JPH07171754A - 外観検査機能付きダイシング装置 - Google Patents

外観検査機能付きダイシング装置

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Publication number
JPH07171754A
JPH07171754A JP34505193A JP34505193A JPH07171754A JP H07171754 A JPH07171754 A JP H07171754A JP 34505193 A JP34505193 A JP 34505193A JP 34505193 A JP34505193 A JP 34505193A JP H07171754 A JPH07171754 A JP H07171754A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor wafer
wafer
dicing
cutting
dicing device
Prior art date
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Pending
Application number
JP34505193A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazuma Sekiya
一馬 関家
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Disco Corp
Original Assignee
Disco Abrasive Systems Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Disco Abrasive Systems Ltd filed Critical Disco Abrasive Systems Ltd
Priority to JP34505193A priority Critical patent/JPH07171754A/ja
Publication of JPH07171754A publication Critical patent/JPH07171754A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 ダイシング装置でダイシング後にチップ検査
を行い、しかも他のウェーハのアライメントの最中にも
チップ検査が出来るようにした、外観検査機能付きダイ
シング装置を提供する。 【構成】 半導体ウェーハの表面を認識してストリート
を検出するアライメント手段7と、このアライメント手
段の情報に基づいて半導体ウェーハをストリートに沿っ
て切削する切削手段8と、切削後の半導体ウェーハを洗
浄し乾燥する洗浄手段10と、洗浄後の半導体ウェーハ
の表面を認識して個々に分割されたチップの状態を検査
する外観検査手段11と、を少なくとも含む構成であ
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、外観検査機能付きダイ
シング装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来のダイシング装置においては、ダイ
シング後にチップの検査をすることは出来ず、ダイシン
グ装置とは別の検査装置によって遂行していた。ダイシ
ング後にチップを検査するのは、傷、欠け、汚れがあっ
たりすると製品として使い物にならないので排除する必
要があるからである。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】前記のようにチップの
検査をダイシング装置とは別の検査装置で行うのは、二
工程となって生産性に問題がある。このため、ダイシン
グ装置のアライメント手段を利用してダイシング後にチ
ップを検査するもの(特開平5−152432号公報)
もあるが、アライメントの最中はチップの検査が出来な
いといった問題が生じる。本発明はこのような事態に鑑
みなされたもので、ダイシング装置でダイシング後にチ
ップ検査を行い、しかもアライメントの最中にもチップ
の検査が出来るようにした、外観検査機能付きダイシン
グ装置を提供することを課題としたものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】前記課題を技術的に解決
するための手段として、本発明は、半導体ウェーハの表
面を認識してストリートを検出するアライメント手段
と、このアライメント手段の情報に基づいて半導体ウェ
ーハをストリートに沿って切削する切削手段と、切削後
の半導体ウェーハを洗浄し乾燥する洗浄手段と、洗浄後
の半導体ウェーハの表面を認識して個々に分割されたチ
ップの状態を検査する外観検査手段と、を少なくとも含
む外観検査機能付きダイシング装置を要旨とするもので
ある。
【0005】
【作 用】ダイシング装置にアライメント手段とは別の
外観検査手段を配設してあるので、ウェーハがアライメ
ントやダイシングされている間の待時間を利用し、既に
ダイシングされ且つ洗浄された後のウェーハのチップを
検査することが出来る。
【0006】
【実施例】以下、本発明の実施例を添付図面に基づいて
詳説する。図1において、1はカセット2を載置するカ
セット載置領域であり、テーブルが上下動可能に形成さ
れている。3はウェーハ搬出入手段であり、前記カセッ
ト2内から半導体ウェーハ(シートを介してフレームに
固定されている)を引き出すと共に、所定の処理が完了
した後のウェーハを再びカセット2内に収納する。
【0007】前記ウェーハ搬出入手段3から引き出され
たウェーハは、一対の支持テーブルから成る待機領域4
に受止され、先端部に吸着機構5aを備えた搬送手段5
により吸着及び旋回されてチャックテーブル6上に搬送
される。
【0008】チャックテーブル6はX軸方向に移動し、
アライメント手段7の下部に位置付けしてチャックテー
ブル上のウェーハをアライメントし、アライメント後に
切削領域に搬入し、回転ブレード8aを備えた切削手段
8でウェーハのX軸、Y軸ストリートに沿ってダイシン
グが遂行される。
【0009】ダイシング後に、チャックテーブル6が元
の位置まで戻ると、先端部に吸着機構9aを備えた第2
の搬送手段9によりウェーハが吸着及びY軸方向に移動
されて、ウェーハを洗浄し且つ乾燥する洗浄手段10に
搬送される。
【0010】この洗浄手段10にて処理されたウェーハ
は、前記搬送手段5により吸着され旋回移動されてテー
ブルMに搬送される。テーブルMはY軸方向に移動し、
ウェーハは外観検査手段11の下に搬送される。外観検
査手段11は、前記アライメント手段7とは別体に形成
され、ダイシングされた個々のチップを認識してパター
ンマッチング等の画像処理によってチップの良否を検査
し、不良チップの情報をダイボンダー等の次工程に伝達
出来るようにしてある。
【0011】前記外観検査手段11により不良チップが
発見されると、これに限定されるものではないがインク
付着手段12により不良チップに印が付けられる。或
は、ウェーハを保持するフレームに又はシートにウェー
ハを識別するバーコード等の識別表示をしておき、コン
ピューターのメモリーに不良チップのアドレスを識別表
示ごとに記録することも可能である。
【0012】その他の情報伝達手段としては、例えば図
2に示すようにウェーハWを保持するフレームFに又は
シートSにウェーハを識別すると共にメモリーを有する
電波タグTを配設し、不良チップのアドレスをメモリー
に記録する。この電波タグTは図3に示すようにメモリ
ーTaと、このメモリーの情報を電波に変換する回路T
bとコイルTcとを有するものである。いずれにしても
次工程に不良チップの情報が伝達出来れば良く、上記の
ような方法に限定されるものではない。
【0013】個々のチップの検査後にテーブルMは元の
位置に戻り、テーブル上のウェーハは前記搬送手段5に
より吸着及び旋回されて待機領域4に搬送される。この
後、ウェーハは前記ウェーハ搬出入手段3により把持さ
れてカセット2内の元の位置に収納される。
【0014】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、ダイシ
ングされた個々のチップを検査する外観検査手段を、ア
ライメント手段とは別にダイシング装置に配設したの
で、ウェーハがアライメントやダイシングされている間
の待時間を利用し、既にダイシングされ且つ洗浄された
ウェーハのチップを検査することが出来、これにより生
産性を著しく向上させる効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施例を示す装置の斜視図である。
【図2】 電波タグを取り付けた例を示す説明図であ
る。
【図3】 電波タグの構成を示す説明図である。
【符号の説明】
1…カセット載置領域 2…カセット 3…ウェー
ハ搬出入手段 4…待機領域 5…搬送手段 5
a…吸着機構 6…チャックテーブル 7…アライ
メント手段 8…切削手段 8a…回転ブレード
9…第2の搬送手段 9a…吸着機構 10…洗
浄手段 11…外観検査手段 12…インク付着手

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体ウェーハの表面を認識してストリ
    ートを検出するアライメント手段と、このアライメント
    手段の情報に基づいて半導体ウェーハをストリートに沿
    って切削する切削手段と、切削後の半導体ウェーハを洗
    浄し乾燥する洗浄手段と、洗浄後の半導体ウェーハの表
    面を認識して個々に分割されたチップの状態を検査する
    外観検査手段と、を少なくとも含む外観検査機能付きダ
    イシング装置。
JP34505193A 1993-12-20 1993-12-20 外観検査機能付きダイシング装置 Pending JPH07171754A (ja)

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