JPH0714816A - 薄膜形成用治具洗浄方法 - Google Patents
薄膜形成用治具洗浄方法Info
- Publication number
- JPH0714816A JPH0714816A JP5180697A JP18069793A JPH0714816A JP H0714816 A JPH0714816 A JP H0714816A JP 5180697 A JP5180697 A JP 5180697A JP 18069793 A JP18069793 A JP 18069793A JP H0714816 A JPH0714816 A JP H0714816A
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- Japan
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- thin film
- film forming
- water
- forming jig
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Abstract
(57)【要約】
【構成】水溶性物質からなる塗膜を予め薄膜形成用治具
に形成させ、薄膜形成後に基体に付着した汚染薄膜を浸
水処理し除去する薄膜形成用治具の洗浄方法。 【効果】薄膜形成用治具表面の汚染物質は、水に溶解、
離脱する水溶性物質被膜に同伴され容易に薄膜形成用治
具から除去され、清浄な薄膜形成用治具表面が得られ
る。
に形成させ、薄膜形成後に基体に付着した汚染薄膜を浸
水処理し除去する薄膜形成用治具の洗浄方法。 【効果】薄膜形成用治具表面の汚染物質は、水に溶解、
離脱する水溶性物質被膜に同伴され容易に薄膜形成用治
具から除去され、清浄な薄膜形成用治具表面が得られ
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は薄膜形成用治具洗浄方法
に関するものである。
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、種々の製品基板上に薄膜を形成さ
せる際に、所望の基板以外の薄膜形成用治具（以下、基
体という）に付着堆積した不要な汚染薄膜を除去する目
的で、主として機械的作用を伴う基体洗浄方法が実施さ
れていた。
せる際に、所望の基板以外の薄膜形成用治具（以下、基
体という）に付着堆積した不要な汚染薄膜を除去する目
的で、主として機械的作用を伴う基体洗浄方法が実施さ
れていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、機械的作用を
伴う基体洗浄方法においては下記のような問題点があっ
た。 （１）当該汚染薄膜を例えばサンドブラスト処理のよう
な加速された微粒子の衝突を利用した洗浄方法で除去す
る場合、除去効率が悪く、結果的に所望の薄膜生産効率
を低下させるため、製品薄膜のコスト面での圧迫要因と
なっていた。さらに該処理では基体に不要な擦過傷を生
じさせる懸念がある。 （２）このような擦過傷が基体に残ると、傷の一部から
剥離した基体片が製品基板上に落下付着し、製品基板の
歩留り、品位を低下させる。 （３）また基体上に予め無機物または有機物がコーティ
ングされている場合は、該洗浄方法でこれらコーティン
グ膜が剥離し、基体が損傷する。 （４）さらに、例えば蒸着装置のベルジャーのような透
明な基体上に汚染薄膜が堆積した場合、該洗浄方法では
基体に生じた傷により基体の透明性が失われる不具合が
ある。
伴う基体洗浄方法においては下記のような問題点があっ
た。 （１）当該汚染薄膜を例えばサンドブラスト処理のよう
な加速された微粒子の衝突を利用した洗浄方法で除去す
る場合、除去効率が悪く、結果的に所望の薄膜生産効率
を低下させるため、製品薄膜のコスト面での圧迫要因と
なっていた。さらに該処理では基体に不要な擦過傷を生
じさせる懸念がある。 （２）このような擦過傷が基体に残ると、傷の一部から
剥離した基体片が製品基板上に落下付着し、製品基板の
歩留り、品位を低下させる。 （３）また基体上に予め無機物または有機物がコーティ
ングされている場合は、該洗浄方法でこれらコーティン
グ膜が剥離し、基体が損傷する。 （４）さらに、例えば蒸着装置のベルジャーのような透
明な基体上に汚染薄膜が堆積した場合、該洗浄方法では
基体に生じた傷により基体の透明性が失われる不具合が
ある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、薄膜形成用治
具洗浄方法において、水溶性物質からなる塗膜を予め薄
膜形成用治具に形成させ、薄膜形成後に前記薄膜形成用
治具に付着した汚染薄膜を浸水処理し除去することを特
徴とする薄膜形成用治具の洗浄方法を提供するものであ
る。
具洗浄方法において、水溶性物質からなる塗膜を予め薄
膜形成用治具に形成させ、薄膜形成後に前記薄膜形成用
治具に付着した汚染薄膜を浸水処理し除去することを特
徴とする薄膜形成用治具の洗浄方法を提供するものであ
る。
【０００５】本発明における薄膜形成用治具（以下、基
体という）は特に限定されるものではないが、ガラス、
プラスチック、セラミックス、金属、単結晶体、および
これらの表面に無機物および／または有機物がコーティ
ングされたものからなる群から選ばれる少なくとも１種
により構成されたものなどを挙げることができる。
体という）は特に限定されるものではないが、ガラス、
プラスチック、セラミックス、金属、単結晶体、および
これらの表面に無機物および／または有機物がコーティ
ングされたものからなる群から選ばれる少なくとも１種
により構成されたものなどを挙げることができる。
【０００６】好ましくは、ベルジャー、防着板、基板搬
送レール、基板取り付け枠、および基板押え金具からな
る群から選ばれる少なくとも１種により構成されたもの
である。
送レール、基板取り付け枠、および基板押え金具からな
る群から選ばれる少なくとも１種により構成されたもの
である。
【０００７】上記水溶性物質としては、水への溶解度が
高い、安価であるなどの一般的に望ましい性質の他に、
基体に薄く、均一に、高い被覆率をもって被覆するのが
好ましい。このような被覆状態は基体上に塗布、乾燥し
た後、結晶として析出することなくアモルファス状態と
なる物質により達成される。前記水溶性物質がハロゲン
化物、炭酸塩、重炭酸塩、硝酸塩、硫酸塩、リン酸塩、
ケイ酸塩、有機酸塩、前記塩の複塩、有機酸、単糖類、
および多糖類からなる群から選ばれた１種以上などを挙
げることができる。特に、共有結合性が強く、網目構造
を有するリン酸塩（例えばトリポリリン酸ナトリウ
ム）、ホウ酸塩（例えば四ホウ酸ナトリウム）などが好
ましい。
高い、安価であるなどの一般的に望ましい性質の他に、
基体に薄く、均一に、高い被覆率をもって被覆するのが
好ましい。このような被覆状態は基体上に塗布、乾燥し
た後、結晶として析出することなくアモルファス状態と
なる物質により達成される。前記水溶性物質がハロゲン
化物、炭酸塩、重炭酸塩、硝酸塩、硫酸塩、リン酸塩、
ケイ酸塩、有機酸塩、前記塩の複塩、有機酸、単糖類、
および多糖類からなる群から選ばれた１種以上などを挙
げることができる。特に、共有結合性が強く、網目構造
を有するリン酸塩（例えばトリポリリン酸ナトリウ
ム）、ホウ酸塩（例えば四ホウ酸ナトリウム）などが好
ましい。
【０００８】本発明における前記塗膜の形成方法として
は、水溶性物質の水溶液中に薄膜形成用治具全体を浸漬
する方法、または該水溶液をスプレイ、ディップまたは
ロール状の布やスポンジにしみこませ基体の表面に付与
する方法、水溶液として刷毛塗りをする方法、または、
スクリーン印刷で付与する方法などを挙げることができ
る。この場合、上記水溶性物質の水溶液濃度は０．０１
ｍｏｌ／ｌ前後が水洗時の除去の容易さ、コスト、廃液
処理の面で望ましいが、基体の種類、用途、汚染被膜の
状態により最適値が異なる。
は、水溶性物質の水溶液中に薄膜形成用治具全体を浸漬
する方法、または該水溶液をスプレイ、ディップまたは
ロール状の布やスポンジにしみこませ基体の表面に付与
する方法、水溶液として刷毛塗りをする方法、または、
スクリーン印刷で付与する方法などを挙げることができ
る。この場合、上記水溶性物質の水溶液濃度は０．０１
ｍｏｌ／ｌ前後が水洗時の除去の容易さ、コスト、廃液
処理の面で望ましいが、基体の種類、用途、汚染被膜の
状態により最適値が異なる。
【０００９】本発明における浸水処理としては、洗浄用
水槽への浸漬、および／または洗浄用水の散布を使用す
ることなどで十分な効果があるが、さらに超音波装置や
スポンジの併用によっても効果の向上が期待できる。
水槽への浸漬、および／または洗浄用水の散布を使用す
ることなどで十分な効果があるが、さらに超音波装置や
スポンジの併用によっても効果の向上が期待できる。
【００１０】洗浄用水としては、水、エタノールなどの
含水液、および界面活性剤からなる群から選ばれる少な
くとも１種からなるものが用いられる。
含水液、および界面活性剤からなる群から選ばれる少な
くとも１種からなるものが用いられる。
【００１１】また、本発明における薄膜形成法は特に限
定されず、蒸着法、スパッター法、ＣＶＤ法、イオンプ
レーティング法、スプレイ法、ゾルゲルディップ法、お
よびキャスティング法からなる群から選ばれる少なくと
も１種の方法などを挙げることができる。
定されず、蒸着法、スパッター法、ＣＶＤ法、イオンプ
レーティング法、スプレイ法、ゾルゲルディップ法、お
よびキャスティング法からなる群から選ばれる少なくと
も１種の方法などを挙げることができる。
【００１２】
【作用】本発明において水溶性塩を塗布された基体表面
に形成された汚染薄膜は水溶性塩類被膜上に付着するこ
とになり、基体の表面には直接接触しない。この状態の
基体を水洗した場合、汚染薄膜は、水または含水液に溶
解、脱離する水溶性物質に同伴され容易に基体から除去
され、清浄な基体表面が得られる。
に形成された汚染薄膜は水溶性塩類被膜上に付着するこ
とになり、基体の表面には直接接触しない。この状態の
基体を水洗した場合、汚染薄膜は、水または含水液に溶
解、脱離する水溶性物質に同伴され容易に基体から除去
され、清浄な基体表面が得られる。
【００１３】
【実施例】実施例１ ソーダ石灰ガラス板（板厚１．１ｍｍｔ）からなる基体
を、アセトンで洗浄、乾燥、水溶性塩の塗布、蒸着など
の各種処理を実施した場合について、基体表面に残留す
る蒸着物質量を定量し、比較を行った。その結果を表１
に示す。なお、この場合の水溶性塩の塗布はトリポリリ
ン酸ナトリウムの０．１ｍｏｌ／ｌ水溶液に基体を浸漬
し乾燥した。また、蒸着はＤＣスパッターコーターでＰ
ｔ−Ｐｄ合金を約１０ｎｍ厚コートした。合金膜をコー
ト後、室温の市水の流水下で３０秒で水洗し、乾燥後、
基体上に残留するＰｔ−Ｐｄ合金量をＥＳＣＡ（光電子
分光法）のピーク強度比（Ｐｔ４ｆ／Ｓｉ２ｐ）により
測定した。
を、アセトンで洗浄、乾燥、水溶性塩の塗布、蒸着など
の各種処理を実施した場合について、基体表面に残留す
る蒸着物質量を定量し、比較を行った。その結果を表１
に示す。なお、この場合の水溶性塩の塗布はトリポリリ
ン酸ナトリウムの０．１ｍｏｌ／ｌ水溶液に基体を浸漬
し乾燥した。また、蒸着はＤＣスパッターコーターでＰ
ｔ−Ｐｄ合金を約１０ｎｍ厚コートした。合金膜をコー
ト後、室温の市水の流水下で３０秒で水洗し、乾燥後、
基体上に残留するＰｔ−Ｐｄ合金量をＥＳＣＡ（光電子
分光法）のピーク強度比（Ｐｔ４ｆ／Ｓｉ２ｐ）により
測定した。
【００１４】
【表１】
【００１５】表１に示すとおり、試料Ｃ、Ｄの比較によ
り、汚染蒸着膜がほぼ完全に洗浄、除去されたことがわ
かる。
り、汚染蒸着膜がほぼ完全に洗浄、除去されたことがわ
かる。
【００１６】実施例２ ＳＵＳ板（２ｍｍ厚）からなる基体を、アセトン洗浄、
乾燥後、水溶性塩の塗布、蒸着処理などの各種処理を実
施した場合について、基体表面に残留するＴｉ量を定量
し、比較した。その結果を表２に示す。なお、この場合
の水溶性塩の塗布はトリポリリン酸ナトリウムの０．１
ｍｏｌ／ｌ水溶液に基体を浸漬し乾燥した。また、蒸着
はＥＢ蒸着法でＴｉを約１００ｎｍ厚コートした。Ｔｉ
膜をコート後、室温の市水の流水下で３０秒で水洗し、
乾燥後、基体上に残留するＴｉ量をＥＳＣＡ（光電子分
光法）のピーク強度比（Ｔｉ２ｐ／Ｓｉ２ｐ）により測
定した。
乾燥後、水溶性塩の塗布、蒸着処理などの各種処理を実
施した場合について、基体表面に残留するＴｉ量を定量
し、比較した。その結果を表２に示す。なお、この場合
の水溶性塩の塗布はトリポリリン酸ナトリウムの０．１
ｍｏｌ／ｌ水溶液に基体を浸漬し乾燥した。また、蒸着
はＥＢ蒸着法でＴｉを約１００ｎｍ厚コートした。Ｔｉ
膜をコート後、室温の市水の流水下で３０秒で水洗し、
乾燥後、基体上に残留するＴｉ量をＥＳＣＡ（光電子分
光法）のピーク強度比（Ｔｉ２ｐ／Ｓｉ２ｐ）により測
定した。
【００１７】
【表２】
【００１８】表２に示すとおり、試料Ｇ、Ｈの比較によ
り、汚染蒸着膜がほぼ完全に洗浄、除去されたことがわ
かる。
り、汚染蒸着膜がほぼ完全に洗浄、除去されたことがわ
かる。
【００１９】
【発明の効果】本発明の薄膜形成用治具を水洗すること
によって、薄膜形成用治具表面の汚染物質は、水に溶
解、離脱する水溶性物質被膜に同伴され容易に薄膜形成
用治具から除去され、清浄な薄膜形成用治具表面が得ら
れる。したがって、汚染された薄膜形成用治具を機械的
な摩擦などで除去する際に問題となる薄膜形成用治具表
面の損傷、発塵を回避しうる。
によって、薄膜形成用治具表面の汚染物質は、水に溶
解、離脱する水溶性物質被膜に同伴され容易に薄膜形成
用治具から除去され、清浄な薄膜形成用治具表面が得ら
れる。したがって、汚染された薄膜形成用治具を機械的
な摩擦などで除去する際に問題となる薄膜形成用治具表
面の損傷、発塵を回避しうる。
Claims (8)
- 【請求項１】薄膜形成用治具洗浄方法において、水溶性
物質からなる塗膜を予め薄膜形成用治具に形成させ、薄
膜形成後に前記薄膜形成用治具に付着した汚染薄膜を水
洗処理し除去することを特徴とする薄膜形成用治具の洗
浄方法。 - 【請求項２】前記水溶性物質がハロゲン化物、炭酸塩、
重炭酸塩、硝酸塩、硫酸塩、リン酸塩、ケイ酸塩、有機
酸塩、前記塩の複塩、有機酸、単糖類、および多糖類か
らなる群から選ばれた１種以上であることを特徴とする
請求項１の洗浄方法。 - 【請求項３】前記薄膜形成用治具が、ガラス、プラスチ
ック、セラミックス、金属、単結晶体、およびこれらの
表面に無機物および／または有機物がコーティングされ
たものからなる群から選ばれる少なくとも１種により構
成されたものであることを特徴とする請求項１の洗浄方
法。 - 【請求項４】前記薄膜形成用治具が、ベルジャー、防着
板、基板搬送レール、基板取り付け枠、および基板押え
金具からなる群から選ばれる少なくとも１種により構成
されたものであることを特徴とする請求項３の洗浄方
法。 - 【請求項５】前記塗膜の形成方法が、水溶性物質の水溶
液中に薄膜形成用治具全体を浸漬する方法、または該水
溶液をスプレイ、ディップまたはロール状の布やスポン
ジにしみこませ基体の表面に付与する方法、水溶液とし
て刷毛塗りをする方法、または、スクリーン印刷で付与
する方法であることを特徴とする請求項１の洗浄方法。 - 【請求項６】前記薄膜形成法が、蒸着法、スパッター
法、ＣＶＤ法、イオンプレーティング法、スプレイ法、
ゾルゲルディップ法、およびキャスティング法からなる
群から選ばれる少なくとも１種の方法であることを特徴
とする請求項１の洗浄方法。 - 【請求項７】前記水洗処理が、洗浄用水槽への浸漬、お
よび／または洗浄用水の散布を使用することを特徴とす
る請求項１の洗浄方法。 - 【請求項８】前記洗浄用水が、水、含水液、および界面
活性剤からなる群から選ばれる少なくとも１種からなる
ことを特徴とする請求項７の洗浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5180697A JPH0714816A (ja) | 1993-06-25 | 1993-06-25 | 薄膜形成用治具洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5180697A JPH0714816A (ja) | 1993-06-25 | 1993-06-25 | 薄膜形成用治具洗浄方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0714816A true JPH0714816A (ja) | 1995-01-17 |
Family
ID=16087732
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5180697A Pending JPH0714816A (ja) | 1993-06-25 | 1993-06-25 | 薄膜形成用治具洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0714816A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6503630B1 (en) | 1998-11-10 | 2003-01-07 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd | Glass article, method for handling glass article and handling tool for glass article |
| CN112410848A (zh) * | 2019-08-23 | 2021-02-26 | 华孚精密科技(马鞍山)有限公司 | 一种防止镁件包胶时受到污染的方法 |
-
1993
- 1993-06-25 JP JP5180697A patent/JPH0714816A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6503630B1 (en) | 1998-11-10 | 2003-01-07 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd | Glass article, method for handling glass article and handling tool for glass article |
| CN112410848A (zh) * | 2019-08-23 | 2021-02-26 | 华孚精密科技(马鞍山)有限公司 | 一种防止镁件包胶时受到污染的方法 |
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Legal Events
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