JPH07134390A - 露光装置の設計方法及び露光用マスクの設計方法 - Google Patents
露光装置の設計方法及び露光用マスクの設計方法Info
- Publication number
- JPH07134390A JPH07134390A JP16756193A JP16756193A JPH07134390A JP H07134390 A JPH07134390 A JP H07134390A JP 16756193 A JP16756193 A JP 16756193A JP 16756193 A JP16756193 A JP 16756193A JP H07134390 A JPH07134390 A JP H07134390A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- light source
- shape
- area
- mask
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 光源形状を特定のものに仮定するという従来
の固定観念を打破して、新規な手法により計算を行うこ
とによって、露光装置及び露光用マスクの最適設計を行
える手段を提供する。 【構成】 任意の形状の光源を用い、光源の形状のデー
タを読み込みＩ、該光源からの光がマスクを通って被露
光材上に照射された時の被露光材上での光分布を計算し
II、該計算に基づいて光源の形状、露光マスクの最適設
計を行うIII 露光装置及び露光マスクの設計方法。
の固定観念を打破して、新規な手法により計算を行うこ
とによって、露光装置及び露光用マスクの最適設計を行
える手段を提供する。 【構成】 任意の形状の光源を用い、光源の形状のデー
タを読み込みＩ、該光源からの光がマスクを通って被露
光材上に照射された時の被露光材上での光分布を計算し
II、該計算に基づいて光源の形状、露光マスクの最適設
計を行うIII 露光装置及び露光マスクの設計方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、露光用光源設計方法及
び露光用マスク設計方法に関する。本発明は、例えば、
各種の露光装置や露光マスクの設計において用いること
ができ、例えば、電子材料（半導体装置等）形成の際の
露光技術に用いる露光用光源や露光用マスクの設計方法
として利用することができる。
び露光用マスク設計方法に関する。本発明は、例えば、
各種の露光装置や露光マスクの設計において用いること
ができ、例えば、電子材料（半導体装置等）形成の際の
露光技術に用いる露光用光源や露光用マスクの設計方法
として利用することができる。
【０００２】
【従来の技術】従来より、パターンを形成したマスクを
用いて、露光装置により、被露光材上にパターンを投影
露光し、被露光材上にパターンを形成することが各種分
野で広く行われている。この場合に、露光装置の光強度
計算や、被露光材上の光強度分布の計算を行うことがあ
り、これらに基づいて、露光装置やマスクを最適に設計
することが行われている。
用いて、露光装置により、被露光材上にパターンを投影
露光し、被露光材上にパターンを形成することが各種分
野で広く行われている。この場合に、露光装置の光強度
計算や、被露光材上の光強度分布の計算を行うことがあ
り、これらに基づいて、露光装置やマスクを最適に設計
することが行われている。
【０００３】しかし従来は、露光装置等の光強度計算
は、光源の形が光軸に中心をもつ円状のものと仮定した
各種シミュレーションによりこの計算が行われていた。
しかし、このような手段では、円状光源以外の形状の光
源については、適正な計算が行えない。例えば、Ｋａｍ
ｏｎらは、光源の形を円状のものからリング状のものに
することにより、露光装置の解像度を向上させる方法を
提案しているが（Ｋａｚｕｙａ ＫＡＭＯＮ，ｅｔ．ａ
ｌ．“Ｐｈｏｔｏｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ Ｓｙｓｔｅ
ｍ Ｕｓｉｎｇ Ａｎｎｕｌａｒ Ｉｌｌｕｍｉｎａｔ
ｉｏｎ”ＪＡＰＡＮＥＳＥ ＪＯＵＲＮＡＬ ＯＦ Ａ
ＰＰＬＩＥＤ ＰＨＹＳＩＣＳ ＶＯＬ．３０，Ｎｏ．
１１Ｂ，ＮＯＶＥＮＢＥＲ， １９９１，ｐｐ．３０２
１−３０２９）、このような場合のシミュレーションに
従来の考え方を適用しても、適正な結果は得られない。
は、光源の形が光軸に中心をもつ円状のものと仮定した
各種シミュレーションによりこの計算が行われていた。
しかし、このような手段では、円状光源以外の形状の光
源については、適正な計算が行えない。例えば、Ｋａｍ
ｏｎらは、光源の形を円状のものからリング状のものに
することにより、露光装置の解像度を向上させる方法を
提案しているが（Ｋａｚｕｙａ ＫＡＭＯＮ，ｅｔ．ａ
ｌ．“Ｐｈｏｔｏｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ Ｓｙｓｔｅ
ｍ Ｕｓｉｎｇ Ａｎｎｕｌａｒ Ｉｌｌｕｍｉｎａｔ
ｉｏｎ”ＪＡＰＡＮＥＳＥ ＪＯＵＲＮＡＬ ＯＦ Ａ
ＰＰＬＩＥＤ ＰＨＹＳＩＣＳ ＶＯＬ．３０，Ｎｏ．
１１Ｂ，ＮＯＶＥＮＢＥＲ， １９９１，ｐｐ．３０２
１−３０２９）、このような場合のシミュレーションに
従来の考え方を適用しても、適正な結果は得られない。
【０００４】また、従来の技術にあっては、光強度の計
算の場合に光源の形を円状のものと仮定してしまうこと
からも明らかなように、光源の形は一定の固定したもの
とする考え方に立っている。
算の場合に光源の形を円状のものと仮定してしまうこと
からも明らかなように、光源の形は一定の固定したもの
とする考え方に立っている。
【０００５】
【発明が解決しようとする問題点】本発明は、上記した
ように、光源の形状を円状のものと仮定することが必ず
しも実際的ではなくなって来たという背景と、更に適正
な露光装置及び露光用マスクを計算により設計すること
を可能ならしめようという基本的要請に鑑みて、なされ
たものである。
ように、光源の形状を円状のものと仮定することが必ず
しも実際的ではなくなって来たという背景と、更に適正
な露光装置及び露光用マスクを計算により設計すること
を可能ならしめようという基本的要請に鑑みて、なされ
たものである。
【０００６】即ち、本発明は、従来の固定観念を打破し
て、新規な手法により計算を行うことによって、露光装
置及び露光用マスクの最適設計を行える手段を提供せん
とするもので、より具体的には、最適な露光用光源を設
計できる露光装置設計方法及び最適な露光用マスクを設
計できる露光マスク設計方法を提供することを目的とす
る。
て、新規な手法により計算を行うことによって、露光装
置及び露光用マスクの最適設計を行える手段を提供せん
とするもので、より具体的には、最適な露光用光源を設
計できる露光装置設計方法及び最適な露光用マスクを設
計できる露光マスク設計方法を提供することを目的とす
る。
【０００７】
【問題点を解決するための手段】本発明は、基本的に、
光源のデータ、特に光源の形状のデータを読み込むとい
う従来は行われていなかった手段を備えて構成される。
光源のデータ、特に光源の形状のデータを読み込むとい
う従来は行われていなかった手段を備えて構成される。
【０００８】また、本発明は、予め、あるいは計算の結
果により、光源の形状を指定することにより、特定の形
状の光源を最後迄仮定するのではなく、計算によって光
源の最適形状を選定するように構成できるものである。
果により、光源の形状を指定することにより、特定の形
状の光源を最後迄仮定するのではなく、計算によって光
源の最適形状を選定するように構成できるものである。
【０００９】また、本発明においては、必要に応じて射
出瞳の形状（射出される光形状）のデータを用いて、こ
れにより上記最適設計を更に適正なものとすることがで
きる。
出瞳の形状（射出される光形状）のデータを用いて、こ
れにより上記最適設計を更に適正なものとすることがで
きる。
【００１０】本出願の請求項１の発明は、任意の形状の
光源を用い、光源の形状のデータを読み込み、該光源か
らの光がマスクを通って被露光材上に照射された時の被
露光材上での光分布を計算し、該計算に基づいて光源の
形状の最適設計を行うことを特徴とする露光装置の設計
方法であって、これにより上述した目的を達成するもの
である。
光源を用い、光源の形状のデータを読み込み、該光源か
らの光がマスクを通って被露光材上に照射された時の被
露光材上での光分布を計算し、該計算に基づいて光源の
形状の最適設計を行うことを特徴とする露光装置の設計
方法であって、これにより上述した目的を達成するもの
である。
【００１１】本出願の請求項２の発明は、任意の形状の
光源を用い、光源の形状のデータを読み込み、該光源か
らの光がマスクを通って被露光材上に照射された時の被
露光材上での光分布を計算し、該計算に基づいてマスク
の形状の最適設計を行うことを特徴とする露光用マスク
の設計方法であって、これにより上述した目的を達成す
るものである。
光源を用い、光源の形状のデータを読み込み、該光源か
らの光がマスクを通って被露光材上に照射された時の被
露光材上での光分布を計算し、該計算に基づいてマスク
の形状の最適設計を行うことを特徴とする露光用マスク
の設計方法であって、これにより上述した目的を達成す
るものである。
【００１２】本出願の請求項３の発明は、下記（ａ）〜
（ｃ）及び（ａ′）〜（ｃ′）の形の光源領域の内の少
なくとも１つを指定して光源の形状とし、 （ａ）帯状の光領域があり、他が光の無い部分である光
源用領域 （ｂ）環状の光領域があり、他が光の無い部分である光
源用領域 （ｃ）島状の光領域があり、他が光の無い部分である光
源用領域 （ａ′）帯状に光の無い部分があり、他が光領域である
光源用領域 （ｂ′）環状に光の無い部分があり、他が光領域である
光源用領域 （ｃ′）島状に光の無い部分があり、他が光領域である
光源用領域 次に該指定した光源によるマスクの情報を計算し、次に
下記及びを行い、 必要に応じて新しい光源の指定を行い、 該光源による被露光材上の光分布を計算し、更に必要
に応じて上記をくり返すことによって光源の最適設
計を行うことを特徴とする露光装置の設計方法であっ
て、これにより上述した目的を達成するものである。
（ｃ）及び（ａ′）〜（ｃ′）の形の光源領域の内の少
なくとも１つを指定して光源の形状とし、 （ａ）帯状の光領域があり、他が光の無い部分である光
源用領域 （ｂ）環状の光領域があり、他が光の無い部分である光
源用領域 （ｃ）島状の光領域があり、他が光の無い部分である光
源用領域 （ａ′）帯状に光の無い部分があり、他が光領域である
光源用領域 （ｂ′）環状に光の無い部分があり、他が光領域である
光源用領域 （ｃ′）島状に光の無い部分があり、他が光領域である
光源用領域 次に該指定した光源によるマスクの情報を計算し、次に
下記及びを行い、 必要に応じて新しい光源の指定を行い、 該光源による被露光材上の光分布を計算し、更に必要
に応じて上記をくり返すことによって光源の最適設
計を行うことを特徴とする露光装置の設計方法であっ
て、これにより上述した目的を達成するものである。
【００１３】本出願の請求項４の発明は、下記（ａ）〜
（ｃ）及び（ａ′）〜（ｃ′）の形の光源領域の内の少
なくとも１つを指定して光源の形状とし、 （ａ）帯状の光領域があり、他が光の無い部分である光
源用領域 （ｂ）環状の光領域があり、他が光の無い部分である光
源用領域 （ｃ）島状の光領域があり、他が光の無い部分である光
源用領域 （ａ′）帯状に光の無い部分があり、他が光領域である
光源用領域 （ｂ′）環状に光の無い部分があり、他が光領域である
光源用領域 （ｃ′）島状に光の無い部分があり、他が光領域である
光源用領域 次に該指定した光源によるマスクの情報を計算し、次に
下記及びを行い、 必要に応じて新しい光源の指定を行い、 該光源による被露光材上の光分布を計算し、更に必要
に応じて上記をくり返すことによってマスクの形状
の最適設計を行うことを特徴とする露光用マスクの設計
方法であって、これにより上述した目的を達成するもの
である。
（ｃ）及び（ａ′）〜（ｃ′）の形の光源領域の内の少
なくとも１つを指定して光源の形状とし、 （ａ）帯状の光領域があり、他が光の無い部分である光
源用領域 （ｂ）環状の光領域があり、他が光の無い部分である光
源用領域 （ｃ）島状の光領域があり、他が光の無い部分である光
源用領域 （ａ′）帯状に光の無い部分があり、他が光領域である
光源用領域 （ｂ′）環状に光の無い部分があり、他が光領域である
光源用領域 （ｃ′）島状に光の無い部分があり、他が光領域である
光源用領域 次に該指定した光源によるマスクの情報を計算し、次に
下記及びを行い、 必要に応じて新しい光源の指定を行い、 該光源による被露光材上の光分布を計算し、更に必要
に応じて上記をくり返すことによってマスクの形状
の最適設計を行うことを特徴とする露光用マスクの設計
方法であって、これにより上述した目的を達成するもの
である。
【００１４】本出願の請求項３，４の発明における
（ａ）〜（ｃ）及び（ａ′）〜（ｃ′）の形の光源領域
について、後記詳述する実施例を示す図２の例示を用い
て説明すると、次のとおりである。（ａ）帯状の光領域
があり、他が光の無い部分である光源用領域とは、代表
的には図２（ａ）に例示のように、幅を直径からの距離
Ｗで表し、傾きを基準（水平）線とのなす角θで表すこ
とにより表現することができる如き帯形状の光部分があ
り、他の部分は光が無い部分となっている（光の無い部
分を破線の斜線で示す。図２（ｂ）（ｃ）においても同
じ）光源を示す。（ｂ）環状の光領域があり、他が光の
無い部分である光源用領域とは、代表的には図２（ｂ）
に例示のように、中心からの径Ｒ1 ，Ｒ2 で特定される
如きリング形状の光部分があり、他の部分は光が無い部
分となっている光源を示す。（ｃ）島状の光領域があ
り、他が光の無い部分である光源領域とは、代表的には
図２（ｃ）に示すように、中心が光源の中心から距離Ｄ
離れ、半径Ｒである円状の光領域がある如く、島状の光
部分があり、他の部分が光が無い部分となっている光源
を示す。図２（ａ）（ｂ）（ｃ）はそれぞれの代表的例
示であり、計算上何らかのパラメータを用いて形状が特
定されるものであれば任意であり、例示に限られるもの
ではない。例えば、島状光源は、円状でなく、正方形や
その他の多角形、だ円形でもよいことは当然である。
（ａ）〜（ｃ）及び（ａ′）〜（ｃ′）の形の光源領域
について、後記詳述する実施例を示す図２の例示を用い
て説明すると、次のとおりである。（ａ）帯状の光領域
があり、他が光の無い部分である光源用領域とは、代表
的には図２（ａ）に例示のように、幅を直径からの距離
Ｗで表し、傾きを基準（水平）線とのなす角θで表すこ
とにより表現することができる如き帯形状の光部分があ
り、他の部分は光が無い部分となっている（光の無い部
分を破線の斜線で示す。図２（ｂ）（ｃ）においても同
じ）光源を示す。（ｂ）環状の光領域があり、他が光の
無い部分である光源用領域とは、代表的には図２（ｂ）
に例示のように、中心からの径Ｒ1 ，Ｒ2 で特定される
如きリング形状の光部分があり、他の部分は光が無い部
分となっている光源を示す。（ｃ）島状の光領域があ
り、他が光の無い部分である光源領域とは、代表的には
図２（ｃ）に示すように、中心が光源の中心から距離Ｄ
離れ、半径Ｒである円状の光領域がある如く、島状の光
部分があり、他の部分が光が無い部分となっている光源
を示す。図２（ａ）（ｂ）（ｃ）はそれぞれの代表的例
示であり、計算上何らかのパラメータを用いて形状が特
定されるものであれば任意であり、例示に限られるもの
ではない。例えば、島状光源は、円状でなく、正方形や
その他の多角形、だ円形でもよいことは当然である。
【００１５】また、（ａ）帯状の光領域があり、他が光
の無い部分である光源用領域、（ｂ）環状の光領域があ
り、他が光の無い部分である光源用領域、（ｃ）島状の
光領域があり、他が光の無い部分である光源用領域と
は、各々上記（ａ）（ｂ）（ｃ）の光のある部分と無い
部分とが反転した構造であるものを示す。
の無い部分である光源用領域、（ｂ）環状の光領域があ
り、他が光の無い部分である光源用領域、（ｃ）島状の
光領域があり、他が光の無い部分である光源用領域と
は、各々上記（ａ）（ｂ）（ｃ）の光のある部分と無い
部分とが反転した構造であるものを示す。
【００１６】
【作用】本出願の請求項１の発明によれば、光源の形状
のデータを読み込むので、その任意形状の光源について
の、適正な計算を行うことができる。かつ、この計算結
果に基づいて、更に光源の形状の指定をし直すことが可
能となり、よって光源の形状の最適設計を行うことが可
能ならしめられ、適正な露光装置を得ることができる。
のデータを読み込むので、その任意形状の光源について
の、適正な計算を行うことができる。かつ、この計算結
果に基づいて、更に光源の形状の指定をし直すことが可
能となり、よって光源の形状の最適設計を行うことが可
能ならしめられ、適正な露光装置を得ることができる。
【００１７】本出願の請求項２の発明によれば、光源の
形状のデータを読み込むので、その任意形状の光源につ
いての適正な計算を行うことができるとともに、この計
算結果に基づいてマスクの適正な設計を行うことがで
き、例えば当初の光源形状から更に光源の形状の指定を
し直して光源形状を変えた場合においても、その光源形
状について最も適切なマスク構造を設計することが可能
となり、よって光源形状に応じた最適なマスク構造の設
計を行うことが可能ならしめられる。
形状のデータを読み込むので、その任意形状の光源につ
いての適正な計算を行うことができるとともに、この計
算結果に基づいてマスクの適正な設計を行うことがで
き、例えば当初の光源形状から更に光源の形状の指定を
し直して光源形状を変えた場合においても、その光源形
状について最も適切なマスク構造を設計することが可能
となり、よって光源形状に応じた最適なマスク構造の設
計を行うことが可能ならしめられる。
【００１８】本出願の請求項３，４の発明によれば、特
定の形状の光源の内から任意の１以上を選定して計算を
行い、その結果に基づいて更に必要に応じて光源の指定
を行うので、上記請求項１，２の露光装置の設計及び露
光用マスクの設計を、更に具体的に効率良く最適に行う
ことができる。
定の形状の光源の内から任意の１以上を選定して計算を
行い、その結果に基づいて更に必要に応じて光源の指定
を行うので、上記請求項１，２の露光装置の設計及び露
光用マスクの設計を、更に具体的に効率良く最適に行う
ことができる。
【００１９】実施例 以下本発明の実施例について、図面を参照して説明す
る。但し当然のことではあるが、本発明は実施例により
限定を受けるものではない。
る。但し当然のことではあるが、本発明は実施例により
限定を受けるものではない。
【００２０】実施例１ この実施例は、本発明を、半導体装置製造プロセスに用
いる露光装置、及び露光用マスクの設計に適用したもの
である。
いる露光装置、及び露光用マスクの設計に適用したもの
である。
【００２１】特に、本実施例のシミュレーションにおい
ては、露光装置の光強度計算による設計に際し、光源の
形を指定できるようにし、かつ特に、光源の形の指定を
簡便に、しかも様々な形を指定できる用にするために、
光源の形を、帯状のもの、リング状のもの、及び島状の
ものとして中心が光軸にない円状のもの、及びそれらの
重ね合わせで指定できるようにした。
ては、露光装置の光強度計算による設計に際し、光源の
形を指定できるようにし、かつ特に、光源の形の指定を
簡便に、しかも様々な形を指定できる用にするために、
光源の形を、帯状のもの、リング状のもの、及び島状の
ものとして中心が光軸にない円状のもの、及びそれらの
重ね合わせで指定できるようにした。
【００２２】図１に、本実施例で用いたシミュレーショ
ンにおける計算の流れを示す。本実施例では、図１に示
すように、任意の形状の光源を用い、光源の形状のデー
タの読み込みＩを行い、該光源からの光がマスクを通っ
て被露光材上に照射された時の被露光材上での光分布を
計算する工程IIを行い、該計算に基づいて光源の形状の
最適設計III を行うものである。
ンにおける計算の流れを示す。本実施例では、図１に示
すように、任意の形状の光源を用い、光源の形状のデー
タの読み込みＩを行い、該光源からの光がマスクを通っ
て被露光材上に照射された時の被露光材上での光分布を
計算する工程IIを行い、該計算に基づいて光源の形状の
最適設計III を行うものである。
【００２３】かつ本実施例では、上記光分布計算工程II
I での該計算に基づいて、マスクの形状の最適設計をも
行う。特にここでは、上記最適設計した光源の形状に応
じて、それに最適のマスクの形状を設計するようにし
た。
I での該計算に基づいて、マスクの形状の最適設計をも
行う。特にここでは、上記最適設計した光源の形状に応
じて、それに最適のマスクの形状を設計するようにし
た。
【００２４】また本実施例では、最初の任意設定の光源
形状、及び光源形状の設計における光源の指定を、
（ａ）図２（ａ）に示すような、帯状の光領域があり、
他が光の無い部分である光源用領域と、（ｂ）図２
（ｂ）に示すような、環状の光領域があり、他が光の無
い部分である光源用領域と、（ｃ）図２（ｃ）に示すよ
うな、島状の光領域があり、他が光の無い部分である光
源用領域と、（ａ′）図２（ａ）を反転させた構成の、
帯状に光の無い部分があり、他が光領域である光源用領
域と、（ｂ′）図２（ｂ）を反転させた構成の、環状に
光の無い部分があり、他が光領域である光源用領域と、
（ｃ′）図２（ｃ）の反転させた構成の、島状に光の無
い部分があり、他が光領域である光源用領域との１つ以
上の組み合わせで指定するようにした。
形状、及び光源形状の設計における光源の指定を、
（ａ）図２（ａ）に示すような、帯状の光領域があり、
他が光の無い部分である光源用領域と、（ｂ）図２
（ｂ）に示すような、環状の光領域があり、他が光の無
い部分である光源用領域と、（ｃ）図２（ｃ）に示すよ
うな、島状の光領域があり、他が光の無い部分である光
源用領域と、（ａ′）図２（ａ）を反転させた構成の、
帯状に光の無い部分があり、他が光領域である光源用領
域と、（ｂ′）図２（ｂ）を反転させた構成の、環状に
光の無い部分があり、他が光領域である光源用領域と、
（ｃ′）図２（ｃ）の反転させた構成の、島状に光の無
い部分があり、他が光領域である光源用領域との１つ以
上の組み合わせで指定するようにした。
【００２５】次に該指定した光源によるマスクの情報を
計算し、次に下記及びを行い、 必要に応じて新しい光源の指定を行い、 該光源による被露光材上の光分布を計算し、更に必要
に応じて上記をくり返すことによって光源の最適設
計、及びそれに応じたマスクの最適設計を行うようにし
たものである。
計算し、次に下記及びを行い、 必要に応じて新しい光源の指定を行い、 該光源による被露光材上の光分布を計算し、更に必要
に応じて上記をくり返すことによって光源の最適設
計、及びそれに応じたマスクの最適設計を行うようにし
たものである。
【００２６】本実施例によれば、任意形状の光は、例え
ば斜入射照明法を用いた場合の計算が可能であり、ま
た、いわゆるＳｕｐｅｒ ＦＬＥＸ法を用いた場合など
の計算が可能である。
ば斜入射照明法を用いた場合の計算が可能であり、ま
た、いわゆるＳｕｐｅｒ ＦＬＥＸ法を用いた場合など
の計算が可能である。
【００２７】本実施例は、光源の形を指定できるという
特長を充分に生かすものである。また、射出瞳の透過率
・位相を指定できる構成にすることができる。
特長を充分に生かすものである。また、射出瞳の透過率
・位相を指定できる構成にすることができる。
【００２８】以下、本実施例について更に具体的に詳述
する。まず、本実施例における光源を指定するパターン
について説明する。
する。まず、本実施例における光源を指定するパターン
について説明する。
【００２９】本実施例において、光源の形は、第２図
（ａ）〜（ｃ）に示した３つのパターンの指定が可能で
ある（光の無い部分を破線の斜線で示してある）。ま
た、これらを明暗反転した３つのパターンの指定が可能
である。更に、これらのパターンの重ね合わせも可能で
ある。
（ａ）〜（ｃ）に示した３つのパターンの指定が可能で
ある（光の無い部分を破線の斜線で示してある）。ま
た、これらを明暗反転した３つのパターンの指定が可能
である。更に、これらのパターンの重ね合わせも可能で
ある。
【００３０】図２（ａ）は、帯状の光源を、図２（ｂ）
は、リング状の光源を、図２（ｃ）は、中心が光軸から
ずれた円の光源を示している。これらのパターンは、次
の表１のパラメータで指定する。
は、リング状の光源を、図２（ｃ）は、中心が光軸から
ずれた円の光源を示している。これらのパターンは、次
の表１のパラメータで指定する。
【００３１】
【表１】
【００３２】また、指定したいパターンの名前、パラメ
ータを次のように並べて入力する。 名前 パラメータ１ パラメータ２ パラメータ３ （指定したいパターンの数だけ） ’ＥＮＤ’ 例えば、 ’ＣＩＲＣＬＥ’ ０．７ ４５．０ ０．３ ’ＣＩＲＣＬＥ’ ０．７ １３５．０ ０．３ ’ＣＩＲＣＬＥ’ ０．７ ２２５．０ ０．３ ’ＣＩＲＣＬＥ’ ０．７ ３１５．０ ０．３ ’ＥＮＤ’ は、図３に示す４つの円形の光源の形を示す。
ータを次のように並べて入力する。 名前 パラメータ１ パラメータ２ パラメータ３ （指定したいパターンの数だけ） ’ＥＮＤ’ 例えば、 ’ＣＩＲＣＬＥ’ ０．７ ４５．０ ０．３ ’ＣＩＲＣＬＥ’ ０．７ １３５．０ ０．３ ’ＣＩＲＣＬＥ’ ０．７ ２２５．０ ０．３ ’ＣＩＲＣＬＥ’ ０．７ ３１５．０ ０．３ ’ＥＮＤ’ は、図３に示す４つの円形の光源の形を示す。
【００３３】次に、本実施例において光強度計算のもと
になっている計算式を示す。被露光材であるウェハー上
の点（ｘi ，ｙi ）での光強度を、Ｉ（ｘi ，ｙi ）と
すると、光振幅Ｕk,l （ｘi ，ｙi ）とＩ（ｘi ，
ｙi ）は、
になっている計算式を示す。被露光材であるウェハー上
の点（ｘi ，ｙi ）での光強度を、Ｉ（ｘi ，ｙi ）と
すると、光振幅Ｕk,l （ｘi ，ｙi ）とＩ（ｘi ，
ｙi ）は、
【００３４】
【数１】
【００３５】上記Ｋm ,nは、光が射出されて存在する領
域（「瞳」と称する）の中に点（ｘi ，ｙi ）が存在す
るか否かを示し、Ｆm-k,n-l は、マスクの回折光の強度
を示し、Ｓk ,lは、指定した所に光源が位置しているか
否かを示す。
域（「瞳」と称する）の中に点（ｘi ，ｙi ）が存在す
るか否かを示し、Ｆm-k,n-l は、マスクの回折光の強度
を示し、Ｓk ,lは、指定した所に光源が位置しているか
否かを示す。
【００３６】また、Σは、光源の形を示す。また、計算
は、マスク・パターンがＸ軸方向にｐX 、Ｙ軸方向にｐ
y の周期を持っている周期的であることを仮定してい
る。
は、マスク・パターンがＸ軸方向にｐX 、Ｙ軸方向にｐ
y の周期を持っている周期的であることを仮定してい
る。
【００３７】本実施例のシミュレーションの手法を、図
１の流れ図を参照して、以下その手順を説明する。
１の流れ図を参照して、以下その手順を説明する。
【００３８】スタートＩＡａ、光学データの読み込みＩ
Ａｂ（ここでは、波長、レンズ口径等の、基本的な光の
条件を読み込む）を行う。次にマスクデータの読み込み
ＩＡｃ（マスク・パターン形状等の読み込み）を行う。
次いで、光源の形状のデータの読み込みＩを行う。この
光源形状のデータの読み込みは、従来は行われていなか
った。光源形状は円形とされていたからである。
Ａｂ（ここでは、波長、レンズ口径等の、基本的な光の
条件を読み込む）を行う。次にマスクデータの読み込み
ＩＡｃ（マスク・パターン形状等の読み込み）を行う。
次いで、光源の形状のデータの読み込みＩを行う。この
光源形状のデータの読み込みは、従来は行われていなか
った。光源形状は円形とされていたからである。
【００３９】以上で、データの読み込み工程ＩＡが終了
する。次に、光分布の計算の工程に入る。
する。次に、光分布の計算の工程に入る。
【００４０】まず、光源の透過関数（式（５）の
Ｓk ,l）の計算IIａを行う。実際に光源の光があるか否
かが計算される。
Ｓk ,l）の計算IIａを行う。実際に光源の光があるか否
かが計算される。
【００４１】次に、射出瞳の透過関数（式（３）のＫ
m ,n）の計算IIｂを行う。瞳に光があるか否かが、計算
される。
m ,n）の計算IIｂを行う。瞳に光があるか否かが、計算
される。
【００４２】次に、マスクのＦｏｕｒｉｅｒ係数（式
（４）のＦm-k ,n-1）の計算IIｃを行う。
（４）のＦm-k ,n-1）の計算IIｃを行う。
【００４３】つづいて、最適設計工程III に入る。
【００4 ４】まず、新しい光源の設定（ｋ，ｌのインク
リメント）III ａを行う。
リメント）III ａを行う。
【００４５】次に、新しい光源に対するＫm ,n ,Ｆ
m-k ,n-1の計算III ｂを行う。
m-k ,n-1の計算III ｂを行う。
【００４６】次に、新しい光源によるウェハー上の光の
振幅（式（１）のＵk ,l（ｘi,ｙi））の計算III ｃを
行う。
振幅（式（１）のＵk ,l（ｘi,ｙi））の計算III ｃを
行う。
【００４７】更に、各光源による強度分布の重ね合わせ
（式（２）計算）III ｄを行う。
（式（２）計算）III ｄを行う。
【００４８】「ＤＯループが必要な回数繰り返されてい
るか？」 IIIｅの判断を行い、必要に応じてIII ａに戻
り、上記を繰り返す。
るか？」 IIIｅの判断を行い、必要に応じてIII ａに戻
り、上記を繰り返す。
【００４９】出力工程IVでは、計算結果の出力IVａを行
い、終了IVｂする。
い、終了IVｂする。
【００５０】図４の光源形状を指定し、図５のマスクパ
ターンを用いた場合の計算例の結果を、図６（ａ）〜
（ｃ）に示す。
ターンを用いた場合の計算例の結果を、図６（ａ）〜
（ｃ）に示す。
【００５１】この結果を見ると、波長０．２４５μｍ，
ＮＡ０．４２のステッパーを使う場合、図６（ａ）の結
果より、０．３５μｍのパターンを解像したい場合、光
源の形は、光軸に中心をもつ円状のものが良いことがわ
かる。また、図６（ｃ）の結果より、０．２５μｍのパ
ターンを解像したい場合、光源の形は、光源の端の方に
中心を持つ、半径の小さな円状のものが良いことがわか
る。
ＮＡ０．４２のステッパーを使う場合、図６（ａ）の結
果より、０．３５μｍのパターンを解像したい場合、光
源の形は、光軸に中心をもつ円状のものが良いことがわ
かる。また、図６（ｃ）の結果より、０．２５μｍのパ
ターンを解像したい場合、光源の形は、光源の端の方に
中心を持つ、半径の小さな円状のものが良いことがわか
る。
【００５２】このような計算より、光源の形、マスク・
パターンの最適設計が可能となる。
パターンの最適設計が可能となる。
【００５３】実施例２ 図７に、実施例２の計算の流れ図を示す。この実施例で
は、データの読み込み工程ＩＡにおいて、射出瞳のデー
タの読み込みＩＡｄを行う。従来は射出瞳の形状は円形
に固定されていたので、かかる射出瞳のデータの読み込
みＩＡｄは行われていなかった。
は、データの読み込み工程ＩＡにおいて、射出瞳のデー
タの読み込みＩＡｄを行う。従来は射出瞳の形状は円形
に固定されていたので、かかる射出瞳のデータの読み込
みＩＡｄは行われていなかった。
【００５４】また、本実施例では、次の式（３′）、式
（３″）で示される関数Ｇｍ，ｎの計算を行う。式
（３″）は式（３′）を離散化したものである。これら
の関数は、瞳における光の透過挙動（位相透過率で表さ
れる）を示す関数である。
（３″）で示される関数Ｇｍ，ｎの計算を行う。式
（３″）は式（３′）を離散化したものである。これら
の関数は、瞳における光の透過挙動（位相透過率で表さ
れる）を示す関数である。
【００５５】
【式２】
【００５６】例えば図２（ａ）〜（ｃ）の３つのパター
ン（または更にこれらの反転の３パターンを加えたも
の）で指定された形状を示すものである。
ン（または更にこれらの反転の３パターンを加えたも
の）で指定された形状を示すものである。
【００５７】本実施例では、図７に示すように、光源の
形状のデータの読み込みＩにつづいて、射出瞳データ
（形状等）のデータの読み込みＩＡｄを行う。
形状のデータの読み込みＩにつづいて、射出瞳データ
（形状等）のデータの読み込みＩＡｄを行う。
【００５８】また、光分布の計算工程IIの射出瞳の透過
関数の計算工程IIｂにおいて、式（３）のＫm ,nの計算
に加えて、式（３′）（３″）のＧm ,nの計算をも行
う。着目する点が射出瞳内にある時、射出瞳に関するデ
ータの計算を行う。
関数の計算工程IIｂにおいて、式（３）のＫm ,nの計算
に加えて、式（３′）（３″）のＧm ,nの計算をも行
う。着目する点が射出瞳内にある時、射出瞳に関するデ
ータの計算を行う。
【００５９】その他は実施例１と同様であり、同様の効
果をもたらす。更に本実施例では、フォーカスをずらし
た（デフォーカスさせた）時にもコントラスト低下等の
劣化を防ぐようにすることができる。
果をもたらす。更に本実施例では、フォーカスをずらし
た（デフォーカスさせた）時にもコントラスト低下等の
劣化を防ぐようにすることができる。
【００６０】
【発明の効果】本発明によれば、新規な手法により計算
を行うことによって、露光装置及び露光用マスクの最適
設計を行うことが可能ならしめられ、即ち、最適な露光
用光源を設計できる露光装置設計方法及び最適な露光用
マスクを設計できる露光マスク設計方法を提供すること
ができたものである。
を行うことによって、露光装置及び露光用マスクの最適
設計を行うことが可能ならしめられ、即ち、最適な露光
用光源を設計できる露光装置設計方法及び最適な露光用
マスクを設計できる露光マスク設計方法を提供すること
ができたものである。
【図１】実施例１のシミュレーションにおける計算の流
れを示す図である。
れを示す図である。
【図２】光源領域形状の例を示す図である。
【図３】指定した光源の形状の例を示す図である。
【図４】実施例の１シミュレーションにおいて用いた光
源の形状を示す図である。
源の形状を示す図である。
【図５】実施例１のシミュレーションにおいて用いたマ
スク・パターンを示す図である。
スク・パターンを示す図である。
【図６】実施例１のシミュレーションにおける光分布の
シミュレーション結果を示す。
シミュレーション結果を示す。
【図７】実施例２のシミュレーションにおける計算の流
れを示す図である。
れを示す図である。
Ｉ 光源の形状のデータの読み込み ＩＡ データの読み込み II 光分布の計算 III 光源形状（及び／またはマスク形状）の設計
【手続補正書】
【提出日】平成５年１２月３日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１０】本出願の請求項１の発明は、任意の形状の
光源を用い、光源の形状のデータを読み込み、該光源か
らの光がマスクを通って被露光材上に照射された時の被
露光材上での光強度分布を計算し、該計算に基づいて光
源の形状の最適設計を行うことを特徴とする露光装置で
あって、これにより上記目的を達成するものである。
光源を用い、光源の形状のデータを読み込み、該光源か
らの光がマスクを通って被露光材上に照射された時の被
露光材上での光強度分布を計算し、該計算に基づいて光
源の形状の最適設計を行うことを特徴とする露光装置で
あって、これにより上記目的を達成するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１１】本出願の請求項２の発明は、任意の形状の
光源を用い、光源の形状のデータを読み込み、該光源か
らの光がマスクを通って被露光材上に照射された時の被
露光材上での光強度分布を計算し、該計算に基づいてマ
スクの形状の最適設計を行うことを特徴とする露光用マ
スクの設計方法であって、これにより上記目的を達成す
るものである。
光源を用い、光源の形状のデータを読み込み、該光源か
らの光がマスクを通って被露光材上に照射された時の被
露光材上での光強度分布を計算し、該計算に基づいてマ
スクの形状の最適設計を行うことを特徴とする露光用マ
スクの設計方法であって、これにより上記目的を達成す
るものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正内容】
【００２６】本実施例は、光源の形を指定できるという
特長を充分に生かすものである。また、射出瞳の透過率
・位相を指定できる構成にすることができる。
特長を充分に生かすものである。また、射出瞳の透過率
・位相を指定できる構成にすることができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正内容】
【００２７】したがって、例えば斜入射照明法を用いた
場合の計算が可能であり、また、いわゆるＳｕｐｅｒ
ＦＬＥＸ法を用いた場合などの計算が可能である。
場合の計算が可能であり、また、いわゆるＳｕｐｅｒ
ＦＬＥＸ法を用いた場合などの計算が可能である。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正内容】
【００３５】上記Ｋｍ，ｎは、光が射出されて存在する
領域（「瞳」と称する）での回析光の位相の変化を示
し、Ｆｍ−ｋ，ｎ−ｌは、マスクの回折光の強度を示
し、Ｓｋ，ｌは、指定した所に光源が位置しているか否
かを示す。
領域（「瞳」と称する）での回析光の位相の変化を示
し、Ｆｍ−ｋ，ｎ−ｌは、マスクの回折光の強度を示
し、Ｓｋ，ｌは、指定した所に光源が位置しているか否
かを示す。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正内容】
【００４１】次に、射出瞳の透過関数（式（３）のＫ
ｍ，ｎ）の計算ＩＩｂを行う。瞳での回析光の位相変化
が、計算される。
ｍ，ｎ）の計算ＩＩｂを行う。瞳での回析光の位相変化
が、計算される。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正内容】
【００５４】また、本実施例では、次の式（３′）で示
される関数Ｇｍ，ｎの計算を行う。これらの関数は、瞳
における光の透過挙動（位相透過率で表される）を示す
関数である。
される関数Ｇｍ，ｎの計算を行う。これらの関数は、瞳
における光の透過挙動（位相透過率で表される）を示す
関数である。
【００５５】
【式２】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正内容】
【００５８】また、光分布の計算工程ＩＩの射出瞳の透
過関数の計算工程ＩＩｂにおいて、式（３）のＫｍ，ｎ
の計算に加えて、式（３′）のＧｍ，ｎの計算をも行
う。着目する回析光が射出瞳内にある時、射出瞳に関す
るデータの計算を行う。
過関数の計算工程ＩＩｂにおいて、式（３）のＫｍ，ｎ
の計算に加えて、式（３′）のＧｍ，ｎの計算をも行
う。着目する回析光が射出瞳内にある時、射出瞳に関す
るデータの計算を行う。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正内容】
【図面の簡単な説明】
【図１】実施例１のシミュレーションにおける計算の流
れを示す図である。
れを示す図である。
【図２】光源領域形状の例を示す図である。
【図３】指定した光源の形状の例を示す図である。
【図４】実施例１のシミュレーションにおいて用いた光
源の形状を示す図である。
源の形状を示す図である。
【図５】実施例１のシミュレーションにおいて用いたマ
スク・パターンを示す図である。
スク・パターンを示す図である。
【図６】（ａ）〜（ｃ）に実施例１のシミュレーション
における光分布のシミュレーション結果を示す。
における光分布のシミュレーション結果を示す。
【図７】実施例２のシミュレーションにおける計算の流
れを示す図である。
れを示す図である。
【符号の説明】 Ｉ 光源の形状のデータの読み込み ＩＡ データの読み込み ＩＩ 光分布の計算 ＩＩＩ 光源形状（及び／またはマスク形状）の設計
【手続補正１２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６
【補正方法】変更
【補正内容】
【図６】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７
【補正方法】変更
【補正内容】
【図７】
【手続補正１４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図８
【補正方法】削除
【手続補正１５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図９
【補正方法】削除
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/027 7352−4Ｍ Ｈ０１Ｌ 21/30 ５２７
Claims (4)
- 【請求項１】任意の形状の光源を用い、 光源の形状のデータを読み込み、 該光源からの光がマスクを通って被露光材上に照射され
た時の被露光材上での光分布を計算し、 該計算に基づいて光源の形状の最適設計を行うことを特
徴とする露光装置の設計方法。 - 【請求項２】任意の形状の光源を用い、 光源の形状のデータを読み込み、 該光源からの光がマスクを通って被露光材上に照射され
た時の被露光材上での光分布を計算し、 該計算に基づいてマスクの形状の最適設計を行うことを
特徴とする露光用マスクの設計方法。 - 【請求項３】下記（ａ）〜（ｃ）及び（ａ′）〜
（ｃ′）の形の光源領域の内の少なくとも１つを指定し
て光源の形状とし、 （ａ）帯状の光領域があり、他が光の無い部分である光
源用領域 （ｂ）環状の光領域があり、他が光の無い部分である光
源用領域 （ｃ）島状の光領域があり、他が光の無い部分である光
源用領域 （ａ′）帯状に光の無い部分があり、他が光領域である
光源用領域 （ｂ′）環状に光の無い部分があり、他が光領域である
光源用領域 （ｃ′）島状に光の無い部分があり、他が光領域である
光源用領域 次に該指定した光源によるマスクの情報を計算し、次に
下記及びを行い、 必要に応じて新しい光源の指定を行い、 該光源による被露光材上の光分布を計算し、 更に必要に応じて上記をくり返すことによって光源
の最適設計を行うことを特徴とする露光装置の設計方
法。 - 【請求項４】下記（ａ）〜（ｃ）及び（ａ′）〜
（ｃ′）の形の光源領域の内の少なくとも１つを指定し
て光源の形状とし、 （ａ）帯状の光領域があり、他が光の無い部分である光
源用領域 （ｂ）環状の光領域があり、他が光の無い部分である光
源用領域 （ｃ）島状の光領域があり、他が光の無い部分である光
源用領域 （ａ′）帯状に光の無い部分があり、他が光領域である
光源用領域 （ｂ′）環状に光の無い部分があり、他が光領域である
光源用領域 （ｃ′）島状に光の無い部分があり、他が光領域である
光源用領域 次に該指定した光源によるマスクの情報を計算し、次に
下記及びを行い、 必要に応じて新しい光源の指定を行い、 該光源による被露光材上の光分布を計算し、 更に必要に応じて上記をくり返すことによってマス
クの形状の最適設計を行うことを特徴とする露光用マス
クの設計方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16756193A JPH07134390A (ja) | 1993-06-14 | 1993-06-14 | 露光装置の設計方法及び露光用マスクの設計方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16756193A JPH07134390A (ja) | 1993-06-14 | 1993-06-14 | 露光装置の設計方法及び露光用マスクの設計方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07134390A true JPH07134390A (ja) | 1995-05-23 |
Family
ID=15852015
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16756193A Pending JPH07134390A (ja) | 1993-06-14 | 1993-06-14 | 露光装置の設計方法及び露光用マスクの設計方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07134390A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11204397A (ja) * | 1998-01-08 | 1999-07-30 | Mitsubishi Electric Corp | パターン決定方法および露光装置に用いられるアパーチャ |
| JP2005099618A (ja) * | 2003-09-26 | 2005-04-14 | Seiko Epson Corp | 多面取りフォトマスク、電気光学装置の製造方法、およびその製造方法で製造された電気光学装置を搭載した電子機器 |
| JP2006066440A (ja) * | 2004-08-24 | 2006-03-09 | Toshiba Corp | 照明光源の設計方法、マスクパターン設計方法、フォトマスクの製造方法、半導体装置の製造方法、及びプログラム |
| US7100145B2 (en) | 2001-02-28 | 2006-08-29 | Asml Masktools B.V. | Method of identifying an extreme interaction pitch region, methods of designing mask patterns and manufacturing masks, device manufacturing methods and computer programs |
| US7355673B2 (en) | 2003-06-30 | 2008-04-08 | Asml Masktools B.V. | Method, program product and apparatus of simultaneous optimization for NA-Sigma exposure settings and scattering bars OPC using a device layout |
| US7735052B2 (en) | 2001-04-24 | 2010-06-08 | Asml Masktools Netherlands B.V. | Method of identifying an extreme interaction pitch region, methods of designing mask patterns and manufacturing masks, device manufacturing methods and computer programs |
| CN110806679A (zh) * | 2019-08-28 | 2020-02-18 | 北京理工大学 | 全视场低像差敏感度一体化光刻方法及光刻系统 |
-
1993
- 1993-06-14 JP JP16756193A patent/JPH07134390A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11204397A (ja) * | 1998-01-08 | 1999-07-30 | Mitsubishi Electric Corp | パターン決定方法および露光装置に用いられるアパーチャ |
| US7100145B2 (en) | 2001-02-28 | 2006-08-29 | Asml Masktools B.V. | Method of identifying an extreme interaction pitch region, methods of designing mask patterns and manufacturing masks, device manufacturing methods and computer programs |
| US7735052B2 (en) | 2001-04-24 | 2010-06-08 | Asml Masktools Netherlands B.V. | Method of identifying an extreme interaction pitch region, methods of designing mask patterns and manufacturing masks, device manufacturing methods and computer programs |
| US7355673B2 (en) | 2003-06-30 | 2008-04-08 | Asml Masktools B.V. | Method, program product and apparatus of simultaneous optimization for NA-Sigma exposure settings and scattering bars OPC using a device layout |
| JP2005099618A (ja) * | 2003-09-26 | 2005-04-14 | Seiko Epson Corp | 多面取りフォトマスク、電気光学装置の製造方法、およびその製造方法で製造された電気光学装置を搭載した電子機器 |
| JP4617650B2 (ja) * | 2003-09-26 | 2011-01-26 | セイコーエプソン株式会社 | 多面取り用フォトマスク、電気光学装置の製造方法 |
| JP2006066440A (ja) * | 2004-08-24 | 2006-03-09 | Toshiba Corp | 照明光源の設計方法、マスクパターン設計方法、フォトマスクの製造方法、半導体装置の製造方法、及びプログラム |
| JP4528580B2 (ja) * | 2004-08-24 | 2010-08-18 | 株式会社東芝 | 照明光源の設計方法、マスクパターン設計方法、フォトマスクの製造方法、半導体装置の製造方法、及びプログラム |
| CN110806679A (zh) * | 2019-08-28 | 2020-02-18 | 北京理工大学 | 全视场低像差敏感度一体化光刻方法及光刻系统 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100920572B1 (ko) | 원판 데이터 작성 방법 | |
| JP4910031B2 (ja) | フォトマスクの幾何形状を改良する方法 | |
| TWI241622B (en) | Mask and its manufacturing method, exposure, and device fabrication method | |
| JP3867904B2 (ja) | 特定のマスク・パターンのための照明の最適化 | |
| US7217503B2 (en) | Exposure method and apparatus | |
| US6780574B2 (en) | Multiple exposure method | |
| JP2011151423A (ja) | イメージの忠実度およびスループットに対する光源の最適化 | |
| GB2291219A (en) | Correcting photo-masks | |
| US20110032499A1 (en) | Generating method, creating method, exposure method, and storage medium | |
| CN1674226A (zh) | 执行掩模图案的透射调节以改善处理宽容度的方法 | |
| JP5159501B2 (ja) | 原版データ作成プログラム、原版データ作成方法、原版作成方法、露光方法及びデバイス製造方法 | |
| JPH04263254A (ja) | 露光機構 | |
| JPH07134390A (ja) | 露光装置の設計方法及び露光用マスクの設計方法 | |
| JP2000284466A (ja) | プロセスウィンドウを改良するための突出部向上マスク | |
| JPH06313964A (ja) | マスクおよびパタン形成方法 | |
| JP3262074B2 (ja) | 露光方法及び露光装置 | |
| JP3201399B2 (ja) | 半導体デバイスの製造方法 | |
| JPH04268714A (ja) | 露光方法、半導体素子の形成方法、及びフォトマスク | |
| JP3324601B2 (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
| JP3337983B2 (ja) | 露光方法及び露光装置 | |
| JPH0934100A (ja) | レティクルとレティクルにより作成される半導体装置 | |
| JP3318318B2 (ja) | 半導体デバイスの製造方法 | |
| JP2001085326A (ja) | 半導体デバイス及びその製造方法 | |
| JPH07253651A (ja) | 位相シフトマスク | |
| JP2000021758A (ja) | 露光方法及び露光装置 |