JPH07124854A - ウェーハのセンタリング装置 - Google Patents
ウェーハのセンタリング装置Info
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- JPH07124854A JPH07124854A JP29438693A JP29438693A JPH07124854A JP H07124854 A JPH07124854 A JP H07124854A JP 29438693 A JP29438693 A JP 29438693A JP 29438693 A JP29438693 A JP 29438693A JP H07124854 A JPH07124854 A JP H07124854A
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- Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ウェーハのセンタリングが精度良くかつ簡単
に行えるセンタリング装置を提供する。 【構成】 ウェーハが受容可能で、かつモータによって
水平面内で回動可能な回転リングを有し、この回転リン
グ内周近傍には、水平面内で回動可能で、かつウェーハ
外周部に対して接離可能な接触子が少なくとも３個設け
られ、前記回転リングの回動と前記接触子の回動とが連
動して行われるように、前記回転リングと前記接触子と
が歯車機構によって連結されていることを特徴とする。
に行えるセンタリング装置を提供する。 【構成】 ウェーハが受容可能で、かつモータによって
水平面内で回動可能な回転リングを有し、この回転リン
グ内周近傍には、水平面内で回動可能で、かつウェーハ
外周部に対して接離可能な接触子が少なくとも３個設け
られ、前記回転リングの回動と前記接触子の回動とが連
動して行われるように、前記回転リングと前記接触子と
が歯車機構によって連結されていることを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ウェーハのセンタリン
グ装置に関するものである。
グ装置に関するものである。
【０００２】
【従来技術】シリコン単結晶ウェーハあるいは化合物半
導体ウェーハなど（以下ウェーハと言う）においては、
ウェーハ外周部に形成された面取り部を研磨することが
行われている。この研磨は、オリエンテーションフラッ
ト部（以下オリフラ部と言う）やノッチ部を有するもの
で、特にノッチ部の研磨工程は、オリフラ部やそれ以外
の部分を研磨する外周部研磨工程と分けて行われてい
る。ノッチ部の研磨工程と、オリフラ部やそれ以外の外
周部研磨工程とでは、研磨時におけるウェーハや回転バ
フなどの動かし方が異なるからである。
導体ウェーハなど（以下ウェーハと言う）においては、
ウェーハ外周部に形成された面取り部を研磨することが
行われている。この研磨は、オリエンテーションフラッ
ト部（以下オリフラ部と言う）やノッチ部を有するもの
で、特にノッチ部の研磨工程は、オリフラ部やそれ以外
の部分を研磨する外周部研磨工程と分けて行われてい
る。ノッチ部の研磨工程と、オリフラ部やそれ以外の外
周部研磨工程とでは、研磨時におけるウェーハや回転バ
フなどの動かし方が異なるからである。
【０００３】ところで、この研磨を自動的に行うため、
従来、自動研磨装置が考えられている。この自動研磨装
置では、ローダにストックされたウェーハを一枚ずつ取
り出して真空吸引し、真空吸引した状態でオリフラ部な
どの研磨や外周部研磨を行っている。
従来、自動研磨装置が考えられている。この自動研磨装
置では、ローダにストックされたウェーハを一枚ずつ取
り出して真空吸引し、真空吸引した状態でオリフラ部な
どの研磨や外周部研磨を行っている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】この場合、ウェーハの
センタリングを行わないと、ウェーハが偏心した状態で
真空吸引されるため、特に、外周部研磨工程でウェーハ
を回転させると、ウェーハが偏心回転してしまい、研磨
むらが出来てしまうという不都合がある。
センタリングを行わないと、ウェーハが偏心した状態で
真空吸引されるため、特に、外周部研磨工程でウェーハ
を回転させると、ウェーハが偏心回転してしまい、研磨
むらが出来てしまうという不都合がある。
【０００５】かかる不都合は、面取り部研磨の工程に特
有の問題ではなく、面取り部研削の工程でも、その影響
は著しい。
有の問題ではなく、面取り部研削の工程でも、その影響
は著しい。
【０００６】本発明は、かかる点に鑑みなされたもの
で、ウェーハのセンタリングが精度良くかつ簡単に行え
るセンタリング装置を提供することを目的としている。
で、ウェーハのセンタリングが精度良くかつ簡単に行え
るセンタリング装置を提供することを目的としている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】請求項１記載のウェーハ
のセンタリング装置は、ウェーハが受容可能で、かつモ
ータによって水平面内で回動可能な回転リングを有し、
この回転リング内周近傍には、水平面内で回動可能で、
かつウェーハ外周部に対して接離可能な接触子が少なく
とも３個設けられ、前記回転リングの回動と前記接触子
の回動とが連動して行われるように、前記回転リングと
前記接触子とが歯車機構によって連結されている。
のセンタリング装置は、ウェーハが受容可能で、かつモ
ータによって水平面内で回動可能な回転リングを有し、
この回転リング内周近傍には、水平面内で回動可能で、
かつウェーハ外周部に対して接離可能な接触子が少なく
とも３個設けられ、前記回転リングの回動と前記接触子
の回動とが連動して行われるように、前記回転リングと
前記接触子とが歯車機構によって連結されている。
【０００８】請求項２記載のウェーハのセンタリング装
置は、請求項１記載のウェーハのセンタリング装置にお
いて、前記回転リング内周には内周歯が形成され、この
内周歯には前記接触子の回動軸に付設したピニオン歯車
が噛合している。
置は、請求項１記載のウェーハのセンタリング装置にお
いて、前記回転リング内周には内周歯が形成され、この
内周歯には前記接触子の回動軸に付設したピニオン歯車
が噛合している。
【０００９】請求項３記載のウェーハのセンタリング装
置は、請求項１記載または請求項２記載のウェーハのセ
ンタリング装置において、他のモータによって回転駆動
される第２の回転リングが前記回転リングの上に同心的
に設けられ、この第２の回転リング内周近傍には、水平
面内で回動可能で、かつウェーハ吸引部外周に対して接
離可能な第２の接触子が少なくとも３個設けられ、前記
第２の回転リングの回動と前記第２の接触子の回動とが
連動して行われるように、前記第２の回転リングと前記
第２の接触子とが歯車機構によって連結されている。
置は、請求項１記載または請求項２記載のウェーハのセ
ンタリング装置において、他のモータによって回転駆動
される第２の回転リングが前記回転リングの上に同心的
に設けられ、この第２の回転リング内周近傍には、水平
面内で回動可能で、かつウェーハ吸引部外周に対して接
離可能な第２の接触子が少なくとも３個設けられ、前記
第２の回転リングの回動と前記第２の接触子の回動とが
連動して行われるように、前記第２の回転リングと前記
第２の接触子とが歯車機構によって連結されている。
【００１０】
【作用】上記した手段によれば、ウェーハを回転リング
内に入れ、回転リングを回転させると、接触子によって
ウェーハ外周部が押圧され、ウェーハのセンタリングが
なされるので、センタリングが必要なウェーハ処理工程
に好適である。
内に入れ、回転リングを回転させると、接触子によって
ウェーハ外周部が押圧され、ウェーハのセンタリングが
なされるので、センタリングが必要なウェーハ処理工程
に好適である。
【００１１】また、請求項２記載の発明のように、回転
リング内周に内周歯を形成し、この内周歯に接触子の回
動軸に付設したピニオン歯車を噛合させるようにすれ
ば、構造が極めて簡素となる。
リング内周に内周歯を形成し、この内周歯に接触子の回
動軸に付設したピニオン歯車を噛合させるようにすれ
ば、構造が極めて簡素となる。
【００１２】また、請求項３記載の発明のように、ウェ
ーハ吸引部のセンタリング装置をも同時に設ければ、ウ
ェーハ吸引部に対してウェーハが偏心しないので、ウェ
ーハの吸引を行いつつウェーハを処理する工程におい
て、ウェーハの偏心がなくなることとなり、ウェーハ偏
心による研削されない部分や研磨むらがなくなって、製
造歩留りが向上することになる。
ーハ吸引部のセンタリング装置をも同時に設ければ、ウ
ェーハ吸引部に対してウェーハが偏心しないので、ウェ
ーハの吸引を行いつつウェーハを処理する工程におい
て、ウェーハの偏心がなくなることとなり、ウェーハ偏
心による研削されない部分や研磨むらがなくなって、製
造歩留りが向上することになる。
【００１３】
【実施例】図１には実施例のウェーハセンタリング装置
を適用した研磨装置１が示されている。この研磨装置１
は、ローダ２、ウェーハ搬送装置３、ウェーハ位置決め
装置４、ノッチ部研磨装置５、オリフラ部・外周部研磨
装置６およびアンローダ８を備えている。この研磨装置
１は図２に示すようなノッチ部９ａが形成されたウェー
ハＷと、図３に示すようなオリフラ９ｂが形成されたウ
ェーハＷとに対応できるようになっている。
を適用した研磨装置１が示されている。この研磨装置１
は、ローダ２、ウェーハ搬送装置３、ウェーハ位置決め
装置４、ノッチ部研磨装置５、オリフラ部・外周部研磨
装置６およびアンローダ８を備えている。この研磨装置
１は図２に示すようなノッチ部９ａが形成されたウェー
ハＷと、図３に示すようなオリフラ９ｂが形成されたウ
ェーハＷとに対応できるようになっている。
【００１４】ローダ２は、図４に示すように、多数のウ
ェーハＷを鉛直方向に所定の間隔を隔てて保持可能なカ
セット２０と、このカセット２０からウェーハＷを１枚
ずつ取り出すベルトコンベア２１とを備えている。カセ
ット２０は昇降可能となっており、そのカセット２０の
下側に保持されているウェーハＷから順にベルトコンベ
ア２１によって取り出せるようになっている。なお、こ
こではカセット２０を昇降可能に構成しているが、ベル
トコンベア２１の方を昇降可能に構成するようにしても
良い。
ェーハＷを鉛直方向に所定の間隔を隔てて保持可能なカ
セット２０と、このカセット２０からウェーハＷを１枚
ずつ取り出すベルトコンベア２１とを備えている。カセ
ット２０は昇降可能となっており、そのカセット２０の
下側に保持されているウェーハＷから順にベルトコンベ
ア２１によって取り出せるようになっている。なお、こ
こではカセット２０を昇降可能に構成しているが、ベル
トコンベア２１の方を昇降可能に構成するようにしても
良い。
【００１５】ウェーハ搬送装置３は、図５に示すよう
に、真空ポンプ（図示せず）に連結された吸着部３０を
有している。この吸着部３０はモータ３１によって回動
可能に構成されている。吸着部３０とモータ３１はリン
ク３２に保持されており、さらにリンク３２は別のリン
ク３３に保持されている。そして、リンク３２がリンク
３３に対して独立に回動できるように、リンク３２とリ
ンク３３との結合部にはモータ３４が設けられている。
また、リンク３３にはモータ３５が連結され、このモー
タ３５によってリンク３２，３３全体が回動できるよう
にされている。なお、図示はしないが、ウェーハ搬送装
置３には、リンク３２，３３を昇降させるための昇降装
置が設けられている。
に、真空ポンプ（図示せず）に連結された吸着部３０を
有している。この吸着部３０はモータ３１によって回動
可能に構成されている。吸着部３０とモータ３１はリン
ク３２に保持されており、さらにリンク３２は別のリン
ク３３に保持されている。そして、リンク３２がリンク
３３に対して独立に回動できるように、リンク３２とリ
ンク３３との結合部にはモータ３４が設けられている。
また、リンク３３にはモータ３５が連結され、このモー
タ３５によってリンク３２，３３全体が回動できるよう
にされている。なお、図示はしないが、ウェーハ搬送装
置３には、リンク３２，３３を昇降させるための昇降装
置が設けられている。
【００１６】ウェーハ位置決め装置４は、ウェーハＷの
センタリングを行うセンタリング装置４０（図６〜図
８）と、ウェーハＷの方位を揃える方位合せ装置（図示
せず）を備えている。
センタリングを行うセンタリング装置４０（図６〜図
８）と、ウェーハＷの方位を揃える方位合せ装置（図示
せず）を備えている。
【００１７】このうち、センタリング装置４０はシリン
ダ部材４１を有し、このシリンダ部材４１内には、ウェ
ーハＷを受容可能な回転リング４２が配設されている。
回転リング４２の外周には外周歯４２ａが付設され、こ
の外周歯４２ａはモータＭの軸に付設された原動歯車４
４に噛合している。また、この回転リング４２の内周に
は内周歯４２ｂが付設されている。さらに、回転リング
４２の内側には、当該回転リング４２近傍に、軸４６ａ
を中心に回転する接触子４６が３個設けられ、この接触
子４６の軸４６ａにはピニオン歯車４７ａ，４７ｂが付
設されている。そして、このピニオン歯車４７ａ，４７
ｂは前記回転リング４２の内周歯４２ｂに噛合してい
る。なお、ピニオン歯車４７ａ，４７ｂを２個設けたの
は、ピニオン歯車４７ａ，４７ｂ間で位相をずらして、
バックラッシュを防止するためである。
ダ部材４１を有し、このシリンダ部材４１内には、ウェ
ーハＷを受容可能な回転リング４２が配設されている。
回転リング４２の外周には外周歯４２ａが付設され、こ
の外周歯４２ａはモータＭの軸に付設された原動歯車４
４に噛合している。また、この回転リング４２の内周に
は内周歯４２ｂが付設されている。さらに、回転リング
４２の内側には、当該回転リング４２近傍に、軸４６ａ
を中心に回転する接触子４６が３個設けられ、この接触
子４６の軸４６ａにはピニオン歯車４７ａ，４７ｂが付
設されている。そして、このピニオン歯車４７ａ，４７
ｂは前記回転リング４２の内周歯４２ｂに噛合してい
る。なお、ピニオン歯車４７ａ，４７ｂを２個設けたの
は、ピニオン歯車４７ａ，４７ｂ間で位相をずらして、
バックラッシュを防止するためである。
【００１８】ここで、接触子４６について説明すれば、
３個の接触子４６は同一水平面内で回動するように取り
付けられている。この接触子４６は図９に示すように内
側が段状に構成され、段部４６ａでウェーハＷを下側か
ら支えることができるとともに、起立部分４６ｂにてウ
ェーハＷの外周部を挟持できるようになっている。
３個の接触子４６は同一水平面内で回動するように取り
付けられている。この接触子４６は図９に示すように内
側が段状に構成され、段部４６ａでウェーハＷを下側か
ら支えることができるとともに、起立部分４６ｂにてウ
ェーハＷの外周部を挟持できるようになっている。
【００１９】また、シリンダ部材４１内における回転リ
ング４２の上方には、図７に示すように、当該回転リン
グ４２と同形の他の回転リング（第２の回転リング）４
５が同心的に配設されている。この回転リング４５の外
周には外周歯４５ａが付設され、この外周歯４５ａはモ
ータＭの軸に付設された原動歯車４９に噛合している。
また、この回転リング４５の内周には内周歯４５ｂが付
設されている。さらに、回転リング４５の内側には、当
該回転リング４５近傍に、軸４３ａを中心に回転する接
触子（第２の接触子）４３が３個設けられ、この接触子
４３の軸４３ａにはピニオン歯車４８ａ，４８ｂが付設
されている。そして、このピニオン歯車４８ａ，４８ｂ
は前記回転リング４５の内周歯４５ｂに噛合している。
ここで、ピニオン歯車４８ａ，４８ｂについて説明すれ
ば、先に述べたピニオン歯車４７ａ，４７ｂと同様に、
ピニオン歯車４８ａ，４８ｂはバックラッシュを防止す
るため位相を少しずらしてある。
ング４２の上方には、図７に示すように、当該回転リン
グ４２と同形の他の回転リング（第２の回転リング）４
５が同心的に配設されている。この回転リング４５の外
周には外周歯４５ａが付設され、この外周歯４５ａはモ
ータＭの軸に付設された原動歯車４９に噛合している。
また、この回転リング４５の内周には内周歯４５ｂが付
設されている。さらに、回転リング４５の内側には、当
該回転リング４５近傍に、軸４３ａを中心に回転する接
触子（第２の接触子）４３が３個設けられ、この接触子
４３の軸４３ａにはピニオン歯車４８ａ，４８ｂが付設
されている。そして、このピニオン歯車４８ａ，４８ｂ
は前記回転リング４５の内周歯４５ｂに噛合している。
ここで、ピニオン歯車４８ａ，４８ｂについて説明すれ
ば、先に述べたピニオン歯車４７ａ，４７ｂと同様に、
ピニオン歯車４８ａ，４８ｂはバックラッシュを防止す
るため位相を少しずらしてある。
【００２０】ここで、接触子４３について説明すれば、
３個の接触子４３は同一水平面内で回動するようにされ
ている。なお、接触子４３の内側には、前記接触子４６
とは異なり段部は設けられてはいないが、その構造は前
記接触子４６とほぼ同様である。
３個の接触子４３は同一水平面内で回動するようにされ
ている。なお、接触子４３の内側には、前記接触子４６
とは異なり段部は設けられてはいないが、その構造は前
記接触子４６とほぼ同様である。
【００２１】このように構成されたセンタリング装置４
０では、ウェーハ搬送装置３の吸引部３０で真空吸引さ
れたウェーハＷが入ると、まず、回転リング４２が回転
し、３個の接触子４６がウェーハＷの外周部に近づき接
触する。この際、リンク３２，３３は自由に回動し得る
状態となり、偏心があった場合には、ウェーハＷは、そ
の中心が回転リング４２の中心に一致する方向に寄せら
れ、センタリングがなされる。ウェーハＷのセンタリン
グがなされた後には、ウェーハＷの真空吸引が解除さ
れ、今度は、回転リング４５が回転し、３個の接触子４
３が吸引部３０の外周部に近づき接触する。この際、リ
ンク３２，３３は自由に回動し得るので、偏心があった
場合には、吸引部３０は、その中心が回転リング４５の
中心に一致する方向に寄せられ、センタリングがなされ
る。そこで、再び、ウェーハＷの真空吸引が行われる。
この状態が図８に示されている。
０では、ウェーハ搬送装置３の吸引部３０で真空吸引さ
れたウェーハＷが入ると、まず、回転リング４２が回転
し、３個の接触子４６がウェーハＷの外周部に近づき接
触する。この際、リンク３２，３３は自由に回動し得る
状態となり、偏心があった場合には、ウェーハＷは、そ
の中心が回転リング４２の中心に一致する方向に寄せら
れ、センタリングがなされる。ウェーハＷのセンタリン
グがなされた後には、ウェーハＷの真空吸引が解除さ
れ、今度は、回転リング４５が回転し、３個の接触子４
３が吸引部３０の外周部に近づき接触する。この際、リ
ンク３２，３３は自由に回動し得るので、偏心があった
場合には、吸引部３０は、その中心が回転リング４５の
中心に一致する方向に寄せられ、センタリングがなされ
る。そこで、再び、ウェーハＷの真空吸引が行われる。
この状態が図８に示されている。
【００２２】次に、ウェーハ方位合せ装置について説明
すれば、ウェーハ方位合せ装置は、吸引部３０に偏心の
ない状態で吸着されたウェーハＷのオリフラ部やノッチ
部をフォトカプラなどによって検出することによって、
ウェーハＷの方位を合せるようになっている。
すれば、ウェーハ方位合せ装置は、吸引部３０に偏心の
ない状態で吸着されたウェーハＷのオリフラ部やノッチ
部をフォトカプラなどによって検出することによって、
ウェーハＷの方位を合せるようになっている。
【００２３】ノッチ部研磨装置５は、図１に示すよう
に、モータＭによって回転駆動される回転バフ５１によ
ってノッチ部９ａを研磨するためのものである。このノ
ッチ部研磨工程では、モータ５０自体が所定の軸を中心
に回転させられ、回転バフ５１が縦断面形状にほぼ倣う
ように動作させられる。また、吸引部３０に吸引された
ウェーハＷがモータ３１によって細かくその周方向に回
動（脈動）させられる。そして、例えばアルカリ液中に
コロイダルシリカを分散させた研磨剤がウェーハＷのノ
ッチ部９ａに供給される。
に、モータＭによって回転駆動される回転バフ５１によ
ってノッチ部９ａを研磨するためのものである。このノ
ッチ部研磨工程では、モータ５０自体が所定の軸を中心
に回転させられ、回転バフ５１が縦断面形状にほぼ倣う
ように動作させられる。また、吸引部３０に吸引された
ウェーハＷがモータ３１によって細かくその周方向に回
動（脈動）させられる。そして、例えばアルカリ液中に
コロイダルシリカを分散させた研磨剤がウェーハＷのノ
ッチ部９ａに供給される。
【００２４】オリフラ部・外周部研磨装置６は、モータ
（図示せず）により回転駆動されるシリンダ部材６１外
周に付設されたバフ溝（図示せず）によって、オリフラ
部９ｂや外周部を研磨するためのものである。オリフラ
部研磨工程では、オリフラ部９ｂ全体がバフ溝に接触す
るようにウェーハＷは所定角度範囲で回動させられる。
この際、バフ溝に対するウェーハＷの押付け力を発生さ
せるために、モータ３５をブレーキング状態にし、モー
タ３４で所定トルクを発生させる。また、外周部研磨工
程では、モータ３１によってウェーハＷがゆっくり回転
させられる。なお、オリフラ部９ｂや外周部の研磨時に
は、例えばアルカリ液中にコロイダルシリカを分散させ
た研磨剤がウェーハＷのオリフラ部９ｂや外周部に供給
される。
（図示せず）により回転駆動されるシリンダ部材６１外
周に付設されたバフ溝（図示せず）によって、オリフラ
部９ｂや外周部を研磨するためのものである。オリフラ
部研磨工程では、オリフラ部９ｂ全体がバフ溝に接触す
るようにウェーハＷは所定角度範囲で回動させられる。
この際、バフ溝に対するウェーハＷの押付け力を発生さ
せるために、モータ３５をブレーキング状態にし、モー
タ３４で所定トルクを発生させる。また、外周部研磨工
程では、モータ３１によってウェーハＷがゆっくり回転
させられる。なお、オリフラ部９ｂや外周部の研磨時に
は、例えばアルカリ液中にコロイダルシリカを分散させ
た研磨剤がウェーハＷのオリフラ部９ｂや外周部に供給
される。
【００２５】アンローダ８は、図１０に示すように、水
槽８０と、この水槽８０内に付設されるカセット８１と
を有している。水槽８０内の底面は傾斜面となってお
り、真空吸引から解かれたウェーハＷが水槽８０の底面
を滑りつつカセット８１に入り込むようになっている。
このカセット８１はウェーハＷの重ね方向に動作可能と
なっている。なお、この水槽８０近傍には、図示はしな
いが、吸引部３０を洗浄するための装置も設けられてい
る。
槽８０と、この水槽８０内に付設されるカセット８１と
を有している。水槽８０内の底面は傾斜面となってお
り、真空吸引から解かれたウェーハＷが水槽８０の底面
を滑りつつカセット８１に入り込むようになっている。
このカセット８１はウェーハＷの重ね方向に動作可能と
なっている。なお、この水槽８０近傍には、図示はしな
いが、吸引部３０を洗浄するための装置も設けられてい
る。
【００２６】以上のように構成された研磨装置１によれ
ば、センタリング装置４０によって吸引部３０に対して
ウェーハＷの中心が確実に吸引されるので、研磨むらな
どの発生が効果的に防止できることになる。
ば、センタリング装置４０によって吸引部３０に対して
ウェーハＷの中心が確実に吸引されるので、研磨むらな
どの発生が効果的に防止できることになる。
【００２７】以上、本発明の実施例について説明した
が、本発明は、かかる実施例に限定されるものではな
く、本発明の要旨を変更しない範囲で種々の変形が可能
であることは言うまでもない。
が、本発明は、かかる実施例に限定されるものではな
く、本発明の要旨を変更しない範囲で種々の変形が可能
であることは言うまでもない。
【００２８】
【発明の効果】以上に述べたごとく、本発明によれば、
確実にセンタリングを行えるので、センタリングが必要
なウェーハ処理工程において好適なものとなる。
確実にセンタリングを行えるので、センタリングが必要
なウェーハ処理工程において好適なものとなる。
【図１】実施例のセンタリング装置を適用した研磨装置
の概略平面図である。
の概略平面図である。
【図２】ノッチ部を有するウェーハの平面図である。
【図３】オリフラ部を有するウェーハの平面図である。
【図４】ローダの側面図である。
【図５】ウェーハ搬送装置の斜視図である。
【図６】センタリング装置の横断面図である。
【図７】センタリング装置の一部を示した縦断面図であ
る。
る。
【図８】センタリング装置の動作図である。
【図９】接触子の斜視図である。
【図１０】アンローダの概略構成図である。
Ｗ ウェーハ ４２，４５ 回転リング ４３，４６ 接触子
フロントページの続き (72)発明者 黒田 泰嘉 福島県西白河郡西郷村大字小田倉字大平 150番地 信越半導体株式会社半導体白河 研究所内
Claims (3)
- 【請求項１】 ウェーハが受容可能で、かつモータによ
って水平面内で回動可能な回転リングを有し、この回転
リング内周近傍には、水平面内で回動可能で、かつウェ
ーハ外周部に対して接離可能な接触子が少なくとも３個
設けられ、前記回転リングの回動と前記接触子の回動と
が連動して行われるように、前記回転リングと前記接触
子とが歯車機構によって連結されていることを特徴とす
るウェーハのセンタリング装置。 - 【請求項２】 前記回転リング内周には内周歯が形成さ
れ、この内周歯には前記接触子の回動軸に付設したピニ
オン歯車が噛合していることを特徴とする請求項１記載
のウェーハのセンタリング装置。 - 【請求項３】 他のモータによって回転駆動される第２
の回転リングが前記回転リングの上に同心的に設けら
れ、この第２の回転リング内周近傍には、水平面内で回
動可能で、かつウェーハ吸引具外周に対して接離可能な
第２の接触子が少なくとも３個設けられ、前記第２の回
転リングの回動と前記第２の接触子の回動とが連動して
行われるように、前記第２の回転リングと前記第２の接
触子とが歯車機構によって連結されていることを特徴と
する請求項１または請求項２記載のウェーハのセンタリ
ング装置
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29438693A JP3085062B2 (ja) | 1993-10-29 | 1993-10-29 | ウェーハのセンタリング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29438693A JP3085062B2 (ja) | 1993-10-29 | 1993-10-29 | ウェーハのセンタリング装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07124854A true JPH07124854A (ja) | 1995-05-16 |
| JP3085062B2 JP3085062B2 (ja) | 2000-09-04 |
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ID=17807059
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29438693A Expired - Fee Related JP3085062B2 (ja) | 1993-10-29 | 1993-10-29 | ウェーハのセンタリング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3085062B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009194217A (ja) * | 2008-02-15 | 2009-08-27 | Disco Abrasive Syst Ltd | 板状物の搬送装置 |
| CN109926911A (zh) * | 2019-03-04 | 2019-06-25 | 天通日进精密技术有限公司 | 晶圆凹口抛光装置及晶圆凹口抛光方法 |
| CN113084639A (zh) * | 2021-05-17 | 2021-07-09 | 成都青洋电子材料有限公司 | 一种自动化单晶硅片倒角装置 |
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-
1993
- 1993-10-29 JP JP29438693A patent/JP3085062B2/ja not_active Expired - Fee Related
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|---|---|---|---|---|
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| JP3085062B2 (ja) | 2000-09-04 |
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