JPH07128627A

JPH07128627A - 液晶表示素子の製造装置

Info

Publication number: JPH07128627A
Application number: JP29756093A
Authority: JP
Inventors: Toshiro Takei; 寿郎武井
Original assignee: Casio Computer Co Ltd
Current assignee: Casio Computer Co Ltd
Priority date: 1993-11-04
Filing date: 1993-11-04
Publication date: 1995-05-19

Abstract

(57)【要約】【目的】製造される液晶表示素子に気泡等が生せず、
液晶表示素子を高い歩留まり率で製造できる製造装置を
提供することである。【構成】製造装置は、処理槽１と、処理槽１内の圧力
を減圧する真空ポンプ４を備える。処理槽１内の減圧さ
れた環境下で、一方の基板３３と液晶と重合材料の混合
溶液３２が塗布された他方の基板３１を張り合わせる。
その後、処理槽１内で混合溶液に紫外線を照射し、液晶
と高分子樹脂の相分離を行う。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、液晶表示素子の製造
装置に関し、特に、製造される液晶表示素子に気泡等が
発生しない液晶表示素子の製造装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来の高分子分散型液晶表示装置におい
ては、重合されることにより高分子樹脂となる重合材料
と液晶との混合溶液を一方の基板に塗布し、重合材料を
重合して高分子樹脂と液晶との複合膜からなる高分子分
散液晶層を形成した後、他方の基板と貼り合わせてい
た。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】従来の製造方法では、
高分子分散液晶層の表面は凹凸状であり、他方の基板と
の平坦性が一致しない。このため、これらの間に空隙が
生じてしまい、電圧を印加した場合、空隙による気泡の
ある部位と気泡のない部位とに生ずる電界が互いに異な
ってしまい、高分子分散型液晶表示装置の表示特性を低
下させ、歩留まりの低下をもたらしていた。

【０００４】この発明は上記実状に鑑みてなされたもの
で、気泡等が生ずることのない液晶表示素子の製造装置
を提供することを目的とする。また、この発明は、製造
される液晶表示素子の歩留まりの高い製造装置を提供す
ることを目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明にかかる液晶表示素子の製造装置は、処理
槽と、処理槽内部を減圧する減圧手段と、処理槽に配置
され、減圧環境下で、液晶表示素子の一対の基板を貼り
合わせる張り合わせ手段と、を備えることを特徴とす
る。前記液晶表示素子は、例えば、高分子分散型液晶表
示素子であり、前記処理槽は重合材料を重合させて高分
子分散液晶層を形成する手段を備えてもよい。また、前
記基板は可撓性でも良い。

【０００６】

【作用】上述した構成によれば、処理槽内が減圧されて
いるので、一対の基板を接合する際等に、基板と液晶、
或いは、基板と高分子分散液晶層の間に空気が入って気
泡が生ずる等の問題が低減する。

【０００７】

【実施例】以下、この発明の実施例を図面を参照して説
明する。（第１実施例）図１はこの発明の第１実施例の高分子分
散型液晶表示素子の製造装置の断面図である。図示する
ように、この製造装置は、処理槽１と、処理槽１に接続
された空気取入れ弁２、逆流防止弁３、真空ポンプ４、
搬入装置５、搬出装置６、モニタ７、制御部８を備え
る。処理槽１は、水平及び回転移動可能なステージ１
１、基板保持部１２、加圧プレート１３、紫外線ランプ
１４、カメラ１５を備える。

【０００８】処理槽１は内部を減圧することができる耐
圧構造を有する。空気取入れ弁２は、処理槽１内を大気
圧に復帰する際に開かれ、減圧する際に閉じられる弁で
ある。空気取入れ弁２には、フィルタが配置されてい
る。真空ポンプ４は逆流防止弁３を介して処理槽１内を
減圧する。搬入装置５は遮光かつ気密構造及び耐圧構造
を有し、制御部８の制御下に、重合されることにより高
分子樹脂となる重合材料と液晶とからなる高分子分散液
晶層形成用の混合溶液３２が塗布された基板３１を処理
槽１内に搬入し、ステージ１１上に載置する。

【０００９】ステージ１１は、内部に駆動部を備え、制
御部８からの指示に従って載置物を水平移動及び回転移
動する。基板保持部１２は、ステージ１１に載置された
基板３１と接合される基板３３を保持する共に位置合わ
せを行い、制御部８の制御に従ってこれを下降させて混
合溶液３２を介して基板３１上に配置させる。基板３３
は、ガラス等の紫外線透過性の物質から構成される。加
圧プレート１３は、紫外線透過性のもので、基板３３上
に昇降自在に配置される。加圧プレート１３は、制御部
８の制御に従って、基板３１上に基板保持部１２に保持
された基板３３を混合溶液３２を介して接合する際、下
降して基板３３上に圧力を加える。

【００１０】カメラ１５は両基板３１、３３の画像を取
得し、モニタ７はカメラ１５により取得された画像を表
示する。紫外線ランプ１４は、制御部８の制御に従って
オンオフし、混合溶液３２に紫外線を照射し、高分子複
合膜からなる液晶層を形成する。搬出装置６は気密構造
及び耐圧構造を有し、制御部８の制御に従って、製造さ
れた高分子分散型液晶表示素子を処理槽１から搬出す
る。制御部８は制御盤を備え、この製造装置全体の動作
を制御する。

【００１１】次に図１に示す製造装置の動作を説明す
る。まず、搬入装置５により、高分子分散液晶層形成用
の混合溶液３２が塗布された基板３１がステージ１１上
に載置される。混合溶液３２は粘性が高く、１０〜２０
μｍ程度の厚さであり、搬入の際大きく形を崩すことは
ない。次に、空気取入れ弁２が閉じられ、真空ポンプ４
が稼働し、処理槽１内の圧力を低減する。

【００１２】処理槽１内の気圧が一定値に達すると、或
いは、減圧動作と同期して、制御部８の制御に従って基
板保持部１２が、基板３３を保持し、基板３１に近接さ
せる。オペレータは、モニタ７に表示された両基板３
１、３３の位置が一致するように、制御盤を操作して、
もしくは制御部８の自動制御によりステージ１１をＸ−
Ｙ移動及び回転移動し、両基板の位置を合わせる。

【００１３】両基板３１、３３の位置が一致したら、基
板保持部１２は基板３３を下降して混合溶液３２を介し
て基板３１に貼り合わせ、さらに、制御部８の制御によ
り、加圧プレート１３が下降して基板３３を押圧する。
この際、基板３１、３３の間隔はスペーサ及びシール材
により保持される。このとき、処理槽１が減圧されてい
るので、常圧下で両基板３１、３３を貼り合わせる場合
に比して、混合溶液３２と基板３３間に気泡が生じ（残
り）にくい。

【００１４】この状態で、制御部８は紫外線ランプ１４
をオンし、加圧プレート１３、基板３３を介して混合溶
液３２に紫外線を照射し、混合溶液３２内の重合材料を
重合する。これにより、両基板３１、３３を接合すると
共に光重合相分離により液晶と高分子の複合膜からなる
高分子分散液晶層を形成する。

【００１５】高分子分散液晶層の形成が終了すると、紫
外線ランプ１４がオフし、搬出装置６が形成された液晶
表示素子を処理槽１の外に搬出する。以上で、基板３
１、３３の貼り合わせと高分子分散液晶層を形成する処
理の１サイクルが終了する。

【００１６】このような構成及び動作によれば、処理槽
１内が減圧されているので、基板３１と３３を接合する
際、混合溶液３２と基板３３に気泡が生じにくい。な
お、加圧プレート１３を用いたが基板保持部１２がこれ
を兼ねても良い。

【００１７】（第２実施例）以下、この発明の第２実施
例を図２を参照して説明する。この実施例は、可撓性の
フィルム基板を他の基板に接合するための構成を示す。
なお、図２において図１と同一部分には同一符号を付
す。

【００１８】処理槽１は、フィルム基板４３のリール５
１と、リール５１に巻かれた紫外線透過性のフィルム基
板４３を搬送する送り出しギア５２、貼合わせローラ５
３、カッタ５４を備える。

【００１９】図２に示す製造装置では、送り出しギア５
２の回転により送出されるフィルム基板４３の位置をカ
メラ１５で捉え、モニタ７に表示する。オペレータは制
御盤を操作し、もしくは制御部８の自動制御によりステ
ージ１１を駆動して両基板の位置関係を調整する。基板
４１と４３の位置が一致すると、貼り合わせローラ５３
を回転させ、フィルム基板４３を液晶と重合材料との混
合溶液４２に端部から密着させながら貼り合わせる。こ
の後、加圧プレート１３が下降し、フィルム基板４３を
押圧する。押圧しながら紫外線ランプ１４が紫外線を照
射し、光重合相分離により高分子分散液晶層を形成と共
に両基板４１、４３を接合する。次に、カッタ５４によ
りフィルム基板４３を所定の位置で切断する。

【００２０】その後、搬出装置６は形成された液晶表示
素子を処理槽１の外に搬出する。以上で、基板４１、４
３の貼り合わせと高分子分散液晶層を形成する処理の１
サイクルが終了する。このような構成及び動作によれ
ば、処理槽１が減圧されているので、基板４１と４３を
接合する際、混合溶液４２と基板４３との間に気泡が生
じにくい。なお、基板４１はフィルム基板でも、通常の
ガラス等から成る剛性の基板でもよい。

【００２１】第１、第２実施例では、液晶と重合材料と
の混合溶液を塗布した一方の基板と他方の基板を接合し
たが、形成済みの高分子分散液晶層を備える一方の基板
に他方の基板を接合するようにしてもよい。この場合、
処理槽１の外で一方の基板３１又は４１に液晶と重合材
料の混合溶液を塗布し、重合材料を重合して液晶と高分
子樹脂の相分離を行い、高分子分散液晶層３２又は４２
を形成する。搬入装置５は、これをステージ１１に載置
する。その後、基板３３又は４３を基板３１又は４１に
貼り合わせると共に加圧プレート１３で加圧する。この
場合には、紫外線ランプ１４を処理槽１内に配置する必
要はなく、また、加圧プレート１３及び基板３３又は４
３は紫外線透過性のものである必要はない。

【００２２】なお、上記実施例では、高分子分散型液晶
表示素子を製造する場合を例に本発明を説明したが、こ
の発明はこれに限定されない。処理槽１内でＴＮ液晶表
示装置，ＳＴＮ液晶表示装置、強誘電液晶表示装置等の
基板の貼り合わせ、偏光板の基板への貼り付け等を行う
ようにすれば、これらの間に気泡が発生することがな
く、歩留まりが向上する。

【００２３】

【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、減圧環境下で基板を接合するので、液晶層又は高分
子分散液晶層と基板との間に気泡等が生じにくくなり、
製造される液晶表示素子の歩留まりが向上する。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の第１実施例にかかる高分子分散型液
晶表示素子の製造装置の構造を示す図である。

【図２】この発明の第２実施例にかかる高分子分散型液
晶表示素子の製造装置の構造を示す図である。

【符号の説明】

１・・・処理槽、２・・・空気取入れ弁、３・・・逆流防止弁、
４・・・真空ポンプ、５・・・搬入装置、６・・・搬出装置、７・
・・モニタ、８・・・制御部、１１・・・ステージ、１２・・・基
板保持部、１３・・・加圧プレート、１４・・・紫外線ラン
プ、１５・・・カメラ、３１・・・基板、３２・・・液晶と重合
材料の混合溶液、３３・・・基板、４１・・・基板、４２・・・
液晶と重合材料の混合溶液、４３・・・フィルム基板、５
１・・・リール、５２・・・送り出しギア、５３・・・貼合わせ
ローラ、５４・・・カッタ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】処理槽と、前記処理槽に接続され、処理槽内部を減圧する減圧手段
と、前記処理槽内に配置され、減圧環境下で、液晶表示素子
の一対の基板を貼り合わせる張り合わせ手段と、を備え
ることを特徴とする液晶表示素子の製造装置。
【請求項２】前記液晶表示素子は、高分子分散型液晶表
示素子であることを特徴とする請求項１記載の液晶表示
素子の製造装置。
【請求項３】前記処理槽は、重合材料を重合させて前記
高分子分散型液晶表示素子を構成する高分子分散液晶層
を形成する手段を備えることを特徴とする請求項２記載
の液晶表示素子の製造装置。
【請求項４】前記基板の少なくとも一方は可撓性基板で
あることを特徴とする請求項１、２又は３記載の液晶表
示素子の製造装置。