JPH07130600A - 照明装置 - Google Patents

照明装置

Info

Publication number
JPH07130600A
JPH07130600A JP5147389A JP14738993A JPH07130600A JP H07130600 A JPH07130600 A JP H07130600A JP 5147389 A JP5147389 A JP 5147389A JP 14738993 A JP14738993 A JP 14738993A JP H07130600 A JPH07130600 A JP H07130600A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
illuminance
illumination
distribution
lens
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP5147389A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3440458B2 (ja
Inventor
Hideki Komatsuda
秀基 小松田
Hideo Hirose
秀男 広瀬
Koji Mori
孝司 森
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Priority to JP14738993A priority Critical patent/JP3440458B2/ja
Priority to US08/259,761 priority patent/US5615047A/en
Publication of JPH07130600A publication Critical patent/JPH07130600A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3440458B2 publication Critical patent/JP3440458B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058Mask illumination systems
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F21LIGHTING
    • F21VFUNCTIONAL FEATURES OR DETAILS OF LIGHTING DEVICES OR SYSTEMS THEREOF; STRUCTURAL COMBINATIONS OF LIGHTING DEVICES WITH OTHER ARTICLES, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • F21V5/00Refractors for light sources
    • F21V5/04Refractors for light sources of lens shape

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Microscoopes, Condenser (AREA)
  • Projection-Type Copiers In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】より微細な照度のコントロールを実現して、十
分に均一な照度を得ることができる照明装置を提供する
ことにある。 【構成】照明光を供給する光源手段と、該光源手段から
の照明光によって複数の光束を形成するオプティカルイ
ンテグレーターと、該オプティカルインテグレーターか
らの複数の光束を集光して被照明物体面を重畳的に照明
するコンデンサー光学系とを有する照明装置において、
前記照明光に対して所定の透過率分布もしくは所定の透
過率を持ち前記照明光の光量を減衰させる光量減衰部が
部分的に形成された透過性の光学部材を前記被照明物体
面と共役若しくはその近傍となる前記照明装置内の位置
に配置した。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は光学的照明装置、特に照
度均一性を必要とする照明装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】この種の特に照明均一性について厳しい
要求がなされる照明装置は、半導体素子、特に超LSI
等の高集積度に半導体素子の製造に採用されており、そ
の均一性を向上させる方法として、例えば、特開昭64
ー42821号のような方法が提案されている。すなわ
ち、フライアイインテグレーターの小レンズ群の内の少
なくとも1つに入射する光束を部分的に遮光する遮光部
が形成された平行平面透明部材を、フライアイインテグ
レーターの入射光側に所定の距離を隔てて配置する方法
がそれである。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】これらの方法によれ
ば、フライアイインテグレーターを構成する複数のレン
ズ素子の内の少なくとも1つに入射する光束の1部を遮
光して、被照射面での照度分布を均一にしている。しか
しながら、仮にフライアイインテグレーターを構成する
小レンズに入射する光束の1部を遮光すると、この遮光
効果による照度ムラの補正量が2%乃至3%と極めて大
きい。従って、得られる照度分布は均一になるというよ
りむしろ階段状となり、1%以下での照度の調整を行っ
て、より均一な照度分布を得ることは難しかった。
【0004】なお、ここで言う照明むらとは、照度むら
をU(%)とし、被照明物体面上での照度分布の最大値
をI1 、被照明物体面上での照度分布の最小値をI2
するとき、U=(I1 −I2 )×100/(I1
2 )で定義されるものを意味する。そこで、本発明
は、より微細な照度のコントロールを実現して、十分に
均一な照度を得ることができる照明装置を提供すること
を目的としている。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、例えば図1に
示す如く、照明光を供給する光源手段1と、その光源手
段1からの照明光によって複数の光束を形成するオプテ
ィカルインテグレーターと、そのオプティカルインテグ
レーターからの複数の光束を集光して被照明物体面を重
畳的に照明するコンデンサー光学系とを有する構成を基
本とし、照明光に対して所定の透過率分布もしくは所定
の透過率を持ち照明光の光量を減衰させる光量減衰部が
部分的に形成された透過性の光学部材を被照明物体面と
共役若しくはその近傍となる前記照明装置内の位置に配
置したものである。
【0006】
【作用】上記の構成によれば、被照明物体面の任意の箇
所に任意の微小量の照度調整が可能となり、従来よりも
格段に均一となる照度分布を被照明物体面上に形成する
ことが可能となる。例えば、照度の調整手法の1つとし
ては、被照明物体面上での照度分布の変動が2%程度で
ある場合には、被照明物体面上最も照度の低い領域に合
わせ、他の箇所の照度を微小量だけ落として行けば、被
照明物体面の照度分布を均一にすることができる。ま
た、別の照度の調整手法の1つとしては、被照明物体面
上での照度分布の変動が数%程度である場合には、被照
明物体面上最も照度の低い領域に合わせ、他の箇所の照
度を微小量ずつ段階的に落として行けば、被照明物体面
の照度分布を均一にすることができる。
【0007】
【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて説明する。
図1は本発明による一実施例の構成の概略を示す光学構
成図である。超高圧水銀ランプ11の中心の発光点は楕円
鏡12の第1焦点上に配置されており、この超高圧水銀ラ
ンプ11からの光束は楕円鏡12により反射集光され、コー
ルドミラー13によって反射される。その後、このコール
ドミラー13で反射された光束は、楕円鏡12の第2焦点上
で一旦集光されて、コリメーションレンズ14によって平
行光束に変換され、フライアイインテグレーター17へ導
かれる。
【0008】ここで、これら超高圧水銀ランプ11、楕円
鏡12及びコリメーションレンズ14は、ほぼ平行光束の照
明光を供給する光源部1を構成している。この光源部1
からの平行光束中には所望の波長域の光束のみを透過さ
せる干渉フィルター15と、所定の透過率分布もしくは所
定の透過率を持つ光量減衰部が部分的に形成された平行
平面透過部材16が配置されている。
【0009】さて、フライアイインテグレーター17は複
数のレンズ素子が束ねられたレンズ素子の集合体で構成
されており、コリメーションレンズ14からの平行光束が
フライアイインテグレーター17を通過することによっ
て、そのフライアイインテグレーター17の射出側には、
これを構成する小レンズの数と等しい数の集光点が形成
され、ここには実質的に2次光源(面光源)が形成され
る。この2次光源からの光束は集光レンズ18(コンデン
サーレンズ)によってこれの後側焦点位置で集光され、
集光レンズ18の後側焦点位置に配置された視野絞り19の
開口部を重畳的に照明した後、この視野絞り19を通過し
た光束はリレー光学系(20,22)へ導かる。このリレー光
学系(20,22)は、第1リレーレンズ20と第2リレーレン
ズ22とから構成されており、この第1及び第2リレーレ
ンズ(20,22)との間には途中光路屈曲用のミラー24が配
置されている。
【0010】視野絞り19の開口部を重畳的に照明する複
数の光束は、視野絞り19の開口部を通過後、第1リレー
レンズ20、ミラー17及び第2リレーレンズ22を介して照
明物体面23を重畳的に照明し、ここには視野絞り19の像
が形成される。そして、被照明物体面23上には被照明物
体として例えばレチクルが配置されており、このレチク
ル上に形成される所望の回路パターンが、図示無き投影
対物レンズによってウエハ面上に投影されるのである。
【0011】なお、フライアイインテグレーター17の入
射面は、フライアイインテグレーター17、コンデンサー
光学系(18,20,22) に関して、照明物体面23と共役であ
り、視野絞り19は、リレー光学系(20,22)に関して、照
明物体面23と共役である。次に、フライアイインテグレ
ーター17の入射面近傍に配置された平行平面透明部材16
について図2を参照しながら詳述する。
【0012】図2の(A)は光量減衰部31を有する平行
平面透明部材16を通してフライアイインテグレーター17
を見たときの平面図、(B)は(A)を側面から見たと
きの平行平面透明部材16とフライアイインテグレーター
17との配置関係を示す図である。図2に示す如く、平行
平面透明部材16には、フライアイインテグレーター17を
構成する多数のレンズ素子の内の一つのレンズ素子30に
入射する光束の光量をコントロールするために、光量減
衰部31はレンズ素子30の断面全体を覆うように形成され
ている。光量減衰部31は、遮光性のクロム等金属の微小
ドットの密度を連続的に変化させて形成された微小ドッ
トの集合体で構成されており、所定の透過率分布を有し
ている。なお、光量減衰部31は透過性の微小ドットの集
合体で構成されても良く、さらには、所定の透過率分布
特性を持つ誘電体薄膜で形成しても良い。
【0013】今、光量減衰部31を有する平行平面透明部
材16をフライアイインテグレーター17の入射面近傍に配
置しない状態(照明むらが補正されていない状態)にお
いて照明物体面23上では図3に示す如き小さな照度むら
(例えば、1%〜2%程度の照度の変動)を持つ照度分
布が形成される場合には、平行平面透明部材16上に形成
される光量減衰部31は、図4に示す如く、例えば、図3
の照度分布とは逆の傾向の透過率分布特性を有するよう
に構成されている。なお、図3では照度むらの様子を理
解を容易にするために照度変動量を誇張して示してい
る。
【0014】すると、この光量減衰部31の光量減衰作用
を受けてレンズ素子30を通過する部分光束をはじめとし
て、その他の複数のレンズ素子を通過する複数の部分光
束は、集光レンズ18、視野絞り19、第1リレーレンズ2
0、ミラー21及び第2リレーレンズ22を介して照明物体
面23を重畳的に照明すると、光量減衰部31の光量減衰作
用によって図3に示す照明物体面23上での小さな照度む
らが相殺され、照明物体面23では図5に示す如き均一な
照明分布に調整される。
【0015】また、光量減衰部31を有する平行平面透明
部材16をフライアイインテグレーター17の入射面近傍に
配置しない状態(照明むらが補正されていない状態)に
おいて照明物体面23上では比較的大きな照度むら(例え
ば、2%程度以上の照度の変動)を持つ照度分布が形成
される場合には、照明物体面23上での照度分布と逆の透
過率分布特性を有する複数の光量減衰部31をフライアイ
インテグレーター17中のレンズ素子の各々に対応するよ
うに平行平面透明部材16上に形成する事が好ましく、こ
の場合、複数の光量減衰部31は、各レンズ素子に入射す
る光束の全部を覆うように平行平面透明部材16上にそれ
ぞれ形成される事が良い。さらに、互いに異なる透過率
分布特性を有する複数の光量減衰部31をフライアイイン
テグレーター17中のレンズ素子の各々に対応するように
平行平面透明部材16上に形成しても良く、このとき、各
レンズ素子を通過した光束が最終的に照明物体面23上で
重畳的に照明する事により形成される照度分布が均一と
なるように、各光量減衰部31の透過率分布をそれぞれ設
定する事が良い。従って、この場合には、光量減衰部31
は、少なくとも2つのレンズ素子に入射する光束の全部
を覆うように平行平面透明部材16上にそれぞれ形成され
る必要はなく、各レンズ素子に入射する光束の1部を覆
うように平行平面透明部材16上にそれぞれ形成されても
良い。
【0016】次に、本発明による別の実施例について説
明する。今、光量減衰部31を有する平行平面透明部材16
をフライアイインテグレーター17の入射面近傍に配置し
ない状態(照明むらが補正されていない状態)において
照明物体面23上での照度が図6に示す如き照度むらを有
しているものとする。図6の(A)は照明物体面23上で
形成される照度分布を真上から見た時の等照度曲線(i
1 〜i5 )を示しており、(B)は(A)のa−a’断
面方向での照度分布の様子を示している。なお、図6
(A)の等照度曲線(i1 〜i5 )は、最大照度を100
%とした時に照度がそれぞれ99.5%、99.0%、98.5%、
98.0%、97.5%となる箇所の様子を示しており、図6
(B)では、照明むらの様子を分かり易くするために、
照明むらの変動量を誇張して示している。
【0017】本実施例では、図6に示す如き照度むらを
補正するために、図6(A)の5つの等照度曲線により
形成される形状と相似な形状を有する5つの光量減衰部
31を、図7に示す如く、フライアイインテグレーター17
の各レンズ素子に対応するように、平行平面透明部材16
上に形成している。この時、各光量減衰部31は、所定の
透過率分布特性を持つ誘電体薄膜で形成されており、こ
れらは互いに等しい所定の透過率を有しているが、密度
が一定となる遮光性又は透過性の微小ドットの集合体で
構成されても良い。図8は各光量減衰部31の透過率を合
成した時の透過分布の様子を示しており、換言すれば、
各光量減衰部31のみを通過した光束が、最終的に照明物
体面23上を照明する時の照度分布の様子を示している事
と等く、これが照度分布の補正量に相当する。
【0018】図8から理解される如く、各光量減衰部31
の透過率を合成した時の透過率分布は、照明物体面23上
での照度分布が補正されていない様子を示す図6の照度
分布とほぼ逆の特性を有している。従って、図7に示す
如く、5つの異なる形状を有する等しい透過率の光量減
衰部31を各レンズ素子の各々に対応するように平行平面
透明部材16に形成し、その平行平面透明部材16をフライ
アイインテグレーター17の入面近傍に配置すれば、図9
に示す如く、照明物体面23上での照度分布は完全にフラ
ットとすることは出来ないが、照度の変動量を原理的に
1%以内に抑えることができ、従来よりも格段に均一な
照度分布を得ることができる。
【0019】なお、本実施例では、図6(a)の如く照
度が100 %〜97.5%の間で0.5 %毎に5ヶ所に分割し、
各分割した箇所の照度分布の断面と相似となる形状とな
る5つの光量減衰部31を平行平面透明部材16上に形成し
たが、さらに、照度が100 %〜97.5%の間を細かく複数
に分割し、各分割した箇所の照度分布の断面と相似とな
る形状となる複数の光量減衰部31を平行平面透明部材16
上に形成すれば、図9に示す照度分布をさらに改善で
き、照度分布をより一層均一にすることが可能となる。
【0020】以上においては、照明物体面23と共役なフ
ライアイインテグレーター17の入射面の位置近傍にて光
量減衰部を持つ平行平面透明部材16を配置した例を説明
したがこれに限るものではなく、この光量減衰部を持つ
平行平面透明部材16の代わりに、例えば、図1の点線で
示す如く、光量減衰部を持つ平行平面透明部材40を照明
物体面23と共役な視野絞り19の位置近傍(視野絞り19を
挟んで前後)に配置しても良い。
【0021】そこで、以下において、視野絞り19の位置
近傍に配置される平行平面透明部材40上の光量減衰部41
の好ましき構成について説明する。今、平行平面透明部
材40が視野絞り19の位置近傍に配置されていない状態で
の照度が前述した図6に示す如き照度むらを有している
ものとする。この場合は、図6(A)の5つの等照度曲
線(i1 〜i5 )により形成される形状と相似な形状を
有する5つの光量減衰部(41〜45) を図6(A)の等照
度曲線と等しくなるように重ね合わせて平行平面透明部
材40上に形成する。図10はこの時の様子を示しており、
光源側から平行平面透明部材40を通して視野絞り17の開
口部を見た時の様子を示している。
【0022】ここで、各光量減衰部(41〜45) は、互い
に異なる透過率分布特性を持つ誘電体薄膜で形成されて
おり、各光量減衰部41〜45の透過率はそれぞれ異なる所
定の透過率差を有している。例えば、図6(A)の等照
度曲線i1 〜i5 は、前述の如く、最大照度に対して0.
5 %毎に5分割(99.5%、99.0%、98.5%、98.0%、9
7.5%)した場合を示しており、光量減衰部41は照度97.
5%の等照度曲線i5 ,光量減衰部42は照度98.0%の等
照度曲線i4 ,光量減衰部42は照度98.5%の等照度曲線
3 ,光量減衰部43は照度99.0%の等照度曲線i2 ,光
量減衰部41は照度99.5%の等照度曲線i1 にそれぞれ対
応している。
【0023】今、図6(B)に示す照度分布を補正する
には、各光量減衰部41〜45の合成の透過率が、図6
(B)の照度分布を反転させた如き分布を有するように
各光量減衰部41〜45の透過率を設定すれば良い。従っ
て、上述した各光量減衰部41〜45とそれに対応する等照
度曲線i1 〜i5 との対応関係を逆転するような関係で
設定、即ち光量減衰部41の透過率を99.5%、光量減衰部
42の透過率を99.0%、光量減衰部43の透過率を98.5%、
光量減衰部44の透過率を98.0%、光量減衰部45の透過率
を97.5%となるように設定すれば良い。
【0024】以上の複数の光量減衰部(41〜45) を有す
る平行平面透明部材40を視野絞り19の位置近傍に配置す
れば、図9に示す如く、照明物体面23上での照度分布の
変動量を原理的に1%以内に抑えることができ、従来よ
りも格段に均一な照度分布を得ることができる。なお、
各光量減衰部(41〜45) は、密度が一定となる遮光性又
は透過性の微小ドットの集合体で構成されても良い。
【0025】以上では、照明装置内において、平行平面
透明部材16又は平行平面透明部材40を物体照明物体面23
と共役となる位置に固定的に配置した例を説明したが、
これらの部材を光軸方向へ移動させれば、物体照明物体
面23での照度分布を微調整することができる。さらに
は、光量減衰部が互いに異なる形状もしくは異なる数で
形成された複数の平行平面透明部材を交換可能に設けて
も良い。これにより、光源の出力の不安定さ、環境変化
等の要因により物体照明物体面23での照明分布が変化す
る場合に対応することができる。
【0026】また、以上においては、複数のレンズ素子
の集合体よりなるフライアイインテグレーター17(フラ
イアイレンズ)をオプティカルインテグレーターとして
いるが、これの代わりに、例えば、内面反射型の角柱状
光学部材(ロッド型のオプティカルインテグレーター)
等を用いても良い。なお、特開昭64ー42821号に
開示さている従来の手法と本発明とを併用することも可
能である。例えば、平行平面透明部材16又は平行平面透
明部材40に従来の遮光部と本発明の光量減衰部とを形成
する。これにより、遮光部の作用によって照明分布を粗
く均一となるように粗調整し、光量減衰部の作用により
粗く均一となった照明分布を1%程度となるように微調
整することができる。
【0027】
【発明の効果】以上の如く、本発明によれば、被照明物
体面の任意の箇所に任意の微小量の照度調整が可能とな
り、従来よりも格段に均一となる照度分布を被照明物体
面上に形成することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による照明装置の一実施例の概略を示す
光学構成図である。
【図2】(A)は光量減衰部31を持つ平行平面透明部材
16を通してフライアイインテグレーター17を見たときの
平面図、(B)は(A)を側面から見たときの平行平面
透明部材16とフライアイインテグレーター17との配置関
係を示す図である。
【図3】照明むらが補正されていないときの照明物体面
23上での照明分布を示す図である。
【図4】図2に示す平行平面透明部材16上に形成される
光量減衰部31の透過率分布を示す図である。
【図5】図2に示す平行平面透明部材16の配置によって
照明むらが補正された時の照明物体面23上での照明分布
を示す図である。
【図6】(A)は照明むらが補正されていない時におい
て照明物体面23上での照度分布を真上から見た時の等照
度曲線(i1 〜i5 )を示す図、(B)は(A)のa−
a’断面方向での照度分布を示す図である。
【図7】(A)は図2(A)とは異なる光量減衰部31を
持つ平行平面透明部材16を通してフライアイインテグレ
ーター17を見たときの平面図、(B)は(A)を側面か
ら見たときの平行平面透明部材16とフライアイインテグ
レーター17との配置関係を示す図である。
【図8】図7の平行平面透明部材16上に形成される各光
量減衰部31の透過率を合成したときの透過分布を示す図
である。
【図9】図7に示す平行平面透明部材16の配置によって
照明むらが補正された時の照明物体面23上での照明分布
を示す図である。
【図10】光源側から平行平面透明部材40を通して視野
絞り17の開口部を見た時の様子を示す図である。
【主要部分の符号の説明】
1 ・・・ 光源部 16、40・・・ 平行平面透明部材 17・・・ フライアイインテグレーター 18・・・ 集光レンズ(コンデンサーレンズ) 19・・・ 視野絞り 20・・・ 第1リレーレンズ 22・・・ 第2リレーレンズ 31、41・・・ 光量減衰部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03F 7/20 521 9122−2H

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】照明光を供給する光源手段と、該光源手段
    からの照明光によって複数の光束を形成するオプティカ
    ルインテグレーターと、該オプティカルインテグレータ
    ーからの複数の光束を集光して被照明物体面を重畳的に
    照明するコンデンサー光学系とを有する照明装置におい
    て、 前記照明光に対して所定の透過率分布もしくは所定の透
    過率を持ち前記照明光の光量を減衰させる光量減衰部が
    部分的に形成された透過性の光学部材を前記被照明物体
    面と共役若しくはその近傍となる前記照明装置内の位置
    に配置したことを特徴とする照明装置。
  2. 【請求項2】前記オプティカルインテグレーターの入射
    面は、前記被照明物体と共役に構成され、前記光学部材
    は、前記オプティカルインテグレーターの入射面もしく
    はその近傍に配置されることを特徴とする請求項1記載
    の照明装置。
  3. 【請求項3】前記オプティカルインテグレーターは複数
    のレンズ素子で構成され、前記光量減衰部は、前記オプ
    ティカルインテグレーター内の少なくとも1つのレンズ
    素子に入射する光束の1部もしくは全部の光量を減衰さ
    せるように所定の大きさを有することを特徴とする請求
    項2記載の照明装置。
  4. 【請求項4】前記光量減衰部は、所定の透過率分布を持
    つように、遮光性もしくは透過性の複数の微小な点の密
    度が連続的に変化する微小な点の集合体より構成される
    ことを特徴とする請求項1乃至請求項2記載の照明装
    置。
  5. 【請求項5】前記コンデンサー光学系は、前記照明物体
    面の照明領域を制限する視野絞りと、前記オプティカル
    インテグレーターからの複数の光束を集光し前記視野絞
    りを重畳的に照明する集光光学系と、前記視野絞りを前
    記被照明物体に投影するリレー光学系とを有し、前記光
    学部材は、前記視野絞りが配置される位置もしくはその
    近傍に配置されることを特徴とする請求項1記載の照明
    装置。
  6. 【請求項6】前記光量減衰部は、所定の透過率を持つ薄
    膜で形成されることを特徴とする請求項1、2、3、5
    又は6記載の照明装置。
JP14738993A 1993-06-18 1993-06-18 照明装置、パターン投影方法及び半導体素子の製造方法 Expired - Lifetime JP3440458B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14738993A JP3440458B2 (ja) 1993-06-18 1993-06-18 照明装置、パターン投影方法及び半導体素子の製造方法
US08/259,761 US5615047A (en) 1993-06-18 1994-06-14 Illumination apparatus and exposure apparatus using it

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14738993A JP3440458B2 (ja) 1993-06-18 1993-06-18 照明装置、パターン投影方法及び半導体素子の製造方法

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002379013A Division JP2003264143A (ja) 2002-12-27 2002-12-27 照明装置、パターン投影方法及び半導体素子の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH07130600A true JPH07130600A (ja) 1995-05-19
JP3440458B2 JP3440458B2 (ja) 2003-08-25

Family

ID=15429160

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP14738993A Expired - Lifetime JP3440458B2 (ja) 1993-06-18 1993-06-18 照明装置、パターン投影方法及び半導体素子の製造方法

Country Status (2)

Country Link
US (1) US5615047A (ja)
JP (1) JP3440458B2 (ja)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001033875A (ja) * 1999-07-26 2001-02-09 Canon Inc 照明装置及びそれを用いた投影露光装置
JP2001135564A (ja) * 1999-11-05 2001-05-18 Canon Inc 投影露光装置
JP2003092253A (ja) * 2001-09-18 2003-03-28 Nikon Corp 照明光学系、露光装置、及びマイクロデバイスの製造方法
US6741394B1 (en) 1998-03-12 2004-05-25 Nikon Corporation Optical integrator, illumination optical apparatus, exposure apparatus and observation apparatus
US6913373B2 (en) 2002-05-27 2005-07-05 Nikon Corporation Optical illumination device, exposure device and exposure method
WO2018003418A1 (ja) * 2016-06-28 2018-01-04 株式会社ブイ・テクノロジー 照度調整フィルタの製造方法、照度調整フィルタ、照明光学系、及び露光装置
KR20190040294A (ko) * 2016-08-30 2019-04-17 캐논 가부시끼가이샤 조명 광학계, 리소그래피 장치, 및 물품 제조 방법
WO2023127499A1 (ja) * 2021-12-28 2023-07-06 株式会社ニコン 露光装置

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4310816B2 (ja) * 1997-03-14 2009-08-12 株式会社ニコン 照明装置、投影露光装置、デバイスの製造方法、及び投影露光装置の調整方法
US6323938B1 (en) 1998-04-27 2001-11-27 Nikon Precision, Inc. Method of characterizing photolithographic tool performance and photolithographic tool thereof
DE10062579A1 (de) * 1999-12-15 2001-06-21 Nikon Corp Optischer Integrierer,optische Beleuchtungseinrichtung, Photolithographie-Belichtungseinrichtung,und Beobachtungseinrichtung
KR20010085493A (ko) * 2000-02-25 2001-09-07 시마무라 기로 노광장치, 그 조정방법, 및 상기 노광장치를 이용한디바이스 제조방법
US6704090B2 (en) 2000-05-11 2004-03-09 Nikon Corporation Exposure method and exposure apparatus
JP2002006225A (ja) * 2000-06-23 2002-01-09 Nikon Corp 顕微鏡照明装置
US6373633B1 (en) * 2000-07-06 2002-04-16 Mems Optical, Llc Shaping irradiance profiles using optical elements with positive and negative optical powers
US6967791B2 (en) * 2001-12-06 2005-11-22 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Illumination systems and methods
DE102005042005A1 (de) 2004-12-23 2006-07-06 Carl Zeiss Smt Ag Hochaperturiges Objektiv mit obskurierter Pupille
KR101314974B1 (ko) * 2006-02-17 2013-10-04 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 마이크로리소그래픽 조명 시스템 및 이를 구비한 투사 노출장치
DE102007023411A1 (de) * 2006-12-28 2008-07-03 Carl Zeiss Smt Ag Optisches Element, Beleuchtungsoptik für die Mikrolithographie mit mindestens einem derartigen optischen Element sowie Beleuchtungssystem mit einer derartigen Beleuchtungsoptik
US8736813B2 (en) * 2008-08-26 2014-05-27 Nikon Corporation Exposure apparatus with an illumination system generating multiple illumination beams
JP5850267B2 (ja) 2010-08-30 2016-02-03 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明系
JP6016169B2 (ja) 2011-01-29 2016-10-26 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明系

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4619508A (en) * 1984-04-28 1986-10-28 Nippon Kogaku K. K. Illumination optical arrangement
JPS62115119A (ja) * 1985-09-24 1987-05-26 アメリカン セミコンダクタ イクイツプメント テクノロジ−ズ 光学系の出力照度の一様性を向上させる方法
JPH0786647B2 (ja) * 1986-12-24 1995-09-20 株式会社ニコン 照明装置
JP2658051B2 (ja) * 1987-05-15 1997-09-30 株式会社ニコン 位置合わせ装置,該装置を用いた投影露光装置及び投影露光方法
JPS6442821A (en) * 1987-08-10 1989-02-15 Nikon Corp Lighting device
JP3360686B2 (ja) * 1990-12-27 2002-12-24 株式会社ニコン 照明光学装置および投影露光装置並びに露光方法および素子製造方法
JP2788791B2 (ja) * 1991-01-08 1998-08-20 三菱電機株式会社 フライアイレンズ装置およびそのフライアイレンズ装置を含む照明装置
US5305054A (en) * 1991-02-22 1994-04-19 Canon Kabushiki Kaisha Imaging method for manufacture of microdevices
US5424803A (en) * 1991-08-09 1995-06-13 Canon Kabushiki Kaisha Projection exposure apparatus and semiconductor device manufacturing method
US5420417A (en) * 1991-10-08 1995-05-30 Nikon Corporation Projection exposure apparatus with light distribution adjustment
JPH05127086A (ja) * 1991-11-01 1993-05-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光強度の均一化方法およびそれを用いた露光装置
JPH0743459B2 (ja) * 1991-11-02 1995-05-15 環境庁長官 反射光学系
US5309198A (en) * 1992-02-25 1994-05-03 Nikon Corporation Light exposure system
JP3304378B2 (ja) * 1992-02-25 2002-07-22 株式会社ニコン 投影露光装置、及び素子製造方法
US5335044A (en) * 1992-02-26 1994-08-02 Nikon Corporation Projection type exposure apparatus and method of exposure
JP2946950B2 (ja) * 1992-06-25 1999-09-13 キヤノン株式会社 照明装置及びそれを用いた露光装置

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6741394B1 (en) 1998-03-12 2004-05-25 Nikon Corporation Optical integrator, illumination optical apparatus, exposure apparatus and observation apparatus
JP2001033875A (ja) * 1999-07-26 2001-02-09 Canon Inc 照明装置及びそれを用いた投影露光装置
JP2001135564A (ja) * 1999-11-05 2001-05-18 Canon Inc 投影露光装置
JP4545854B2 (ja) * 1999-11-05 2010-09-15 キヤノン株式会社 投影露光装置
JP2003092253A (ja) * 2001-09-18 2003-03-28 Nikon Corp 照明光学系、露光装置、及びマイクロデバイスの製造方法
US6913373B2 (en) 2002-05-27 2005-07-05 Nikon Corporation Optical illumination device, exposure device and exposure method
WO2018003418A1 (ja) * 2016-06-28 2018-01-04 株式会社ブイ・テクノロジー 照度調整フィルタの製造方法、照度調整フィルタ、照明光学系、及び露光装置
JP2018004742A (ja) * 2016-06-28 2018-01-11 株式会社ブイ・テクノロジー 照度調整フィルタの製造方法、照度調整フィルタ、照明光学系、及び露光装置
KR20190040294A (ko) * 2016-08-30 2019-04-17 캐논 가부시끼가이샤 조명 광학계, 리소그래피 장치, 및 물품 제조 방법
WO2023127499A1 (ja) * 2021-12-28 2023-07-06 株式会社ニコン 露光装置

Also Published As

Publication number Publication date
US5615047A (en) 1997-03-25
JP3440458B2 (ja) 2003-08-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3440458B2 (ja) 照明装置、パターン投影方法及び半導体素子の製造方法
JP4310816B2 (ja) 照明装置、投影露光装置、デバイスの製造方法、及び投影露光装置の調整方法
US4497015A (en) Light illumination device
TWI493276B (zh) 照明光學裝置、曝光裝置以及曝光方法
US4498742A (en) Illumination optical arrangement
US6339467B1 (en) Projection exposure apparatus and device manufacturing method
US5786939A (en) Illumination optical system
US5357312A (en) Illuminating system in exposure apparatus for photolithography
JP3608580B2 (ja) 照明光学装置、露光装置、露光方法、及びフライアイレンズ
JPS60232552A (ja) 照明光学系
JPH04225214A (ja) 照明光学装置および投影露光装置並びに露光方法および素子製造方法
KR950033690A (ko) 투영노광장치
JP2000021765A (ja) 照明装置及びそれを用いた投影露光装置
JPS61169815A (ja) 露光装置
US5300967A (en) Projection exposure apparatus
JP3208863B2 (ja) 照明方法及び装置、露光方法、並びに半導体素子の製造方法
US3302517A (en) Xenon optics system
TWI236544B (en) Light exposure apparatus
JPH0922869A (ja) 露光装置
JP2003264143A (ja) 照明装置、パターン投影方法及び半導体素子の製造方法
JP3814444B2 (ja) 照明装置及びそれを用いた投影露光装置
JP3811923B2 (ja) 照明光学系
JPH09223661A (ja) 露光装置
JP3209220B2 (ja) 露光方法及び半導体素子の製造方法
JP3879142B2 (ja) 露光装置

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130620

Year of fee payment: 10

EXPY Cancellation because of completion of term