニット２ｅ乃至２ｇの等脚
台形プリズムとが近接するように、すなわち第１群の投
影光学ユニット２ａ乃至２ｄと第２群の投影光学ユニッ
ト２ｅ乃至２ｇとが対向するように構成されている。さ
らに、Ｙ方向に沿って投影光学ユニット２ａ、２ｅ、２
ｂ、２ｆ、２ｃ、２ｇ、２ｄの順に第１群と第２群とが
交互に配設されている。

【００２５】視野領域８ａ乃至８ｄと視野領域８ｅ乃至
８ｇとのＸ方向間隔を広げるように第１群の投影光学ユ
ニット２ａ乃至２ｄと第２群の投影光学ユニット２ｅ乃
至２ｇとを同じ向き配列してもよい。しかしながら、こ
の場合、走査露光を行うための走査量（マスク８および
プレート９のＸ方向移動量）が増大して、スループット
が低下するので好ましくない。

【００２６】なお、マスク８上の視野領域８ａ乃至８ｇ
は、それぞれ対応する投影光学ユニット内の視野絞りの
開口部によって規定される。したがって、照明光学系１
０には、視野領域８ａ乃至８ｇを厳密に規定するための
光学系を設ける必要がない。このように、プレート９上
には、投影光学ユニット８ａ乃至８ｄを介して露光領域
９ａ乃至９ｄがＹ方向に沿って直線状に形成され、投影
光学ユニット８ｅ乃至８ｇを介して露光領域９ｅ乃至９
ｇがＹ方向に沿って直線状に形成される。これらの露光
領域９ａ乃至９ｇは、マスク８上の視野領域８ａ乃至８
ｇの等倍正立像である。

【００２７】図５は、マスク上での視野絞りの配置を示
す図であって、投影光学ユニット２ａ乃至２ｇによって
規定される視野領域８ａ乃至８ｇとマスク８との平面的
な位置関係を示している。図５において、マスク８には
矩形状の回路パターンＰＡが形成されており、この回路
パターンＰＡを包囲するように遮光部ＬＳＡが設けられ
ている。照明光学系１０は、少なくとも図中破線で囲ま
れた照明領域１１１ａ乃至１１１ｇをほぼ均一な照度で
照明する。

【００２８】この照明領域１１１ａ乃至１１１ｇ内に
は、それぞれ対応する投影光学ユニット２ａ乃至２ｇの
視野絞りによって図中斜線部で示すように三日月状に規
定された視野領域８ａ乃至８ｇが納まるようになってい
る。ここで、視野領域８ａ乃至８ｄの凸側と視野領域８
ｅ乃至８ｇの凸側とが対向するように配置され、さらに
各視野領域の三角形状端部とこれに隣接する視野領域の
対応する三角形状端部とがＸ方向（走査方向）に重複す
るようになっている。

【００２９】このように、第１群の視野領域８ａ乃至８
ｄと第２群の視野領域８ｅ乃至８ｇとをＹ方向に交互に
配置するのは、各投影光学ユニットが両側テレセントリ
ック光学系であるため、ＸＹ平面において投影光学ユニ
ット２ａ乃至２ｇが占める領域がそれぞれ対応する視野
領域８ａ乃至８ｇより大きくなってしまうからである。
すなわち、直線状に配列した投影光学ユニット２ａ乃至
２ｄの視野絞りによって規定される視野領域８ａ乃至８
ｄでは、各領域の間でＹ方向に間隔が発生する。その結
果、投影光学ユニット２ａ乃至２ｄだけではプレート９
上においてＹ方向に連続した露光領域を確保することが
できなくなってしまう。そこで、投影光学ユニット２ｅ
乃至２ｇを付設して、対応する視野領域８ｅ乃至８ｇで
視野領域８ａ乃至８ｄのＹ方向間隔を補完して、Ｙ方向
に連続した露光領域を確保している。

【００３０】なお、視野領域８ａおよび８ｄは、その中
央部分であって走査方向の長さが一定である領域におい
て、遮光部ＬＳＡと回路パターンＰＡとの境界線と交差
するように位置決めされている。このように、マスク８
上の視野領域８ａ乃至８ｇにおいて、走査方向（Ｘ方
向）に沿った視野領域の長さの総和が走査直交方向（Ｙ
方向）の任意の位置において一定になっている。すなわ
ち、視野領域の等倍正立像である露光領域９ａ乃至９ｇ
においても、走査方向（Ｘ方向）に沿った視野領域の長
さの総和が走査直交方向（Ｙ方向）の任意の位置におい
て一定になる。その結果、走査露光により、プレート９
上の全面に亘って均一な露光光量分布を得ることができ
る。

【００３１】図６は、別の投影光学ユニットの構成を示
す図である。図６の投影光学ユニットは、２つのオフナ
ー型の部分光学系と視野絞りとからなる図２の投影光学
ユニットとは異なり、１つのオフナー型光学系からなり
視野絞りを有しない点が基本的に相違する。さらに、図
６の投影光学ユニットは、図２の各部分光学系と同様の
構成を有するが、等脚台形プリズムの第１の反射面がダ
ハ面になっている点が相違している。

【００３２】図６の投影光学ユニットでは、マスク８を
透過した照明光が、等脚台形プリズム５１のダハ面５１
ａで図中右側に偏向され、凹面鏡５２に入射する。凹面
鏡５２で図中左方向に反射された光は、凸面鏡５３で図
中右側に反射され、再び凹面鏡５２に入射する。再び凹
面鏡５２で図中左方向に反射された光は、等脚台形プリ
ズム５１の反射面５１ｂで図中下方に偏向され、マスク
８のパターンの等倍正立像がプレート９上に形成され
る。

【００３３】このように、ダハ面５１ａによって物体面
および像面内での光軸直交方向（図中、紙面と直交する
方向）の像向きが逆転する。このため、マスク８上のパ
ターンが、光軸に沿った方向（Ｘ方向）並びに物体面お
よび像面内での光軸直交方向（Ｙ方向）の横倍率がとも
に正の正立像がプレート９上に形成される。したがっ
て、このような投影光学ユニットを複数組み合わせてな
る投影光学系を有する走査露光装置において、マスク８
の走査方向とプレート９の走査方向とを一致させること
ができる。

【００３４】なお、図６の投影光学ユニットは視野絞り
を備えていないため、照明光学系１０によってマスク８
上の視野領域を厳密に規定する必要がある。しかしなが
ら、図６の投影光学ユニットは１つのオフナー型光学系
によって構成されているので、図２のように２つのオフ
ナー型の部分光学系からなる投影光学ユニットと比べ
て、光学収差量の発生が小さく良好な結像性能を得るこ
とができる。

【００３５】このように、本実施例では、複数の投影光
学ユニットを介して１回の走査露光により、全体として
１つの大きな露光領域を継ぎ目なく得ることができる。
また、個々の投影光学ユニットが小型であるため、収差
の発生を最小限に抑え良好な結像性能をもって走査露光
をすることができる。さらに、各投影光学ユニットの視
野絞りにより、被露光の全面に亘って均一な露光光量分
布を得ることができるように、各投影光学ユニットに対
応する視野領域および露光領域を規定することができ
る。その結果、照明光学系に視野領域を厳密に規定する
ために光学系を設ける必要がない。

【００３６】次に、図７を参照して上述の各実施例にお
ける投影光学ユニットの望ましい配置関係について説明
する。図７は、２組の投影光学ユニットと視野領域（露
光領域）との関係を示すＸＹ平面図である。なお、図７
においては、前述の実施例と同一の機能を有する部材に
は、同じ符号を付してある。

【００３７】図７において、視野領域８ａの像を物体面
（実施例ではマスク面）上に形成する投影光学ユニット
２ａは、等脚台形プリズム２１Ａと凹面鏡２２Ａと凸面
鏡２３Ａとのみを図示しており、視野領域８ｂの像を物
体面上に形成する投影光学ユニット２ｂは、等脚台形プ
リズム２１Ｂと凹面鏡２２Ｂと凸面鏡２３Ｂとのみを図
示している。ここで、投影光学ユニット２ａの光軸Ａxa
と投影光学ユニット２ｂの光軸ＡxbとのＹ方向における
間隔ｄは、２４Ｌを円弧形状の視野領域における内側
（円弧の中心側）のＹ方向の幅、２４Ｍを視野領域のＹ
方向の最大幅とするとき、

【数１】ｄ＝２４Ｌ＋（２４Ｍ−２４Ｌ）／２（１）を満足することが望ましい。

【００３８】ここで、２組の投影光学ユニット２ａ、２
ｂが上記条件式（１）を満足しない場合には、物体面上
で視野領域が重ならないため、または視野領域のＸ方向
（走査方向）の幅が一定とならないため好ましくない。
なお、上記２４Ｌ、２４Ｍは、物体面上の視野領域にお
ける幅でなくとも、像面（実施例ではプレート面）上の
露光領域における幅または視野絞りにおける幅としても
条件式（１）成立する。また、上記条件式（１）は、２
組以上の投影光学ユニットがある場合にも適用すること
ができ、投影光学ユニットがダイソン型であっても適用
することができる。ここで、投影光学ユニットがダイソ
ン型の場合において、このダイソン型光学系の視野がた
とえば台形状のときには、２４Ｌを台形状視野における
一対の平行な辺のうちの短辺とし、２４Ｍを長辺とすれ
ばよい。

【００３９】

【効果】以上説明したように、本発明では、スループッ
トを低下させることなく良好な結像性能をもって、大き
な露光領域を一括して走査露光することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例にかかる露光装置の構成を示す
斜視図である。

【図２】図１の露光装置の投影光学系の構成を示す図で
ある。

【図３】視野絞りの開口部の形状の第１の例を示す図で
あって、（ａ）は視野絞りに形成された開口部を、
（ｂ）は開口部の形状と最大視野領域との関係を示して
いる。

【図４】視野絞りの開口部の形状の第２の例を示す図で
あって、（ａ）は視野絞りに形成された開口部を、
（ｂ）は開口部の形状と最大視野領域との関係を示して
いる。

【図５】マスク上での視野絞りの配置を示す図であっ
て、投影光学ユニット２ａ乃至２ｇによって規定される
視野領域８ａ乃至８ｇとマスク８との平面的な位置関係
を示している。

【図６】別の投影光学ユニットの構成を示す図である。

【図７】複数の投影光学ユニットの配置関係を説明する
図である。

【図８】従来のミラープロジェクションタイプのアライ
ナーの構成を示す図であって、（ａ）はアライナーの全
体構成を示す斜視図であり、（ｂ）はアライナーの投影
光学系の構成を示すレンズ断面図である。

【符号の説明】

２投影光学ユニット８マスク９プレート１０照明光学系２１等脚台形プリズム２２凹面鏡２３凸面鏡２４視野絞り

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】投影光学系に対して第１の基板および第
２の基板を相対的に移動させて前記第１の基板上に形成
されたパターンを前記投影光学系を介して前記第２の基
板上に投影露光する露光装置において、前記投影光学系は、前記第１の基板に形成されたパター
ンの等倍正立像を前記第２の基板上に形成する、少なく
とも像側がテレセントリックな複数の投影光学ユニット
からなり、前記複数の投影光学ユニットの各々を介して前記第２の
基板上に形成された複数の露光領域の前記移動方向に沿
った長さの総和が前記移動方向と直交する方向に亘り実
質的に一定になるように制御するための制御手段とを備
えていることを特徴とする露光装置。
【請求項２】前記投影光学ユニットは、少なくとも１
つの凹面鏡と、少なくとも１つの凸面鏡とを備えたオフ
ナー型光学系であることを特徴とする請求項１に記載の
露光装置。
【請求項３】前記投影光学ユニットは、前記第１の基
板上に形成されたパターンの中間像を形成する第１の部
分光学系と、前記中間像を前記第２の基板上に再結像さ
せる第２の部分光学系とを備えていることを特徴とする
請求項１または２に記載の露光装置。
【請求項４】前記制御手段は、前記中間像の位置に配
置された視野絞りであることを特徴とする請求項３に記
載の露光装置。
【請求項５】前記視野絞りは全体的に半円環状の開口
部を有し、前記開口部は、中央開口領域と該中央開口領域を挟む２
つの周辺開口領域とからなり、前記中央開口領域においては前記移動方向に沿った開口
長さが一定であり、前記周辺開口領域は前記移動方向に
沿った開口長さが端部に向かって線形的に変化するよう
に三角形状であり、前記周辺開口領域は隣接する視野絞
りの開口部の対応する周辺開口領域と前記走査方向に重
複していることを特徴とする請求項５に記載の露光装
置。
【請求項６】前記中央開口領域の境界線のうち前記周
辺開口領域と隣接しない境界線は、２つの円弧により規
定されていることを特徴とする請求項５に記載の露光装
置。
【請求項７】前記中央開口領域の境界線のうち前記周
辺開口領域と隣接しない境界線は、２つの折れ線により
規定されていることを特徴とする請求項５に記載の露光
装置。