JPH0714766A - 真空装置ベーキング方法およびベーキング装置 - Google Patents
真空装置ベーキング方法およびベーキング装置Info
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- JPH0714766A JPH0714766A JP15091693A JP15091693A JPH0714766A JP H0714766 A JPH0714766 A JP H0714766A JP 15091693 A JP15091693 A JP 15091693A JP 15091693 A JP15091693 A JP 15091693A JP H0714766 A JPH0714766 A JP H0714766A
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- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 真空装置のベーキングに関し、装置にリーク
不良が起こっても、装置内部への不純物侵入を防止でき
る真空装置ベーキング方法およびベーキング装置の提供
を目的とする。 【構成】 ベーキング方法は、ベーキング対象の真空装
置１をその外側にヒータ３を配置させてパネル２で包囲
し、真空装置１とパネル２の間の空間を窒素で置換する
工程と、前記窒素置換の後にヒータ２により真空装置１
を加熱する工程と、前記窒素置換した空間にＨｅを導入
して、真空装置１内にリークするＨｅを検出する工程
と、を有するように構成し、ベーキング装置は、真空装
置１を包囲するパネル２と、真空装置１を加熱するため
のヒータ３と、パネル２の内側に窒素およびＨｅを導入
する窒素導入口４およびＨｅ導入口６と、パネル２の内
側の気体を流出させる排気口５と、真空装置１内におけ
るＨｅの存在を検出するＨｅ検出装置７と、を有するよ
うに構成する。
不良が起こっても、装置内部への不純物侵入を防止でき
る真空装置ベーキング方法およびベーキング装置の提供
を目的とする。 【構成】 ベーキング方法は、ベーキング対象の真空装
置１をその外側にヒータ３を配置させてパネル２で包囲
し、真空装置１とパネル２の間の空間を窒素で置換する
工程と、前記窒素置換の後にヒータ２により真空装置１
を加熱する工程と、前記窒素置換した空間にＨｅを導入
して、真空装置１内にリークするＨｅを検出する工程
と、を有するように構成し、ベーキング装置は、真空装
置１を包囲するパネル２と、真空装置１を加熱するため
のヒータ３と、パネル２の内側に窒素およびＨｅを導入
する窒素導入口４およびＨｅ導入口６と、パネル２の内
側の気体を流出させる排気口５と、真空装置１内におけ
るＨｅの存在を検出するＨｅ検出装置７と、を有するよ
うに構成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、分子線結晶成長装置な
どを対象にした真空装置ベーキング方法及びベーキング
装置に関する。
どを対象にした真空装置ベーキング方法及びベーキング
装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】分子線結晶成長（ＭＢＥ）装置などの真
空装置は、定期的あるいは突発的に真空を破り、ソース
チャージやメンテナンスを行うが、一度真空を破ると、
そのとき装置内壁に吸着される不純物ガスおよび運転中
に付着した種々の不純物を除去するクリーニングを行う
必要がある。
空装置は、定期的あるいは突発的に真空を破り、ソース
チャージやメンテナンスを行うが、一度真空を破ると、
そのとき装置内壁に吸着される不純物ガスおよび運転中
に付着した種々の不純物を除去するクリーニングを行う
必要がある。
【０００３】そのクリーニングは、装置の回りや下部に
ヒータを設置し、装置全体を包囲するようにパネルを組
立て、ヒータにより装置を約２００℃に加熱しながら約
１００時間真空に引いて脱ガスを行うものであり、ベー
キングと称せられる。パネルは外部への熱放散を低減さ
せて装置の加熱を容易にさせるように機能する。
ヒータを設置し、装置全体を包囲するようにパネルを組
立て、ヒータにより装置を約２００℃に加熱しながら約
１００時間真空に引いて脱ガスを行うものであり、ベー
キングと称せられる。パネルは外部への熱放散を低減さ
せて装置の加熱を容易にさせるように機能する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ベーキング中は、加熱
による熱的ストレスで、装置が主に金属カスケット部に
リーク不良を起こすことがある。そうなると高温の装置
内に空気と共に不純物が侵入して吸着されるので、リー
クを起こした場合には、再度メンテナンスやソースチャ
ージを行いベーキングをやり直すこととなる。その際、
リークにより不純物を吸着したソースは廃棄となる。
による熱的ストレスで、装置が主に金属カスケット部に
リーク不良を起こすことがある。そうなると高温の装置
内に空気と共に不純物が侵入して吸着されるので、リー
クを起こした場合には、再度メンテナンスやソースチャ
ージを行いベーキングをやり直すこととなる。その際、
リークにより不純物を吸着したソースは廃棄となる。
【０００５】本発明は、真空装置のベーキングに関し、
装置にリーク不良が起こっても、装置内部への不純物侵
入を防止できる真空装置ベーキング方法およびベーキン
グ装置の提供を目的とする。
装置にリーク不良が起こっても、装置内部への不純物侵
入を防止できる真空装置ベーキング方法およびベーキン
グ装置の提供を目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明による真空装置ベーキング方法は、ベーキン
グ対象の真空装置をその外側にヒータを配置させてパネ
ルで包囲し、該真空装置と該パネルの間の空間を窒素で
置換する工程と、前記窒素置換の後に該ヒータにより該
真空装置を加熱する工程と、前記窒素置換した空間にＨ
ｅを導入して、該真空装置内にリークするＨｅを検出す
る工程と、を有することを特徴としている。
に、本発明による真空装置ベーキング方法は、ベーキン
グ対象の真空装置をその外側にヒータを配置させてパネ
ルで包囲し、該真空装置と該パネルの間の空間を窒素で
置換する工程と、前記窒素置換の後に該ヒータにより該
真空装置を加熱する工程と、前記窒素置換した空間にＨ
ｅを導入して、該真空装置内にリークするＨｅを検出す
る工程と、を有することを特徴としている。
【０００７】また、本発明によるベーキング装置は、ベ
ーキング対象の真空装置を包囲するパネルと、該真空装
置を加熱するためのヒータと、該パネルに設けられてそ
の内側に窒素を導入する窒素導入口と、該パネルに設け
られてその内側にＨｅを導入するＨｅ導入口と、該パネ
ルに設けられてその内側の気体を流出させる排気口と、
該真空装置内におけるＨｅの存在を検出するＨｅ検出装
置と、を有することを特徴としている。そして、前記真
空装置は分子線結晶成長装置であることを特徴としてい
る。
ーキング対象の真空装置を包囲するパネルと、該真空装
置を加熱するためのヒータと、該パネルに設けられてそ
の内側に窒素を導入する窒素導入口と、該パネルに設け
られてその内側にＨｅを導入するＨｅ導入口と、該パネ
ルに設けられてその内側の気体を流出させる排気口と、
該真空装置内におけるＨｅの存在を検出するＨｅ検出装
置と、を有することを特徴としている。そして、前記真
空装置は分子線結晶成長装置であることを特徴としてい
る。
【０００８】
【作用】上記ベーキング方法においては、真空装置がリ
ーク不良を起こしても、真空装置内部への侵入が窒素と
Ｈｅに限定されて、不純物の侵入を防止することができ
る。更に、上記Ｈｅの検出によりリーク不良を起こした
か否かをベーキング中に知ることができる。これによ
り、ベーキングを効率良く行うことができるようにな
る。然も、リーク不良への対応の際にも後述のように不
純物の侵入を防止することができる。
ーク不良を起こしても、真空装置内部への侵入が窒素と
Ｈｅに限定されて、不純物の侵入を防止することができ
る。更に、上記Ｈｅの検出によりリーク不良を起こした
か否かをベーキング中に知ることができる。これによ
り、ベーキングを効率良く行うことができるようにな
る。然も、リーク不良への対応の際にも後述のように不
純物の侵入を防止することができる。
【０００９】また、上記ベーキング装置は、その構成に
より上記ベーキング方法を実施することが可能である。
そして、真空装置がＭＢＥ装置である場合には、ソース
を廃棄しなくとも良いようになる。
より上記ベーキング方法を実施することが可能である。
そして、真空装置がＭＢＥ装置である場合には、ソース
を廃棄しなくとも良いようになる。
【００１０】
【実施例】以下本発明の実施例についてベーキング装置
実施例の模式斜視図である図１を用いて説明する。
実施例の模式斜視図である図１を用いて説明する。
【００１１】図１において、１はベーキング対象の真空
装置（ＭＢＥ装置）、２はパネル、３はヒータ、４は窒
素導入口、５は排気口、６はＨｅ導入口、７はＨｅ検出
装置、である。
装置（ＭＢＥ装置）、２はパネル、３はヒータ、４は窒
素導入口、５は排気口、６はＨｅ導入口、７はＨｅ検出
装置、である。
【００１２】パネル２は、ベーキングの際に組立てられ
て真空装置１を包囲する。ベーキング以外の時は解体さ
れて真空装置１の使用を邪魔しない。ヒータ３は、真空
装置１を加熱するためのものであり、図では一部しか示
されないが真空装置１の回りにくるようにパネル２の内
側に配置される。
て真空装置１を包囲する。ベーキング以外の時は解体さ
れて真空装置１の使用を邪魔しない。ヒータ３は、真空
装置１を加熱するためのものであり、図では一部しか示
されないが真空装置１の回りにくるようにパネル２の内
側に配置される。
【００１３】窒素導入口４は、真空装置１とパネル２の
間の空間を窒素で置換するためにパネル２の内側に窒素
を導入する口であり、パネル２における側面パネルの一
端上部に設けられる。排気口５は、パネル２の内側の気
体を流出させる口であり、窒素導入口４に対して対角位
置となる下部に設けられる。窒素導入口４と排気口５の
上記配列は、窒素が空気より軽いことから上記窒素置換
を効率良くさせる。
間の空間を窒素で置換するためにパネル２の内側に窒素
を導入する口であり、パネル２における側面パネルの一
端上部に設けられる。排気口５は、パネル２の内側の気
体を流出させる口であり、窒素導入口４に対して対角位
置となる下部に設けられる。窒素導入口４と排気口５の
上記配列は、窒素が空気より軽いことから上記窒素置換
を効率良くさせる。
【００１４】Ｈｅ導入口６は、パネル２の内側にＨｅを
導入する口であり、上記側面パネルの両端下部に設けら
れる。Ｈｅ導入口６の上記位置は、Ｈｅの上記空間への
分散を効率良くさせる。Ｈｅ検出装置７は、真空装置１
内におけるＨｅの存在を高感度に検出するものであり、
ベーキング中に真空装置１がリーク不良を起こしたか否
かを知らせる。真空装置１のリーク不良検出を単独で行
う場合にＨｅ検出装置を使用していたならば、それをＨ
ｅ検出装置７に充当することができる。
導入する口であり、上記側面パネルの両端下部に設けら
れる。Ｈｅ導入口６の上記位置は、Ｈｅの上記空間への
分散を効率良くさせる。Ｈｅ検出装置７は、真空装置１
内におけるＨｅの存在を高感度に検出するものであり、
ベーキング中に真空装置１がリーク不良を起こしたか否
かを知らせる。真空装置１のリーク不良検出を単独で行
う場合にＨｅ検出装置を使用していたならば、それをＨ
ｅ検出装置７に充当することができる。
【００１５】上述のベーキング装置による真空装置１の
ベーキングは以下のようにして行う。即ち、 パネル２を組み立てることにより真空装置１をパネ
ル２で包囲する。ヒータ３は、パネル２の内側に配置さ
れる。
ベーキングは以下のようにして行う。即ち、 パネル２を組み立てることにより真空装置１をパネ
ル２で包囲する。ヒータ３は、パネル２の内側に配置さ
れる。
【００１６】 窒素導入口４から窒素を毎分約３００
リットルの流量で導入し、排気口５から要すればファン
を用いてパネル２内側の気体を排気して、真空装置１と
パネル２の間の空間を窒素で置換する。
リットルの流量で導入し、排気口５から要すればファン
を用いてパネル２内側の気体を排気して、真空装置１と
パネル２の間の空間を窒素で置換する。
【００１７】 窒素導入開始より約１時間後にヒータ
３に通電し、約２時間かけて真空装置１を約２００℃で
ほぼ一定となるように加熱する。 真空装置１が約２００℃に達したことを確認してか
ら、Ｈｅ導入口６からＨｅを毎分約１０リットルの流量
で約１０間導入する。
３に通電し、約２時間かけて真空装置１を約２００℃で
ほぼ一定となるように加熱する。 真空装置１が約２００℃に達したことを確認してか
ら、Ｈｅ導入口６からＨｅを毎分約１０リットルの流量
で約１０間導入する。
【００１８】 Ｈｅ検出装置７により真空装置１のリ
ーク不良の有無を確認する。 リーク不良が無い場合には、その状態で加熱による
長時間ベーキングを行う。
ーク不良の有無を確認する。 リーク不良が無い場合には、その状態で加熱による
長時間ベーキングを行う。
【００１９】 リーク不良が有る場合には、窒素導入
を続けながらヒータ３の通電を止め、真空装置１が室温
まで十分に冷えるのを待って、パネル２を解体する。そ
の後は、真空装置１内のソースを廃棄することなく、リ
ーク不良箇所を例えば増し締めで直し、再び以降の操
作を行う。
を続けながらヒータ３の通電を止め、真空装置１が室温
まで十分に冷えるのを待って、パネル２を解体する。そ
の後は、真空装置１内のソースを廃棄することなく、リ
ーク不良箇所を例えば増し締めで直し、再び以降の操
作を行う。
【００２０】 の長時間ベーキングを終えたら、ヒ
ータ３の通電を止め真空装置１が室温まで冷えるのを待
ってパネル２を解体し、ベーキングの作業を完了する。
以上のことから理解されるように、本発明の真空装置ベ
ーキング方法およびベーキング装置によれば、真空装置
にリーク不良が発生しても真空装置内部への不純物侵入
が防止される。更に、ベーキング中にリーク不良の有無
を検出することができてベーキングを効率良く行うこと
が可能であり、然も、リーク不良への対応の際にも不純
物の侵入を防止することができる。そして、真空装置が
ＭＢＥ装置である場合にはリーク不良の際にソースを廃
棄する必要がなくなる。
ータ３の通電を止め真空装置１が室温まで冷えるのを待
ってパネル２を解体し、ベーキングの作業を完了する。
以上のことから理解されるように、本発明の真空装置ベ
ーキング方法およびベーキング装置によれば、真空装置
にリーク不良が発生しても真空装置内部への不純物侵入
が防止される。更に、ベーキング中にリーク不良の有無
を検出することができてベーキングを効率良く行うこと
が可能であり、然も、リーク不良への対応の際にも不純
物の侵入を防止することができる。そして、真空装置が
ＭＢＥ装置である場合にはリーク不良の際にソースを廃
棄する必要がなくなる。
【００２１】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、真
空装置のベーキングに関し、装置にリーク不良が起こっ
ても装置内部への不純物侵入を防止でき、且つ、ベーキ
ング中にリーク不良の有無を検出することができ、然
も、リーク不良への対応の際にも不純物の侵入を防止で
きる真空装置ベーキング方法およびベーキング装置が提
供されて、ベーキングを効率良く行うことを可能にさ
せ、真空装置がＭＢＥ装置である場合にはリーク不良に
よるソースの廃棄を不要にさせる効果がある。
空装置のベーキングに関し、装置にリーク不良が起こっ
ても装置内部への不純物侵入を防止でき、且つ、ベーキ
ング中にリーク不良の有無を検出することができ、然
も、リーク不良への対応の際にも不純物の侵入を防止で
きる真空装置ベーキング方法およびベーキング装置が提
供されて、ベーキングを効率良く行うことを可能にさ
せ、真空装置がＭＢＥ装置である場合にはリーク不良に
よるソースの廃棄を不要にさせる効果がある。
【図１】 ベーキング装置実施例の模式斜視図
１ ベーキング対象の真空装置（ＭＢＥ装置） ２ パネル ３ ヒータ ４ 窒素導入口 ５ 排気口 ６ Ｈｅ導入口 ７ Ｈｅ検出装置
Claims (3)
- 【請求項１】 ベーキング対象の真空装置をその外側に
ヒータを配置させてパネルで包囲し、該真空装置と該パ
ネルの間の空間を窒素で置換する工程と、 前記窒素置換の後に該ヒータにより該真空装置を加熱す
る工程と、 前記窒素置換した空間にＨｅを導入して、該真空装置内
にリークするＨｅを検出する工程と、 を有することを特徴とする真空装置ベーキング方法。 - 【請求項２】 ベーキング対象の真空装置を包囲するパ
ネルと、 該真空装置を加熱するためのヒータと、 該パネルに設けられてその内側に窒素を導入する窒素導
入口と、 該パネルに設けられてその内側にＨｅを導入するＨｅ導
入口と、 該パネルに設けられてその内側の気体を流出させる排気
口と、 該真空装置内におけるＨｅの存在を検出するＨｅ検出装
置と、 を有することを特徴とするベーキング装置。 - 【請求項３】 前記真空装置は分子線結晶成長装置であ
ることを特徴とする請求項２記載のベーキング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15091693A JP3399587B2 (ja) | 1993-06-23 | 1993-06-23 | 真空装置ベーキング方法およびベーキング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15091693A JP3399587B2 (ja) | 1993-06-23 | 1993-06-23 | 真空装置ベーキング方法およびベーキング装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0714766A true JPH0714766A (ja) | 1995-01-17 |
| JP3399587B2 JP3399587B2 (ja) | 2003-04-21 |
Family
ID=15507205
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15091693A Expired - Fee Related JP3399587B2 (ja) | 1993-06-23 | 1993-06-23 | 真空装置ベーキング方法およびベーキング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3399587B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2642267A1 (fr) * | 2012-03-20 | 2013-09-25 | Riber | Appareil de dépôt sous vide à cellules à vanne comportant un dispositif de détection de fuite et procédé de détection d'une fuite dans un appareil de dépôt sous vide |
| CN110184589A (zh) * | 2019-05-30 | 2019-08-30 | 中国电子科技集团公司第十一研究所 | 用于分子束外延设备的烘烤服及其使用方法 |
-
1993
- 1993-06-23 JP JP15091693A patent/JP3399587B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2642267A1 (fr) * | 2012-03-20 | 2013-09-25 | Riber | Appareil de dépôt sous vide à cellules à vanne comportant un dispositif de détection de fuite et procédé de détection d'une fuite dans un appareil de dépôt sous vide |
| FR2988403A1 (fr) * | 2012-03-20 | 2013-09-27 | Riber | Appareil de depot sous vide a cellules a vanne comportant un dispositif de detection de fuite et procede de detection d'une fuite dans un appareil de depot sous vide |
| US9322098B2 (en) | 2012-03-20 | 2016-04-26 | Riber | Valve-cell vacuum deposition apparatus including a leak detection device and method for detecting a leak in a vacuum deposition apparatus |
| CN110184589A (zh) * | 2019-05-30 | 2019-08-30 | 中国电子科技集团公司第十一研究所 | 用于分子束外延设备的烘烤服及其使用方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3399587B2 (ja) | 2003-04-21 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20030128 |
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