KR100321256B1 - 액정광학소자의제조방법및그에의해서수득된액정광학소자 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 투명전극층을 갖는 2 매의 기판 사이에 모노머와 액정의 혼합물을 포함하는 액정광학소자를 제조함에 있어서, 공셀에 액정재료 주입시 최초로 주사형 가압식 액정주입장치의 주입조절코크를 잠그어서 주입구를 봉한 상태에서 감압구를 통하여 고진공으로 감압하여 고진공을 유지한 상태에서 주입을 시작하고, 액정주입의 마지막 단계에서 감압과 동시에 주사형 가압식 액정주입장치를 사용하여 가압하면서 액정재료를 주입하며, 액정주입 완료후 주입구를 막고 감압구에 의한 감압으로 셀내의 액정재료의 존재량을 최소로 하는 것을 특징으로 하는 액정광학소자의 제조방법 및 그에 의하여 수득된 액정광학소자를 제공하는 것으로, 본 발명에 의하면 고진공상태에서의 고분자/액정재료중 휘발성이 강한 모노머의 증발로 인한 액정재료 물성의 변화를 최소화하여 전기광학적 특성이 우수한 대면적의 액정셀을 제조할 수 있다.

Description

액정광학소자의 제조방법 및 그에 의하여 수득된 액정광학소자
본 발명은 투명성 전극층을 갖는 2 매의 투명 기판 사이에 액정재료를 주입하여 형성되는 액정광학소자의 제조방법 및 그에 의해서 제조된 액정광학소자에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 액정셀에 액정물질 주입시 액정판넬에 액정주입구와 감압구를 두어 감압하면서 액정주입구를 통하여 액정을 주입하는 것을 특징으로 하는 액정광학소자의 제조방법 및 그에 의해 수득된 액정광학소자에 관계한다.
액정이 전자 탁상시계에 응용되면서 시작된 액정제품사업은, 액정이 디스플레이 분야에 활발히 응용되면서 기존의 CRT 방식에 의해 점유되어 왔던 디스플레이 시장의 구조가 재편되고 있음을 직간접적으로 느낄수 있을 정도로 짧은 시간에 비약적으로 발전되고 있다. 액정제품사업이 이와 같이 급속도로 발전하는 이유는 액정디스플레이가 박형화, 경량화, 저소비전력화등의 이점을 갖고 있기 때문이다. 이러한 비약적인 발전에도 불구하고 더욱 더 경쟁력을 가진 양호한 디스플레이를 구현하기 위하여서는 몇가지 해결해야 할 문제점들이 있으며 또한 기존의 공정단계를 개선해야 한다.
현재 디스플레이 분야에서 주류를 이루고 있는 TN형(Twisted Nematic Liquid Crystal Display)이나 STN(Super Twisted Nematic Liquid Crytal Display)형의 액정표시소자는 저소비전력 및 저구동 전압등의 장점을 지니고 있어 전기전자 분야에서 표시소자로서 광범위하게 이용되고 있으나, 편광판을 사용함에 따라 광의 이용 효율이 적어 콘트라스트가 나쁘고, 표면 배향이 필요하여 화소 밀도가 높아지면 TFT(Thin Film Transistor)소자 주위의 배향처리가 어려워지게 되며, 시야각이 20°내외로 좁다. 따라서 편광을 이용하지 않고 광의 투과산란 모드를 이용하여 디스플레이에 이용하려는 많은 노력들이 시도되어 왔다. 즉, 최근 고분자에 액정를 분산시킨 광산란 모드의 고분자분산형 액정표시소자(PDLCD : Polymer Dispersed Liquid Crystal Display)나 고분자망형 액정표시소자(PNLCD : Polymer Network Liquid Crystal Display)의 액정표시가 등장하게 되었다.
이와 같이 고분자액정복합체를 이용하면 대면적표시가 용이하고 편광판을 이용하지 않기 때문에 휘도가 높아 밝은 표시가 가능하므로 고휘도의 프로젝터, 직시형 광학소재, 소형의 표시소자 및 광셔터등에의 응용이 활발하게 연구되고 있다.
일반적인 액정표시소자의 제조방법은 투명전극으로 코팅되어 있는 두 매의 유리판이나 폴리에스터 필름 사이에 액정등의 주입재료를 균일하게 혼합하여 주입한 후 자외선등으로 경화시키는 것이다.
현재 액정 표시 소자에서의 액정주입 방법으로는 크게 진공주입방법과 압착에 의한 방법의 2 가지가 있는데, 현재 디스플레이 분야에서 주종을 이루고 있는 Twisted Nematic(TN), Super Twisted Nematic(STN)등의 액정표시소자는 제조공정이 간단하고 주입후 셀 두께의 표절이 간편한 진공주입 방법을 주로 채택하고 있다. 그러나 대형의 액정셀(고분자/액정 복합계:Polymer dispersed Liguid Crystal)의 경우는 진공주입이 대단히 곤란하다. 그것은 이러한 대형 액정셀의 경우에는 액정과 모노머의 배합비가 액정소자의 전기광학 특성의 핵심요소를 이루는데, 고진공상태에서 액정재료를 주입하면 주입재료중에 포함된 휘발성에 강한 자외선 경화용 모노머등이 휘발되어 액정의 구성배율에 영향을 미침으로써 주입 전ㆍ후의 액정재료의 혼합비가 변화되어 액정셀의 전기광학특성이 저하되기 때문이다. 이러한 이유 때문에 대면적의 고분자/액정복합막을 위한 진공 주입은 더욱 곤란하게 된다.
액정광학소자에서의 액정주입 방법으로서 진공주입법 이외에 압착방법이 있는데, 이것은 2 매의 액정 전극셀 중 1 매의 기판중앙부 위에 액정등 주입하고자 하는 재료를 과량 액적상태로 적하한다음 다른한 매의 기판으로 위에서 압착하는 방법이다. 이러한 압착에 의한 주입방법은 대면적화에는 유리하나 셀의 두께를 조절하기가 어렵고 과량의 액정을 사용해야 하므로 제조비용이 증가하는 단점이 있다. 또한 액정주입후 액정이 새어나오지 않도록 밀봉을 해야하나 이 공정을 위해서는 기판과 접착제 사이의 접착력를 고려하여 기판 위의 액정등을 세척해야 하는등 공정이 복잡해진다.
본 발명의 목적은 상술한 문제점을 극복하게 위한 것으로, 고진공 상태에서의 고분자/액정재료중 휘발성이 강한 모노머의 증발로 인한 액정재료 물성의 변화를 최소화하여 대면적의 액정셀의 제조가 가능한 액정광학소자의 제조방법 및 그에 의하여 수득된 액정광학소자를 제공하는 것이다. 보다 상세하게, 본 발명은 기존의 진공주입방법을 개량하여 휘발성이 강한 고분자/액정 복합막용 재료인 모노머와 액정의 혼합물을 고진공에서 주입함으로써 기포가 없고, 진공공간을 액정소자 내로 최소화함으로써 고진공에 의한 모노머와 액정의 조성비 변화를 최소화하고, 마지막 단계에서는 한 쪽에서 감압 반대편에서 가압을 하는 방법에 의해 주입을 완료함으로써 주입재료의 제특성에 변화가 없어, 액정광학소자의 전기광학적 특성의 열화 없이 대면적 액정광학소자를 제공할 수 있는 액정광학소자의 제조방법 및 그에 의하여 수득된 액정광학소자를 제공하는 것이다.
즉, 본 발명은 투명전극층를 갖는 2 매의 기판 사이에 모노머와 액정의 혼합물을 포함하는 액정광학소자를 제조함에 있어서, 공셀에 액정재료 주입시 최초로 주입구와 주입장치의 연결용 장치를 잠그어서 입구를 통하여 고진공을 유지한 상태에서 주입을 시작하고, 액정주입의 마지막 단계에서 감압과 동시에 주사형 가압식 액정주입장치를 사용하여 가압하면서 액정재료를 주입하며, 액정주입 완료후 주입구를 막고 감압구에 의해 감압하여 셀내의 액정재료의 존재량을 최소로 하는 것을 특징으로 하는 액정광학소자의 제조방법이다.
이하에 도면을 참고하여 본 발명을 상술한다.
제 1도는 본 발명의 액정셀의 구조와 액정재료 주입공정을 위한 부속장치의 구조 설명도이다. 제 2도는 제 1도의 밀폐용 봉지선과 감압 및 주입구의 위치의 상세설명도이다. 본 발명에 의한 액정셀의 제조공정을 더욱 상세히 설명하면 다음과 같다.
(1) 공셀의 제조.
액정 셀을 구성하는 2 매의 기판 중 한쪽의 기판(1)의 사각 모서리에 주입구(10)를 뚫고 이 주입구(10)의 반대 방향의 대각선 쪽에 액정 감압구(11)를 뚫는다. 나머지 다른 하나의 기판(1')에는 먼저 셀 두께 조절용 스페이서를 두어 셀 두께의 균일성을 유지할 수 있도록 한다. 셀 두께 조절용 스페이서의 형성방법에는 스페이서 분산장치를 이용하여 분산시키는 방법과 기판상에 스페이서용 돌기부를 두는 방법이 있다. 스페이서를 갖는 기판 테두리에 열 또는 자외선경화용 봉지제를 스크린 프린트한다음 그 위에 주입구(10) 및 감암구(11)가 달린 기판(1')을 내려놓고 압력을 가한 상태에서 열 또는 자외선 경화시켜 두 개의 기판을 접착시켜제 2도에 도시된 밀폐용 봉지선(3)의 구조로 봉지함으로써 액정재료를 주입하기 위한 공 셀을 완성한다.
(2) 완성된 공 셀내로의 액정재료의 주입방법.
먼저 제 1도에서 주입구(10)를 봉한상태(주입조절코크(5)를 잠근 상태)에서 감압구(11)를 이용하여 고진공으로 감압한 다음, 주입구(10)를 통하여 액정을 스며들게 한다. 주입구(10)의 크기와 모양은 액정 셀의 크기와 두께에 따라서 자유롭게 설계할 수 있다. 이 때의 셀의 온도는 상온 보다 높게 유지함으로써 액정의 점도를 낮게 하여 주입저항을 낮게 하는 것이 효과적이다. 특히 모노머와 액정이 혼합된 고분자/액정 복합막용 액정재료는 액정이 모노머에 용해되어 등방성 액체상태의 온도에서 주입하는 것이 주입속도에 따른 액정 물질간의 상분리를 방지하는데 효과적이다. 액정이 셀내로 스며들게 되면 셀의 진공도가 떨어지게 되는데, 이것을 방지하기 위해서 감압구(11)를 통하여 계속하여 셀을 감압시킨다. 이와 같은 고진공의 감압에 의해서 기포가 형성되지 않도록 액정재료를 주입할 수 있게 된다.
이렇게 액정재료를 주입하여 기포가 완전히 제거된 상태에서 제 1도의 주사형 가압식 액정주입장치(7)를 통하여 액정을 가압주입하면서 계속해서 감압조절코크(6)로 조절하면서 감압용호스(8)를 통해 감압펌프(9)로 감압하여 주입된 액정재료의 일부를 압출해낸다. 이 때 압출된 액정물질은 액정물질제거트랩(12)으로 제거한다. 이 공정은 액결제료의 주입시, 진공에 의한 고휘발성 모노머의 증발로 인해 최초의 조합비가 변화된 주입재료를 제거하기 위한 것으로, 휘발성이 대단히 큰 모노머를 포함하는 고분자/액정 복합막용 액정재료에 있어서는 진공주입 후 원래의액정재료 특성을 얻는데 대단히 효과적이다. 또한 이 공정에서는 고진공으로 감압을 하여도 진공공간을 액정셀의 내부로 극소화함으로써 액정재료 고유의 물성변화 없이 액정재료를 주입할 수 있게 된다. 이리한 공정에 의해 대면적의 액정셀의 주입을 간편하게 할 수 있다.
(3) 액정재료 주입 완료주의 셀 두께 조절과정.
상기 공정이 종료되면 주입장치의 주입조절코크(5)를 잠그어 주입구를 밀폐시킨 다음 적당한 시간 감압펌프(9)를 이용하여 감압을 더욱 진행시킨 다음 감압조절코크(6)를 잡그어 감압구(11)를 막는다. 이 공정은 기존의 진공주일시 셀 두께를 조절하기 위하여 실시하는 고도의 평평도를 갖는 금속판등을 이용한 가압효과를 낼 수 있는데, 이 방법을 통하여 매우 균일하게 셀 두께를 조절할 수 있다.
제 1도의 장치에서 액정주입구에 부착되는 가압식 액정 주입장치(7)는 주사기의 모양을 하고 있는데, 이 주사형 가압식 액정주입장치(7)는 액정재료가 오염되는 것을 막을 수 있고 셀의 공간에만 액정재료를 공급함으로써 최소의 액정재료만을 사용하여 주입이 가능하게 해준다. 상기 주사형 가압식 액정주입장치(7)와 주입구(10) 사이의 밀폐용 연결장치(4) 및 감압구(11)와 감압용 호프(8) 사이의 밀폐용 연결장치(4)는 유리등과의 밀착성이 좋은 실콘고무등과 같은 재료를 사용하는 것이 효과적이다.
실시예1
가로 15㎝ ×세로 20㎝(19.5인치) 크기의 ITO투명전극 기판(1)에 평균크기 12m의 스폐이서를 메탄올 현탁법에 의하여 분산하고 메탄올을 증발시켜 스페이서를고착시켰다. 이 기판(1)의 테두리에 봉지용 자외선 경화수지를 실크프린트한 다음, 기판(1)의 위에 직경1㎜의 감압구와 1㎜×10㎜ 크기의 액정재료 주입구를 갖는 도전성 투명기판(1')를 겹친 다음 셀 두께를 유지할 수 있도록 압착한 상태에서 자외선을 조사하여 본 발명의 공셀을 완성하였다. 이 셀의 감압구(11)에는 감압조절코크 및 액정물질 제거트랩(12)이 달린 감압용 호스(8)를 연결하고 주입구(10)에는 주입조절코크(5)가 달린 주사형 가압식 액정주입장치(7)를 연결하였다. 이어서 고분자/액정 복합막를 위한 자외선 경화용 모노머(PN393:Merck사, 중합개시제 함유)와 액정 TL203을 각각 20 : 80 중량비로 혼합한 액정물질을 준비하였다. 완성된 공셀에 최초로 주사형 가압식 액정주입장치(7)의 주입조절코크(5)를 잠그어서 주입구(10)를 봉한 상태에서 감압구(11)를 통하여 고진공으로 감압하여 고진공을 유지한 상태에서 주입을 시작하고, 액정주입의 마지막 단계에서 감압과 동시에 주사형 가압식 액정주입장치(7)를 사용하여 가압하면서 액정재료를 주입하였다. 액정재료의 주입 완료 후 주입구(10)를 막고 감압구(11)에 의한 감압으로 셀 내의 액정재료의 존재량을 최소화하였다. 주입 후의 셀 내부에는 기포가 존재하지 않는 것이 확인되었다. 주입된 셀에 자외선을 조사하여 모노머를 경화시킨 다음, 완성된 셀의 전기광학 특성을 조사한 결과 고진공에 의한 모노머와 액정의 조성비 변화가 최소화되어 압착법에 의해서 제조한 셀과 거의 같은 특성을 나타내었다. 또한 콘트라스트 300:1, 최고 광투과를 80%이상으로 나타났다.
비교예1
종래의 액정주입 방법, 즉 액정 셀에 주입구를 두고 셀의 테두리를 자외선경화제를 이용하여 밀봉한 다음 이 셀과 실시예1에서 사용한 모노머 PN-393과 액정 TL203를 각각 20 : 80 중량비로 혼합한 재료를 전공주입장치내에서 감압를 하여 액정료표를 주입하였다. 액정재료 주입후 셀 내에는 기포는 존재하지 않았으나, 주입셀에 자외선을 주사하여 모노머를 경화시켜서 액정과 고분자를 상분리시켜 고분자/액정 복합막 셀을 완성하여 전기광학 특성을 평가한 결과 전장을 인가하지 않은 상태에서의 광산란상태가 대단히 좋지 않았다.
본 비교예에서 셀의 전기광학 특성이 좋지 않았던 것은 액정재료의 주입시 셀 내에 기포가 존재하지 않도록 하기 위해서 고진공 상태에서 액정재료를 주입할 때에 휘발성이 강한 모노머인 PM-393이 진공상태에서 휘발되어 모즈머와 액정의 구성비율에 영향을 줌으로써 주입전의 액정재료의 혼합비와 주입후의 혼합비가 변하는 것이 원인으로 확인되었다. 완성된 셀의 콘트라스트가 50:1 이하로 실시예1의 결과에 비해 대단히 나빴다.
비교예2
실시예1에서의 셀에 액정재료 주입시 액정재료 주입전에 주입구를 막고 감압구를 통하여 감압을 하여 셀의 내부를 고진공으로 감압하는 공정을 생략하여 기존의 방식대로 주입구를 액정재료에 담근상태에서 감압하면서 동시에 액정재료를 주입한 경우 셀의 내부에 기포가 존재하였다.
제 1도는 본 발명의 액정광학소자의 제조공정을 의한 부속장치의 구조설명도.
제 2도는 제 1도에서의 밀폐용 봉지선과 감압구 및 주입구의 상세 설명도이다.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
1 : 기판 1': 기판
3 : 밀폐용 봉지선 4 : 밀폐용 연결장치
5 : 주입조절코크 6 : 감압조절코크
7 : 주사형 가압의 액정주입장치
8 : 감압용 호스 9 : 감압펌프
10 : 주입구 11 : 감압구
12 : 액정물질 제거트랩

Claims (5)

  1. 투명전극층을 갖는 2 매의 기판 사이에 모노머와 액정의 혼합물을 포함하는 액정광학소자를 제조함에 있어서, 공셀에 액정재료주입시 최초로 주사형 가압식 액정주입장치의 주입조절코그를 잠그어서 주입구를 봉한 상태에서 감압구를 통하여 고전공으로 감압하며 고진공을 유지한 상태에서 주입을 시작하고, 액정주입의 마지막 단계에서 감압과 동시에 주사형 가압식 액정주입장치를 사용하여 가압하면서 액정재료를 주입하며, 액정주입 완료후 주입구를 막고 감압구에 의한 감압으로 셀내의 액정재료의 존재량을 최소로 하는 것을 특징으로 하는 액정광학소자의 제조방법.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 주입구는 기판의 사각모서리에 위치하고 감압구는 상기 기판의 반대방향 대각선쪽에 위치하는 것을 특정으로 하는 액정광학소자의 제조방법.
  3. 제 1항에 있어서,
    액정재료 주입시 셀의 온도를 상온보다 높게 유지하는 것을 특징으로 하는 액정광학소자의 제조방법.
  4. 제 1항에 있어서,
    액정재료를 가압주입하면서 계속해서 감압하여 주입된 액정재료의 일부를 압출해내어 액정물질 제거트랩을 통해서 제거하는 것을 특징으로 하는 액정광학소자의 제조방법.
  5. 제 1항의 방법에 의해 제조된 액정광학소자.
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