JP3057768B2 - 描画装置 - Google Patents
描画装置Info
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-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T15/00—3D [Three Dimensional] image rendering
- G06T15/50—Lighting effects
- G06T15/80—Shading
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T11/00—2D [Two Dimensional] image generation
- G06T11/20—Drawing from basic elements, e.g. lines or circles
- G06T11/203—Drawing of straight lines or curves
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Computer Graphics (AREA)
- Image Generation (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は文字や図形等の描画対象
を構成する描画ラインを所定の線幅で描画する描画装置
に関する。
を構成する描画ラインを所定の線幅で描画する描画装置
に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より描画装置においては描画表現の
自由度を高める様々な構成が提案されている。その一つ
として、例えば文字や図形等の描画対象を構成する描画
ラインを指定の線幅で描画する描画装置がある。この従
来装置では、図６に示すように例えば線幅Ｗの中点Ｃを
描画ラインＢに重ねるという一定関係の約束のもとで、
描画ラインＢに指定の線幅Ｗを付与した描画情報を作成
し、作成した描画情報をＣＲＴ等の表示装置に表示させ
る。このように表示させることで、同じ描画対象でも線
幅を変えて表現結果に変化をつけることができる。
自由度を高める様々な構成が提案されている。その一つ
として、例えば文字や図形等の描画対象を構成する描画
ラインを指定の線幅で描画する描画装置がある。この従
来装置では、図６に示すように例えば線幅Ｗの中点Ｃを
描画ラインＢに重ねるという一定関係の約束のもとで、
描画ラインＢに指定の線幅Ｗを付与した描画情報を作成
し、作成した描画情報をＣＲＴ等の表示装置に表示させ
る。このように表示させることで、同じ描画対象でも線
幅を変えて表現結果に変化をつけることができる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記従来装置は線幅Ｗ
を変更可能にして表現の自由度を高めたが、これに留ま
らず表現の自由度の一層の向上が要請されている。
を変更可能にして表現の自由度を高めたが、これに留ま
らず表現の自由度の一層の向上が要請されている。
【０００４】本発明の描画装置は、表現の自由度の一層
の向上を図ることを目的とする。
の向上を図ることを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段及び作用】本発明の描画装
置は、図１に例示するように、文字や図形等の描画対象
を構成する描画ラインに所定の線幅を付与して描画する
描画装置において、前記描画ラインと前記線幅との位置
の相関関係を、同一の描画対象内において変更可能に設
定する相関関係設定手段と、その相関関係設定手段によ
り設定された、前記描画ラインと線幅との位置の相関関
係に基づいて、前記描画ラインに前記線幅を付与した描
画情報を作成する描画情報作成手段と、その描画情報作
成手段が作成した描画情報に基づいて前記所定の線幅の
描画対象を描画する描画手段と、を備えることを特徴と
する。
置は、図１に例示するように、文字や図形等の描画対象
を構成する描画ラインに所定の線幅を付与して描画する
描画装置において、前記描画ラインと前記線幅との位置
の相関関係を、同一の描画対象内において変更可能に設
定する相関関係設定手段と、その相関関係設定手段によ
り設定された、前記描画ラインと線幅との位置の相関関
係に基づいて、前記描画ラインに前記線幅を付与した描
画情報を作成する描画情報作成手段と、その描画情報作
成手段が作成した描画情報に基づいて前記所定の線幅の
描画対象を描画する描画手段と、を備えることを特徴と
する。
【０００６】上記構成の描画装置においては、相関関係
設定手段により描画ラインと線幅との位置の相関関係
が、同一の描画対象内において変更可能に設定される。
描画情報作成手段は、相関関係設定手段により設定され
た、描画ラインと線幅との位置の相関関係に基づいて、
描画ラインに線幅を付与した描画情報を作成する。そし
て、この描画情報に基づいて描画手段が描画対象を描画
する。したがって、設定された相関関係に応じて、同じ
線幅でも描画ラインの描画結果が変わり、描画対象の全
体としての表現結果が変化するという、新たな表現技法
が実現される。
設定手段により描画ラインと線幅との位置の相関関係
が、同一の描画対象内において変更可能に設定される。
描画情報作成手段は、相関関係設定手段により設定され
た、描画ラインと線幅との位置の相関関係に基づいて、
描画ラインに線幅を付与した描画情報を作成する。そし
て、この描画情報に基づいて描画手段が描画対象を描画
する。したがって、設定された相関関係に応じて、同じ
線幅でも描画ラインの描画結果が変わり、描画対象の全
体としての表現結果が変化するという、新たな表現技法
が実現される。
【０００７】
【実施例】以下、本発明の描画装置の一実施例としてベ
クトルデータを描画対象とする描画表示装置を説明す
る。
クトルデータを描画対象とする描画表示装置を説明す
る。
【０００８】描画表示装置の構成のうち特に描画処理に
関する主要な制御回路を、図２のブロック図に示す。制
御回路の主要部であるマイクロコンピュータ部１は、Ｃ
ＰＵ３、プログラムＲＯＭ５、ワーキングメモリ７、ベ
クトルメモリ９を備える。これらＣＰＵ３等はバス１１
を介して相互に接続される。バス１１には入力部１３お
よび表示部１５が接続される。入力部１３は必要なデー
タをマイクロコンピュータ部１に入力する。表示部１５
はマイクロコンピュータ部１からの指令に基づき、ラス
ター型表示装置であるＣＲＴ等の表示装置に描画データ
を表示する。ＣＰＵ３は機能的に捉えると、図３に示す
ように、ベクトルデータＶの線幅Ｗを設定する線幅設定
部２１、ベクトルデータＶの線幅Ｗ内における位置を指
定する相関関係指定部２３、ベクトルデータＶや線幅Ｗ
を描画情報に変換する情報変換部２５、描画情報を表示
装置に描画する描画部２７等の概念的構成を実現する。
プログラムＲＯＭ５は、図４のフローチャートに示す描
画処理ルーチンのプログラムの他、表示に必要な種々の
プログラムを記憶する。ワーキングメモリ７はプログラ
ム実行時に必要なデータを一時的に記憶するほか、フレ
ームデータ、線幅データＷ、線幅位置データｔ（０≦ｔ
≦１）等を記憶する。ベクトルメモリ９は入力部１３よ
り入力された描画対象のベクトルデータＶを記憶する。
なお、実施例の描画対象は直線ベクトルデータである。
関する主要な制御回路を、図２のブロック図に示す。制
御回路の主要部であるマイクロコンピュータ部１は、Ｃ
ＰＵ３、プログラムＲＯＭ５、ワーキングメモリ７、ベ
クトルメモリ９を備える。これらＣＰＵ３等はバス１１
を介して相互に接続される。バス１１には入力部１３お
よび表示部１５が接続される。入力部１３は必要なデー
タをマイクロコンピュータ部１に入力する。表示部１５
はマイクロコンピュータ部１からの指令に基づき、ラス
ター型表示装置であるＣＲＴ等の表示装置に描画データ
を表示する。ＣＰＵ３は機能的に捉えると、図３に示す
ように、ベクトルデータＶの線幅Ｗを設定する線幅設定
部２１、ベクトルデータＶの線幅Ｗ内における位置を指
定する相関関係指定部２３、ベクトルデータＶや線幅Ｗ
を描画情報に変換する情報変換部２５、描画情報を表示
装置に描画する描画部２７等の概念的構成を実現する。
プログラムＲＯＭ５は、図４のフローチャートに示す描
画処理ルーチンのプログラムの他、表示に必要な種々の
プログラムを記憶する。ワーキングメモリ７はプログラ
ム実行時に必要なデータを一時的に記憶するほか、フレ
ームデータ、線幅データＷ、線幅位置データｔ（０≦ｔ
≦１）等を記憶する。ベクトルメモリ９は入力部１３よ
り入力された描画対象のベクトルデータＶを記憶する。
なお、実施例の描画対象は直線ベクトルデータである。
【０００９】実施例装置で設定される相関関係を図５に
より説明する。図示のように、直線ベクトルデータＶ
と、直線ベクトルデータＶの線幅Ｗ内における位置の相
関関係は、線幅Ｗを線幅ｗｔと線幅ｗ（１−ｔ）とに内
分する点が直線ベクトルデータＶに重なる関係である。
この相関関係は、線幅Ｗを内分する位置を規定する線幅
位置データｔにより設定される。
より説明する。図示のように、直線ベクトルデータＶ
と、直線ベクトルデータＶの線幅Ｗ内における位置の相
関関係は、線幅Ｗを線幅ｗｔと線幅ｗ（１−ｔ）とに内
分する点が直線ベクトルデータＶに重なる関係である。
この相関関係は、線幅Ｗを内分する位置を規定する線幅
位置データｔにより設定される。
【００１０】以下にＣＰＵ３が実行する描画処理ルーチ
ンを図４のフローチャートと、図５とにしたがって説明
する。ＣＰＵ３が描画処理ルーチンを開始すると、直線
ベクトルデータＶの始点Ｐ０の座標値（ｘ０，ｙ０）と
終点Ｐ１の座標値（ｘ１，ｙ１）とを入力部１３より読
み込み、読み込んだ座標値をワーキングメモリ７に格納
する（Ｓ１００）。なお、折れ線等の連続する直線ベク
トルデータの場合は連続した点の座標値を読み込む。次
に、入力部１３より線幅を示す数値Ｗを読み込み、数値
Ｗをワーキングメモリ３に格納する（Ｓ１１０）。続い
て、入力部１３より線幅位置データｔを読み込み、線幅
位置データｔをワーキングメモリ７に格納する（Ｓ１２
０）。この後、描画領域である矩形の各頂点Ｑ０，Ｑ
１，Ｑ２，Ｑ３の座標値を算出する（Ｓ１３０）。各座
標値は以下の各式により算出される。
ンを図４のフローチャートと、図５とにしたがって説明
する。ＣＰＵ３が描画処理ルーチンを開始すると、直線
ベクトルデータＶの始点Ｐ０の座標値（ｘ０，ｙ０）と
終点Ｐ１の座標値（ｘ１，ｙ１）とを入力部１３より読
み込み、読み込んだ座標値をワーキングメモリ７に格納
する（Ｓ１００）。なお、折れ線等の連続する直線ベク
トルデータの場合は連続した点の座標値を読み込む。次
に、入力部１３より線幅を示す数値Ｗを読み込み、数値
Ｗをワーキングメモリ３に格納する（Ｓ１１０）。続い
て、入力部１３より線幅位置データｔを読み込み、線幅
位置データｔをワーキングメモリ７に格納する（Ｓ１２
０）。この後、描画領域である矩形の各頂点Ｑ０，Ｑ
１，Ｑ２，Ｑ３の座標値を算出する（Ｓ１３０）。各座
標値は以下の各式により算出される。
【００１１】 Ｑ０ｘ＝ｘ０−（ｙ１−ｙ０）×Ｗｔ／Ｌ Ｑ０ｙ＝ｙ０＋（ｘ１−ｘ０）×Ｗｔ／Ｌ Ｑ１ｘ＝ｘ０＋（ｙ１−ｙ０）×Ｗ（１−ｔ）／Ｌ Ｑ１ｙ＝ｙ０−（ｘ１−ｘ０）×Ｗ（１−ｔ）／Ｌ Ｑ２ｘ＝ｘ１−（ｙ１−ｙ０）×Ｗｔ／Ｌ Ｑ２ｙ＝ｙ１＋（ｘ１−ｘ０）×Ｗｔ／Ｌ Ｑ３ｘ＝ｘ１＋（ｙ１−ｙ０）×Ｗ（１−ｔ）／Ｌ Ｑ３ｙ＝ｙ１−（ｘ１−ｘ０）×Ｗ（１−ｔ）／Ｌ 上式の左項は座標値を示す。各頂点の座標値は、点Ｑ０
が座標（Ｑ０ｘ，Ｑ０ｙ）、点Ｑ１が座標（Ｑ１ｘ，Ｑ
１ｙ）、点Ｑ２が座標（Ｑ２ｘ，Ｑ２ｙ）、点Ｑ３が座
標（Ｑ３ｘ，Ｑ３ｙ）である。また、Ｌは直線ベクトル
データＶの長さであって、下式で表わされる。
が座標（Ｑ０ｘ，Ｑ０ｙ）、点Ｑ１が座標（Ｑ１ｘ，Ｑ
１ｙ）、点Ｑ２が座標（Ｑ２ｘ，Ｑ２ｙ）、点Ｑ３が座
標（Ｑ３ｘ，Ｑ３ｙ）である。また、Ｌは直線ベクトル
データＶの長さであって、下式で表わされる。
【００１２】 Ｌ＝ＳＱＲＴ（（ｘ１−ｘ０）×（ｘ１−ｘ０）＋ （ｙ１−ｙ０）×（ｙ１−ｙ０）） ここでＳＱＲＴは平方根を示す関数である。
【００１３】上記各式に基づき矩形の描画領域を算出す
ると（Ｓ１３０）、続いて、算出した矩形の描画領域を
描画情報に変換する（Ｓ１４０）。本実施例では表示装
置としてラスター型表示を使用するため、例えば、ベク
トルデータをラスター情報に変換するブレゼンハムの方
法を適用して、矩形である描画領域を１ラスターごとの
描画情報に変換する。最後に、描画情報を出力する処理
としてフレームデータを作成する（Ｓ１５０）。
ると（Ｓ１３０）、続いて、算出した矩形の描画領域を
描画情報に変換する（Ｓ１４０）。本実施例では表示装
置としてラスター型表示を使用するため、例えば、ベク
トルデータをラスター情報に変換するブレゼンハムの方
法を適用して、矩形である描画領域を１ラスターごとの
描画情報に変換する。最後に、描画情報を出力する処理
としてフレームデータを作成する（Ｓ１５０）。
【００１４】以上の描画処理ルーチンが実行されること
により、図５に示したごとく、線幅Ｗを線幅Ｗｔと線幅
Ｗ（１−ｔ）とに内分する点を直線ベクトルデータＶに
重ねるという相関関係のもとで、直線ベクトルデータＶ
に線幅Ｗを付与した状態の描画出力が得られる。線幅位
置データｔを変えると、直線ベクトルデータＶの描画結
果が変わり、同じ描画対象でかつ同じ線幅であっても印
象の異なる表現結果が得られる。
により、図５に示したごとく、線幅Ｗを線幅Ｗｔと線幅
Ｗ（１−ｔ）とに内分する点を直線ベクトルデータＶに
重ねるという相関関係のもとで、直線ベクトルデータＶ
に線幅Ｗを付与した状態の描画出力が得られる。線幅位
置データｔを変えると、直線ベクトルデータＶの描画結
果が変わり、同じ描画対象でかつ同じ線幅であっても印
象の異なる表現結果が得られる。
【００１５】以上説明した描画表示装置によれば、線幅
位置データｔを変更することによりベクトルデータＶの
描画結果が変わるので、同じ描画対象でかつ同じ線幅で
あっても印象の異なる描画表現が得られるという新規の
表現技法が実現し、この種の装置の描画表現の自由度の
一層の向上を図ることができるという効果を奏する。
位置データｔを変更することによりベクトルデータＶの
描画結果が変わるので、同じ描画対象でかつ同じ線幅で
あっても印象の異なる描画表現が得られるという新規の
表現技法が実現し、この種の装置の描画表現の自由度の
一層の向上を図ることができるという効果を奏する。
【００１６】以上本発明の実施例について説明したが、
本発明はこうした実施例に何等限定されるものではな
く、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、種々なる
態様で実施し得ることは勿論である。例えば、線幅位置
データｔの指定がない場合は自動的に線幅位置データｔ
として１／２等の所定値を与える構成としてもよい。ま
た、実施例ではベクトルデータＶと線幅Ｗとが垂直に交
わるが、ベクトルデータＶと線幅Ｗとの交差角度という
相関関係を変更することで描画表現を変化させる構成と
してもよい。
本発明はこうした実施例に何等限定されるものではな
く、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、種々なる
態様で実施し得ることは勿論である。例えば、線幅位置
データｔの指定がない場合は自動的に線幅位置データｔ
として１／２等の所定値を与える構成としてもよい。ま
た、実施例ではベクトルデータＶと線幅Ｗとが垂直に交
わるが、ベクトルデータＶと線幅Ｗとの交差角度という
相関関係を変更することで描画表現を変化させる構成と
してもよい。
【００１７】加えて、描画対象が円弧等に代表される曲
線ベクトルデータを含む場合は、入力部１３にデータが
入力される前に予め曲線ベクトルデータを直線ベクトル
データＶに変換するか、あるいはプログラムＲＯＭ５に
曲線ベクトルデータを直線ベクトルデータＶに変換する
プログラムを格納しておき、このプログラムを曲線ベク
トルデータの入力により起動して曲線ベクトルデータを
直線ベクトルデータＶに自動変換させてもよい。こうし
た変換により各種ベクトルデータを処理することが可能
となる。
線ベクトルデータを含む場合は、入力部１３にデータが
入力される前に予め曲線ベクトルデータを直線ベクトル
データＶに変換するか、あるいはプログラムＲＯＭ５に
曲線ベクトルデータを直線ベクトルデータＶに変換する
プログラムを格納しておき、このプログラムを曲線ベク
トルデータの入力により起動して曲線ベクトルデータを
直線ベクトルデータＶに自動変換させてもよい。こうし
た変換により各種ベクトルデータを処理することが可能
となる。
【００１８】さらに、実施例では線幅位置データｔを一
定値として説明したが、線幅位置データｔを関数で与
え、データｔの値を変化させる構成としてもよい。ま
た、線幅位置データｔは線幅Ｗの内分点を規定するが、
外分点を規定するデータとして扱う構成としてもよい。
定値として説明したが、線幅位置データｔを関数で与
え、データｔの値を変化させる構成としてもよい。ま
た、線幅位置データｔは線幅Ｗの内分点を規定するが、
外分点を規定するデータとして扱う構成としてもよい。
【００１９】
【発明の効果】以上詳述したように本発明の描画装置に
よれば、同一の描画対象内において描画ラインと線幅と
の位置の相関関係を変更可能とすることにより描画ライ
ンの表現結果を変化させるという新規の表現技法が実現
し、描画表現の自由度の一層の向上を図ることができる
という効果を奏する。
よれば、同一の描画対象内において描画ラインと線幅と
の位置の相関関係を変更可能とすることにより描画ライ
ンの表現結果を変化させるという新規の表現技法が実現
し、描画表現の自由度の一層の向上を図ることができる
という効果を奏する。
【図１】本発明の基本的構成を例示するブロック図であ
る。
る。
【図２】本発明の一実施例を示すブロック図である。
【図３】ＣＰＵの機能を概念的に示す説明図である。
【図４】ＣＰＵが実行する描画処理ルーチンのフローチ
ャートである。
ャートである。
【図５】直線ベクトルデータと線幅との関係を示す説明
図である。
図である。
【図６】従来のベクトルデータと線幅との関係を示す説
明図である。
明図である。
１…マイクロコンピュータ部， ３…ＣＰ
Ｕ， Ｖ…直線ベクトルデータ， Ｗ…線幅， ｔ…線幅位置データ
Ｕ， Ｖ…直線ベクトルデータ， Ｗ…線幅， ｔ…線幅位置データ
Claims (1)
- 【請求項１】 文字や図形等の描画対象を構成する描画
ラインに所定の線幅を付与して描画する描画装置におい
て、 前記描画ラインと前記線幅との位置の相関関係を、同一
の描画対象内において変更可能に設定する相関関係設定
手段と、その 相関関係設定手段により設定された、前記描画ライ
ンと線幅との位置の相関関係に基づいて、前記描画ライ
ンに前記線幅を付与した描画情報を作成する描画情報作
成手段と、その 描画情報作成手段が作成した描画情報に基づいて前
記所定の線幅の描画対象を描画する描画手段と、 を備えることを特徴とする描画装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP469291A JP3057768B2 (ja) | 1991-01-18 | 1991-01-18 | 描画装置 |
| GB9200968A GB2253548A (en) | 1991-01-18 | 1992-01-17 | Image output apparatus having means for specifying geometrical relation between reference line and area-fill segments which define an image element |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP469291A JP3057768B2 (ja) | 1991-01-18 | 1991-01-18 | 描画装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04236680A JPH04236680A (ja) | 1992-08-25 |
| JP3057768B2 true JP3057768B2 (ja) | 2000-07-04 |
Family
ID=11590945
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP469291A Expired - Fee Related JP3057768B2 (ja) | 1991-01-18 | 1991-01-18 | 描画装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3057768B2 (ja) |
| GB (1) | GB2253548A (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2244892B (en) * | 1990-06-08 | 1994-12-14 | Electronic Graphics Ltd | Computer graphics |
| GB2248754A (en) * | 1990-06-13 | 1992-04-15 | Rank Cintel Ltd | Electronic painting system |
-
1991
- 1991-01-18 JP JP469291A patent/JP3057768B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1992
- 1992-01-17 GB GB9200968A patent/GB2253548A/en not_active Withdrawn
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB9200968D0 (en) | 1992-03-11 |
| GB2253548A (en) | 1992-09-09 |
| JPH04236680A (ja) | 1992-08-25 |
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Legal Events
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| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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