JPH07118399B2 - 荷電粒子ビーム加速器の調整パラメータ表示設定装置 - Google Patents
荷電粒子ビーム加速器の調整パラメータ表示設定装置Info
- Publication number
- JPH07118399B2 JPH07118399B2 JP16912088A JP16912088A JPH07118399B2 JP H07118399 B2 JPH07118399 B2 JP H07118399B2 JP 16912088 A JP16912088 A JP 16912088A JP 16912088 A JP16912088 A JP 16912088A JP H07118399 B2 JPH07118399 B2 JP H07118399B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- adjustment parameter
- adjustment
- particle beam
- coordinate system
- charged particle
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Particle Accelerators (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は荷電粒子ビーム加速器、特にサイクロトロンの
運転制御の際に用いられる調整パラメータの設定及び表
示を行う設定表示装置に関する。
運転制御の際に用いられる調整パラメータの設定及び表
示を行う設定表示装置に関する。
(従来の技術) 一般に、サイクロトロンでは、サイクロトロンを構成す
る要素(例えば、メインコイル、Qマグネット、デフレ
クタ等)ごとに調整パラメータ(運転パラメータ)が設
定されており、これら調整パラメータに基づいて各構成
要素の制御を行っている。
る要素(例えば、メインコイル、Qマグネット、デフレ
クタ等)ごとに調整パラメータ(運転パラメータ)が設
定されており、これら調整パラメータに基づいて各構成
要素の制御を行っている。
サイクロトロンを運転制御する際には、ディスプレイ上
に現時点における各種の調整パラメータを数値として表
示するとともに荷電粒子ビームの電流値を検出し(以下
この電流値を検出ビーム電流値という)、この検出ビー
ム電流値を表示して、これら調整パラメータ及び検出ビ
ーム電流値を対比して、オペレータが最適のビーム電流
値が得られるように調整パラメータを調節(変化)して
いる。
に現時点における各種の調整パラメータを数値として表
示するとともに荷電粒子ビームの電流値を検出し(以下
この電流値を検出ビーム電流値という)、この検出ビー
ム電流値を表示して、これら調整パラメータ及び検出ビ
ーム電流値を対比して、オペレータが最適のビーム電流
値が得られるように調整パラメータを調節(変化)して
いる。
(発明が解決しようとする課題) ところで、従来の場合、上述のようにディスプレイ上に
調整パラメータ(数値)及び検出ビーム電流値を単に表
示しているから、複数の調整パラメータ相互の関係を直
接認識することができず、その結果、パラメータの調整
には熟練を必要とし、オペレータに過度の負担を強いる
ばかりでなく、荷電粒子ビームの調整に時間がかかると
いう問題点がある。
調整パラメータ(数値)及び検出ビーム電流値を単に表
示しているから、複数の調整パラメータ相互の関係を直
接認識することができず、その結果、パラメータの調整
には熟練を必要とし、オペレータに過度の負担を強いる
ばかりでなく、荷電粒子ビームの調整に時間がかかると
いう問題点がある。
本発明の目的は容易にパラメータの調整が行うことので
きる調整パラメータ表示設定装置を提供することにあ
る。
きる調整パラメータ表示設定装置を提供することにあ
る。
(課題を解決するための手段) 本発明によれば、荷電粒子ビーム加速器を運転制御する
際に用いられる複数の調整パラメータを設定表示する際
に用いられ、過去の調整パラメータを記憶する記憶手段
と、調整パラメータを設定する制定手段と、過去の調整
パラメータを統計的手法で解析して調整パラメータを二
軸座標系に表示する際の変換係数を求め該変換係数を用
いて調整パラメータを二軸座標系変換値に変換する演算
手段と、前記二軸座標系変換値を前記二軸座標系に表示
する表示手段とを有し、現時点で前記荷電粒子ビーム加
速器の運転制御に用いられている調整パラメータの変換
値と過去の調整パラメータの変換値とを区別して表示す
るようにしたことを特徴とする荷電粒子ビーム加速器の
調整パラメータ表示設定装置が得られる。
際に用いられる複数の調整パラメータを設定表示する際
に用いられ、過去の調整パラメータを記憶する記憶手段
と、調整パラメータを設定する制定手段と、過去の調整
パラメータを統計的手法で解析して調整パラメータを二
軸座標系に表示する際の変換係数を求め該変換係数を用
いて調整パラメータを二軸座標系変換値に変換する演算
手段と、前記二軸座標系変換値を前記二軸座標系に表示
する表示手段とを有し、現時点で前記荷電粒子ビーム加
速器の運転制御に用いられている調整パラメータの変換
値と過去の調整パラメータの変換値とを区別して表示す
るようにしたことを特徴とする荷電粒子ビーム加速器の
調整パラメータ表示設定装置が得られる。
(作用) 本発明では記憶手段に記憶された過去の調整パラメータ
を用い、演算手段によってこれら過去の調整パラメータ
を統計的手法で解析して調整パラメータを二軸座標系に
表示する際の変換係数を算出して、この変換係数を用い
て調整パラメータを二軸座標系変換値に変換する。そし
て、この変換値を表示手段上の二軸座標系に表示する。
を用い、演算手段によってこれら過去の調整パラメータ
を統計的手法で解析して調整パラメータを二軸座標系に
表示する際の変換係数を算出して、この変換係数を用い
て調整パラメータを二軸座標系変換値に変換する。そし
て、この変換値を表示手段上の二軸座標系に表示する。
オペレータは、二軸座標系上の変換値と検出電流ビーム
とを対比して調整パラメータの変換を行う。この新たな
調整パラメータは、過去の調整パラメータとして記憶手
段に記憶され、演算手段は、上述の変換係数を用いてこ
の新たな調整パラメータを変換値に変換してこの変換値
を表示手段上の二軸座標系に表示する。この際、荷電粒
子ビーム加速器の運転制御に現時点で用いられている調
整パラメータの変換値と過去の調整パラメータの変換値
とは区別して表示される。そして、以下同様にして、調
整パラメータが変更され、表示手段に表示される。
とを対比して調整パラメータの変換を行う。この新たな
調整パラメータは、過去の調整パラメータとして記憶手
段に記憶され、演算手段は、上述の変換係数を用いてこ
の新たな調整パラメータを変換値に変換してこの変換値
を表示手段上の二軸座標系に表示する。この際、荷電粒
子ビーム加速器の運転制御に現時点で用いられている調
整パラメータの変換値と過去の調整パラメータの変換値
とは区別して表示される。そして、以下同様にして、調
整パラメータが変更され、表示手段に表示される。
(実施例) 以下本発明について実施例によって説明する。
まず、第1図を参照して、サイクロトロン等の荷電粒子
ビーム加速器システム1には制御用コンピュータシステ
ム2が連結されており、この制御用コンピュータシステ
ム2には調整パラメータ入力装置3及びディスプレイ装
置(CRT)4が接続されている。
ビーム加速器システム1には制御用コンピュータシステ
ム2が連結されており、この制御用コンピュータシステ
ム2には調整パラメータ入力装置3及びディスプレイ装
置(CRT)4が接続されている。
制御用コンピュータシステム2は中央処理装置(CPU)2
a、制御プログラムが格納されたメモリ2b、及び磁気デ
ィスク装置2cを備えており、前述の入力装置3及びCRT4
はそれぞれインタフェース2d及び2eを介してCPU2aに接
続されている。また、CPU2aにはインタフェース2f及び1
aを介してビーム電流検出用プローブ1bが接続されてい
る。
a、制御プログラムが格納されたメモリ2b、及び磁気デ
ィスク装置2cを備えており、前述の入力装置3及びCRT4
はそれぞれインタフェース2d及び2eを介してCPU2aに接
続されている。また、CPU2aにはインタフェース2f及び1
aを介してビーム電流検出用プローブ1bが接続されてい
る。
磁気ディスク装置2cには、従前(過去)において、サイ
クロトロン1の運転制御に用いられた全ての調整パラメ
ータが予め格納されており、複数の調整パラメータから
回帰式等の統計的手法による実験式によって導かれた物
理量を制御量として表示座標系{二軸座標系(X−Y座
標系}に割り当てる際には、CPU2aはこれら過去の調整
パラメータを統計的に解析して第(1)式に示すような
係数行列(変換行列)Aを求める。この変換行列Aは表
示される制御量X及びYとn個(nは2以上の整数)の
調整パラメータP1,P2,…,Pnの関係式を与える。つま
り、CPU2aは過去の調整パラメータを統計的手法で解析
して調整パラメータを二軸座標に表示する際の変換行列
Aを求める。なお、予め過去の調整パラメータに基づい
て変換行列Aを求めて、オペレータからの入力によりメ
モリ2bに変換行列Aを格納しておいてもよい。
クロトロン1の運転制御に用いられた全ての調整パラメ
ータが予め格納されており、複数の調整パラメータから
回帰式等の統計的手法による実験式によって導かれた物
理量を制御量として表示座標系{二軸座標系(X−Y座
標系}に割り当てる際には、CPU2aはこれら過去の調整
パラメータを統計的に解析して第(1)式に示すような
係数行列(変換行列)Aを求める。この変換行列Aは表
示される制御量X及びYとn個(nは2以上の整数)の
調整パラメータP1,P2,…,Pnの関係式を与える。つま
り、CPU2aは過去の調整パラメータを統計的手法で解析
して調整パラメータを二軸座標に表示する際の変換行列
Aを求める。なお、予め過去の調整パラメータに基づい
て変換行列Aを求めて、オペレータからの入力によりメ
モリ2bに変換行列Aを格納しておいてもよい。
上述の過去の調整パラメータ及び変換行列Aを用いて、
CPU2aは第(2)式によって調整パラメータを二軸座標
系変換値(制御量)に変換する。そして、この制御量を
CRT画面上のX−Y座標系に表示する。
CPU2aは第(2)式によって調整パラメータを二軸座標
系変換値(制御量)に変換する。そして、この制御量を
CRT画面上のX−Y座標系に表示する。
ここで、P1,P2,…Pnはサイクロトロン運転中のある時点
における調整パラメータを示す。従って、調整パラメー
タが1つでも変化すると、新たにX−Y座標系上にプロ
ット点が表示される。
における調整パラメータを示す。従って、調整パラメー
タが1つでも変化すると、新たにX−Y座標系上にプロ
ット点が表示される。
ここで、サイクロトロン1の運転制御を開始する際に、
新たに調整パラメータを入力装置3から入力する(以下
これを現時点の調整パラメータという)。そして、この
現時点の調整パラメータ(P1′,P2′…,Pn′)に基づい
てサイクロトロンの各構成要素が制御される。この際、
CPU2aは、上述の第(2)式によって現時点の調整パラ
メータを二軸座標系に変換値に変換する。
新たに調整パラメータを入力装置3から入力する(以下
これを現時点の調整パラメータという)。そして、この
現時点の調整パラメータ(P1′,P2′…,Pn′)に基づい
てサイクロトロンの各構成要素が制御される。この際、
CPU2aは、上述の第(2)式によって現時点の調整パラ
メータを二軸座標系に変換値に変換する。
一方、サイクロトロン1における荷電粒子ビームの電流
値がプローブ1bによって検出され、検出ビーム電流値と
してCPU2aに入力される。
値がプローブ1bによって検出され、検出ビーム電流値と
してCPU2aに入力される。
CPU2aは過去の調整パラメータをX−X座標系に変換し
たプロット点を第2図(b)に示すように順次CRT4上に
表示していく(+で示す)。また、現在の調整パラメー
タをX−Y座標系に変換したプロット点をCRT4上に表示
する(▲で示す)。この際、第2図(a)に示すように
CRT4上に検出ビーム電流値が表示される。
たプロット点を第2図(b)に示すように順次CRT4上に
表示していく(+で示す)。また、現在の調整パラメー
タをX−Y座標系に変換したプロット点をCRT4上に表示
する(▲で示す)。この際、第2図(a)に示すように
CRT4上に検出ビーム電流値が表示される。
調整パラメータを二軸座標系に変換した値をCRT4上に表
示する際には、予め、サイクロトロン1の構成要素で相
互に関連する構成要素が設定されており、この構成要素
の制御量をそれぞれX軸及びY軸に対応させる。例え
ば、サイクロトロン1の第1〜第3の電磁石に流す電流
量をそれぞれQ1,Q2及びQ3とし、この電流量Q1+Q3と電
流量Q2とが相互に関連すれば、X軸にQ1+Q3をとり、Y
軸にQ2をとる。従って、この場合には、第1〜第3の電
磁石の調整パラメータをそれぞれP1,P2及びP3とすれ
ば、二軸座標系への変換式は第(3)式で示される。
示する際には、予め、サイクロトロン1の構成要素で相
互に関連する構成要素が設定されており、この構成要素
の制御量をそれぞれX軸及びY軸に対応させる。例え
ば、サイクロトロン1の第1〜第3の電磁石に流す電流
量をそれぞれQ1,Q2及びQ3とし、この電流量Q1+Q3と電
流量Q2とが相互に関連すれば、X軸にQ1+Q3をとり、Y
軸にQ2をとる。従って、この場合には、第1〜第3の電
磁石の調整パラメータをそれぞれP1,P2及びP3とすれ
ば、二軸座標系への変換式は第(3)式で示される。
よって、相互に関連するサイクロトロン1の構成要素が
他にもある場合には、CRT4上には複数のX−Y座標系が
表示されることになる。
他にもある場合には、CRT4上には複数のX−Y座標系が
表示されることになる。
オペレータはCRT4上に表示された二軸座標系変化値(つ
まり、制御量)及びビーム電流検出値を見て、最適の粒
子ビームに調整する。即ち、粒子ビームを調整する際に
は、調整パラメータを変更する。
まり、制御量)及びビーム電流検出値を見て、最適の粒
子ビームに調整する。即ち、粒子ビームを調整する際に
は、調整パラメータを変更する。
ここで、第(3)式に基づいて説明すると、調整パラメ
ータP2を変更した場合、この変更パラメータは磁気ディ
スク2cに記憶され、CPU2aは、調整パラメータ(P1,
P2′,P3)に基づいて、X−Y座標系のプロット点を求
め、CRT4上にこのプロット点を他のプロット点と区別し
て表示する。
ータP2を変更した場合、この変更パラメータは磁気ディ
スク2cに記憶され、CPU2aは、調整パラメータ(P1,
P2′,P3)に基づいて、X−Y座標系のプロット点を求
め、CRT4上にこのプロット点を他のプロット点と区別し
て表示する。
このプロット点が第2図(b)に示すプロット群(+で
示す)からずれる方向に移動した場合には、調整パラメ
ータP1,P3をも変更しなければならないことがわかる。
示す)からずれる方向に移動した場合には、調整パラメ
ータP1,P3をも変更しなければならないことがわかる。
従って、この場合には、調整パラメータP1,P2,及びP3を
調整しなければならないことがわかる。即ち、従来、調
整パラメータはそれぞれ独立して数値で表示されていた
だけであるから、多数の調整パラメータが相互に関連し
ていた場合、最適の粒子ビームを得るためにはどの調整
パラメータを変更すればよいか表示画面を見ただけでは
わからないが、本実施例の場合、各調整パラメータの相
互関係が二軸座標系に表示されているから、変更後のプ
ロット点が過去のプロット群から離れるかどうかによっ
て、どの調整パラメータを変更すればよいかが表示画面
から直ちにわかる。
調整しなければならないことがわかる。即ち、従来、調
整パラメータはそれぞれ独立して数値で表示されていた
だけであるから、多数の調整パラメータが相互に関連し
ていた場合、最適の粒子ビームを得るためにはどの調整
パラメータを変更すればよいか表示画面を見ただけでは
わからないが、本実施例の場合、各調整パラメータの相
互関係が二軸座標系に表示されているから、変更後のプ
ロット点が過去のプロット群から離れるかどうかによっ
て、どの調整パラメータを変更すればよいかが表示画面
から直ちにわかる。
(発明の効果) 以上説明したように、本発明では、調整パラメータを二
軸座標系変換値に変換してその散布図を表示するように
したから、調整パラメータを変更する際、複数の調整パ
ラメータのうちどの調整パラメータを変更すればよいか
が直ちにわかり、その結果、最適粒子ビームを得るため
のパラメータ変更が極めて容易となる。
軸座標系変換値に変換してその散布図を表示するように
したから、調整パラメータを変更する際、複数の調整パ
ラメータのうちどの調整パラメータを変更すればよいか
が直ちにわかり、その結果、最適粒子ビームを得るため
のパラメータ変更が極めて容易となる。
第1図は本発明による調整パラメータ表示設定装置の一
実施例を説明するための図、第2図(a)はディスプレ
イ上に表示される検出ビーム電流値を示す図、第2図
(b)は調整パラメータの交互関係を示すための散布図
である。 1……加速器システム、2……制御コンピュータシステ
ム、3……パラメータ入力装置、4……ディスプレイ
(CRT)。
実施例を説明するための図、第2図(a)はディスプレ
イ上に表示される検出ビーム電流値を示す図、第2図
(b)は調整パラメータの交互関係を示すための散布図
である。 1……加速器システム、2……制御コンピュータシステ
ム、3……パラメータ入力装置、4……ディスプレイ
(CRT)。
Claims (1)
- 【請求項1】荷電粒子ビーム加速器を運転制御する際に
用いられる複数の調整パラメータを設定表示する際に用
いられ、過去の調整パラメータを記憶する記憶手段と、
調整パラメータを設定する設定手段と、過去の調整パラ
メータを統計的手法で解析して調整パラメータを二軸座
標系に表示する際の交換係数を求め該変換係数を用いて
調整パラメータを二軸座標系変換値に変換する演算手段
と、前記二軸座標系変換値を前記二軸座標系に表示する
表示手段とを有し、現時点で前記荷電粒子ビーム加速器
の運転制御に用いられている調整パラメータの変換値と
過去の調整パラメータの変換値とを区別して表示するよ
うにしたことを特徴とする荷電粒子ビーム加速器の調整
パラメータ表示設定装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16912088A JPH07118399B2 (ja) | 1988-07-08 | 1988-07-08 | 荷電粒子ビーム加速器の調整パラメータ表示設定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16912088A JPH07118399B2 (ja) | 1988-07-08 | 1988-07-08 | 荷電粒子ビーム加速器の調整パラメータ表示設定装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0221599A JPH0221599A (ja) | 1990-01-24 |
JPH07118399B2 true JPH07118399B2 (ja) | 1995-12-18 |
Family
ID=15880664
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16912088A Expired - Lifetime JPH07118399B2 (ja) | 1988-07-08 | 1988-07-08 | 荷電粒子ビーム加速器の調整パラメータ表示設定装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07118399B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0662250B1 (en) * | 1991-12-20 | 2001-02-14 | Celgard Inc. | Multi-ply battery separator and process of forming |
EP2311968A1 (en) | 2009-10-14 | 2011-04-20 | PURAC Biochem BV | Fermentation process at reduced pressure |
-
1988
- 1988-07-08 JP JP16912088A patent/JPH07118399B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0221599A (ja) | 1990-01-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5719639A (en) | Method and apparatus for changing specified color in a color image | |
US10606236B2 (en) | Control device, control method, and control program | |
US10303132B2 (en) | Control device, control method, and control program | |
US20160349739A1 (en) | Numerical controller for managing machining data and machining result | |
JPH07118399B2 (ja) | 荷電粒子ビーム加速器の調整パラメータ表示設定装置 | |
US7443395B2 (en) | Multi-variable operations | |
CN116451842A (zh) | 用于预测作物产量和生育期时间的方法及智能平台 | |
JP3412667B2 (ja) | フィールドバスシステムのスケジューリング方法 | |
US20010013874A1 (en) | Method and system for processing a three-dimensional shape data | |
JPH0787119B2 (ja) | 荷電粒子ビーム調整支援装置 | |
JPH0784609A (ja) | 制御モデル調整装置 | |
JP2859947B2 (ja) | データグラフ表示装置 | |
CN111771137A (zh) | 雷达外参标定方法、装置及存储介质 | |
US20070038312A1 (en) | Parameter setting device, parameter setting method and program | |
JPH044541A (ja) | カラーディスプレイ管の自動画質調整システム | |
JP2001265409A (ja) | 信号解析処理装置 | |
JPS59168502A (ja) | 制御最適調整値計算用重み設定方式 | |
JPH0784608A (ja) | 制御装置 | |
JP2538040B2 (ja) | プロセス優先度設定方法及びマルチプロセス管理装置 | |
JPH0689103A (ja) | 多変数制御装置 | |
US20190187673A1 (en) | Observation device, observation method, and non-transitory computer-readable medium storing an observation program | |
JPH09101894A (ja) | ファジィ制御規則作成装置 | |
JPH0228803A (ja) | パラメータ調整システム | |
JPH03238506A (ja) | 制御システムにおける表示方法 | |
JP3057768B2 (ja) | 描画装置 |