JPH07122996B2 - Semiconductor integrated circuit - Google Patents

Semiconductor integrated circuit

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JPH07122996B2
JPH07122996B2 JP1998291A JP1998291A JPH07122996B2 JP H07122996 B2 JPH07122996 B2 JP H07122996B2 JP 1998291 A JP1998291 A JP 1998291A JP 1998291 A JP1998291 A JP 1998291A JP H07122996 B2 JPH07122996 B2 JP H07122996B2
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misfet
input
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勝己 荻上
幸郎 鈴木
郁郎 増田
雅則 小高
英明 内田
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Hitachi Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はメモリ・セルが大規模に
集積化された半導体集積回路に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit in which memory cells are integrated on a large scale.

【0002】[0002]

【従来の技術】メモリ・セルが大規模に集積化された半
導体集積回路(以下、半導体メモリと言う)の一種とし
て、いわゆるRAMがある。
2. Description of the Related Art There is a so-called RAM as a type of semiconductor integrated circuit (hereinafter referred to as a semiconductor memory) in which memory cells are integrated on a large scale.

【0003】RAM(ランダムアクセスメモリ)は、情
報を一時的に蓄え、必要な時期にそれを読み出すことが
できるデバイスであり、読出し/書込みメモリとも呼ば
れる。 RAMは、情報を記憶するメモリ・セル,外部
から特定のメモリ・セルを選択するアドレス回路,情報
の読出し・書込みを制御するタイミング回路等からな
る。 RAMにおいては、複数のメモリ・セルがマトリ
ックス状に配置される。この複数のメモリ・セルから所
望のメモリ・セルを選択する動作は、上記マトリックス
の交点を指定する形で行なわれるため、アクセス時間
は、メモリ・セルの位置(番地)によらず一定である。
A RAM (Random Access Memory) is a device capable of temporarily storing information and reading it at a necessary time, and is also called a read / write memory. The RAM includes a memory cell that stores information, an address circuit that selects a specific memory cell from the outside, a timing circuit that controls reading / writing of information, and the like. In RAM, a plurality of memory cells are arranged in a matrix. Since the operation of selecting a desired memory cell from the plurality of memory cells is performed by designating the intersection of the matrix, the access time is constant regardless of the position (address) of the memory cell.

【0004】RAMは、バイポーラRAMとMOSRA
Mとに大きく二分類される。
RAMs are bipolar RAMs and MOSRAs.
It is roughly classified into M and 2.

【0005】バイポーラRAMは下記の長所を有する。Bipolar RAM has the following advantages.

【0006】 (1) MOSRAMに比較すると高速で動作する。(1) It operates at a higher speed than a MOSRAM.

【0007】 (2) メモリ・セルの動作はスタティック形であり、
タイミング等のコントロールが簡単である。
(2) The operation of the memory cell is static type,
Easy to control timing.

【0008】これに対して、バイポーラRAMは下記の
欠点を有する。
On the other hand, the bipolar RAM has the following drawbacks.

【0009】 (3) MOSRAMに比較すると、消費電力(特に非
動作時)が大きい。
(3) Compared with the MOSRAM, the power consumption (particularly when not operating) is large.

【0010】 (4) MOSRAMに比較すると、製造工程が複雑
で、高集積度が得にくい。バイポーラRAMは、入出力
レベルの違いにより、TTL形とEOL形の二種類に分
けられる。TTLインターフェイスのバイポーラRAM
のアクセスタイム(読出し時間)は30〜60(nsec)
の範囲にあり、ECLインターフェイスのバイポーラR
AMのアクセスタイムは4〜35(nsec)の範囲にあ
る。
(4) Compared with the MOSRAM, the manufacturing process is complicated and it is difficult to obtain high integration. Bipolar RAMs are classified into two types, TTL type and EOL type, depending on the difference in input / output level. Bipolar RAM with TTL interface
Access time (readout time) is 30 to 60 (nsec)
, ECL interface bipolar R
The access time of AM is in the range of 4-35 (nsec).

【0011】従って、バイポーラRAMは高速性を要求
される各種メモリ・システムに応用されている。
Therefore, the bipolar RAM is applied to various memory systems which require high speed.

【0012】一方、バイポーラRAMと比較し、MOS
RAMは、その構造及び製造工程が簡単で、消費電力,
記憶密度,価格の面で有利であり、高速動作を必要とし
ない領域で使用されている。
On the other hand, compared with the bipolar RAM, the MOS
RAM has simple structure and manufacturing process,
It is advantageous in terms of storage density and price, and is used in areas that do not require high-speed operation.

【0013】MOSRAMは、ダイナミック形とスタテ
ィック形とに分類される。
MOSRAM is classified into a dynamic type and a static type.

【0014】ダイナミック形MOSRAMは、そのメモ
リ・セルが、比較的少ないトランジスタにより構成され
る、すなわち1ビット当り1〜3個のトランジスタによ
り構成される(1〜3トランジスタ/ビット)。そのた
め、同一チップ面積であれば、後で述べるスタティック
形MOSRAMに比べビット密度が高くなる。
In a dynamic MOSRAM, its memory cell is composed of relatively few transistors, that is, 1 to 3 transistors per bit (1 to 3 transistors / bit). Therefore, if the chip area is the same, the bit density is higher than that of the static type MOS RAM described later.

【0015】ダイナミック形MOSRAMにおいては、
情報がメモリ・セル内の容量に電荷として記憶される。
容量に蓄積された電荷は、リーク電流等によって放電さ
れてしまうため、所定時間内にメモリ・セルの情報を読
出し、再度書込む(リフレッシュ)ことが必要となる。
In the dynamic type MOSRAM,
Information is stored as a charge on the capacitance in the memory cell.
Since the electric charge accumulated in the capacitor is discharged by a leak current or the like, it is necessary to read the information in the memory cell and rewrite it (refresh) within a predetermined time.

【0016】これに対して、スタティック形MOSRA
Mにおいては、そのメモリ・セルとして、一般に6個の
素子によって構成されたフリップフロップ回路が使われ
る。このため、ダイナミック形MOSRAMで必要とさ
れるようなリフレッシュを必要としない。
On the other hand, static type MOSRA
In M, as its memory cell, a flip-flop circuit generally composed of six elements is used. Therefore, the refreshing which is required in the dynamic MOSRAM is not required.

【0017】ダイナミック形MOSRAMのアクセスタ
イムは100〜300(nsec)の範囲にあり、スタティ
ック形MOSRAMのアクセスタイムは30〜200
(nsec)の範囲にある。また、MOSRAMのアクセス
タイムはバイポーラRAMと比較すると大きな値であ
る。
The access time of the dynamic MOSRAM is in the range of 100 to 300 (nsec), and the access time of the static MOSRAM is 30 to 200.
It is in the range of (nsec). Moreover, the access time of the MOS RAM is a large value as compared with the bipolar RAM.

【0018】一方、ホトリソグラフィー技術の改良によ
り半導体集積回路内のMISFETの素子寸法の縮細化
が進められており、1982年10月発刊の IEEE JOUR
NALOF SOLID−STATE CIROUIT, VOL. SC-17, NO.5, 頁
793乃至797には、2(μm)のデザイン・ルール
のウェハ・プロセス技術を用い、アクセスタイム65(n
sec)動作消費電力200(mW),待機消費電力10
(μW)の64KビットのスタティックMOSRAMが
記載されている。
On the other hand, the device size of MISFET in a semiconductor integrated circuit is being reduced by improving the photolithography technique. The IEEE JOUR published in October 1982.
NALOF SOLID-STATE CIROUIT, VOL. SC-17, NO.5, pages 793 to 797 uses wafer process technology with a design rule of 2 (μm) and access time 65 (n
sec) Operation power consumption 200 (mW), standby power consumption 10
A (μW) 64K-bit static MOS RAM is described.

【0019】一方、ECL形のバイポーラRAMの一例
としては、アクセスタイム15(nsec)消費電力800
(mW)の4KビットのECL形バイポーラRAMが製
品名HM100474−15として、本出願人より製造,販売さ
れている。
On the other hand, as an example of the ECL type bipolar RAM, the access time is 15 (nsec) and the power consumption is 800.
(MW) 4K-bit ECL type bipolar RAM is manufactured and sold by the present applicant under the product name HM100474-15.

【0020】以上説明したように、高速・高消費電力の
バイポーラRAMの特徴と低速・低消費電力のMOSR
AMの特徴とは全く独立に、半導体メモリの記憶容量
は、1Kビット,4Kビット,16Kビット,64Kビ
ット,256Kビット,1Mビット……と大容量化する
技術動向がある。
As described above, the characteristics of the high speed and high power consumption bipolar RAM and the low speed and low power consumption MOSR
Independent of the characteristics of AM, there is a technological trend of increasing the storage capacity of semiconductor memories such as 1K bit, 4K bit, 16K bit, 64K bit, 256K bit, 1M bit ....

【0021】[0021]

【発明が解決しようとする課題】半導体メモリの消費電
力と、バイポーラ・トランジスタの素子寸法を決める現
在のホトリソグラフィー技術とを考慮すると、バイポー
ラRAMの記憶容量は16Kビットが限界であろう。
Considering the power consumption of the semiconductor memory and the current photolithography technology that determines the element size of the bipolar transistor, the storage capacity of the bipolar RAM will be limited to 16 Kbits.

【0022】一方、半導体メモリーの記憶容量の大容量
化(特に64Kビット以上)に伴って、半導体チップ面
積も増大し、RAMのアドレス回路の信号線は大面積の
半導体チップ上で長距離にわたり配置される。アドレス
回路の信号線の距離が長くなると、当然この信号線の浮
遊容量が大きくなるばかりか、この信号線の等価分布抵
抗も大きくなる。微細化のために、ホトリソグラフィー
技術を改良することによって、アドレス回路の信号線の
配線幅が2(μm)以下にされると、信号線の等価分布
抵抗も一層大きくなる。また、大容量化に伴って各回路
のファンアウトも大きくなるので、次段MOSのゲート
容量による負荷容量も大きくなる。従って、2(μm)
のホトリソグラフィー技術を用い、アドレス回路の全て
がCMOSによって構成された64KビットMOSRA
Mにおいては、アドレスのアクセスタイムは30(nse
c)が限界であろう。
On the other hand, as the storage capacity of the semiconductor memory increases (especially 64 Kbits or more), the semiconductor chip area also increases, and the signal lines of the RAM address circuit are arranged over a long distance on the large area semiconductor chip. To be done. As the distance of the signal line of the address circuit becomes longer, the stray capacitance of this signal line naturally increases and the equivalent distributed resistance of this signal line also increases. When the wiring width of the signal line of the address circuit is reduced to 2 (μm) or less by improving the photolithography technique for miniaturization, the equivalent distributed resistance of the signal line further increases. In addition, since the fan-out of each circuit increases as the capacity increases, the load capacity due to the gate capacity of the next-stage MOS also increases. Therefore, 2 (μm)
64K-bit MOSRA with all address circuits configured by CMOS using the photolithography technology of
In M, the access time of the address is 30 (nse
c) will be the limit.

【0023】本発明は、ECL形のバイポーラRAMに
相当するアクセスタイムとスタティックMOSRAMに
相当する消費電力とを有する半導体メモリを開発するに
際し、本発明者によってなされたものである。
The present invention was made by the present inventor in developing a semiconductor memory having an access time equivalent to an ECL type bipolar RAM and a power consumption equivalent to a static MOS RAM.

【0024】本発明の目的は、高速度で、低消費電力の
半導体メモリを提供することにある。 本発明の前記な
らびにそのほかの目的と新規な特徴は、本明細書の記述
および添付図面からあきらかになるであろう。
It is an object of the present invention to provide a semiconductor memory with high speed and low power consumption. The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.

【0025】[0025]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
下記の通りである。
Of the inventions disclosed in the present application, a representative one will be briefly described below.
It is as follows.

【0026】CMOS回路とバイポーラトランジスタと
を組み合わせてなる内部回路と、外部端子に供給すべき
信号を形成する出力回路とを備えてなる半導体集積回路
の出力回路として、上記外部端子に信号を出力する出力
トランジスタと、上記出力トランジスタを駆動する駆動
部とを備え、上記出力トランジスタはCMOS構成の出
力MISFETからなり、上記駆動部に上記CMOS回
路により形成された出力すべき信号を電流増幅して上記
出力MISFETのゲート容量をチャージアップ又はデ
ィスチャージさせるバイポーラトランジスタを用いる。
CMOS circuit and bipolar transistor
Should be supplied to the internal circuit and the external terminal
Semiconductor integrated circuit comprising an output circuit for forming a signal
Output circuit that outputs signals to the above external terminals
Drive that drives the transistor and the output transistor
And the output transistor has a CMOS structure.
Power MISFET, and the above-mentioned CMOS circuit is provided to the above-mentioned drive unit.
The signal to be output formed by
Charge up or de-charge the gate capacitance of the output MISFET.
Use a bipolar transistor that is charged.

【0027】[0027]

【作用】大きなゲート容量を持つCMOS構成の出力M
ISFETをバイポーラトランジスタにより駆動するこ
とにより、高速動作で大きな信号振幅の出力信号を形成
することができる。
Operation: Output M of CMOS structure having large gate capacitance
Driving the ISFET with a bipolar transistor
Form an output signal with large signal amplitude at high speed
can do.

【0028】[0028]

【実施例】以下、本発明の実施例を図面に沿って説明す
る。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0029】図1には、記憶容量が64Kビットで、入
出力が1ビット単位で行なわれるスタティックRAMの
内部構成が示されている。破線ICで囲まれた各回路ブ
ロックは、半導体集積回路技術によって、1個のシリコ
ンチップに形成されている。本実施例のスタティックR
AMは、それぞれが16Kビット(=16384ビッ
ト)の記憶容量を持つ4つのマトリックス(メモリ・ア
レイM−ARY1〜M−ARY4)を有し、これにより
合計で64Kビット(=65536ビット)の記憶容量
を持つようにされている。4つのメモリ・アレイM−A
RY1〜M−ARY4は、互いに同様な構成にされてお
り、それぞれには、メモリ・セルが128列(ロウ)×
128行(カラム)に配置されている。
FIG. 1 shows the internal structure of a static RAM having a storage capacity of 64 Kbits and input / output in 1-bit units. Each circuit block surrounded by the broken line IC is formed on one silicon chip by the semiconductor integrated circuit technology. Static R of this embodiment
The AM has four matrices (memory arrays M-ARY1 to M-ARY4) each having a storage capacity of 16 Kbits (= 16384 bits), whereby a total storage capacity of 64 Kbits (= 65536 bits). Is to have. 4 memory arrays M-A
RY1 to M-ARY4 have the same configuration as each other, and each of them has 128 memory cells.
They are arranged in 128 rows (columns).

【0030】複数のメモリ・セルを有するメモリ・アレ
イから所望のメモリ・セルを選択するためのアドレス回
路は、アドレスバッファADB,ロウデコーダR−DC
R0,R−DCR1,R−DCR2,カラムデコーダC
−DCR1〜DCR4,カラムスイッチC−SW1〜C
−SW4等から構成されている。
An address circuit for selecting a desired memory cell from a memory array having a plurality of memory cells includes an address buffer ADB and a row decoder R-DC.
R0, R-DCR1, R-DCR2, column decoder C
-DCR1 to DCR4, column switches C-SW1 to C
-SW4 and the like.

【0031】情報の読出し・書込みを扱う信号回路は、
特に制限されないが、データ入力バッファDIB,デー
タ入力中間アンプDIIA1〜DIIA4,データ出力
バッファDOB,データ出力中間アンプDOIA,セン
スアンプSA1〜SA16から構成されている。
The signal circuit that handles reading and writing of information is
Although not particularly limited, it is composed of a data input buffer DIB, data input intermediate amplifiers DIIA1 to DIIA4, a data output buffer DOB, a data output intermediate amplifier DOIA, and sense amplifiers SA1 to SA16.

【0032】情報の読出し・書込み動作を制御するため
のタイミング回路は、特に制限されないが、内部制御信
号発生回路COM−GE,センスアンプ選択回路SAS
Cから構成されている。
The timing circuit for controlling the information read / write operation is not particularly limited, but the internal control signal generation circuit COM-GE, the sense amplifier selection circuit SAS.
It is composed of C.

【0033】ロウ系のアドレス選択線(ワード線WL1
1〜WL1128,WL21〜WL2128,WR11
〜WR1128,WR21〜WR2128)には、アド
レス信号A0〜A8に基づいて得られるデコード出力信号
がローデコーダR−DCR1,R−DCR2より送出さ
れる。上記アドレス信号A0〜A8のうち、アドレス信号
7,A8は、4つのメモリ・マトリックスM−ARY1
〜M−ARY4から1つのメモリ・マトリックスを選択
するために用いられる。
Row-related address selection line (word line WL1
1-WL1128, WL21-WL2128, WR11
~WR1128, WR21~WR2128 the) decoded output signal obtained based on the address signal A 0 to A 8 is sent from the row decoder R-DCR1, R-DCR2. Among the address signals A 0 to A 8 , the address signals A 7 and A 8 are four memory matrixes M-ARY1.
~ Used to select one memory matrix from M-ARY4.

【0034】アドレスバッファADBは、アドレス信号
0〜A15を受け、これにもとづいた内部相補アドレス
信号0 15 を形成する。なお、内部相補アドレス信
0 は、アドレス信号A0と同相の内部アドレス信号a
0と、アドレス信号A0に対して位相反転された内部アド
レス信号a0とによって構成されている。残りの内部相
補アドレス信号1 15 についても、同様に、内部ア
ドレス信号a1〜a15と内部アドレス信号a1〜a15とに
よって構成されている。
Address buffer ADB receives address signals A 0 to A 15 and forms internal complementary address signals a 0 to a 15 based on the received address signals A 0 to A 15 . The internal complementary address signal a 0 is the same as the internal address signal a 0 in phase with the address signal A 0.
0 and an internal address signal a 0 whose phase is inverted with respect to the address signal A 0 . The remaining interior complementary address signals a 1 ~ a 15 likewise is constituted by the internal address signals a 1 ~a 15 and the internal address signal a 1 ~a 15.

【0035】アドレスバッファADBによって形成され
た内部相補アドレス信号a0〜a15のうち、内部相補ア
ドレス信号a7,a8,a9〜a15は、カラムデコーダC
−DCR1〜C−DCR4に供給される。カラムデコー
ダC−DCR1〜C−DCR4は、これらの内部相補ア
ドレス信号を解読(デコード)し、このデコードによっ
て得られた選択信号(デコード出力信号)を、カラムス
イッチC−SW1〜C−SW4内のスイッチ用絶縁ゲー
ト型電界効果トランジスタ(以下、MISFETと称す
る) Q1001, Q1001, Q1128, Q1128, Q2001
2001,Q3001,Q3001,Q4001,Q4001,のゲート電
極に供給する。
Of the internal complementary address signals a 0 to a 15 formed by the address buffer ADB, the internal complementary address signals a 7 , a 8 and a 9 to a 15 are the column decoder C.
-DCR1 to C-DCR4 are supplied. The column decoders C-DCR1 to C-DCR4 decode (decode) these internal complementary address signals, and select signals (decode output signals) obtained by this decoding are stored in the column switches C-SW1 to C-SW4. Insulated gate field effect transistor for switch (hereinafter referred to as MISFET) Q 1001 , Q 1001 , Q 1128 , Q 1128 , Q 2001 ,
Supply to the gate electrodes of Q 2001 , Q 3001 , Q 3001 , Q 4001 , and Q 4001 .

【0036】ワード線WL11〜WL1128,WL21〜WL
2128,WR11〜WR1128,WR21〜WR2128のうち、外
部からのアドレス信号A0 〜A8 の組み合わせによって
指定された1本のワード線が上述したロウデコーダR−
DCR1,R−DCR2によって選択され、上述したカ
ラムデコーダC−DCR1〜C−DCR4及びカラムス
イッチC−SW1〜C−SW4とによって、外部からの
アドレス信号A7 ,A8 ,A9 〜A15の組み合わせによ
って指定された1対の相補データ線が複数の相補データ
線対D1001, 1001〜D1128, 1128, 2001, 2001
〜D2128, 2128, 3001, 3001〜D3128, 3128,
4001, 4001〜D4128, 4128のなかから選択され
る。これにより、選択されたワード線と選択された相補
データ線対との交点に位置されたメモリ・セルM−CE
Lが選択される。
Word lines WL 11 to WL 1128 , WL 21 to WL
Of the 2128 , WR 11 to WR 1128 , and WR 21 to WR 2128 , one word line designated by a combination of external address signals A 0 to A 8 is the row decoder R- mentioned above.
DCR1, selected by R-DCR2, by a column decoder C-DCR1~C-DCR4 and the column switch C-SW1~C-SW4 as described above, the address signal A 7, A 8, A 9 ~A 15 from the outside A pair of complementary data lines designated by the combination is a plurality of complementary data line pairs D 1001, D 1001 to D 1128, D 1128, D 2001, D 2001.
~ D 2128, D 2128, D 3001, D 3001 ~ D 3128, D 3128,
It is selected from D 4001, D 4001 to D 4128, D 4128 . As a result, the memory cell M-CE located at the intersection of the selected word line and the selected complementary data line pair.
L is selected.

【0037】読出し動作においては、スイッチ用MIS
FETQ1,Q1〜Q4,Q4,Q8,Q8,Q12,Q12,Q
16,Q16が、特に制限されないが、内部制御信号発生回
路COM−GEから出力された制御信号によりオフ状態
にされる。これにより、コモンデータ線CDL1,CD
1〜CDL4,CDL4と書込み信号入力中間アンプD
IIA1〜DIIA4とが電気的に分離される。選択さ
れたメモリ・セルの情報は、選択された相補データ線対
を介してコモンデータ線に伝えられる。コモンデータ線
に伝えられたメモリ・セルの情報は、センスアンプによ
りセンスされ、データ出力中間アンプDOIA及びデー
タ出力バッファDOBを介して外部に出力される。
In the read operation, the switch MIS
FETQ 1, Q 1 ~Q 4, Q 4, Q 8, Q 8, Q 12, Q 12, Q
Although not particularly limited, 16 and Q 16 are turned off by the control signal output from the internal control signal generation circuit COM-GE. As a result, the common data lines CDL 1 , CD
L 1 to CDL 4 , CDL 4 and write signal input intermediate amplifier D
IIA1 to DIIA4 are electrically separated. The information of the selected memory cell is transmitted to the common data line via the selected complementary data line pair. The information of the memory cell transmitted to the common data line is sensed by the sense amplifier and output to the outside via the data output intermediate amplifier DOIA and the data output buffer DOB.

【0038】なお、本実施例では、センスアンプが16
個設けられているが、これらのセンスアンプSA1〜S
A16のうち、1つのセンスアンプ、すなわちその入力
端子がコモンデータ線を介して選択された相補データ線
対に結合されたセンスアンプがセンスアンプ選択回路S
ASCからのセンスアンプ選択信号により選択されて、
センス動作を実行する。
In this embodiment, the sense amplifier is 16
Although provided individually, these sense amplifiers SA1 to S1
Among A16, one sense amplifier, that is, the sense amplifier whose input terminal is coupled to the complementary data line pair selected via the common data line is the sense amplifier selection circuit S.
Selected by the sense amplifier selection signal from ASC,
Perform a sense operation.

【0039】書込み動作においては、スイッチMISF
ETQ1,Q1〜Q4,Q4,Q8,Q8,Q12,Q12
16,Q16が内部制御信号発生回路COM−GEからの
制御信号によってオン状態にされる。アドレス信号A7
〜A15に従って、例えば、カラムデコーダC−DCR1
がスイッチ用MISFETQ1001,Q1001をオン状態に
した場合、データ入力中間アンプDIIA1の出力信号
は、コモンデータ線対CDL1,CDL1,MISFE
TQ1,Q1,Q1001,Q1001を介して相補データ線対D
1001,D1001に伝えられる。このとき、ロウデコーダR
−DCR1によってワード線WL11が選択されていれ
ば、 このワード線WL11 と相補データ線D1001,D
1001との交点に設けられたメモリ・セルにデータ入力中
間アンプDIIA1の出力信号に応じた情報が書き込ま
れる。
In the write operation, the switch MISF
ETQ 1 , Q 1 to Q 4 , Q 4 , Q 8 , Q 8 , Q 12 , Q 12 ,
Q 16 and Q 16 are turned on by the control signal from the internal control signal generation circuit COM-GE. Address signal A 7
According to A 15, for example, a column decoder C-DCR1
If There was a switch MISFET Q 1001, Q 1001 to the on state, the output signal of the data input intermediate amplifier DIIA1 is common data line pair CDL1, CDL1, MISFET
Complementary data line pair D via TQ 1 , Q 1 , Q 1001 , Q 1001
Passed to 1001 , D 1001 . At this time, the row decoder R
If the word line WL11 is selected by -DCR1, this word line WL11 complementary data lines D 1001, D
Information corresponding to the output signal of the data input intermediate amplifier DIIA1 is written in the memory cell provided at the intersection with 1001 .

【0040】コモンデータ線対CDL1,CDL1は、
特に制限されないが、本実施例においては、4組のコモ
ンデータ線対(サブコモンデータ線対)により構成され
ている。同図には、これら4組のコモンデータ線対のう
ち、2組のコモンデータ線対が示されている。残りの2
組のコモンデータ線対も、図示されているコモンデータ
線対と同様に、それぞれスイッチ用MISFETQ2
2,Q3,Q3を介してデータ入力中間アンプDIIA
1に結合されるようにされている。この4組のコモンデ
ータ線対のそれぞれには、1個のセンスアンプの入力端
子と、32組のスイッチ用MISFETの一方の入出力
電極が結合されている。すなわち、第1のコモンデータ
線対には、センスアンプSA1の入力端子と、スイッチ
用MISFETQ1001,Q1001〜Q1032,Q1032の入出
力端子が結合され、第2のコモンデータ線対には、 セ
ンスアンプSA2の入力端子と、 スイッチ用MISF
ETQ1033,Q1033〜Q1064,Q1064の入出力端子が結
合され、第3のコモンデータ線対には、センスアンプS
A3の入力端子と、スイッチ用MISFETQ1065,Q
1065〜Q1096,Q1096の入出力端子が結合され、第4の
コモンデータ線対には、センスアンプSA4の入力端子
と、スイッチ用MISFETQ1097,Q1097〜Q1128
1128の入出力端子が結合されている。書込み動作にお
いては、これら4組のコモンデータ線対は、スイッチ用
MISFETQ1,Q1〜Q4,Q4を介して互いに電気的
に結合されるが、読出し動作においては、互いに電気的
に分離される。これにより、読出し動作のとき、センス
アンプの入力端子に結合される浮遊容量を減らすことが
可能であり、読出し動作の高速化を図ることができる。
なお、読出し動作においては、スイッチ用MISFET
を介して選択されたメモリ・セルからの情報が伝えられ
たサブコモンデータ線対に、その入力端子が結合された
ところのセンスアンプのみが選択されて、センス動作を
実行するようにされている。他のコモンデータ線対CD
L2,CDL2〜CDL4,CDL4についても、上述
したコモンデータ線対CDL1,CDL1と同様な構成
にされている。
The common data line pair CDL1, CDL1 is
Although not particularly limited, in the present embodiment, it is composed of four sets of common data line pairs (sub-common data line pairs). In this figure, two sets of common data line pairs are shown among these four sets of common data line pairs. 2 remaining
Similarly to the common data line pair shown in the figure, the pair of common data line pairs respectively have switch MISFETs Q 2 ,
Data input intermediate amplifier DIIA via Q 2 , Q 3 and Q 3
It is designed to be combined with 1. An input terminal of one sense amplifier and one input / output electrode of 32 sets of switch MISFETs are coupled to each of the four sets of common data line pairs. That is, the first common data line pair, an input terminal of the sense amplifier SA1, the input and output terminals of the switch MISFETQ 1001, Q 1001 ~Q 1032, Q 1032 is coupled to the second common data line pair , The input terminal of the sense amplifier SA2 and the switch MISF
The input / output terminals of ETQ 1033 , Q 1033 to Q 1064 , Q 1064 are coupled, and the sense amplifier S is connected to the third common data line pair.
A3 input terminal and switch MISFETs Q 1065 , Q
1065 to Q 1096, coupled input and output terminals of Q 1096, the fourth common data line pair includes an input terminal of the sense amplifier SA4, switch MISFETQ 1097, Q 1097 ~Q 1128,
The input / output terminals of Q 1128 are connected. In the write operation, these four common data line pairs are electrically coupled to each other through the switch MISFETs Q 1 , Q 1 to Q 4 , Q 4 , but in the read operation, they are electrically isolated from each other. To be done. As a result, it is possible to reduce the stray capacitance coupled to the input terminal of the sense amplifier during the read operation, and to speed up the read operation.
In the read operation, switch MISFET
Only the sense amplifier whose input terminal is coupled to the sub-common data line pair to which the information from the selected memory cell is transmitted via is selected to execute the sensing operation. . Other common data line pair CD
The L2, CDL2 to CDL4, and CDL4 have the same configuration as the above-mentioned common data line pair CDL1 and CDL1.

【0041】なお、本実施例では、スイッチ用MISF
ETQ1,Q1〜Q4,Q4,Q8,Q8,Q12,Q12
16,Q16に共通の制御信号WECSが供給されるよう
にされているが、各スイッチ用MISFETにカラムで
コーダからの選択信号を供給するようにしてもよい。こ
のようにすれば、書込み動作において、データ入力中間
アンプの負荷容量を減らすことが可能であり、書込み動
作の高速化を図ることが可能となる。
In the present embodiment, the switch MISF is used.
ETQ 1 , Q 1 to Q 4 , Q 4 , Q 8 , Q 8 , Q 12 , Q 12 ,
Although a common control signal WECS is supplied to Q 16 and Q 16 , a selection signal from a coder may be supplied to each switch MISFET in a column. With this configuration, it is possible to reduce the load capacitance of the data input intermediate amplifier in the write operation, and it is possible to speed up the write operation.

【0042】内部制御信号発生回路COM−GEは、2
つの外部制御信号すなわちCS(チップセレクト信
号),WE(ライトイネーブル信号)を受けて、複数の
制御信号CS1,CS2,CS3,WECS,WECS,
DOC等を発生する。
The internal control signal generation circuit COM-GE has 2
In response to the two external control signals CS (chip select signal) and WE (write enable signal), a plurality of control signals CS 1 , CS 2 , CS 3 , WECS, WECS,
DOC etc. are generated.

【0043】センスアンプ選択回路SASCは、チップ
セレクト信号CSと、内部相補アドレス信号7 15
を受けて、上述したセンスアンプ選択信号と、内部チッ
プセレクト信号CS,CSを形成する。
The sense amplifier selection circuit SASC includes a chip select signal CS and internal complementary address signals a 7 to a 15.
In response, the above-described sense amplifier selection signal and internal chip select signals CS, CS are formed.

【0044】図2は、図1のアドレスバッファADB,
ロウデコーダR−DCR0,R−DCR1,R−DCR
2をさらに詳細に示すブロックダイアグラムである。
FIG. 2 shows the address buffer ADB of FIG.
Row decoder R-DCR0, R-DCR1, R-DCR
2 is a block diagram showing 2 in more detail.

【0045】図2において、出力側が黒くマークされた
論理シンボルの回路は出力信号線を充電および放電する
出力トランジスタがバイポーラ・トランジスタにより構
成され、反転,非反転,NAND,NOR等の論理処理
用トランジスタがCMOSにより構成された準CMOS
回路であり、通常の論理シンボルの回路は純CMOS回
路である。
In FIG. 2, in the circuit of the logic symbol whose output side is marked black, the output transistor for charging and discharging the output signal line is composed of a bipolar transistor, and a transistor for logic processing such as inversion, non-inversion, NAND and NOR. Quasi-CMOS with CMOS
A circuit, and a circuit of a normal logic symbol is a pure CMOS circuit.

【0046】図2に示すようにアドレスバッファADB
には、外部からTTLレベルのアドレス信号A0〜A3
その入力に受け、非反転出力a0〜a3と反転出力a0
3を相補出力信号線に送出するための非反転・反転回
路G0〜G3が配置されている。この非反転・反転回路G
0〜G3は図4に示す如き準CMOS回路により構成され
ている。
As shown in FIG. 2, the address buffer ADB
Receives TTL level address signals A 0 to A 3 from the outside at their inputs, and outputs non-inverted outputs a 0 to a 3 and inverted outputs a 0 to
Non-inversion / inversion circuits G 0 to G 3 for transmitting a 3 to the complementary output signal line are arranged. This non-inverting / inverting circuit G
0 to G 3 are composed of a quasi-CMOS circuit as shown in FIG.

【0047】図4において、Q40,Q42,Q44,Q46
50,Q52,Q53はNチャンネルのMISFETであ
り、Q41,Q42,Q43,Q49はPチャンネルのMISF
ETであり、Q47,Q48,Q51,Q54はNPNバイポー
ラ・トランジスタである。
In FIG. 4, Q 40 , Q 42 , Q 44 , Q 46 ,
Q 50 , Q 52 , and Q 53 are N-channel MISFETs, and Q 41 , Q 42 , Q 43 , and Q 49 are P-channel MISF.
ET, and Q 47 , Q 48 , Q 51 , and Q 54 are NPN bipolar transistors.

【0048】抵抗R40とMISFETQ40とは、入力端
子に印加される外部サージ電圧からMISFETQ41
42のゲート絶縁膜を保護するためのゲート保護回路を
構成する。
The resistor R 40 and MISFET Q 40 are connected to the MISFET Q 41 , MISFET Q 41 , from the external surge voltage applied to the input terminal.
A gate protection circuit for protecting the gate insulating film of Q 42 is constructed.

【0049】Q41,Q42,Q43,Q44は2段カスケード
接続されたCMOSインバータを構成するため、ノード
1の信号と同相の信号がノードN3に伝達される。
[0049] For Q 41, Q 42, Q 43 , Q 44 is composing the two-stage cascaded CMOS inverters, signal and phase signal of the node N 1 is transmitted to the node N 3.

【0050】Q45,Q46もCMOSインバータを構成す
るため、ノードN3と逆相の信号がノードN4に伝達され
る。
Since Q 45 and Q 46 also form a CMOS inverter, a signal having a phase opposite to that of the node N 3 is transmitted to the node N 4 .

【0051】Q47は出力端子OUTの容量性負荷C41
充電用出力トランジスタで、Q48は容量性負荷C41の放
電用出力トランジスタである。
Q 47 is an output transistor for charging the capacitive load C 41 of the output terminal OUT, and Q 48 is an output transistor for discharging the capacitive load C 41 .

【0052】Q49,Q50もCMOSインバータを構成す
るため、ノードN3と逆相の信号がノードN5に伝達され
る。
[0052] Q 49, Q 50 also for forming a CMOS inverter, the signal at the node N 3 and opposite phases are transmitted to node N 5.

【0053】Q52はノードN3の信号によりオンし、出
力端子OUTの容量性負荷C42の放電用トランジスタQ
54にベース電流を与えるためのソースフォロワMISF
ETであり、Q53はソースフォロワMISFETQ52
負荷として動作するばかりではなくQ54のベース蓄積電
荷を放電するためのスイッチ用MISFETとしても動
作する。
Q 52 is turned on by the signal of the node N 3 , and the discharging transistor Q of the capacitive load C 42 at the output terminal OUT is turned on.
Source follower MISF for giving base current to 54
ET, Q 53 operates not only as a load of the source follower MISFET Q 52 but also as a switch MISFET for discharging the base accumulated charge of Q 54 .

【0054】Q48が飽和領域で駆動されることを防止す
るため、MISFETQ45のソースが電源VCCではなく
48のコレクタに接続され、同様にQ54が飽和領域で駆
動されることを防止するため、MISFETQ52のドレ
インが電源VCCではなくQ54のコレクタに接続されてい
る点も、改良上の大きな特徴である。
To prevent Q 48 from being driven in the saturation region, the source of MISFET Q 45 is connected to the collector of Q 48 instead of the power supply V CC , and similarly, Q 54 is prevented from being driven in the saturation region. Therefore, the point that the drain of the MISFET Q 52 is connected to the collector of Q 54 instead of the power source V CC is also a great feature of the improvement.

【0055】従って、図4の非反転・反転回路におい
て、入力端子INにハイレベルの信号が印加されると、
ノードN3はハイレベル、ノードN4とノードN5とはロ
ーレベルとなり、 Q47のベースには、Q43を介してベ
ース電流が供給されるため、Q4 7がオンされる。出力端
子OUTがハイレベルにあると、Q52がオンするため、
このQ52を介してQ54にベース電流が供給される。この
とき、Q46,Q50は、ノードN3がハイレベルであるた
め、オンしている。そのためQ45,Q54は、そのベース
蓄積電荷が、Q46,Q50を介して放電されるため、オフ
となる。よって、容量性負荷C41は、低出力インピーダ
ンスのバイポーラ出力トランジスタQ47により高速に充
電され、容量性負荷C42は低出力インピーダンスのバイ
ポーラ出力トランジスタQ54により高速に放電される。
容量性負荷C41の充電が終了すると、Q47のコレクタ・
エミッタ経路に電流が流れなくなり、容量性負荷C42
放電が終了すると、Q52のドレイン・ソース経路とQ54
のコレクタ・エミッタ経路とに電流が流れなくなる。
Therefore, in the non-inverting / inverting circuit of FIG. 4, when a high level signal is applied to the input terminal IN,
Node N 3 becomes the low level to the high level, the node N 4 and the node N 5, the base of Q 47, since the base current is supplied via the Q 43, Q 4 7 is turned on. Since the output terminal OUT to be in a high level, Q 52 are turned on,
A base current is supplied to Q 54 via this Q 52 . At this time, Q 46 and Q 50 are on because the node N 3 is at high level. Therefore, Q 45 and Q 54 are turned off because their base accumulated charges are discharged via Q 46 and Q 50 . Therefore, the capacitive load C 41 is quickly charged by the low output impedance bipolar output transistor Q 47 , and the capacitive load C 42 is quickly discharged by the low output impedance bipolar output transistor Q 54 .
When the charging of the capacitive load C 41 is completed, the collector of Q 47
When the current stops flowing in the emitter path and the discharge of the capacitive load C 42 ends, the drain / source path of Q 52 and the Q 54
No current flows through the collector-emitter path of the.

【0056】図4の非反転・反転回路の入力端子INに
ローレベルの信号が印加されると、Q47とQ54がオフと
なり、Q48とQ51とがオンとなるため、容量性負荷C41
が高速で放電され、容量性負荷C42が高速で充電され
る。この時、ノードN5はハイレベルとなるため、MI
SFETQ53がオンとなる。従って、Q54のベース蓄積
電荷はQ53を介して接地電位点に高速で放電されるた
め、Q54のターンオフ速度が向上される。容量性負荷C
41の放電が終了すると、Q45のドレイン・ソース経路と
48のコレクタ・エミッタ経路とに電流が流れなくな
り、容量性負荷C42の充電が終了すると、Q51のコレク
タ・エミッタ経路に電流が流れなくなる。
When a low-level signal is applied to the input terminal IN of the non-inverting / inverting circuit of FIG. 4, Q 47 and Q 54 are turned off and Q 48 and Q 51 are turned on, so that a capacitive load is applied. C 41
Are discharged at high speed and the capacitive load C 42 is charged at high speed. At this time, the node N 5 becomes high level, so that MI
SFET Q 53 turns on. Therefore, the charge accumulated in the base of Q 54 is discharged to the ground potential point at a high speed via Q 53, and the turn-off speed of Q 54 is improved. Capacitive load C
When the discharge of 41 ends, no current flows in the drain-source path of Q 45 and the collector-emitter path of Q 48 , and when the charging of the capacitive load C 42 ends, current flows in the collector-emitter path of Q 51. It stops flowing.

【0057】万一、容量性負荷C41,C42の充電と放電
とがバイポーラトランジスタQ47,Q48,Q51,Q54
より実効されるのではなく、MISFETにより実効さ
れる場合は、MISFETのオン抵抗はバイポーラ・ト
ランジスタのオン抵抗と比較すると極めて大きな値とな
るため、充電・放電は低速度でしか実行できない。
If the charging and discharging of the capacitive loads C 41 and C 42 are not performed by the bipolar transistors Q 47 , Q 48 , Q 51 and Q 54 but by the MISFET, then the MISFET Since the on resistance of is extremely large compared to the on resistance of the bipolar transistor, charging / discharging can be executed only at a low speed.

【0058】これに対し、図2の実施例のアドレスバッ
ファにおいては、内部アドレス信号a0,a0〜a3,a3
をその出力信号線に送出する非反転・反転回路G0〜G3
の出力トランジスタは、図4に示すようにバイポーラ・
トランジスタにより構成されているため、非反転・反転
回路G0〜G3の出力信号線が半導体チップ表面上で長距
離にわたり配置されるとしても、非反転・反転回路G0
〜G3を高速度で動作させることが可能となる。
On the other hand, in the address buffer of the embodiment shown in FIG. 2, internal address signals a 0 , a 0 to a 3 , a 3 are inputted.
To the output signal line of the non-inverting / inverting circuit G 0 to G 3
The output transistor of the bipolar
Because it is a transistor, as an output signal line of the non-inverting-inverting circuit G 0 ~G 3 it is placed over long distances on a semiconductor chip surface, a non-inverting-inverting circuit G 0
It becomes possible to operate ~ G 3 at a high speed.

【0059】図2のロウデコーダR−DCR0はアドレ
ス回路のプリデコーダとして動作する。このロウデコー
ダR−DCR0は、アドレスバッファADBから得られ
た内部アドレス信号a0,a0〜a3,a3 が印加される
3入力NAND回路G15〜G2 3,G24〜G31,G40〜G
47及びチットプセレクト信号CSと3入力NAND回路
24〜G31の出力信号とが印加される2入力NOR回路
32〜G39により構成されている。
The row decoder R-DCR0 of FIG. 2 operates as a predecoder of the address circuit. The row decoder R-DCR0 internal address signal a 0 obtained from the address buffer ADB, a 0 ~a 3, a 3 3 is applied input NAND circuit G 15 ~G 2 3, G 24 ~G 31, G 40 ~ G
47 and a chip select signal CS and 2-input NOR circuits G 32 to G 39 to which the output signals of the 3-input NAND circuits G 24 to G 31 are applied.

【0060】プリデコーダとしてのロウデコーダR−D
CR0の出力信号線(すなわち3入力NAND回路G16
〜G23,G40〜G47の出力信号線と2入力NOR回路G
32〜G39の出力信号線)は、図2に示すように、アドレ
ス回路のデコーダ・ドライバとしてのロウデコーダR−
DCR1及びロウデコーダR−DCR2の内部で、たて
方向に長距離にわたって配置される。
Row decoder RD as a predecoder
Output signal line of CR0 (that is, 3-input NAND circuit G 16
To G 23 , G 40 to G 47 output signal lines and 2-input NOR circuit G
The output signal lines 32 to G 39 ) are connected to the row decoder R- as the decoder / driver of the address circuit as shown in FIG.
Inside the DCR1 and the row decoder R-DCR2, they are arranged over a long distance in the vertical direction.

【0061】第2図のロウデコーダR−DCR0中の3
入力NAND回路G16〜G23,G24〜G31,G40〜G47
は、図5に示す如き準CMOS回路によって構成されて
いる。 図5の準CMOS・3入力NAND回路は、P
チャンネルMISFETQ55〜Q57NチャンネルMIS
FETQ58〜Q61により構成された入力論理処理部と、
NPNバイポーラ出力トランジスタQ62,Q63により構
成された出力部とを含む。MISFETQ61はQ63のベ
ース蓄積電荷を放電するためのスイッチ用MISFET
として動作する。
3 in the row decoder R-DCR0 shown in FIG.
Input NAND circuit G 16 ~G 23, G 24 ~G 31, G 40 ~G 47
Is composed of a quasi-CMOS circuit as shown in FIG. The quasi-CMOS 3-input NAND circuit of FIG.
Channel MISFET Q 55 to Q 57 N channel MIS
An input logic processing section composed of FETs Q 58 to Q 61 ;
And an output section constituted by NPN bipolar output transistors Q 62 and Q 63 . MISFET Q 61 is a switch MISFET for discharging the base accumulated charge of Q 63.
To work as.

【0062】3つの入力端子IN1〜IN3の全てにハイ
レベルの入力信号が印加されると、Q55〜Q57がオフと
なり、Q58〜Q60がオンとなり、ノードN7はローレベ
ルとなり、Q61はオフとなる。すると、出力部では、Q
62はオフとなり、出力端子OUTがハイレベルにあると
きはQ58〜Q60を介してQ63にベース電流が供給され、
63がオンとなる。出力端子OUTの容量性負荷C43
電荷は、Q63のコレクタ・エミッタ径路を介して接地電
位点に高速で放電されるとともに、容量性負荷C43,ダ
イオードQ64,MISFETQ58〜Q60,Q63のベース
・エミッタ接合のルートにも放電電流が流れる。この時
のダイオードQ64の両端の間の電圧降下によって、Q62
は確実にオフに制御される。
When a high level input signal is applied to all three input terminals IN 1 to IN 3 , Q 55 to Q 57 are turned off, Q 58 to Q 60 are turned on, and the node N 7 is at low level. And Q 61 is turned off. Then, in the output section, Q
When 62 is turned off and the output terminal OUT is at the high level, the base current is supplied to Q 63 via Q 58 to Q 60 ,
Q 63 turns on. The electric charge of the capacitive load C 43 at the output terminal OUT is discharged at high speed to the ground potential point through the collector-emitter path of Q 63 , and the capacitive load C 43 , the diode Q 64 , and the MISFETs Q 58 to Q 60 , Discharge current also flows through the base-emitter junction route of Q 63 . Due to the voltage drop across diode Q 64 at this time, Q 62
Is reliably controlled off.

【0063】3つの入力端子IN1〜IN3の少なくとも
いずれかひとつにローレベルの入力信号が印加される
と、ノードN7はハイレベルとなり、Q62はオンとなっ
て、容量性負荷C43はQ62のコレクタ・エミッタ径路を
介して高速で充電される。ノードN7がハイレベルとな
ることにより、Q61のベース蓄積電荷がQ61のドレイン
・ソース経路を介して高速で放電され、Q63のターンオ
フ速度を向上することができる。
When a low level input signal is applied to at least one of the three input terminals IN 1 to IN 3 , the node N 7 becomes high level, Q 62 is turned on, and the capacitive load C 43 is turned on. Is charged at a high rate through the collector-emitter path of Q 62 . By node N 7 is at high level, the base charges accumulated in Q 61 is discharged at high speed through the drain-source path of Q 61, it is possible to improve the turn-off speed of Q 63.

【0064】このように図5の準CMOS・3入力NA
ND回路の出力部はバイポーラ・トランジスタQ62,Q
63により構成されているため、容量性負荷C43の充電・
放電が高速度で実行される。
Thus, the quasi-CMOS 3-input NA of FIG.
The output of the ND circuit is a bipolar transistor Q 62 , Q
Since it is composed of 63 , charging of the capacitive load C 43
The discharge is performed at high speed.

【0065】なお、図2のロウデコーダR−DCR0中
の3入力NAND回路G24〜G31は、その出力が短距離
で2入力NOR回路G32〜G39の入力に接続されている
ため、図6に示す如き純CMOS回路によって構成して
もよい。
Since the outputs of the 3-input NAND circuits G 24 to G 31 in the row decoder R-DCR 0 of FIG. 2 are connected to the inputs of the 2-input NOR circuits G 32 to G 39 over a short distance, You may comprise with the pure CMOS circuit as shown in FIG.

【0066】図6の純CMOS・3入力NAND回路は
PチャンネルMISFETQ64〜Q66NチャンネルMI
SFETQ67〜Q69により構成されている。上述したよ
うに出力端子OUTからの信号線の距離が短いため、
出力端子OUTの浮遊容量C4 4の容量値は小さい。
The pure CMOS 3-input NAND circuit of FIG. 6 is a P channel MISFET Q 64 to Q 66 N channel MI.
It is composed of SFETs Q 67 to Q 69 . Since the distance of the signal line from the output terminal OUT is short as described above,
Capacitance value of the stray capacitance C 4 4 of the output terminal OUT is small.

【0067】従って、この小さな浮遊容量C44の充電・
放電をオン抵抗の比較的大きなMISFETQ64
66,Q67〜Q69により実行しても、比較的高速度で実
行できる。 図2のロウデコーダR−DCR0中の2入
力NOR回路G32〜G39は、図7に示す如き準CMOS
回路によって構成されている。
Therefore, charging of this small stray capacitance C 44
Discharge has a relatively large on-resistance MISFET Q 64 ~
Be performed by Q 66, Q 67 ~Q 69, can be run at relatively high speeds. The 2-input NOR circuits G 32 to G 39 in the row decoder R-DCR0 shown in FIG. 2 are quasi CMOS as shown in FIG.
It is composed of a circuit.

【0068】図7の準CMOS・2入力NOR回路は、
PチャンネルMISFETQ70,Q 71,NチャンネルM
ISFETQ72〜Q74により構成された入力論理処理部
と、NPNバイポーラ出力トランジスタQ75,Q76によ
り構成された出力部とを含む。MISFETQ74は、Q
76のベース蓄積電荷を放電するためのスイッチ用MIS
FETとして動作する。
The quasi-CMOS 2-input NOR circuit shown in FIG.
P channel MISFETQ70, Q 71, N channel M
ISFETQ72~ Q74An input logic processing unit configured by
And NPN bipolar output transistor Q75, Q76By
And an output unit configured as a unit. MISFETQ74Is Q
76Switch MIS for discharging base accumulated charge
Operates as a FET.

【0069】2つの入力端子IN1,IN2の全てにロー
レベルの入力信号が印加されると、Q70,Q71がオン、
72,Q73がオフとなり、ノードN9はハイレベルとな
る。するとQ75がオンとなって、出力端子OUTの容量
性負荷C45はQ75のコレクタ・エミッタ経路を介して高
速で充電される。ノードN9がハイレベルとなることに
より、Q74がオンとなり、Q76のベース蓄積電荷がQ74
のドレイン・ソース経路を介して高速で放電され、Q76
のターンオフ速度を向上することができる。
When a low level input signal is applied to all of the two input terminals IN 1 and IN 2 , Q 70 and Q 71 are turned on,
Q 72, Q 73 are turned off, the node N 9 becomes a high level. Then, Q 75 is turned on, and the capacitive load C 45 at the output terminal OUT is charged at high speed via the collector-emitter path of Q 75 . When the node N 9 becomes high level, Q 74 is turned on, and the base accumulated charge of Q 76 is Q 74.
Is discharged at high speed through the drain-source path, Q 76
The turn-off speed of can be improved.

【0070】2つの入力端子の少なくともいずれか一
方、例えば入力端子IN1にハイレベルの入力信号が印
加されると、Q70がオフ、Q72がオンとなり、ノードN
9はローレベルとなる。すると出力部ではQ75がオフと
なり、出力端子OUTがハイレベルにあると、Q72,Q
77を介してQ76にベース電流が供給され、Q76がオンと
なる。出力端子OUTの容量性負荷C45の電荷はQ76
コレクタ・エミッタ経路を介して高速で放電されるとと
もに、容量性負荷C45,ダイオードQ77,MISFET
72のドレイン・ソース径路,Q76のベース・エミッタ
接合のルートにも放電電流が流れる。 この時のダイオ
ードQ77の両端の間の電圧降下によって、Q75は確実に
オフに制御される。
When a high-level input signal is applied to at least one of the two input terminals, for example, the input terminal IN 1 , Q 70 is turned off and Q 72 is turned on, and the node N
9 is low level. Then, Q 75 is turned off at the output section, and when the output terminal OUT is at a high level, Q 72 , Q
The base current is supplied to Q 76 via 77 , and Q 76 is turned on. The electric charge of the capacitive load C 45 at the output terminal OUT is discharged at high speed through the collector-emitter path of Q 76 , and the capacitive load C 45 , the diode Q 77 and the MISFET are discharged.
The drain-source path of Q 72, also a discharge current flows in the route of the base-emitter junction of Q 76. The voltage drop across diode Q 77 at this time ensures that Q 75 is off.

【0071】図2のロウデコーダR−DCR1,R−D
CR2はアドレス回路のデコーダ・ドライバとして動作
する。このロウデコーダR−DCR1は、ロウデコーダ
R−DCR0の出力信号を受ける2入力NOR回路
48,この2入力NOR回路G43の出力信号とロウデコ
ーダR−DCR0の出力信号を受ける2入力NAND回
路G49〜G56,これら2入力NAND回路G49〜G56
出力信号を受けるインバータG57〜G64とを含む。
The row decoders R-DCR1 and RD shown in FIG.
CR2 operates as a decoder driver of the address circuit. The row decoder R-DCR1 the row decoder R-DCR0 2-input NOR circuit G 48 which receives the output signal of 2-input NAND circuit which receives the output signals of the row decoder R-DCR0 the 2-input NOR circuit G 43 G 49 to G 56 , and inverters G 57 to G 64 for receiving the output signals of these 2-input NAND circuits G 49 to G 56 .

【0072】2入力NOR回路G48の出力と2入力NA
ND回路G49〜G56の入力との間の信号線の距離は長
く、これらの信号線浮遊容量値は大きい。従って、この
2入力NOR回路G48は、図7に示す如き準CMOS回
路によって構成されている。
Output of 2-input NOR circuit G 48 and 2-input NA
The distance of the signal lines from the inputs of the ND circuits G 49 to G 56 is long, and the stray capacitance value of these signal lines is large. Therefore, the 2-input NOR circuit G 48 is composed of a quasi-CMOS circuit as shown in FIG.

【0073】図2のロウデコーダR−DCR1中の2入
力NAND回路G49〜G56は、その出力が短距離でイン
バータG57〜G64の入力に接続されているため、図9に
示す如き純CMOS回路によって構成されている。
Since the outputs of the two-input NAND circuits G 49 to G 56 in the row decoder R-DCR 1 shown in FIG. 2 are connected to the inputs of the inverters G 57 to G 64 over a short distance, as shown in FIG. It is composed of a pure CMOS circuit.

【0074】図9の純CMOS・2入力NAND回路は
PチャンネルMISFETQ82,Q83NチャンネルMI
SFETQ84,Q85によって構成されている。上述した
ように出力端子OUTからの信号線の距離が短いため、
出力端子OUTの浮遊容量C47の容量値は小さい。
The pure CMOS 2-input NAND circuit shown in FIG. 9 is a P channel MISFET Q 82 , Q 83 N channel MI.
It is composed of SFETs Q 84 and Q 85 . Since the distance of the signal line from the output terminal OUT is short as described above,
The stray capacitance C 47 of the output terminal OUT has a small capacitance value.

【0075】従って、この小さな浮遊容量C47の充電・
放電をオン抵抗の比較的大きなMISFETQ82
83,Q84,Q85により実行しても、小さな浮遊容量C
47の充電・放電が高速度で実行される。
Therefore, charging of this small stray capacitance C 47
MISFET Q 82 with a relatively large on-state discharge
It is executed by the Q 83, Q 84, Q 85 , a small stray capacitance C
47 charge / discharge is executed at high speed.

【0076】図2のロウデコーダR−DCR1中のイン
バータG57〜G64の出力は、メモリ・アレイM−ARY
1のワード線WL11〜WL18に接続されている。従っ
て、デコーダ・ドライバとしてのロウデコーダR−DC
R1の出力信号線(すなわちインバータG57〜G64の出
力信号線)は、ワード線WL11〜WL18としてメモリ・
アレイM−ARY1の内部で横方向に長距離にわたって
配置されるため、このワード線WL11〜WL18の浮遊容
量は極めて大きなものとなる。
The outputs of the inverters G 57 to G 64 in the row decoder R-DCR1 of FIG. 2 are the memory array M-ARY.
It is connected to one word line WL 11 to WL 18 . Therefore, the row decoder R-DC as a decoder driver
R1 of the output signal line (i.e. the output signal line of the inverter G 57 ~G 64), the memory as a word line WL 11 to WL 18
For placement over a long distance in the lateral direction within the array M-ARY1, stray capacitance of the word line WL 11 to WL 18 is extremely large.

【0077】かくして、図2のロウデコーダR−DCR
1中のインバータG57〜G64は、図10に示す如き準C
MOS回路によって構成されている。
Thus, the row decoder R-DCR shown in FIG.
The inverters G 57 to G 64 in No. 1 are quasi-C as shown in FIG.
It is composed of a MOS circuit.

【0078】図10の準CMOS・インバータは、Pチ
ャンネルMISFETQ86,NチャンネルMISFET
87〜Q89,NPNバイボーラ出力トランジスタQ90
9 1により構成されている。この準CMOS・インバー
タの動作は、図4の非反転・反転回路の反転出力OUT
を得るQ49〜Q54回路の動作と同一であるため、その詳
細な説明を省略するが、NPNバイボーラ出力トランジ
スタQ90,Q91により大きな浮遊容量C48の充電・放電
が高速度で実行される。
The quasi-CMOS inverter shown in FIG. 10 has a P-channel MISFET Q 86 and an N-channel MISFET.
Q 87 to Q 89 , NPN bipolar driver output transistor Q 90 ,
It is constituted by Q 9 1. The operation of this quasi-CMOS inverter is the inverting output OUT of the non-inverting / inverting circuit of FIG.
Since the operation of the Q 49 to Q 54 circuit is the same as that of the Q 49 to Q 54 circuit, detailed description thereof will be omitted. However, the large stray capacitance C 48 is charged and discharged at high speed by the NPN bipolar output transistors Q 90 and Q 91. It

【0079】図2において、ロウデコーダD−DCR2
は、上述のR−DCR1と同様に構成される。
In FIG. 2, the row decoder D-DCR2
Is configured in the same manner as R-DCR1 described above.

【0080】図3は、図1のアドレスバッファADB,
カラムデコーダC−DCR1等をさらに詳細に示すブロ
ックダイアグラムである。
FIG. 3 shows the address buffer ADB of FIG.
6 is a block diagram showing the column decoder C-DCR1 and the like in more detail.

【0081】図3においても、出力側が黒くマークされ
た論理シンボルの回路は出力信号線の浮遊容量を充電お
よび放電する出力トランジスタがバイポーラ・トランジ
スタにより構成され、反転,非反転,NAND,NOR
等の論理処理がCMOS回路により実行される準CMO
S回路であり、通常の論理シンボルの回路は純CMOS
回路である。
In FIG. 3 as well, in the circuit of the logic symbol whose output side is marked black, the output transistor for charging and discharging the stray capacitance of the output signal line is composed of a bipolar transistor, and is inverted, non-inverted, NAND, NOR.
Quasi-CMO in which logical processing such as is executed by a CMOS circuit
It is an S circuit, and the circuit of the normal logic symbol is pure CMOS.
Circuit.

【0082】図3に示すようにアドレスバッファADB
には、外部からTTLレベルのアドレス信号A7〜A15
をその入力に受け、非反転出力a7〜a15と反転出力a7
〜a1 5を相補出力信号線に送出するための非反転・反転
回路G7〜G15が配置されている。
As shown in FIG. 3, the address buffer ADB
Are externally supplied with TTL level address signals A 7 to A 15.
At its input, and the non-inverted outputs a 7 to a 15 and the inverted output a 7
Inverting-inverting circuit G 7 ~G 15 for delivering ~a 1 5 to the complementary output signal lines are arranged.

【0083】この非反転・反転回路G7〜G15は、図4
に示す如き準CMOS回路により構成されている。従っ
て、非反転・反転回路G7〜G15の出力トランジスタは
図4に示すようにバイポーラ・トランジスタにより構成
されているたるめ、非反転・反転回路G7〜G15の出力
信号線が半導体チップ表面上で長距離にわたり配置され
るとしても、非反転・反転回路G7〜G15を高速で動作
させることが可能となる。
The non-inverting / inverting circuits G 7 to G 15 are shown in FIG.
It is composed of a quasi-CMOS circuit as shown in FIG. Accordingly, Me barrel output transistor of the non-inverting-inverting circuit G 7 ~G 15 is configured by a bipolar transistor as shown in FIG. 4, the output signal lines of the non-inversion and inversion circuit G 7 ~G 15 is a semiconductor chip Even if they are arranged over a long distance on the surface, the non-inverting / inverting circuits G 7 to G 15 can be operated at high speed.

【0084】カラムデコーダC−DCR1は、アドレス
バッファADBから得られた内部アドレス信号a7〜a
15,a7〜a15が印加される2入力NAND回路G74
77,G78〜G81,G82〜G85と、3入力NAND回路
86〜G89とを含む。
The column decoder C-DCR1 has internal address signals a 7 -a obtained from the address buffer ADB.
2-input NAND circuit G 74 to which 15 and a 7 to a 15 are applied
It includes G 77 , G 78 to G 81 , G 82 to G 85 , and 3-input NAND circuits G 86 to G 89 .

【0085】さらに図3に示すように、カラムデコーダ
C−DCR1内において、これらのNAND回路G74
93の出力信号線は、長距離で配置されるとともに多く
のNOR回路G94〜G95の入力端子に接続されているた
め、これらのNAND回路G74〜G93の出力信号線の浮
遊容量は大きな容量値となる。
[0085] As further shown in FIG. 3, in the column decoder C-DCR1, these NAND circuits G 74 ~
Since the output signal line of G 93 is arranged over a long distance and is connected to the input terminals of many NOR circuits G 94 to G 95 , the stray capacitance of the output signal line of these NAND circuits G 74 to G 93 is large. Has a large capacitance value.

【0086】従って、3入力NAND回路G86〜G
89は、図5に示す如き準CMOS・3入力NAND回路
によって構成され、2入力NAND回路G74〜G85は、
図5から入力端子IN3とMISFETQ57,Q60とを
省略した準CMOS・2入力NAND回路によって構成
されている。
Therefore, the 3-input NAND circuits G 86 to G
89 is a quasi-CMOS 3-input NAND circuit as shown in FIG. 5, and 2-input NAND circuits G 74 to G 85 are
It is composed of a quasi-CMOS 2-input NAND circuit in which the input terminal IN 3 and the MISFETs Q 57 and Q 60 are omitted from FIG.

【0087】一方、図3において、3入力NOR回路G
94,G95の出力信号線は短距離でインバータG100,G
101の入力に接続されているため、これらの3入力NO
R回路G94〜G95の出力信号線の浮遊容量の容量値は小
さい。従って、これらの3入力NOR回路G94〜G
95は、純CMOS・3入力OR回路により構成されてい
る。さらに、 インバータG100,G101の出力信号線は
短距離で2入力NOR回路G98,G99の入力端子に接続
されているため、これらのインバータG100,G101の出
力信号線の浮遊容量の容量値は小さい。従って、これら
のインバータG100,G101は周知の純CMOS・インバ
ータにより構成されている。
On the other hand, in FIG. 3, the 3-input NOR circuit G
The output signal lines of 94 and G 95 are short distance inverters G 100 and G
Since these are connected to 101 inputs, these 3 inputs NO
The capacitance value of the stray capacitance of the output signal lines of the R circuits G 94 to G 95 is small. Therefore, these 3-input NOR circuits G 94 to G
Reference numeral 95 is a pure CMOS / 3-input OR circuit. Furthermore, since the output signal line of the inverter G 100, G 101 is connected to the input terminal of 2-input NOR circuit G 98, G 99 a short distance, the stray capacitance of the output signal lines of the inverters G 100, G 101 Has a small capacitance value. Therefore, these inverters G 100 and G 101 are composed of well-known pure CMOS inverters.

【0088】さらに、2入力・NOR回路G98,G99
出力信号線は比較的短距離でカラムスイッチC−SW1
のスイッチ用MISFETQ1001,Q1001のゲート電極
に接続されているため、これらのNOR回路G98,G99
の出力信号線の浮遊容量は小さい。従って、これらのN
OR回路は図8図に示す如き純CMOS・2入力NOR
回路によって構成されている。
Further, the output signal lines of the two-input NOR circuits G 98 and G 99 are arranged in a relatively short distance and the column switch C-SW 1 is used.
Since these are connected to the gate electrodes of the switching MISFETs Q 1001 and Q 1001 , these NOR circuits G 98 and G 99 are connected.
The output signal line has a small stray capacitance. Therefore, these N
The OR circuit is a pure CMOS / 2-input NOR as shown in FIG.
It is composed of a circuit.

【0089】図8の純CMOS・ 2入力NOR回路は
PチャンネルMISFETQ78,Q7 9,NチャンネルM
ISFETQ80,Q81によって構成されている。出力端
子からの信号線の距離が比較的短いため、出力端子OU
Tの浮遊容量C46の容量値は小さい。
[0089] pure CMOS · 2-input NOR circuit is a P-channel MISFET Q 78 in FIG. 8, Q 7 9, N-channel M
It is composed of ISFETs Q 80 and Q 81 . Since the distance of the signal line from the output terminal is relatively short, the output terminal OU
The capacitance value of the stray capacitance C 46 of T is small.

【0090】従って、この小さな浮遊容量C46の充電・
放電をオン抵抗の比較的大きなMISFETQ78
79,Q80,Q81により実行しても、小さな浮遊容量C
46の充電・放電が高速度で実行される。
Therefore, charging of this small stray capacitance C 46
MISFET Q 78 with a relatively large on-state discharge
Even if executed by Q 79 , Q 80 , Q 81 , small stray capacitance C
46 charging and discharging is performed at high speed.

【0091】なお、上述した3入力NOR回路G94〜G
95は、上記図8の2入力NOR回路に第3入力端子IN
3を追加するとともに、そのゲートが上記入力端子IN3
に接続された第3のPチャンネルMISFETQ78,Q
79に直列に挿入し、そのゲートが上記入力端子IN3
接続された第3のNチャンネルMISFETをQ80,Q
81に並列に挿入した純CMOS・3入力回路により構成
されている。
The three-input NOR circuits G 94 to G described above are used.
Reference numeral 95 denotes the second input NOR circuit of FIG.
3 is added and its gate is connected to the input terminal IN 3
Connected to the third P-channel MISFET Q 78 , Q
Was inserted in series with 79, the third N-channel MISFET Q 80, Q whose gate is connected to the input terminal IN 3
It is composed of a pure CMOS / 3-input circuit inserted in parallel with 81 .

【0092】さらに図3には、図1のメモリ・アレイM
−ARY1の1ビットのメモリ・セルM−CELがさら
に詳細に示されている。
Further, FIG. 3 shows the memory array M of FIG.
The 1-bit memory cell M-CEL of ARY1 is shown in more detail.

【0093】このメモリ・セルM−CELは負荷抵抗R
1,R2とNチャンネルMISFETQ101,Q102からな
る1対のインバータの入出力を交差結合したフリップ・
フロップと、トランスミッション・ゲート用Nチャンネ
ルMISFETQ103,Q104とにより構成されている。
This memory cell M-CEL has a load resistance R
1 and R 2 and N channel MISFETs Q 101 and Q 102.
It is composed of a flop and N-channel MISFETs Q 103 and Q 104 for transmission gates.

【0094】フリップ・フロップは情報の記憶手段とし
て用いられる。トランスミッション・ゲートはロウデコ
ーダR−DCR1に接続されたワード線WL11に印加さ
れるアドレス信号によって制御され、相補データ線対D
1001,D1001とフリップ・フロップとの間の情報伝達が
このトランスミッション・ゲートによって制御される。
Flip-flops are used as information storage means. The transmission gate is controlled by the address signal applied to the word line WL 11 connected to the row decoder R-DCR1, and the complementary data line pair D
Information transmission between 1001 , D 1001 and the flip-flop is controlled by this transmission gate.

【0095】図11は、図1のセンスアンプ選択回路S
ASCの要部の一例及び内部制御信号発生回路COM−
GEの一例をより詳細に示す回路図である。
FIG. 11 shows the sense amplifier selection circuit S of FIG.
An example of main part of ASC and internal control signal generation circuit COM-
It is a circuit diagram which shows an example of GE in more detail.

【0096】同図には、センスアンプ選択回路SASC
のうち、外部からのチップセレクト信号CSを受けて、
データ出力中間アンプDOIA,ロウデコーダR−DC
R0及びカラムデコーダC−DCR1等へ供給する制御
信号CS,CSを形成する部分の回路が示されている。
In the figure, the sense amplifier selection circuit SASC is shown.
Of these, receiving a chip select signal CS from the outside,
Data output intermediate amplifier DOIA, row decoder R-DC
The circuit of the part that forms the control signals CS, CS supplied to the R0 and the column decoder C-DCR1 and the like is shown.

【0097】外部からのチップセレクト信号CSが印加
されるこの部分の回路は図4の非反転・反転回路と同一
の回路により構成されている。この回路の出力信号CS
は、バイポーラ・トランジスタT1,T2,T3,T4から
得られるため、センスアンプ選択回路SASCの出力C
S,CSの充電・放電速度の容量依存性は小さい。従っ
て、センスアンプ選択回路SASCの出力CSが図2の
ロウデコーダR−DCR0のNORゲートG32〜G39
入力端子および図3のカラムデコーダC−DCR1のN
ORゲートG94〜G95の入力端子に接続されても、この
出力CSは高速となる。また、センスアンプ選択回路S
ASCの出力CSがデータ出力中間アンプDOIA内の
複数のスイッチ用MISFETのゲート電極に接続され
ても、この出力CSは高速となる。
The circuit of this portion to which the chip select signal CS from the outside is applied is composed of the same circuit as the non-inverting / inverting circuit of FIG. Output signal CS of this circuit
Is obtained from the bipolar transistors T 1 , T 2 , T 3 , and T 4 , the output C of the sense amplifier selection circuit SASC is obtained.
The capacity dependence of the charge and discharge rates of S and CS is small. Therefore, the output CS of the sense amplifier selection circuit SASC is the input terminals of the NOR gates G 32 to G 39 of the row decoder R-DCR 0 of FIG. 2 and the N of the column decoder C-DCR 1 of FIG.
Even if it is connected to the input terminals of the OR gates G 94 to G 95 , this output CS becomes high speed. In addition, the sense amplifier selection circuit S
Even if the output CS of the ASC is connected to the gate electrodes of the plurality of switch MISFETs in the data output intermediate amplifier DOIA, the output CS becomes high speed.

【0098】同図に示されていないが、センスアンプ選
択回路SASCは、内部相補アドレス信号a7〜a
15と、上記制御信号CSを受け、センスアンプへ供給す
る選択信号S1を形成するデコーダ回路を含んでいる。
このデコーダ回路によって。、センスアンプSA1〜S
A16のうち、選択されるべき相補データ線対にその入
力端子が電気的に結合されるセンスアンプが選択され、
そのセンス動作が実行される。このデコーダ回路の出力
部は、準CMOS回路によって構成されており、その出
力の充電・放電の容量依存性が小さくなるようにされて
いる。これにより、センスアンプを選択する動作の高速
化を図ることができる。なお、デコーダ回路に上記制御
信号が供給されるようにしてあっても、上述したように
上記制御信号がバイポーラ・トランジスタによって形成
されるため、その制御信号CSは高速である。
Although not shown in the figure, the sense amplifier selection circuit SASC has internal complementary address signals a 7 -a.
15 and a decoder circuit for receiving the control signal CS and forming a selection signal S1 to be supplied to the sense amplifier.
With this decoder circuit. , Sense amplifiers SA1 to S
Among A16, a sense amplifier whose input terminal is electrically coupled to the complementary data line pair to be selected is selected,
The sense operation is executed. The output part of this decoder circuit is composed of a quasi-CMOS circuit, and the capacity dependence of the output charge / discharge is reduced. As a result, the operation of selecting the sense amplifier can be speeded up. Even if the control signal is supplied to the decoder circuit, the control signal CS is high speed because the control signal is formed by the bipolar transistor as described above.

【0099】本実施例では、センスアンプを選択するた
めに、デコーダ回路をセンスアンプ選択回路SASOに
設けるようにしてあるが、カラムデコーダC−DCR1
〜C−DCR4で形成されている選択信号をセンスアン
プの選択信号とに利用するようにしてもよい。このよう
にすれば、素子数を減らすことができるため、高集積化
を図ることが可能となる。
In this embodiment, the decoder circuit is provided in the sense amplifier selection circuit SASO in order to select the sense amplifier. However, the column decoder C-DCR1
The selection signal formed by C-DCR4 may be used as the selection signal of the sense amplifier. By doing so, the number of elements can be reduced, and high integration can be achieved.

【0100】図11の内部制御信号発生回路COM−G
Eは、外部からのチップセレクト信号CSが印加される
ことにより、複数の内部遅延チップセレクト信号C
2,CS1,CS1,CS2を発生するための回路部を有
する。この回路部の大半はCMOS回路により構成され
る。しかし、これらの出力CS2,CS1,CS1,CS2
はバイポーラ出力トランジスタT5,T6,T9,T10
11,T12,T7,T8から得られるため、これらの出力
の充電・放電の容量依存性は小さい。
Internal control signal generation circuit COM-G of FIG.
E is a plurality of internal delay chip select signals C when the chip select signal CS from the outside is applied.
It has a circuit section for generating S 2 , CS 1 , CS 1 , and CS 2 . Most of this circuit portion is composed of a CMOS circuit. However, these outputs CS 2 , CS 1 , CS 1 , CS 2
Is a bipolar output transistor T 5 , T 6 , T 9 , T 10 ,
Since it is obtained from T 11 , T 12 , T 7 , and T 8 , the capacity dependency of charging / discharging of these outputs is small.

【0101】図11の内部制御信号発生回路COM−G
Eはさらに、外部からのライトイネーブル信号WEを内
部遅延チップセレクト信号CS1,CS2が印加されるこ
とにより、書込み制御信号WECS,WECSとデータ
出力バッファ制御信号DOCとを発生するための回路部
を有する。この回路部の大半は同様にCMOS回路によ
って構成されている。しかし、信号WECSはバイポー
ラ出力トランジスタT14,T15から得られるため、この
出力WECSの充電・放電の容量依存性は小さい。従っ
て、この出力WECSが図3のカラムデコーダC−DC
R1のNAND(図示されていない)の多数の入力端子
あるいは図1のスイッチ用MISFETQ1,Q1
16,Q16のゲート電極に印加されても、この出力WE
CSは高速となる。
Internal control signal generation circuit COM-G of FIG.
Further, E is a circuit unit for generating write control signals WECS and WECS and a data output buffer control signal DOC by applying a write enable signal WE from the outside to internal delay chip select signals CS 1 and CS 2. Have. Most of this circuit portion is also composed of a CMOS circuit. However, since the signal WECS is obtained from the bipolar output transistors T 14 and T 15 , the charge / discharge capacity dependence of the output WECS is small. Therefore, this output WECS is the column decoder C-DC of FIG.
Multiple input terminals of the NAND (not shown) of R1 or switch MISFETs Q 1 and Q 1 of FIG.
Even when applied to the gate electrodes of Q 16 and Q 16 , this output WE
CS will be faster.

【0102】図12は、図1のセンスアンプSA1,デ
ータ出力中間アンプDOIA,データ出力バッファDO
B等により詳細に示す回路図である。
FIG. 12 shows the sense amplifier SA1, the data output intermediate amplifier DOIA, and the data output buffer DO of FIG.
FIG. 6 is a circuit diagram showing in more detail by B and the like.

【0103】図13は、図1のデータ入力バッファDI
B,データ入力中間アンプDIIA1等をより詳細に示
す回路図である。
FIG. 13 shows the data input buffer DI of FIG.
FIG. 6 is a circuit diagram showing in more detail B, the data input intermediate amplifier DIIA1, and the like.

【0104】図14は、図1乃至図13に示された一実
施例のスタティックRAMの読出し時および書込み時の
各部の信号波形図である。
FIG. 14 is a signal waveform diagram of each part at the time of reading and writing of the static RAM of the embodiment shown in FIGS. 1 to 13.

【0105】まず、図12及び図14を用いて本スタテ
ィックRAMの情報の読出し時の動作を説明する。
First, the operation of reading information from the static RAM will be described with reference to FIGS. 12 and 14.

【0106】図14に示すようにアドレス信号A0〜A
15が印加されると同時にチップセレクト信号CSがロウ
レベルに変化し、ライトイネーブル信号WEがハイレベ
ルのまま保持されるとする。内部制御信号発生回路CO
M−GEからは第14図に示すように、内部遅延チップ
セレクト信号CS1,CS2,CS3,書込み制御信号W
ECS,データ出力バッファ制御信号DOCが発生され
る。
As shown in FIG. 14, address signals A 0 to A 0
It is assumed that the chip select signal CS changes to low level at the same time that 15 is applied and the write enable signal WE is held at high level. Internal control signal generation circuit CO
From M-GE, as shown in FIG. 14, internal delay chip select signals CS 1 , CS 2 , CS 3 and write control signal W are shown.
An ECS and data output buffer control signal DOC is generated.

【0107】供給されたアドレス信号A0〜A15が、例
えばワード線WL11と相補データ線対D1001,D1001
指定するアドレス信号であった場合、ワード線WL11
相補データ線対D1001,D1001との交点に設けられたメ
モリ・セルM−CELが選択される。選択されたメモリ
・セルM−CELの内部情報は、相補データ線対
10 01,D1001,スイッチ用MISFETQ1001,Q
1001を介してセンスアンプSA1の両入力に伝えられ
る。センスアンプSA1はエミッタ結合された差動対ト
ランジスタT21,T22と定電流源MISFETT20とか
ら構成される。定電流源MISFETT20のゲート電極
にセンスアンプ選択回路SASCからハイレベルの選択
信号S1が印加されると、センスアンプSA1はセンス
動作を実行する。
When the supplied address signals A 0 to A 15 are address signals designating the word line WL 11 and the complementary data line pair D 1001 and D 1001, for example, the word line WL 11 and the complementary data line pair D The memory cell M-CEL provided at the intersection of 1001 and D 1001 is selected. Internal information of the selected memory cell M-CEL is complementary data line pair D 10 01, D 1001, switching MISFET Q 1001, Q
It is transmitted to both inputs of the sense amplifier SA1 via 1001 . The sense amplifier SA1 composed of differential pair transistors T 21, which are emitter-coupled, T 22 a constant current source MISFETT 20 Prefecture. When the high-level selection signal S1 is applied from the sense amplifier selection circuit SASC to the gate electrode of the constant current source MISFETT 20 , the sense amplifier SA1 executes the sensing operation.

【0108】センスアンプ選択回路SASCからデータ
出力中間アンプDO1Aの定電流源MISFETT23
26のゲート電極にハイレベルの内部チップセレクト信
号OSが印加されると、データ出力中間アンプDOIA
は増幅動作を実行する。
Data output from sense amplifier selection circuit SASC Constant current source MISFET T 23 of intermediate amplifier DO1A
When the high level internal chip select signal OS is applied to the gate electrode of T 26 , the data output intermediate amplifier DOIA
Performs an amplifying operation.

【0109】従って、 センスアンプSA1の出力信号
は、ベース接地トランジスタT27,T28,エミッタフォ
ロワトランジスタT29,T30,出力MISFETT35
38を介して、データ出力中間アンプDOIAの出力ノ
ードN11に伝達される。
Therefore, the output signal of the sense amplifier SA1 is the grounded base transistors T 27 , T 28 , the emitter follower transistors T 29 , T 30 , the output MISFET T 35 ,
It is transmitted to the output node N 11 of the data output intermediate amplifier DOIA via T 38 .

【0110】図12に示すようにデータ出力バッファD
OBには内部制御信号発生回路COM−GEからデータ
出力バッファ制御信号DOCが供給される。また、図1
2に示すようにデータ出力バッファDOBは、T39,T
40の純CMOSインバータ,T41〜T48の準CMOS・
2入力NAND回路,T49〜T56の準CMOS・2入力
NOR回路,Pチャンネル・スイッチ用MISFETT
57,Nチャンネル・スイッチ用MISFET58,Pチャ
ンネル・出力用MISFETT59,Nチャンネル出力用
MISFETT60から構成されている。
As shown in FIG. 12, the data output buffer D
The data output buffer control signal DOC is supplied to the OB from the internal control signal generation circuit COM-GE. Also, FIG.
As shown in FIG. 2, the data output buffer DOB has T 39 , T
40 pure CMOS inverters, T 41 to T 48 quasi-CMOS
2-input NAND circuit, quasi-CMOS 2-input NOR circuit of T 49 to T 56 , MISFETT for P-channel switch
57 , an N-channel switch MISFET 58 , a P-channel output MISFET T 59 , and an N-channel output MISFET T 60 .

【0111】データ出力バッファ制御信号DOCがハイ
レベルの時は、スイッチ用MISFETのT57,T58
オンとなり、出力用MISFETのT59,T60が同時に
オフとなるため、データ出力バッファDOBの出力 Do
ut はハイ・インピーダンス(フローティング)状態と
なる。
When the data output buffer control signal DOC is at the high level, the switch MISFETs T 57 and T 58 are turned on, and the output MISFETs T 59 and T 60 are turned off at the same time. Output Do
ut becomes high impedance (floating) state.

【0112】情報の読出し時にはデータ出力バッファ制
御信号DOCはロウレベルとなり、スイッチ用MISF
ETのT57,T58はオフとなり、データ出力中間アンプ
DOIAの出力ノードN11の信号レベルに応答した準C
MOS・2入力NAND回路の出力と準CMOS・2入
力NOR回路の出力によって出力用MISFETの
59,T60のゲート電極が制御され、出力端子Dout よ
り有効データが得られる。出力用MISFETのT59
60のオン抵抗を小とするため、これらのMISFET
のチャンネル幅Wは極めて大きな値に設定されている。
すると、これらのMISFETT59,T60のゲート容量
は極めて大きなものとなるが、準CMOS・2入力NA
ND回路の出力部はバイポーラ出力トランジスタT47
48により構成され、準CMOS・2入力NOR回路の
出力部はバイポーラ出力トランジスタT55,T56により
構成されているため、これら出力用MISFETの
59,T60のゲート容量の充電・放電は高速度で実行さ
れる。
At the time of reading information, the data output buffer control signal DOC becomes low level, and the switch MISF is used.
T 57 and T 58 of ET are turned off, and the quasi-C in response to the signal level of the output node N 11 of the data output intermediate amplifier DOIA.
The gate electrodes of T 59 and T 60 of the output MISFET are controlled by the output of the MOS / 2-input NAND circuit and the output of the quasi-CMOS / 2-input NOR circuit, and effective data is obtained from the output terminal Dout. T 59 of output MISFET,
To reduce the on-resistance of T 60 , these MISFETs
The channel width W of is set to an extremely large value.
Then, although the gate capacitances of these MISFETs T 59 and T 60 are extremely large, they are quasi-CMOS 2-input NA.
The output part of the ND circuit is a bipolar output transistor T 47 ,
It is constituted by a T 48, the output section of the quasi-CMOS-2-input NOR circuit because it is constituted by a bipolar output transistor T 55, T 56, charging and discharging of the gate capacitance of the T 59, T 60 of the output MISFET is It runs at high speed.

【0113】次に、図13及び図14を用いて本スタテ
ィックRAMの情報の書込み時の動作を説明する。
Next, the operation of writing information in the static RAM will be described with reference to FIGS. 13 and 14.

【0114】図14に示すようにアドレス信号A0〜A
15が印加されると同時にチップセレクト信号CSがロウ
レベルに変化し、その後ライトイネーブル信号WEがロ
ウレベルに変化する。内部制御信号発生回路COM−G
Eからは、図14に示すように内部遅延チップセレクト
信号CS1,CS2,CS3,書込み制御信号WECS,
データ出力バッファ制御信号DOCが発生される。
As shown in FIG. 14, address signals A 0 to A 0
At the same time that 15 is applied, the chip select signal CS changes to low level, and then the write enable signal WE changes to low level. Internal control signal generation circuit COM-G
From E, as shown in FIG. 14, internal delay chip select signals CS 1 , CS 2 , CS 3 , write control signal WECS,
The data output buffer control signal DOC is generated.

【0115】図13に示すように、データ入力バッファ
DIBには入力データDinと反転内部チップセレクト信
号CS1とが印加される。情報の書込み時には、この信
号CS1はロウレベルに変化する。すると、データ入力
バッファのPチャンネル・スイッチ用・MISFETT61
はオン、Nチャンネル・スイッチ用・MISFETT6 2
はオフに変化する。これにより、多段接続された純CM
OS・インバータを介して、入力データDinは出力ノー
ドN12に伝達される。
As shown in FIG. 13, the input data Din and the inverted internal chip select signal CS 1 are applied to the data input buffer DIB. At the time of writing information, the signal CS 1 changes to low level. Then, for the P channel switch of the data input buffer, MISFETT 61
Is on, for N channel switch, MISFETT 6 2
Changes off. As a result, pure CMs connected in multiple stages
The input data Din is transmitted to the output node N 12 via the OS / inverter.

【0116】情報の書込みに際して、書込み制御信号W
EOSはロウレベルに変化する。すると、図13のデー
タ入力中間アンプDIIA1内では、Pチャンネル・M
ISFETのT63,T65はオン、NチャンネルMISF
ETT64,T66はオフとなり、ノードN13にはデータ入
力バッファDIBの出力ノードN12と同相の信号が現わ
れ、ノードN14にはこれと逆相の信号が現われる。
At the time of writing information, the write control signal W
EOS changes to low level. Then, in the data input intermediate amplifier DIIA1 of FIG.
ISFET T 63 and T 65 are ON, N-channel MISF
ETT 64, T 66 are turned off, appear the output node N 12 and the phase signal of the data input buffer DIB is the node N 13, which opposite phase signal appears on node N 14.

【0117】ノードN13の信号T67〜T72から構成され
た準CMOS・インバータを介してコモンデータ線CD
1に伝達され、ノードN14の信号はT73〜T78から構
成された準CMOS・インバータを介してコモンデータ
線CDL1に伝達される。寄生容量の大きなコモンデー
タ線対CDL1,CDL1の充電・放電はこれら準CMO
S・インバータのバイポーラ出力トランジスタT71,T
72,T77,T78により実行されるため、これらの充電・
放電は高速度で実行される。
The common data line CD is passed through the quasi-CMOS inverter composed of the signals T 67 to T 72 of the node N 13.
The signal of the node N 14 transmitted to L 1 is transmitted to the common data line CDL 1 via the quasi-CMOS inverter composed of T 73 to T 78 . The common data line pair CDL 1 and CDL 1 having a large parasitic capacitance are charged and discharged by these quasi-CMOs.
S-inverter bipolar output transistors T 71 , T
72 , T 77 , and T 78 , these charge and
The discharge is performed at high speed.

【0118】かくして、データ入力中間アンプDIIA
1の相補出力信号はコモンデータ線対CDL1,CDL1
スイッチ用MISFET,Q1,Q1,Q1001,Q1001
相補データ線対D1001,D1001を介して、メモリ・セル
M−CELに伝達され、メモリ・セルへの情報の書込み
が実行される。
Thus, the data input intermediate amplifier DIIA
The complementary output signal of 1 is the common data line pair CDL 1 , CDL 1
MISFET for switch, Q 1 , Q 1 , Q 1001 , Q 1001 ,
The data is transmitted to the memory cell M-CEL through the complementary data line pair D 1001 and D 1001 and writing of information to the memory cell is executed.

【0119】[0119]

【発明の効果】【The invention's effect】

(1) アドレスバッファADBの非反転・反転回路G
0〜G15は準CMOS回路によって構成されている。こ
の準CMOS回路においては、非反転・反転の論理処理
部の大半がCMOS回路により構成されているため、低
消費電力が可能である。さらに、非反転・反転出力の充
電・放電を実行する出力トランジスタをバイポーラ・ト
ランジスタにより構成したため、MISFETと比較し
てバイポーラ・トランジスタは小さな素子寸法でも小さ
な出力抵抗が得られるという作用により、非反転・反転
回路G0〜G15の出力信号線の浮遊容量が大となって
も、高速度の動作が可能となる。
(1) Non-inversion / inversion circuit G of the address buffer ADB
0 to G 15 are composed of quasi-CMOS circuits. In this quasi-CMOS circuit, most of the non-inversion / inversion logic processing section is composed of a CMOS circuit, and thus low power consumption is possible. Furthermore, since the output transistor that executes the charging / discharging of the non-inverting / inverting output is composed of the bipolar transistor, the bipolar transistor can obtain a small output resistance even with a small element size as compared with the MISFET. Even if the stray capacitance of the output signal lines of the inverting circuits G 0 to G 15 becomes large, high speed operation is possible.

【0120】 (2) ロウデコーダR−DCR0,R−DCR1,R
−DCR2のNAND回路G16〜G23,G24〜G31,G
40〜G47,NOR回路G32〜G39,G48〜G65,インバ
ータG57〜G64の如き出力信号線の浮遊容量の大きな回
路は準CMOS回路により構成されているため、これら
の回路を低消費電力・高速とすることができる。
(2) Row decoders R-DCR0, R-DCR1, R
-DCR2 of NAND circuit G 16 ~G 23, G 24 ~G 31, G
Circuits having a large stray capacitance of the output signal line, such as 40 to G 47 , NOR circuits G 32 to G 39 , G 48 to G 65 , and inverters G 57 to G 64 , are configured by quasi-CMOS circuits, and therefore these circuits are used. Can have low power consumption and high speed.

【0121】さらに、NAND回路G49〜G56の如き出
力信号線の浮遊容量の小さな回路はCMOS回路によ
り構成されているため、これらの回路を低消費電力化す
ることができる。
Furthermore, since circuits such as the NAND circuits G 49 to G 56 having a small stray capacitance on the output signal line are composed of pure CMOS circuits, it is possible to reduce the power consumption of these circuits.

【0122】 (3) カラムデコーダC−DCR1〜C−DCR4の
NAND回路G74〜G85の如き出力信号線の浮遊容量の
大きな回路は準CMOS回路により構成されているた
め、これらの回路を低消費電力・高速とすることができ
る。
(3) Since circuits with large stray capacitances of output signal lines, such as the NAND circuits G 74 to G 85 of the column decoders C-DCR1 to C-DCR4, are composed of quasi-CMOS circuits, these circuits are low-powered. Power consumption and high speed can be achieved.

【0123】さらに、NOR回路G74〜G99,インバー
タG100,G101の如き出力信号線の浮遊容量の小さな回
路は準CMOS回路により構成されているため、これら
の回路を低消費電力化することができる。
Further, since the circuits with small stray capacitances of the output signal lines, such as the NOR circuits G 74 to G 99 and the inverters G 100 and G 101 , are composed of quasi-CMOS circuits, these circuits can be made to consume less power. be able to.

【0124】 (4) センスアンプ選択回路SASCを構成する非反
転・反転回路は準CMOS回路により構成されているた
め、低消費電力が達成されるとともに、出力CS,CS
がバイポーラ出力トランジスタから得られるため、これ
らの出力CS,CSの浮遊容量が大きくても、これらの
出力CS,CSは高速となる。
(4) Since the non-inverting / inverting circuit forming the sense amplifier selection circuit SASC is composed of a quasi-CMOS circuit, low power consumption is achieved and outputs CS, CS are provided.
Is obtained from the bipolar output transistor, the outputs CS, CS have a high speed even if the stray capacitances of the outputs CS, CS are large.

【0125】 (5) 内部制御信号発生回路COM−GEは準CMO
S回路により構成されているため、低消費電力が達成さ
れるとともに、出力CS2,CS3,CS1,CS1,WE
CSがバイポーラ出力トランジスタから得られるため、
これらの出力の浮遊容量が大きくても、これらの出力C
2,CS3,CS1,CS1,WECSは高速となる。
(5) The internal control signal generation circuit COM-GE is a quasi-CMO.
Since it is composed of an S circuit, low power consumption is achieved and outputs CS 2 , CS 3 , CS 1 , CS 1 , WE
Since CS is derived from a bipolar output transistor,
Even if the stray capacitance of these outputs is large, these outputs C
S 2, CS 3, CS 1 , CS 1, WECS becomes faster.

【0126】 (6) データ出力バッファDOBは準CMOS回路に
より構成されているため、低消費電力が達成される。
(6) Since the data output buffer DOB is composed of a quasi-CMOS circuit, low power consumption is achieved.

【0127】さらに、デ−タ出力バツファDOBの出力
用MISFETの大きなゲ−ト容量はバイポ−ラ出力ト
ランジスタにより充電・放電されるため、このゲ−ト容
量の充電・放電は高速度で実行される。デ−タ出力バツ
ファDOBは、出力トランジスタがMISFETからな
ることによって比較的大きい出力電圧を形成することが
できる。これにより一方の出力レベルから他方の出力レ
ベルへの変化が比較的大きいものとなる。このように出
力トランジスタのバイポ−ラトランジスタによる駆動
と、出力MISFETそれ自体による出力レベルの高速
変化により、デ−タ出力バツファは、十分な高速動作を
するものとなる。
Furthermore, since the large gate capacitance of the output MISFET of the data output buffer DOB is charged / discharged by the bipolar output transistor, this gate capacitance is charged / discharged at a high speed. It The data output buffer DOB can form a relatively large output voltage because the output transistor is a MISFET. As a result, the change from one output level to the other output level becomes relatively large. As described above, due to the driving of the output transistor by the bipolar transistor and the rapid change of the output level by the output MISFET itself, the data output buffer operates at a sufficiently high speed.

【0128】 (7) データ入力バッファDIBは純CMOS回路に
より構成されているため、低消費電力が達成される。
(7) Since the data input buffer DIB is composed of a pure CMOS circuit, low power consumption is achieved.

【0129】 (8) データ入力中間アンプDIIA1は準CMOS
回路により構成されているため、低消費電力が達成され
る。
(8) The data input intermediate amplifier DIIA1 is a quasi-CMOS
Since it is composed of a circuit, low power consumption is achieved.

【0130】さらに、寄生容量の大きなコモンデータ線
対CDL1,CDL1の充電・放電はバイポーラ出力トラ
ンジスタにより実行されるため、これらの充電・放電は
高速度で実行される。
Furthermore, since charging / discharging of the common data line pair CDL 1 , CDL 1 having a large parasitic capacitance is executed by the bipolar output transistor, these charging / discharging are executed at high speed.

【0131】以上の相乗効果により、本スタティックS
RAMにおいては下記の如き特性を得ることができた。
Due to the above synergistic effect, this static S
The following characteristics could be obtained in the RAM.

【0132】 (a) アドレスバッファADBの非反転・反転回路G
0〜G15の入力から出力までの伝播遅延時間tpdは約3.
0(nsec)に短縮され、非反転・反転回路G0〜G15
体の待機時消費電力は約33.7(mW)に、動作時消
費電力は約45.8(mW)に低減された。
(A) Non-inversion / inversion circuit G of the address buffer ADB
The propagation delay time tpd from 0 to G 15 from input to output is about 3.
It was shortened to 0 (nsec), the standby power consumption of the entire non-inverting / inverting circuits G 0 to G 15 was reduced to about 33.7 (mW), and the operating power consumption was reduced to about 45.8 (mW). .

【0133】 (b) ロウデコーダR−DCR0,R−DCR1,R
−DCR2,カラムデコーダC−DCR1〜C−DCR
4の入力から消費までの伝播遅延時間tpdは約4.8(n
sec)に短縮され、全体の待機時消費電力はほぼ零に、
動作時消費電力は約153(mW)に低減された。
(B) Row decoders R-DCR0, R-DCR1, R
-DCR2, column decoder C-DCR1 to C-DCR
Propagation delay time tpd from input of 4 to consumption is about 4.8 (n
sec) and the total standby power consumption is almost zero,
The power consumption during operation was reduced to about 153 (mW).

【0134】 (c) メモリ・セルM−CEL,センスアンプSA
1,データ出力中間アンプDOIA全体の伝播遅延時間
tpdは約5.0(nsec)に低減され、64K(6553
6)ケのメモリ・セルM−CEL全体,センスアンプS
A1〜SA16全体とデータ出力中間アンプDOIAの
待機時消費電力は約0.6(mW)、動作時消費電力は
約160(mW)に低減された。
(C) Memory cell M-CEL, sense amplifier SA
1, the propagation delay time tpd of the entire data output intermediate amplifier DOIA is reduced to about 5.0 (nsec), and 64K (6553)
6) All memory cells M-CEL, sense amplifier S
The standby power consumption of the entire A1 to SA16 and the data output intermediate amplifier DOIA was reduced to about 0.6 (mW), and the operating power consumption was reduced to about 160 (mW).

【0135】 (d) データ出力バッファDOBの入力から出力まで
の伝播遅延時間tpdは約2.8(nsec)に短縮され、待
機時消費電力はほぼ零に、動作時消費電力は23.5
(mW)に低減された。
(D) The propagation delay time tpd from the input to the output of the data output buffer DOB is shortened to about 2.8 (nsec), the standby power consumption is almost zero, and the operating power consumption is 23.5.
(MW).

【0136】 (e) 上記(a)〜(d)によりアクセスタイム(読
出し時間)が約15.6(nsec)に短縮され、ECL形
のバイポーラRAMのアクセスタイム(nsec)とほぼ同
程度の値が得られた。
(E) By the above (a) to (d), the access time (reading time) is shortened to about 15.6 (nsec), which is almost the same value as the access time (nsec) of the ECL type bipolar RAM. was gotten.

【0137】 (f) 上記(a)〜(d)により本スタティックSR
AM全体の待機消費電力は、約34.3(mW)、動作
時消費電力は約382.3(mW)と従来のバイポーラ
RAMと従来のスタティックMOSRAMの中間(従来
のスタティックMOSRAMに近い)の低消費電力特性
が得られた。
(F) The static SR according to (a) to (d) above.
The standby power consumption of the AM as a whole is about 34.3 (mW), and the power consumption during operation is about 382.3 (mW), which is low between the conventional bipolar RAM and the conventional static MOSRAM (close to the conventional static MOSRAM). The power consumption characteristics were obtained.

【0138】以上本発明者によってなされた発明を実施
例に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施例に
限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で
種々変更可能であることはいうまでもない。
Although the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments, the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. Needless to say.

【0139】例えば、図3のメモリ・セルM−CELに
おいて、負荷抵抗R1,R2はPチャンネルのMISFE
Tにより置換して、CMOSインバータによりフリップ
・フロップを構成しても良い。また、フリップ・フロッ
プをマルチ・エミッタのNPNトランジスタにより構成
しても良い。
For example, in the memory cell M-CEL of FIG. 3, the load resistors R 1 and R 2 are P-channel MISFE.
Instead of T, a CMOS inverter may be used to form a flip-flop. Further, the flip-flop may be configured by a multi-emitter NPN transistor.

【0140】さらに、リフレッシュを行なうことによ
り、メモリ・セルM−CELはフリップ・フロップ回路
ではなく、セル容量への電荷蓄積による情報一時記憶形
回路により構成しても良い。
Further, by refreshing, the memory cell M-CEL may be configured not by a flip-flop circuit but by an information temporary storage type circuit by accumulating charges in the cell capacitance.

【0141】また、アドレスバッファADBに印加され
るアドレス信号A0〜A15の信号レベルはTTLレベル
ではなく、ECLレベルとしてアドレスバッファADB
に適切なレベル変換動作を実行させる様に構成しても良
い。
Further, the signal levels of the address signals A 0 to A 15 applied to the address buffer ADB are not the TTL level but the ECL level and are set to the address buffer ADB.
May be configured to execute an appropriate level conversion operation.

【0142】また、入力Din・出力Doutは1ビットで
はなく複数ビット(例えば、4ビット,8ビット……)の
形式に構成しても良い。
Further, the input Din and the output Dout may be constructed in a format of a plurality of bits (for example, 4 bits, 8 bits ...) Instead of 1 bit.

【0143】また、メモリ・マトリックスは、4個に限
定されるものではなく、それ以上あるいはそれ以下であ
っても良い。
The number of memory matrices is not limited to four and may be more or less.

【0144】以上の説明では主として本発明者によりな
された発明を半導体メモリに適用した場合について説明
したが、それに限定されるものではない。
In the above description, the case where the invention made by the present inventor is mainly applied to the semiconductor memory has been described, but the present invention is not limited thereto.

【0145】例えば、半導体チップ上にはメモリ・セル
特定のセルを選択するためのアドレス回路、情報の読出
し・書込みを扱う信号回路、情報の読出し・書込みの動
作を制御するためのタイミング回路だけではなく、必要
に応じてバイポーラ・アナログ回路、MOS・アナログ
回路、Pチャンネル・MOS・ロジック、Nチャンネル
・MOSロジック、CMOS・ロジック、I2L回路、
ECL回路のいずれかが半導体チップ上に配置されるこ
とも可能であることは言うまでもない。
For example, on a semiconductor chip, only an address circuit for selecting a specific cell of a memory cell, a signal circuit for handling reading / writing of information, and a timing circuit for controlling an operation of reading / writing information are used. , As required, bipolar analog circuit, MOS analog circuit, P channel MOS logic, N channel MOS logic, CMOS logic, I 2 L circuit,
It goes without saying that any of the ECL circuits can be arranged on the semiconductor chip.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例によるスタティックRAMの
内部構成を示すブロックダイアグラムである。
FIG. 1 is a block diagram showing an internal configuration of a static RAM according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1のアドレスバッファADB,ロウデコーダ
R−DCR0,R−DCR1,R−DCR2をさらに詳
細に示すブロックダイアグラムである。
2 is a block diagram showing the address buffer ADB, row decoders R-DCR0, R-DCR1 and R-DCR2 of FIG. 1 in more detail.

【図3】図1のアドレスバッファADB,カラムデコー
ダC−DCR1等をさらに詳細に示すブロックダイアグ
ラムである。
3 is a block diagram showing the address buffer ADB, column decoder C-DCR1 and the like of FIG. 1 in more detail.

【図4】準CMOS・非反転・反転回路を示す回路図で
ある。
FIG. 4 is a circuit diagram showing a quasi-CMOS / non-inverting / inverting circuit.

【図5】準CMOS・3入力NAND回路を示す回路図
である。
FIG. 5 is a circuit diagram showing a quasi-CMOS 3-input NAND circuit.

【図6】純CMOS・3入力NAND回路を示す回路図
である。
FIG. 6 is a circuit diagram showing a pure CMOS / 3-input NAND circuit.

【図7】準CMOS・2入力NOR回路を示す回路図で
ある。
FIG. 7 is a circuit diagram showing a quasi-CMOS 2-input NOR circuit.

【図8】純CMOS・2入力NOR回路を示す回路図で
ある。
FIG. 8 is a circuit diagram showing a pure CMOS 2-input NOR circuit.

【図9】純CMOS・2入力NAND回路を示す回路図
である。
FIG. 9 is a circuit diagram showing a pure CMOS 2-input NAND circuit.

【図10】準CMOS・インバータを示す回路図であ
る。
FIG. 10 is a circuit diagram showing a quasi-CMOS inverter.

【図11】図1のセンスアンプ選択回路SASCと内部
制御信号発生回路COM−GEをより詳細に示す回路図
である。
11 is a circuit diagram showing the sense amplifier selection circuit SASC and internal control signal generation circuit COM-GE in FIG. 1 in more detail.

【図12】図1のセンスアンプSA1A,データ出力中
間アンプDOIA,データ出力バッファDOB等をより
詳細に示す回路図である。
12 is a circuit diagram showing in more detail the sense amplifier SA1A, the data output intermediate amplifier DOIA, the data output buffer DOB, etc. of FIG.

【図13】図1のデータ入力バッファDIB,データ入
力中間アンプDIIA1等をより詳細に示す回路図であ
る。
13 is a circuit diagram showing the data input buffer DIB, the data input intermediate amplifier DIIA1, etc. of FIG. 1 in more detail.

【図14】図1乃至図13に示された一実施例のスタテ
ィックRAMの読出し時および書込み時の各部の信号波
形図である。
FIG. 14 is a signal waveform diagram of each part at the time of reading and writing of the static RAM of the embodiment shown in FIGS. 1 to 13.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

M−CEL…メモリセル、ADB…アドレスバッファ、
R−DCR0,R−DCR1,R−DCR2…ロウデコ
ーダ、C−DCR1〜C−DCR4…カラムデコーダ、
C−SW1〜C−SW4…カラムスイッチ、DIB…デ
ータ入力バッファ、DIIA1〜DIIA4…データ入
力中間アンプ、SA1〜SA16…センスアンプ、DO
IA…データ出力中間アンプ、DOB…データ出力バッ
ファ、COM−GE…内部制御信号発生回路、SASC
…センスアンプ選択回路。
M-CEL ... memory cell, ADB ... address buffer,
R-DCR0, R-DCR1, R-DCR2 ... Row Deco
, C-DCR1 to C-DCR4 ... column decoder,
C-SW1 to C-SW4 ... Column switch, DIB ...
Data input buffer, DIIA1 to DIIA4 ... Data input
Power intermediate amplifier, SA1 to SA16 ... Sense amplifier, DO
IA ... Data output intermediate amplifier, DOB ... Data output buffer
FA, COM-GE ... Internal control signal generation circuit, SASC
... sense amplifier selection circuit.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小高 雅則 東京都小平市上水本町1450番地 株式会社 日立製作所デバイス開発センタ内 (72)発明者 内田 英明 群馬県高崎市西横手町111番地 株式会社 日立製作所高崎工場内 (56)参考文献 特開 昭48−39157(JP,A) 特開 昭58−125291(JP,A) 実開 昭59−149733(JP,U) 実開 昭55−152728(JP,U) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Masanori Odaka, Masanori Kodaka, 1450, Kamimizumoto-cho, Kodaira-shi, Tokyo, Hitachi Device Development Center (72) Inventor, Hideaki Uchida 111, Nishiyote-cho, Takasaki-shi, Gunma Hitachi, Ltd. (56) References JP 48-39157 (JP, A) JP 58-125291 (JP, A) JP 59-149733 (JP, U) JP 55-152728 (JP) , U)

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 CMOS回路とバイポーラトランジスタ
とを組み合わせてなる内部回路と、外部端子に供給すべ
き信号を形成する出力回路とを備えてなる半導体集積回
路であって、 上記出力回路は、上記外部端子に信号を出力する出力ト
ランジスタと、上記出力トランジスタを駆動する駆動部
とを備え、 上記出力トランジスタは、そのドレインから上記外部端
子に供給すべき信号を出力するPチャンネルの第1MI
SFETと、そのドレインから上記外部端子に供給すべ
き信号を出力するNチャンネルの第2MISFETから
なり、 上記駆動部は上記第1出力MISFETを駆動する第1
駆動部と、第2出力MISFETを駆動する第2駆動部
とからなり、上記CMOS回路により形成された信号を
電流増幅して上記第1MISFETと上記第2MISF
ETのゲート容量をそれぞれチャージアップ又はディス
チャージさせるバイポーラトランジスタからなること
特徴とする半導体集積回路。
1. A semiconductor integrated circuit comprising an internal circuit formed by combining a CMOS circuit and a bipolar transistor, and an output circuit for forming a signal to be supplied to an external terminal, wherein the output circuit is the external circuit. comprising an output transistor for outputting a signal to the terminal, and a driving unit for driving the output transistor, the output transistor, the external end of the drain
1st MI of P channel which outputs the signal which should be supplied to the child
SFET and its drain should be supplied to the above external terminal.
From the second N-channel MISFET that outputs a signal
And the driving unit drives the first output MISFET to drive the first
Driving unit and second driving unit for driving second output MISFET
And the signal formed by the CMOS circuit
The current is amplified and the first MISFET and the second MISF are amplified.
Charge up or disable the gate capacitance of ET.
A semiconductor integrated circuit comprising a bipolar transistor for charging .
【請求項2】 上記第1駆動部は出力すべき入力信号と
第1制御信号とを受け、上記第1制御信号が第1レベル
であるとき上記入力信号に応じて上記第1出力MISF
ETを駆動し、かつ上記第1制御信号が第1レベルと異
なる第2レベルであるとき上記入力信号にかかわらずに
上記第1出力MISFETをオフ状態にせしめる駆動制
御信号を形成する第1CMOS論理回路を含み上記第2駆動部は上記出力すべき入力信号と上記第1制
御信号とは位相が反転させられた第2制御信号を受け、
かかる第2制御信号が上記第2レベルであるとき上記入
力信号に応じて上記第2出力MISFETを駆動し、か
つ上記第2制御信号が上記第1レベルであるとき上記入
力信号にかかわらずに上記第2出力MISFETをオフ
状態にせしめる駆動制御信号を形成する第2CMOS論
理回路を含むものである ことを特徴とする特許請求の範
囲第1項記載の半導体集積回路。
2. The first driving unit receives an input signal to be output and
The first control signal and the first control signal is at a first level
, The first output MISF according to the input signal
ET is driven and the first control signal is different from the first level.
When the second level is
Drive control for turning off the first output MISFET
A first CMOS logic circuit that forms a control signal, and the second driving unit outputs the input signal to be output and the first control circuit.
Receives the second control signal whose phase is inverted from that of the control signal,
When the second control signal is at the second level, the input
Drive the second output MISFET according to the force signal,
When the second control signal is at the first level, the input
The second output MISFET is turned off regardless of the force signal.
Second CMOS theory for forming a drive control signal that causes a state
The semiconductor integrated circuit of Claims paragraph 1, wherein a is intended to include physical circuitry.
【請求項3】 上記第1駆動回路は上記第1出力MIS
FETのゲートとソース間に設けられ、上記第1制御信
号を受けてそれが上記第2レベルのときにオン状態にさ
れるPチャンネル型の第3MISFETを備え、 上記第2駆動部は上記第2出力MISFETのゲートと
ソース間に設けられ、 上記第2制御信号を受けてそれが
上記第1レベルのときにオン状態にされるNチャンネル
型の第4MISFETを備えてなること を特徴とする特
許請求の範囲第2項記載の半導体集積回路。
3. The first drive circuit comprises the first output MIS.
The first control signal is provided between the gate and the source of the FET.
Signal and it is turned on when it is at the second level above.
A third P-channel type MISFET, and the second driving unit has a gate of the second output MISFET.
It is provided between the sources and receives the second control signal
N channel turned on at the first level
3. A semiconductor integrated circuit according to claim 2, further comprising a fourth type MISFET .
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