JPS60234292A - Mos static ram - Google Patents

Mos static ram

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JPS60234292A
JPS60234292A JP59089418A JP8941884A JPS60234292A JP S60234292 A JPS60234292 A JP S60234292A JP 59089418 A JP59089418 A JP 59089418A JP 8941884 A JP8941884 A JP 8941884A JP S60234292 A JPS60234292 A JP S60234292A
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JP
Japan
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load
complementary data
data line
mos
circuit
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Application number
JP59089418A
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Japanese (ja)
Inventor
Katsuro Sasaki
佐々木 勝朗
Shinji Ishikawa
真司 石川
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Static Random-Access Memory (AREA)

Abstract

PURPOSE:To attain the high-speed working of an MOS static RAM by providing a load FET with which a complementary data line is turned on in a non-selection mode. CONSTITUTION:When a complementary data line DO and a line DO', etc. are put under a non-selection state by a low level column selection signal YO, etc., the output YO' of an inverter IVO is changed to a high level. Then load MOSFET Q13 and Q14 connected in parallel to load MOSFETQ5 and Q6 respectively are turned on. Thus the conductances of lines DO and DO' are increased and both lines have an approximately equal potential with no remain of the preceding read information. Therefore, the time is shortened to change the line DO' to a high level according to the storage contents of a memory cell MC. Thus the working speed of an MOS static RAM can be increased.

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 この発明は、MOSFET (絶縁ゲート形電界効果ト
ランジスタ)で構成されたスタティック型RAM (ラ
ンダム・アクセス・メモリ)に関するもので、例えば、
CMO3(相補型MO3)回路で構成されたものに利用
して有効な技術に関するものである。
[Detailed Description of the Invention] [Technical Field] The present invention relates to a static RAM (Random Access Memory) composed of MOSFETs (Insulated Gate Field Effect Transistors).
The present invention relates to a technique that is effective when used in a device configured with a CMO3 (complementary MO3) circuit.

〔背景技術〕[Background technology]

MOSスタティック型RAMにおけるメモリアレイは、
メモリセルを構成するスタティック型フリップフロップ
回路の入出力端子が伝送ゲートMO3FETを介して一
対の相補データ線り、Dに接続される。この相補データ
線り、Dには、負荷抵抗としてのMO3FF、Tが設け
られる。この負荷抵抗としてのMOS F ETのコン
ダクタンス特性は、小さな値に設定される。なぜなら、
大記憶容量化のためにメモリアレイには、多数のメモリ
セルを構成するために、その素子サイズが小さく形成さ
れる。そして、上記伝送ゲートMO3FETがオン状態
となって、上記フリップフロップ回路の入出力端子が接
続されとき、フリップフロップ回路を構成するオン状態
となっている駆動MO3FET及び上記伝送ゲートMO
3FETのコンダクタンス特性と、上記負荷MO3FE
Tのコンダクタンス特性とのコンダクタンス特性比に従
って相補データ線の読み出しロウレベルが決定されるか
ら、必然的に上記負荷MO3FETのコンダクタンス特
性は小さく設定される。したがって、同じ相補データ線
に対して設けられたメモリセルの読み出し動作において
、反転読み出しを行うとき、言い換えるならば、論理″
O”の記憶情報の読み出しの後に論理“1”の記憶情報
の読み出しを行う場合、相補データ線には前の論理“0
”の情報が残ったままであるため、上記率さなコンダク
タンス特性の負荷MOS F ETによりロウレベルか
らハイレベルに変化させるのに比較的長時間を費やすこ
ととなってしまうという問題が生じる。
The memory array in MOS static RAM is
Input/output terminals of a static flip-flop circuit constituting a memory cell are connected to a pair of complementary data lines D via a transmission gate MO3FET. This complementary data line D is provided with MO3FF, T as a load resistance. The conductance characteristic of the MOS FET serving as this load resistance is set to a small value. because,
In order to increase storage capacity, a memory array is formed with a small element size in order to configure a large number of memory cells. When the transmission gate MO3FET is turned on and the input/output terminals of the flip-flop circuit are connected, the driving MO3FET and the transmission gate MO3FET in the on state constituting the flip-flop circuit are connected.
3FET conductance characteristics and the above load MO3FE
Since the read low level of the complementary data line is determined according to the conductance characteristic ratio with the conductance characteristic of T, the conductance characteristic of the load MO3FET is inevitably set small. Therefore, in the read operation of memory cells provided for the same complementary data line, when performing inverted read, in other words, the logic
When reading the storage information of logic “1” after reading the storage information of “0”, the complementary data line has the previous logic “0”.
Since the information "" remains, a problem arises in that it takes a relatively long time to change from a low level to a high level using the load MOSFET having the poor conductance characteristics.

MOSスタティック型RAMについては、特開昭57−
198594号公報に詳しくのべられている。
Regarding MOS static type RAM, please refer to Japanese Patent Application Laid-open No. 1987-
It is described in detail in the 198594 publication.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

この発明の目的は、高速動作化を図ったMOSスタティ
ック型RAMを提供することにある。
An object of the present invention is to provide a MOS static type RAM that operates at high speed.

この発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、
この明細書の記述および添付図面から明らかになるであ
ろう。
The above and other objects and novel features of this invention include:
It will become clear from the description of this specification and the accompanying drawings.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、下記の通りである。
A brief overview of typical inventions disclosed in this application is as follows.

すなわち、メモリアレイを構成する一対の相補データ線
に設けらる負荷手段として、定常的に動作状態にされた
一対の第1の負荷MOS F ETと、これらの負荷M
O3FETに並列形態に設けられ、その相補データ線が
非選択状態の時にオン状態となるように制御される一対
の第2の負荷MO3FETとを設けることによって、同
じ相補データ線におけるメモリセルからの反転読み出し
の高速化を達成するものである。
That is, as load means provided on a pair of complementary data lines constituting a memory array, a pair of first load MOS FETs which are kept in a steady state of operation, and these loads M
By providing a pair of second loads MO3FETs that are arranged in parallel with the O3FETs and are controlled to be in the on state when the complementary data line thereof is in the non-selected state, the inversion from the memory cell on the same complementary data line is This achieves high-speed reading.

〔実施例〕〔Example〕

第1図には、この発明の一実施例の回路図が示されてい
る。特に制限されないが、同図のRAMは、公知のCM
O3(相補型−命属一絶縁物−半導体)集積回路(IC
)技術によって1個のシリコン単結晶のような半導体基
板上に形成される。
FIG. 1 shows a circuit diagram of an embodiment of the present invention. Although not particularly limited, the RAM in the figure may be a known CM
O3 (Complementary-Insulator-Semiconductor) Integrated Circuit (IC
) technology on a semiconductor substrate such as a silicon single crystal.

端子Ax、Ay、Din、Dout 、WE及びCSは
、その外部端子とされる。なお、同図において電源供給
端子は省略されている。
The terminals Ax, Ay, Din, Dout, WE and CS are its external terminals. Note that the power supply terminal is omitted in the figure.

メモリセルMCは、その1つの具体的回路が代表として
示されており、ゲートとドレインが互いに交差結線され
た記憶MO5FETQI、Q2と、上記MO3FETQ
I、Q2のドレインと電源電圧VDDとの間には、情報
保持用のポリ (多結晶)シリコン層で形成された高抵
抗R1,R2が設けられている。そして、上記MO5F
ETQI、Q2の共通接続点と相補データ線DO,Do
との間に伝送ゲートMO5FETQ3.Q4が設けられ
いてる。他のメモリセルMCも相互において同様な回路
構成にされている。これらのメモリセルは、マトリック
ス状に配置されでいる。同じ行に配置されたメモリセル
の伝送ゲートMO3FETQ3゜Q4等のゲートは、そ
れぞれ対応するワード線WO及びWlに共通に接続され
、同じ列に配置されたメモリセルの入出力端子は、それ
ぞれ対応する一対の相補データ(又はビット)線Do、
Do及びDi、DIに接続される。
One specific circuit of the memory cell MC is shown as a representative, and includes memory MO5FETQI, Q2 whose gates and drains are cross-connected to each other, and the MO3FETQ mentioned above.
High resistances R1 and R2 formed of a polycrystalline silicon layer for information retention are provided between the drains of I and Q2 and the power supply voltage VDD. And the above MO5F
Common connection point of ETQI, Q2 and complementary data lines DO, Do
A transmission gate MO5FETQ3. Q4 is provided. Other memory cells MC also have similar circuit configurations. These memory cells are arranged in a matrix. The gates of the transmission gates MO3FETQ3゜Q4, etc. of the memory cells arranged in the same row are commonly connected to the respective corresponding word lines WO and Wl, and the input/output terminals of the memory cells arranged in the same column are respectively connected to the corresponding word lines WO and Wl. a pair of complementary data (or bit) lines Do,
Connected to Do, Di, and DI.

上記メモリセルMCにおいて、それを低消費電力にさせ
るため、その抵抗R1は、MOS F ETQlがオフ
状態にされているときのMOS F ETQ2のゲート
電圧をしきい値電圧以上に維持させることができる程度
の高抵抗値にされる。同様に抵抗R2も高抵抗値にされ
る。言い換えると、上記抵抗R1は、MO3FETQI
のドレインリーク電流によってMO5FETQ2のゲー
ト容量(図示しない)に蓄積されている情報電荷が放電
させられてしまうのを防ぐ程度の電流供給能力を持つよ
うにされる。
In the memory cell MC, in order to make it consume low power, the resistor R1 can maintain the gate voltage of MOS FETQ2 above the threshold voltage when MOS FETQl is turned off. The resistance value is set to a certain level. Similarly, the resistor R2 is also made to have a high resistance value. In other words, the resistor R1 is the MO3FETQI
The MO5FET Q2 is designed to have a current supply capability sufficient to prevent the information charges stored in the gate capacitance (not shown) from being discharged due to the drain leakage current of the MO5FETQ2.

この実施例に従うと、RAMが0MO3−I C技術に
よって製造されるにもかかわらず、上記のようにメモリ
セルMCはnチャンネルMO3FETとポリシリコン抵
抗素子とから構成される。
According to this embodiment, although the RAM is manufactured by OMO3-IC technology, the memory cell MC is composed of an n-channel MO3FET and a polysilicon resistance element as described above.

上記ポリシリコン抵抗素子に代えてpチャンネルMO8
FETを用いる場合に比べ、メモリセル及びメモリアレ
イの大きさを小さくできる。すなわち、ポリシリコン抵
抗を用いた場合、駆動MO3FETQI又はG2のゲー
ト電極と一体的に形成できるとともに、それ自体のサイ
ズを小型化できる。そして、pチャンネルMO5FET
を用いたときのように、駆動MO3FETQ1.Q2か
ら比較的大きな距離を持って離さなければならないこと
がないので無駄な空白部分が生しない。
p channel MO8 instead of the above polysilicon resistance element
Compared to the case of using FETs, the size of the memory cell and memory array can be made smaller. That is, when a polysilicon resistor is used, it can be formed integrally with the gate electrode of the drive MO3FET QI or G2, and its size can be reduced. And p-channel MO5FET
As when using the driving MO3FETQ1. Since it does not have to be separated from Q2 by a relatively large distance, no unnecessary blank space is created.

同図において、ワード線WOは、XアドレスデコーダX
−DCRで形成された選択信号を受ける駆動回路DVO
によって選択される。他のワード線W1についても同様
である。
In the figure, the word line WO is connected to the X address decoder
- Drive circuit DVO that receives the selection signal formed by DCR
selected by The same applies to the other word lines W1.

上記XアドレスデコーダX−DCRは、相互ニおいて類
似のノアゲート回路Gl、02等により構成される。こ
れらのノアゲート回路Gl、G2等には、例えばに+l
ビットからなる外部アドレス信号Ax(図示しない適当
な回路装置から出力されたアドレス信号)を受けるXア
ドレスバッファX−ADBで加工された内部相補アドレ
ス信号aO,aO〜ak、akが所定の組合せにより印
加される。また、上記XアドレスバッファX−ADBに
は、初段カット機能を持たせるため、内部チップ選択信
号ceが印加される。
The X-address decoder X-DCR is composed of mutually similar NOR gate circuits Gl, 02, etc. These NOR gate circuits Gl, G2, etc. have +l, for example.
Internal complementary address signals aO, aO to ak, ak processed by an X address buffer be done. Furthermore, an internal chip selection signal ce is applied to the X address buffer X-ADB in order to provide the first stage cut function.

上記メモリアレイにおける一対の相補データ線DO,D
O及びDI、DIは、それぞれデータ線選択のための伝
送ゲートMO3FETQ9.QlO及びQll、G12
から構成されたカラムスイッチ回路を介してコモン相補
データ線CD、CDに接続される。このコモン相補デー
タ1JlcD、cDには、読み出し回路DOBの入力端
子と、書込み回路DIBの出力端子が接続される。上記
読み出し回路DOBの出力端子は、データ出力端子Do
utに読み出し信号を送出し、書込み回路DIBの入力
端子は、データ入力端子Dinがら供給される書込みデ
ータ信号が印加される。
A pair of complementary data lines DO, D in the memory array
O, DI, and DI are transmission gates MO3FETQ9.0 and DI, respectively, for data line selection. QlO and Qll, G12
It is connected to the common complementary data lines CD, CD through a column switch circuit composed of the following. The input terminal of the read circuit DOB and the output terminal of the write circuit DIB are connected to the common complementary data 1JlcD, cD. The output terminal of the readout circuit DOB is the data output terminal Do.
A read signal is sent to ut, and a write data signal supplied from the data input terminal Din is applied to the input terminal of the write circuit DIB.

また、上記メモリアレイにおける代表として示された一
対の相補データ線DO,DO及びDI。
Also, a pair of complementary data lines DO, DO and DI are shown as representative in the memory array.

Diには、それぞれ負荷手段としてのMO3FETQ5
〜Q8が設けられる。これらのMO3FETQ5〜Q8
は、そのゲートとドレインとが共通接続されることによ
って、定常的に動作状態にされる。また、反転読み出し
動作の高速化を図るために、上記MO3FETQ5〜Q
Bには、それぞれ並列形態にMO3FETQI 3〜Q
16が設けられる。これらのMO3FF、TQI 3〜
Q16のゲートには、後述する相補データ線選択信号Y
O2Y1の反転信号YO,Ylが供給される。
Di has MO3FETQ5 as a load means.
~Q8 is provided. These MO3FETQ5~Q8
are kept in a steady state of operation by having their gates and drains commonly connected. In addition, in order to speed up the inversion read operation, the MO3FETs Q5 to Q
B has MO3FETQI 3 to Q in parallel form, respectively.
16 are provided. These MO3FF, TQI 3~
A complementary data line selection signal Y, which will be described later, is applied to the gate of Q16.
Inverted signals YO and Yl of O2Y1 are supplied.

上記カラムスイッチ回路を構成するMO3FETQ9.
QI O及びQll、G12のゲートには、それぞれY
アドレスデコーダY−DCRによって形成さた選択信号
YO,Ylが供給される。このYアドレスデコーダY−
DCRは、相互において類似のノアゲート回路G3.G
4等により構成される。これらのノアゲート回路G3.
G4等には、例えばj+1ビットからなる外部アドレス
信号Ay(図示しない適当な回路装置から出力されたア
ドレス信号)を受けるYアドレスバッファY−ADHで
加工された内部相補アドレス信号aQ、aOxaj、a
jが所定の組合せにより印加される。
MO3FETQ9 that constitutes the above column switch circuit.
The gates of QI O, Qll, and G12 each have Y
Selection signals YO and Yl formed by address decoder Y-DCR are supplied. This Y address decoder Y-
DCR is a mutually similar NOR gate circuit G3. G
Consists of 4th grade. These NOR gate circuits G3.
G4, etc., are internal complementary address signals aQ, aOxaj, a processed by a Y address buffer Y-ADH that receives an external address signal Ay (address signal output from an appropriate circuit device not shown) consisting of, for example, j+1 bits.
j are applied in a predetermined combination.

上記ノアゲート回路G3.G4によって形成された選択
信号YO,Ylは、インバータ回路IVO。
The above NOR gate circuit G3. The selection signals YO and Yl formed by G4 are applied to the inverter circuit IVO.

IVIに供給され、上記負荷MO3FETQI 3〜Q
16に供給する反転信号YO,Ylが形成される。
IVI and the above load MO3FETQI 3~Q
16 are formed.

制御回路CONは、外部端子WE、C3からの制御信号
を受けて、上記内部制御タイミング信号5等を形成する
The control circuit CON receives control signals from external terminals WE and C3 and forms the internal control timing signal 5 and the like.

この実施例では、チップ非選択時において全ワード線を
非選択状態とするため、特に制限されないが、ワード線
WOを選択するノアゲート回路G1の入力に上記内部チ
ップ選択信号「7が印加される。これによって、上記チ
ップ非選択時において、上記ワード線WOの選択動作を
禁止するため、ノアゲート回路G1に内部チップ選択信
号こτを供給しているので、アドレスバッファにおける
初段カット動作によって上記アドレス信号aQxakが
全てロウレベルであっても、上記内部チップ選択信号前
のハイレベルによって、その出力をロウレベルの非選択
状態とするものである。
In this embodiment, since all word lines are in a non-selected state when a chip is not selected, the internal chip selection signal "7" is applied to the input of the NOR gate circuit G1 that selects the word line WO, although this is not particularly limited. As a result, when the chip is not selected, the internal chip selection signal τ is supplied to the NOR gate circuit G1 in order to inhibit the selection operation of the word line WO. Even if all of the chips are at a low level, the high level before the internal chip selection signal causes the output to be at a low level and in a non-selected state.

このようにしたのは、次の理由によるものである。すな
わち、チップ非選択時において1つのワード線を選択状
態にしておくと、チップ非選択状態によって上記負荷M
O3FETQI 3〜Q16が全てオン状態となって相
補データ線に比較的大きな電流を供給しつづけるため、
選択されたメモリセルMCの伝送ゲートMOS F E
Tとオン状態となっている情報記憶用MOS F ET
とを通して直流電流が流れつづけることになって、無効
電流を増加させてしまうからである。
This was done for the following reasons. That is, if one word line is kept in a selected state when a chip is not selected, the load M
Since O3FETQI3 to Q16 are all turned on and continue to supply a relatively large current to the complementary data line,
Transmission gate MOS F E of selected memory cell MC
T and information storage MOS FET in on state
This is because the DC current continues to flow through the terminal, increasing the reactive current.

次に、第2図に示した動作波形図を参照して、この実施
例のメモリセルの反転読み出し動作を説明する。
Next, the inversion read operation of the memory cell of this embodiment will be explained with reference to the operational waveform diagram shown in FIG.

チップ選択信号C8がロウレベルのチップ選択状態にお
いて、図示しないアドレス信号の供給によって、1つの
メモリセルが選択されることによって、例えば、相補デ
ータ線Doがハイレベルに、DOがロウレベルになる。
In a chip selection state where the chip selection signal C8 is at a low level, one memory cell is selected by supplying an address signal (not shown), so that, for example, the complementary data line Do becomes high level and DO becomes low level.

そして、アドレス信号が変化してカラム選択信号YOが
ロウレベルの非選択状態になると1.これによって、そ
の反転信号YOがハイレベルになるので、上記相補デー
タ線Do、Doの負荷MO3FETQ13.Q14がオ
ン状態となるので、同図に実線で示すように高速にロウ
レベルのデータ線DOをハイレベルに持ち上げる。した
がって、チップ選択信号C3がロウレベルにされ、他の
1つのワード線を選択状態として、他のメモリセルから
反転記憶情報を読み出す時、相補データ線DO,Doの
電位がぼり同じになっているので、選択されたメモリセ
ルの記憶情報に従ってデータ線Doがロウレベルに変化
する。
Then, when the address signal changes and the column selection signal YO becomes a low level non-selected state, 1. As a result, the inverted signal YO becomes high level, so that the loads MO3FETQ13 . Since Q14 is turned on, the data line DO, which is at a low level, is raised to a high level at high speed, as shown by the solid line in the figure. Therefore, when the chip selection signal C3 is set to low level and another word line is selected to read inverted memory information from another memory cell, the potentials of the complementary data lines DO rise and become the same. , the data line Do changes to low level according to the storage information of the selected memory cell.

なお、上記MO3FETQ13〜Q16等が設けられて
いない場合には、小さなコンダクタンス1 特性の負荷MO5FETQ5.Q6等しか設けられてい
ないので、同図に点線で示されているように、以前の読
み出しレベルが残ったままとなっている。これにより、
ロウレベルのデータ線DOをハイレベルに引き上げるの
に長時間を要することになるので、読み出し動作が遅く
なってしまう。
Note that if the above MO3FETs Q13 to Q16 etc. are not provided, load MO5FETs Q5. Since only Q6 etc. are provided, the previous read level remains as shown by the dotted line in the figure. This results in
Since it takes a long time to raise the low level data line DO to high level, the read operation becomes slow.

このため、データ線の選択タイミングも同図に点線で示
すように大幅に遅くなってしまうものである。
For this reason, the selection timing of the data line is also significantly delayed, as shown by the dotted line in the figure.

〔効 果〕〔effect〕

(11力ラム選択信号を利用して比較的電流駆動能力の
大きなMOS F ETをオン状態とすることによって
、以前の読み出し動作によって残っている相補データ線
のレベルを高速にクリアすることができる。これによっ
て、反転読み出し動作の高速化を図ることができるとい
う効果が得られる。
(By using the RAM selection signal to turn on a MOSFET with a relatively large current drive capability, the level of the complementary data line remaining from the previous read operation can be cleared quickly. This provides the effect of increasing the speed of the inversion read operation.

(2)チップ非選択時においては、内部チップ選択信号
乙によって、全ワード線を非選択状態とすることができ
るから、メモリセルを構成する伝送ゲートMOS F 
ETが全てオフ状態となることによ2 って、上記カラム非選択号によってオン状態となるMO
SFETを設けたにもかかわらずデータ線からメモリセ
ルを通して電流が流れるのを防止することができるとい
う効果が得られる。
(2) When the chip is not selected, all word lines can be set to the non-selected state by the internal chip selection signal B, so the transmission gate MOS F that constitutes the memory cell
By turning all ETs off, the MO turns on due to the column non-selection signal.
Even though the SFET is provided, it is possible to prevent current from flowing from the data line through the memory cell.

(3)チップ非選択時に全ワード線を非選択状態する回
路は、アドレスバッファでの初段カット機能を利用して
いるので、1つのアドレスデコーダ回路を構成するノア
ゲート回路等に1つの入力端子を追加するだけであるの
で、CM OS回路にあっては2個のMOS F ET
を追加するだけで実現できるから、極めて簡単な回路構
成とすることができるという効果が得られる。
(3) The circuit that unselects all word lines when a chip is not selected uses the first-stage cut function of the address buffer, so one input terminal is added to the NOR gate circuit, etc. that constitutes one address decoder circuit. Therefore, in the CM OS circuit, two MOS FETs are required.
Since this can be realized by simply adding , it is possible to achieve the effect of having an extremely simple circuit configuration.

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、この発明は上記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることはいうまでもない。例えば、メモリセルは
、pチャンネルMO3FETとnチャンネルMOS F
 ETとを組合せて構成されたスタティック型フリップ
フロップ回路を用いるものであってもよい。また、負荷
MO5FETQ5〜Q8は、ポリシリコン等の抵抗手段
に置き換えるものであってもよい。さらに、メモリアレ
イの構成及びその周辺回路の具体的回路構成は、種々の
実施形態を採ることができるものである。
Although the invention made by the present inventor has been specifically explained above based on Examples, it goes without saying that this invention is not limited to the above Examples and can be modified in various ways without departing from the gist thereof. Nor. For example, the memory cell is a p-channel MO3FET and an n-channel MOSFET.
A static flip-flop circuit constructed by combining ET may also be used. Further, the load MO5FETs Q5 to Q8 may be replaced with resistance means such as polysilicon. Furthermore, the configuration of the memory array and the specific circuit configuration of its peripheral circuits can take various embodiments.

〔利用分野〕[Application field]

この発明は、MOSスタティック型RAMに広く適用す
ることができる。
This invention can be widely applied to MOS static RAM.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、この発明の一実施例を示す回路図、第2図は
、その反転読み出し動作の一例を説明するための動作波
形図である。 X−ADH・・Xアドレスバッファ、Y−ADB・・X
アドレスバッファ、X −D CR・・Xアドレスデコ
ーダ、Y−DCR・・Yアドレスデコーダ、MC・・メ
モリセル、DIB・・書込み回路、DOB・・読み出し
回路、CON・・制御回路 5
FIG. 1 is a circuit diagram showing one embodiment of the present invention, and FIG. 2 is an operation waveform diagram for explaining an example of the inversion read operation. X-ADH...X address buffer, Y-ADB...X
Address buffer, X-D CR...X address decoder, Y-DCR...Y address decoder, MC...memory cell, DIB...write circuit, DOB...read circuit, CON...control circuit 5

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、メモリアレイを構成する一対の相補データ線に設け
らた第1の負荷手段と、これらの負荷手段に並列形態に
設けられ、その相補データ線が非選択状態の時にオン状
態となるように制御される一対の第2の負荷MO3FE
Tとを含むことを特徴とするMOSスタティック型RA
M。 2、上記MOSスタティック型RAMは、CMO8回路
により構成されるものであり、相補データ線を選択する
ためのカラムスイッチMO3FETと、上記第1の負荷
手段及び第2の負荷MO3FETは、nチャンネルMO
3FETにより構成され、上記第2の負荷MOS F 
ETの制御信号は、相補データ線選択信号の反転信号で
あることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のMO
Sスタティック型RAM。 3、上記MOSスタティック型RAMを構成するメモリ
セルは、そのゲート、ドレインが交差結線された情報記
憶用MO3FETと、それぞれのドレインと電源電圧と
の間に設けられた情報保持用の高抵抗手段とを含むもの
であることを特徴とする特許請求の範囲第2項記載のM
OSスタティック型RAM。
[Claims] 1. A first load means provided on a pair of complementary data lines constituting a memory array, and a first load means provided in parallel with these load means, when the complementary data line is in a non-selected state. A pair of second loads MO3FE controlled to be in the on state
MOS static type RA characterized by including T
M. 2. The MOS static type RAM is composed of eight CMO circuits, and the column switch MO3FET for selecting a complementary data line and the first load means and second load MO3FET are n-channel MO3FETs.
The second load MOS F
The MO according to claim 1, wherein the ET control signal is an inverted signal of the complementary data line selection signal.
S static type RAM. 3. The memory cells constituting the MOS static type RAM include MO3FETs for information storage whose gates and drains are cross-connected, and high resistance means for information storage provided between each drain and a power supply voltage. M according to claim 2, characterized in that it includes
OS static type RAM.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63144488A (en) * 1986-12-06 1988-06-16 Fujitsu Ltd Semiconductor storage device
US5317541A (en) * 1989-10-30 1994-05-31 International Business Machines Corporation Bit decoder for generating select and restore signals simultaneously

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