JPH07151913A - 偏光板の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 互いに異なる方向の偏光軸を有し、前記偏光
軸の異なる領域が精度よく形成された偏光板を提供す
る。 【構成】 高分子フィルムを延伸し、ヨウ素を吸着分散
させた偏光子３７の予め定める領域５１ｂに紫外線５７
が照射される。偏光子３７の偏光機能はヨウ素分子の二
色性によって生じるものであるけれども、紫外線５７が
照射されることによって前記ヨウ素が分解し、二色性が
消失する。このため、領域５１ｂの偏光機能が消失す
る。同様に構成される偏光子３８の予め定める領域５８
ｂに紫外線５７が照射される。この偏光子３８も領域５
８ｂの偏光機能が消失する。このような偏光子３７，３
８は互いの偏光軸が異なる方向となるようにして重ね合
わせられる。したがって、互いに異なる２種類の方向の
偏光軸を有し、前記偏光軸の異なる領域が精度よく形成
された偏光板３３を提供することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、互いに異なる方向の偏
光軸を有する偏光板の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、液晶の電気光学効果を利用した液
晶表示装置は、たとえば電卓（電子式卓上計算機）、ワ
ードプロセッサ、およびテレビ受像機などの表示手段と
して用いられている。前記液晶表示装置としては、一対
の基板間にネマティック液晶層を介在した液晶表示素子
と、２枚の偏光板とを備えたものが幅広く用いられてい
る。前記一対の基板は、それぞれ液晶層側表面に少なく
とも表示用の電極と配向膜とを備える。前記配向膜の表
面には、一方向にラビング処理が施されており、配向膜
表面に最近接する液晶分子は、前記ラビング処理の方向
に沿って配向する。このような液晶表示装置では、前記
ラビング処理の方向が単一方向に限られていることか
ら、結果として一方向の視角方向から観察したときにし
か良好な表示品位が得られない。

【０００３】しかしながら、前記不都合を解消して異な
る視角方向から観察したときにも良好な表示品位が得ら
れる液晶表示装置が、たとえば特開昭６０−２１１４２
６号公報に開示されている。これは、同一平面内に２種
類以上の異なる方向に配向処理を施した液晶表示パネル
に、液晶配向数に対応する数の異なる偏光方向を持つ２
枚以上の偏光板を配したものである。

【０００４】図１０は、特開昭６０−２１１４２６号公
報に開示されている液晶表示装置１を分解して示す斜視
図である。液晶表示装置１は、液晶表示素子２、第１偏
光板３および第２偏光板４を含み、液晶表示素子２の基
板５側表面に第１偏光板３を貼り合わせ、液晶表示素子
２の基板６側表面に第２偏光板４を貼り合わせることに
よって構成される。

【０００５】前記液晶表示素子２は、一対の基板５，６
の間に図示しない液晶層を介在したものであり、基板
５，６は少なくとも表示用の電極と配向膜とをそれぞれ
備える。各配向膜の表面には、配向処理としてそれぞれ
ラビング処理が施されており、この配向膜に最近接する
液晶分子は前記ラビング処理の方向に沿って配向する。
互いに対向する配向膜の表面には、それぞれ異なる方向
にラビング処理が施されており、たとえばそれぞれのラ
ビング処理の方向が直交している場合には、基板５，６
間に介在される液晶層の液晶分子は前記基板５，６間で
９０°捩れ配向する。

【０００６】基板５の配向膜表面であって、所定の領域
１１ａの表面に施されるラビング処理方向と、所定の領
域１１ｂの表面に施されるラビング処理方向とは互いに
異なる方向とされる。また、基板６の配向膜表面であっ
て、所定の領域１１ａの表面に施されるラビング処理方
向と、所定の領域１１ｂの表面に施されるラビング処理
方向とも互いに異なる方向とされる。このようにラビン
グ処理が施された配向膜の間に介在される液晶分子は、
前記所定の領域１１ａ，１１ｂに対応した平均配向方向
１２ａ，１２ｂを有する。平均配向方向１２ａ，１２ｂ
は、上述したように捩れ配向した液晶分子のうちの、基
板５，６間のほぼ中央に位置する液晶分子の配向方向を
表しており、平均配向方向１２ａ，１２ｂは互いに異な
る方向となる。

【０００７】前記所定の領域１１ａ，１１ｂは液晶表示
装置１の、たとえば絵素領域に対応して設定される。前
記絵素領域は、たとえば単純マトリクス型の場合は基板
５に形成される帯状の表示用電極と、基板６に形成され
る帯状の表示用電極との交差部とされ、アクティブマト
リクス型の場合は基板５，６のいずれか一方基板に形成
される絵素電極の領域とされる。

【０００８】前記第１偏光板３は、図１１に示されるよ
うに偏光子７，８を重ね合わせて構成される。偏光子７
の前記所定の領域１１ａに対応した部分１５はプレス機
を用いて打抜かれ、偏光子８の前記所定の領域１１ｂに
対応した部分１６も同様にプレス機を用いて打抜かれ
る。このような偏光子７，８は、互いの偏光軸１３，１
４が異なる方向となるようにして重ね合わせられる。し
たがって第１偏光板３は、異なる偏光方向を持つ偏光板
となる。

【０００９】前記第１偏光板３と同様にして第２偏光板
４は、偏光子９，１０を重ね合わせて構成される。偏光
子９の前記所定の領域１１ａに対応した部分１９と、偏
光子１０の前記所定の領域１１ｂに対応した部分２０と
がプレス機を用いて打抜かれ、互いの偏光軸１７，１８
が異なる方向となるようにして重ね合わせられる。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】前記液晶表示装置１の
所定の領域１１ａ，１１ｂは、非常に微細な領域であ
る。各偏光子７〜１０の所定の領域１１ａ，１１ｂに対
応した領域を前述したようにプレス機を用いて打抜く
際、プレス機で打抜くという物理的な手法では、位置決
め精度が低いことやエッジ部分の形状が粗いことなどが
問題となる。すなわち、物理的手法で加工した偏光子７
〜１０でそれぞれ構成される第１および第２偏光板３，
４を液晶表示素子２に貼り合わせると、液晶表示素子２
の所定の領域１１ａ，１１ｂと、該領域１１ａ，１１ｂ
に対応した偏光板３，４の領域とが一致せず、表示不良
が発生することとなる。

【００１１】具体的には、第１偏光板３において、偏光
子７，８のそれぞれの打抜き部分１５，１６が精度よく
打抜かれなかった場合、たとえば打抜きによる残部同士
が重なると、黒いスジ状の領域が形成される。このよう
な偏光板を用いると表示不良が発生することとなる。第
２偏光板４についても同様である。

【００１２】このようなプレス機で打抜くという手法に
よる不都合は、表示が高精細なものになるほど顕著とな
る。すなわち、高精細になると、絵素領域がさらに微細
化され、絵素領域に対応して設定される前記所定の領域
１１ａ，１１ｂも微細化される。したがって、加工上の
精度問題に加えて、偏光板の貼り合わせ時の位置合わせ
が難しくなり、表示不良の発生頻度が増加する。

【００１３】本発明の目的は、互いに異なる方向の偏光
軸を有し、前記偏光軸の異なる領域を精度よく形成する
ことができる偏光板の製造方法を提供することである。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明は、高分子フィル
ムを延伸した偏光基体に偏光要素を吸着分散させてなる
偏光子を複数枚準備し、各偏光子の予め定める領域に光
を照射し、前記偏光子をそれぞれの偏光軸の方向が互い
に異なる方向となるようにして重ね合わせることを特徴
とする偏光板の製造方法である。

【００１５】

【作用】本発明に従えば、偏光板は、高分子フィルムの
延伸および偏光基体への偏光要素の吸着分散からなる複
数枚の偏光子の予め定める領域にそれぞれ光を照射し、
前記偏光子を重ね合わせることによって形成される。偏
光子の偏光機能は、前記吸着分散させた偏光要素の二色
性によって生じるものであるけれども、前述したように
光を照射すると、偏光要素が分解し、その分子構造が変
化して二色性が消失する。したがって、偏光機能も消失
する。各偏光子の予め定める領域に光を照射し、該偏光
子を、それぞれの偏光軸が互いに異なる方向となるよう
にして重ね合わせることによって、互いに異なる方向の
偏光軸を有する偏光板を形成することができる。

【００１６】光を照射することによって予め定める領域
の偏光機能を消失させることは、従来技術のプレス機で
打抜く手法と比較して、位置決め精度が高く、またエッ
ジ部分の形状が粗くなるなどの不都合は生じない。この
ため、各偏光子を重ね合わせたときにおいて、前記不都
合によって生じる位置ずれが低減し、たとえば黒いスジ
状の領域が生じることが低減する。したがって、互いに
異なる方向の偏光軸を有し、前記偏光軸の異なる領域が
精度よく形成された偏光板を提供することができる。

【００１７】

【実施例】図１は、本発明の一実施例である製造方法に
基づいて作成した偏光板３３，３４を用いた液晶表示装
置３１を分解して示す斜視図である。また、図２は前記
液晶表示装置３１の液晶表示素子３２の構成を示す断面
図である。液晶表示装置３１は、液晶表示素子３２、第
１偏光板３３、第２偏光板３４を含み、液晶表示素子３
２の基板３５側表面に第１偏光板３３を貼り合わせ、液
晶表示素子３２の基板３６側表面に第２偏光板３４を貼
り合わせることによって構成される。液晶表示素子３２
は、基板３５，３６、液晶層７６を含み、基板３５，３
６の間に液晶層７６を介在して構成される。

【００１８】前記基板３５は、透光性基板７１、共通電
極７２および配向膜７３を含み、基板３６は、ゲートバ
スライン４１、ソースバスライン４２、ＴＦＴ（薄膜ト
ランジスタ）素子４３、絵素電極４４および配向膜７５
を含む。たとえばガラスで実現される透光性基板７１の
液晶層側表面に共通電極７２が形成され、さらに共通電
極７２の表面に配向膜７３が形成される。同じくたとえ
ばガラスで実現される透光性基板７４の液晶層側表面に
ゲートバスライン４１、ソースバスライン４２、ＴＦＴ
素子４３および絵素電極４４が形成され、さらにその上
に配向膜７５が形成される。

【００１９】前記ゲートバスライン４１とソースバスラ
イン４２とは、互いに直交するようにして、かつ互いに
絶縁性を保持して形成される。ゲートバスライン４１と
ソースバスライン４２とによって形成される矩形状の領
域には、絵素電極４４が形成される。絵素電極４４は、
ＴＦＴ素子４３によって前記ゲートバスライン４１とソ
ースバスライン４２とに接続される。前記ＴＦＴ素子４
３は、絵素電極４４に電圧を印加して、液晶分子を駆動
するためのスイッチング素子である。前記共通電極７２
と絵素電極４４とは、たとえばＩＴＯ（インジウム錫酸
化物）などの透明導電膜で実現される。

【００２０】配向膜７３，７５は、たとえばポリイミド
樹脂で実現される。配向膜７３，７５の表面には、後述
する方法によってそれぞれラビング処理が施されてい
る。したがって、配向膜７３，７５に最近接する液晶分
子７６ａは、前記ラビング処理の方向に沿って配向す
る。互いに対向する配向膜７３，７５の表面には、それ
ぞれ異なる方向にラビング処理が施されており、たとえ
ばそれぞれのラビング処理の方向が直交している場合に
は、基板３５，３６間に介在される液晶層７６の液晶分
子７６ａは前記基板３５，３６間で９０°捩れ配向す
る。

【００２１】前記絵素電極４４に対応した配向膜７３，
７５の表面は、互いにラビング処理方向の異なる２つの
領域４５ａ，４５ｂから成る。たとえば配向膜７３の領
域４５ａには、ラビング処理方向７７ａにラビング処理
が施されており、配向膜７３の領域４５ｂには、前記ラ
ビング処理方向７７ａとは異なるラビング処理方向７７
ｂにラビング処理が施されている。また、配向膜７５の
領域４５ａには、ラビング処理方向７７ｂにラビング処
理が施されており、配向膜７５の領域４５ｂには、ラビ
ング処理方向７７ａにラビング処理が施されている。こ
のようにラビング処理が施された配向膜７３，７５の間
に介在される液晶分子７６ａは、前記領域４５ａ，４５
ｂに対応した平均配向方向４６ａ，４６ｂを有する。平
均配向方向４６ａ，４６ｂとは、上述したように捩れ配
向した液晶分子７６ａのうちの、基板３５，３６の間の
ほぼ中央に位置する液晶分子７６ａの配向方向を表して
おり、平均配向方向４６ａ，４６ｂは互いに異なる方向
となる。

【００２２】前記第１偏光板３３は、偏光子３７，３８
を含み、前記偏光子３７，３８を重ね合わせることによ
って構成される。矢符４７は、偏光子３７の偏光軸を示
し、矢符４８は偏光子３８の偏光軸を示す。偏光子３
７，３８は、偏光軸４７，４８が互いに異なる方向とな
るようにして重ね合わせられている。偏光子３７，３８
の予め定める領域３３ａ，３３ｂは、後述する方法によ
ってその偏光機能が消失している。したがって、第１偏
光板３３は、異なる偏光方向を持つ偏光板となる。前記
予め定める領域３３ａは、前述した互いにラビング処理
方向の異なる２つの領域のうちの一方の領域４５ａに対
応し、予め定める領域３３ｂは他方の領域４５ｂに対応
する。

【００２３】第１偏光板３３の領域３３ａの偏光軸４８
は、前記基板３５の配向膜７３の領域４５ａに施された
ラビング処理方向７７ａに対応している。また、第１偏
光板３３の領域３３ｂの偏光軸４７は、前記基板３５の
配向膜７３の領域４５ｂに施されたラビング処理方向７
７ｂに対応している。

【００２４】前記第２偏光板３４も第１偏光板３３と同
様に偏光子３９，４０を含み、偏光軸が互いに異なる方
向となるようにして重ね合わせられている。矢符４９は
偏光子３９の偏光軸を示し、矢符５０は偏光子４０の偏
光軸を示す。偏光子３９，４０の予め定める領域３４
ａ，３４ｂも、後述する方法によってその偏光機能が消
失しており、第２偏光板３４も異なる偏光方向を持つ偏
光板となる。前記予め定める領域３４ａは、前述した互
いにラビング処理方向の異なる２つの領域のうちの一方
の領域４５ａに対応し、予め定める領域３４ｂは他方の
領域４５ｂに対応する。

【００２５】第２偏光板３４の領域３４ａの偏光軸５０
は、前記基板３６の配向膜７５の領域４５ａに施された
ラビング処理方向７７ｂに対応している。また、第２偏
光板３４の領域３４ｂの偏光軸４９は、前記基板３６の
配向膜７５の領域４５ｂに施されたラビング処理方向７
７ａに対応している。

【００２６】図３は、前記偏光子３７の構成を示す斜視
図である。また、図４は前記偏光子３７の形成方法を説
明するための図であり、図５は偏光子３７の構成を模式
的に示す断面図である。偏光子３７は、その一方表面に
保護膜５２が貼り合わせられ、他方表面に保護膜５３が
貼り合わせられている。保護膜５２，５３は、偏光子３
７の耐久性や機械的強度を確保するためのものである。
前記保護膜５２，５３は、たとえばＴＡＣ（トリアセチ
ルセルロース）またはアクリル樹脂で実現される。

【００２７】偏光子３７は、図４に示されるように、た
とえば延伸したポリビニルアルコールで実現される高分
子フィルム６１にヨウ素６２を吸着させ分散させること
によって形成される。高分子フィルム６１は偏光基体で
あり、ヨウ素６２は偏光要素である。高分子フィルム６
１は延伸されているので、該フィルム６１の分子６１ａ
が一方向に配向している。ヨウ素６２を前記フィルム６
１に吸着分散させると、図５に示されるようにヨウ素分
子６２ａが前記フィルム６１の分子６１ａに沿って配向
する。吸着されたヨウ素分子６２ａは、一方方向に振動
する光を吸収し、他方方向に振動する光を透過する、い
わゆる二色性を有している。したがって、偏光機能が生
じる。前記ヨウ素６２に代わって二色性を有する染料を
用いることも可能である。また、偏光子３８〜４０につ
いても同様にして形成される。

【００２８】図６は、本発明の一実施例である製造方法
に基づいて前記第１偏光板３３を作成する手順を構成す
る工程図であり、図７はその手順を段階的に示す側面図
である。工程ａ１では、図７（１）に示されるように偏
光子３７の保護膜５２の表面にレジスト膜５４が形成さ
れる。

【００２９】工程ａ２では、前記レジスト膜５４に光５
６が照射され、露光される。このとき、前記レジスト膜
５４上には図７（２）に示されるマスク５５が配置され
る。マスク５５には、前記領域４５ａに対応した遮光領
域５５ａと、領域４５ｂに対応した透過領域５５ｂとが
形成されている。なお、図７（２）では遮光領域５５ａ
を斜線で示している。

【００３０】工程ａ３では、現像処理が施される。現像
することによって、前記露光処理で硬化しなかったレジ
スト膜５４が除去される。レジスト膜５４としてポジ型
を用いた場合、図７（３）に示されるように光照射され
た領域のレジスト膜５４が除去される。

【００３１】工程ａ４では、図７（４）に示されるよう
に紫外線５７が照射される。紫外線５７を照射すること
によって、レジスト膜５４が除去された領域の偏光子３
７の偏光機能が消失する。すなわち前記紫外線５７によ
って前述したヨウ素分子６２ａが分解される。分解し、
その分子構造が変化したヨウ素分子６２ａは、前記二色
性が消失する。したがって、偏光機能も消失する。偏光
機能が消失した領域５１ｂは、全方向に振動する光を透
過する。また、斜線で表される領域５１ａは、紫外線５
７が照射されなかった領域であり、偏光機能を有する領
域である。この領域５１ａは、前記二色性を有するヨウ
素分子６２ａの吸収波長帯域の色に着色している。

【００３２】工程ａ５では、図７（５）に示されるよう
に残余のレジスト膜５４が剥離される。このようにし
て、偏光子３７に偏光機能の消失した領域５１ｂが形成
される。同様の工程ａ１〜ａ５によって偏光子３８にも
偏光機能の消失した領域が形成される。

【００３３】なお、偏光子３８の工程ａ２に用いられる
マスクとしては、前記マスク５５とは異なる領域に遮光
領域と透過領域とが形成されたものが用いられる。すな
わち、該マスクには前記領域４５ａに対応した透過領域
と、領域４５ｂに対応した遮光領域とが形成されてい
る。したがって、図７（６）に示されるように、偏光子
３８には、偏光機能が消失した領域５８ｂが形成され
る。また、図７（６）の斜線で表される領域５８ａは、
紫外線が照射されなかった領域であり、偏光機能を有す
る領域である。なお、偏光子３８にもその表面に保護膜
５９，６０がそれぞれ貼り合わせられている。

【００３４】工程ａ６では、図７（６）に示されるよう
に偏光子３７，３８が重ね合わされる。偏光子３７と偏
光子３８とは前述したように偏光軸４７，４８が互いに
異なる方向となるようにして重ね合わせられる。ここ
で、偏光子３７の偏光機能を有する領域５１ａと、偏光
子３８の偏光機能が消失した領域５８ｂとが、また偏光
子３７の偏光機能が消失した領域５１ｂと偏光子３８の
偏光機能を有する領域５８ａとが一致するようにして重
ね合わせられる。偏光機能が消失した領域５１ｂ，５８
ｂは、前述したように全方向に振動する光を透過するた
め、それぞれ重ね合わせられた偏光子３７，３８のいず
れか一方の偏光機能のみが生じることとなる。したがっ
て、第１偏光板３３は互いに異なる方向の偏光軸を有す
ることとなる。

【００３５】なお、前記工程ａ４において、各偏光子３
７，３８に位置合わせの際の目印となるアライメントマ
ーカを形成しておくと、偏光子３７，３８の貼り合わせ
が容易となる。以上のようにして互いに異なる偏光方向
を有する第１偏光板３３が形成される。また、同様にし
て第２偏光板３４も形成される。

【００３６】図８は、前記液晶表示装置３１を作成する
手順を示す工程図であり、図９は配向処理の方法を段階
的に示す側面図である。工程ｂ１では、透光性基板７１
の一方表面に共通電極７２が形成され、透光性基板７４
の一方表面にゲートバスライン４１、ソースバスライン
４２、ＴＦＴ素子４３および絵素電極４４が形成され
る。

【００３７】工程ｂ２では、前記基板７１，７２に配向
膜７３，７５がそれぞれ形成される。配向膜７３，７５
の表面には、配向処理として、たとえばラビング処理が
施されている。このラビング処理は、具体的には次のよ
うにして行われる。

【００３８】まず、図９（１）に示されるように透光性
基板７１の共通電極７２の表面に配向膜７３とされる樹
脂膜７３ａが形成される。樹脂膜７３ａは、溶剤を含ん
だ状態で塗布され、加熱処理される。樹脂膜７３ａの表
面には、さらにレジスト膜７８が形成される。レジスト
膜７８は、露光され、現像されて図９（２）に示される
ように、前記領域４５ａの表面にのみ設けられる。領域
４５ｂの表面に設けられたレジスト膜７８は除去される
ため、前記樹脂膜７３ａが露出する。この状態でラビン
グ処理が、ラビング処理方向７７ｂに施される。したが
って、前記露出した樹脂膜表面だけがラビング処理され
る。次に、残余のレジスト膜７８が図９（３）に示され
るように剥離される。

【００３９】続いて、同様に図９（４）に示されるよう
に樹脂膜７３ａの表面にレジスト膜７９が形成される。
レジスト膜７９も露光されて現像され、図９（５）に示
されるように前記領域４５ｂの表面にのみに設けられ
る。領域４５ｂの表面に設けられたレジスト膜７９は除
去されるため、樹脂膜７３ａが露出する。この状態でラ
ビング処理が、前記ラビング処理方向７７ｂとは異なる
ラビング処理方向７７ａに施される。したがって、前記
露出した樹脂膜表面だけがラビング処理される。次に、
残余のレジスト膜７９が、図９（６）に示されるように
剥離される。このようにして、樹脂膜７３ａの表面に互
いに異なる方向にラビング処理が施されて、配向膜７３
とされる。配向膜７５についても、同様の方法でラビン
グ処理が行われる。なお、レジスト膜７８，７９の代わ
りに領域４５ａ，４５ｂに対応したパターンが形成され
た金属板や高分子フィルムなどを用いることも可能であ
る。

【００４０】工程ｂ３では、基板３５，３６が一定の間
隔をあけて接着剤によって貼り合わせられる。ここで前
記接着剤としては、たとえば熱硬化型の接着剤が用いら
れ、貼り合わせられた基板３５，３６は熱処理される。

【００４１】工程ｂ４では、前記基板３５，３６の間に
液晶が注入されて液晶層７６が形成される。前記液晶と
しては、たとえばネマティック液晶が用いられる。

【００４２】工程ｂ５では、基板３５，３６の表面に第
１偏光板３３および第２偏光板３４がそれぞれ貼り合わ
せられる。

【００４３】以上のようにして、同一平面内に２種類の
異なる方向に配向処理を施した液晶表示素子３２と、前
記液晶配向数に対応する２種類の方向の異なる偏光軸を
持つ第１および第２偏光板３３，３４を備える液晶表示
装置３１が形成される。

【００４４】本実施例の第１および第２偏光板３３，３
４は、予め定められる領域に紫外線（光）を照射するこ
とによって偏光機能を消失させたものであるけれども、
前記位置決め手法は、従来のプレス機によって打抜く手
法と比較して、位置精度が高い。また、エッジ部分にお
いてその形状が粗くなるなどの不都合が生じない。この
ため、各偏光子３７〜４０を貼り合わせて形成される第
１偏光板３３および第２偏光板３４は共に位置合わせの
不良が少ないものとなり、たとえば黒いスジ状の領域が
低減する。したがって、従来技術による偏光板と比べて
偏光軸の異なる領域が精度よく形成された偏光板を提供
することができる。

【００４５】また、このような第１および第２偏光板３
３，３４を用いた液晶表示装置３１は、位置ずれがな
く、表示品位の優れたものとなる。液晶表示装置の表示
がさらに高精細となったときであっても、本実施例によ
って形成される偏光板を用いると、優れた表示品位が得
られる。なお、第１偏光板３３の領域３３ａ，３３ｂ以
外の領域は、各偏光子３７，３８の偏光機能を有する部
分が互いの偏光軸の方向が異なるようにして重なってい
る。第２偏光板３４についても同様である。したがっ
て、この領域に入射し、透過する光は、第１および第２
偏光板３３，３４によって吸収され、観測者には黒色に
観測される。これは、いわゆるブラックマトリクスとし
て機能するものである。

【００４６】なお、本実施例では液晶表示装置３１とし
てアクティブマトリクス型液晶表示装置の例について説
明したけれども、たとえば単純マトリクス型の液晶表示
装置として本発明に基づく偏光板を用いても同様の効果
を得ることができる。

【００４７】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、複数枚の
偏光子の予め定める領域に、それぞれ光を照射すること
によって光照射された領域の偏光機能を消失させる。前
記偏光子を各偏光子の偏光軸が互いに異なる方向となる
ようにして重ね合わせることによって、互いに異なる方
向の偏光軸を有する偏光板が形成される。光照射によっ
て偏光機能を消失させることは、従来技術と比較して、
位置決め精度が高い。また、エッジ部分の形状が粗くな
るなどの不都合は生じない。このため、各偏光子を重ね
合わせたときに位置ずれが生じることが低減し、たとえ
ば黒いスジ状の領域が生じることなどが低減する。した
がって、互いに異なる方向の偏光軸を有し、前記偏光軸
の異なる領域が精度よく形成された偏光板を提供するこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】液晶表示装置３１を分解して示す斜視図であ
る。

【図２】前記液晶表示装置３１の液晶表示素子３２の構
成を示す断面図である。

【図３】偏光子３７の構成を示す斜視図である。

【図４】偏光子３７の形成方法を説明するための図であ
る。

【図５】前記偏光子３７の構成を模式的に示す断面図で
ある。

【図６】本発明の一実施例である製造方法に基づいて第
１偏光板３３を作成する手順を示す工程図である。

【図７】前記第１偏光板３３を作成する手順を段階的に
示す側面図である。

【図８】前記液晶表示装置３１を作成する手順を示す工
程図である。

【図９】配向処理の方法を段階的に示す側面図である。

【図１０】従来の液晶表示装置１を分解して示す斜視図
である。

【図１１】従来の第１偏光板３を示す斜視図である。

【符号の説明】

３３ 第１偏光板 ３４ 第２偏光板 ３７，３８，３９，４０ 偏光子 ６１ 高分子フィルム ６２ ヨウ素

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 高分子フィルムを延伸した偏光基体に偏
   光要素を吸着分散させてなる偏光子を複数枚準備し、 各偏光子の予め定める領域に光を照射し、 前記偏光子をそれぞれの偏光軸の方向が互いに異なる方
   向となるようにして重ね合わせることを特徴とする偏光
   板の製造方法。