JPH07116620A - 超音波洗浄方法及びその装置 - Google Patents
超音波洗浄方法及びその装置Info
- Publication number
- JPH07116620A JPH07116620A JP5292734A JP29273493A JPH07116620A JP H07116620 A JPH07116620 A JP H07116620A JP 5292734 A JP5292734 A JP 5292734A JP 29273493 A JP29273493 A JP 29273493A JP H07116620 A JPH07116620 A JP H07116620A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- frequency
- ultrasonic
- low
- khz
- cleaning
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
- B08B3/10—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration
- B08B3/12—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration by sonic or ultrasonic vibrations
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Apparatuses For Generation Of Mechanical Vibrations (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 高周波の超音波で発生した気泡をより低周波
の超音波で破壊する超音波洗浄方法及びその装置を提供
する。 【構成】 洗浄槽１に低周波超音波振動子２、３を取り
付け、これらの低周波超音波振動子２、３に切り替え装
置４を介して低周波発信器５、６、７を接続し、又、洗
浄槽１に高周波超音波振動子８を取り付け、高周波超音
波振動子８に高周波発信器９から高周波数の出力を供給
する。高周波発信器９から高周波超音波振動子８に高周
波数の超音波を連続的に入力して洗浄槽１内に連続的に
細かい気泡を発生させる。そして、出力切替装置４を介
して低周波超音波振動子５、６、７に入力すると、高周
波数の超音波で発生した気泡が破壊されるとともに、こ
の超音波自体で気泡を発生するので、気泡の破壊時に発
生する音圧がその時に発生している超音波に重畳される
ことにより非常に高い音圧を得ることができ、それによ
って、非常に高い洗浄効果を得ることができる。
の超音波で破壊する超音波洗浄方法及びその装置を提供
する。 【構成】 洗浄槽１に低周波超音波振動子２、３を取り
付け、これらの低周波超音波振動子２、３に切り替え装
置４を介して低周波発信器５、６、７を接続し、又、洗
浄槽１に高周波超音波振動子８を取り付け、高周波超音
波振動子８に高周波発信器９から高周波数の出力を供給
する。高周波発信器９から高周波超音波振動子８に高周
波数の超音波を連続的に入力して洗浄槽１内に連続的に
細かい気泡を発生させる。そして、出力切替装置４を介
して低周波超音波振動子５、６、７に入力すると、高周
波数の超音波で発生した気泡が破壊されるとともに、こ
の超音波自体で気泡を発生するので、気泡の破壊時に発
生する音圧がその時に発生している超音波に重畳される
ことにより非常に高い音圧を得ることができ、それによ
って、非常に高い洗浄効果を得ることができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、高周波数の超音波で発
生した気泡をより低周波数の超音波で破壊する超音波洗
浄方法及びその装置に関するものである。
生した気泡をより低周波数の超音波で破壊する超音波洗
浄方法及びその装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】この超音波洗浄方法として、本出願人
は、１つの超音波振動子から微小時間に１つの周波数の
超音波を洗浄槽の洗浄液内に発生し、次に発振器を切り
替えて別の周波数の超音波を次の微小時間に同じ洗浄槽
内に発生し、この操作を繰り返すようにした超音波洗浄
方法を提案した（特願昭６３−３１２６０号参照）。
は、１つの超音波振動子から微小時間に１つの周波数の
超音波を洗浄槽の洗浄液内に発生し、次に発振器を切り
替えて別の周波数の超音波を次の微小時間に同じ洗浄槽
内に発生し、この操作を繰り返すようにした超音波洗浄
方法を提案した（特願昭６３−３１２６０号参照）。
【０００３】この超音波洗浄方法では、１つの周波数の
超音波により洗浄槽内の洗浄液に気泡が発生し、この気
泡が消えない間に、次の周波数の超音波が微小時間に発
生して、この発生した超音波で前の超音波による気泡を
破壊し、又、次の超音波により発生した気泡をさらに次
の超音波で破壊するようにして、その破壊により発生す
る音圧とその時発生した超音波の音圧が重畳されて音圧
を拡大するようにしている。
超音波により洗浄槽内の洗浄液に気泡が発生し、この気
泡が消えない間に、次の周波数の超音波が微小時間に発
生して、この発生した超音波で前の超音波による気泡を
破壊し、又、次の超音波により発生した気泡をさらに次
の超音波で破壊するようにして、その破壊により発生す
る音圧とその時発生した超音波の音圧が重畳されて音圧
を拡大するようにしている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この超
音波洗浄方法では、前に発生した超音波による気泡を次
の超音波で破壊しているので、次の超音波を発生する間
に前の超音波による気泡がある程度消えてしまうため、
音圧はある程度重畳されるが、音圧の重畳に限度があっ
た。
音波洗浄方法では、前に発生した超音波による気泡を次
の超音波で破壊しているので、次の超音波を発生する間
に前の超音波による気泡がある程度消えてしまうため、
音圧はある程度重畳されるが、音圧の重畳に限度があっ
た。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、超音波振動子
から連続的に１００ＫＨｚ以上の超音波を照射して洗浄
液に２０μ〜５００μの気泡を作り、該それぞれの気泡
の直径に共振して過度応動する前記超音波より低周波数
のバースト波を他の超音波振動子より前記洗浄液に照射
することにより、前記洗浄液に高次の超音波を発生して
洗浄効果を向上させるものである。
から連続的に１００ＫＨｚ以上の超音波を照射して洗浄
液に２０μ〜５００μの気泡を作り、該それぞれの気泡
の直径に共振して過度応動する前記超音波より低周波数
のバースト波を他の超音波振動子より前記洗浄液に照射
することにより、前記洗浄液に高次の超音波を発生して
洗浄効果を向上させるものである。
【０００６】
【作用】本発明では、高周波数の超音波振動子から１０
０ＫＨｚ以上の高周波数の超音波を連続的に洗浄液に照
射することによって、２０μ〜５００μの直径のことな
る多数の気泡を発生して洗浄槽内に充満させる。
０ＫＨｚ以上の高周波数の超音波を連続的に洗浄液に照
射することによって、２０μ〜５００μの直径のことな
る多数の気泡を発生して洗浄槽内に充満させる。
【０００７】そして、前記超音波より低周波数の超音波
をバースト波として前記洗浄液に照射すると、この超音
波により洗浄槽内に充満している気泡が破壊され、それ
によって高次の超音波が発生し、洗浄効果を向上させ
る。
をバースト波として前記洗浄液に照射すると、この超音
波により洗浄槽内に充満している気泡が破壊され、それ
によって高次の超音波が発生し、洗浄効果を向上させ
る。
【０００８】
【実施例１】図１は、本発明の１施例の超音波洗浄装置
の構成図で、洗浄槽１の底部にランジュバン型の低周波
超音波振動子２、３の超音波発生面が取り付けられ、こ
れらの低周波超音波振動子２、３に切り替え装置４を介
して低周波発信器５、６、７が接続され、又、洗浄槽１
の底部に高周波超音波振動子８が取り付けられ、この高
周波超音波振動子８に高周波発信器９が接続されてい
る。
の構成図で、洗浄槽１の底部にランジュバン型の低周波
超音波振動子２、３の超音波発生面が取り付けられ、こ
れらの低周波超音波振動子２、３に切り替え装置４を介
して低周波発信器５、６、７が接続され、又、洗浄槽１
の底部に高周波超音波振動子８が取り付けられ、この高
周波超音波振動子８に高周波発信器９が接続されてい
る。
【０００９】そして、低周波発信器５、６、７の出力は
切り替え装置４で予め決められた時間毎に低周波超音波
振動子２、３に間欠的に印加され、又、高周波発信器９
からの出力は高周波超音波振動子８に連続的に印加され
ている。
切り替え装置４で予め決められた時間毎に低周波超音波
振動子２、３に間欠的に印加され、又、高周波発信器９
からの出力は高周波超音波振動子８に連続的に印加され
ている。
【００１０】このように構成された本実施例の超音波洗
浄装置では、高周波発振器９からの出力が連続的に高周
波超音波振動子８に印加されることにより、洗浄槽１内
に連続的に細かい気泡が発生し、洗浄槽１内に充満して
いる。
浄装置では、高周波発振器９からの出力が連続的に高周
波超音波振動子８に印加されることにより、洗浄槽１内
に連続的に細かい気泡が発生し、洗浄槽１内に充満して
いる。
【００１１】ここで、切り替え装置４により微小時間毎
に低周波発振器５、６、７の出力を切り替えて低周波超
音波振動子２、３に入力すると、低周波数の超音波が洗
浄槽１内に発生し、この低周波数の超音波によって洗浄
槽１内に充満している気泡を破壊するとともに、この超
音波自体で気泡を発生するので、この気泡の破壊によっ
て音圧が発生し、その時に発生している超音波に重畳さ
れることにより、音圧は飛躍的に拡大される。
に低周波発振器５、６、７の出力を切り替えて低周波超
音波振動子２、３に入力すると、低周波数の超音波が洗
浄槽１内に発生し、この低周波数の超音波によって洗浄
槽１内に充満している気泡を破壊するとともに、この超
音波自体で気泡を発生するので、この気泡の破壊によっ
て音圧が発生し、その時に発生している超音波に重畳さ
れることにより、音圧は飛躍的に拡大される。
【００１２】なお、上記実施例では、切り替え装置４に
低周波発振器を３つ接続しているが、２つでもよいし、
低周波数の超音波振動子を２つ洗浄槽１に取り付けてい
るが、１つでもよいし、３つ以上でもよいし、さらに、
高周波超音波振動子８を１つ取り付けてあるが、２つ以
上取り付けてもよい。
低周波発振器を３つ接続しているが、２つでもよいし、
低周波数の超音波振動子を２つ洗浄槽１に取り付けてい
るが、１つでもよいし、３つ以上でもよいし、さらに、
高周波超音波振動子８を１つ取り付けてあるが、２つ以
上取り付けてもよい。
【００１３】この音圧が飛躍的に拡大される実験例を図
２で示すと、図２の（ａ）のように、高周波超音波振動
子８に高周波発信器９から１６０ＫＨｚの高周波出力が
連続的に印加されている洗浄槽１内に低周波超音波振動
子２、３に低周波発信器５から２８ＫＨｚ、低周波発振
器６から４５ＫＨｚの低周波出力が切り替え装置４で１
０ｍｓ毎に切り替えられて印加されることにより、洗浄
槽１内で測定された超音波の音圧は電圧のピックアップ
で約４００ｍＶ以上に達している。
２で示すと、図２の（ａ）のように、高周波超音波振動
子８に高周波発信器９から１６０ＫＨｚの高周波出力が
連続的に印加されている洗浄槽１内に低周波超音波振動
子２、３に低周波発信器５から２８ＫＨｚ、低周波発振
器６から４５ＫＨｚの低周波出力が切り替え装置４で１
０ｍｓ毎に切り替えられて印加されることにより、洗浄
槽１内で測定された超音波の音圧は電圧のピックアップ
で約４００ｍＶ以上に達している。
【００１４】これに対して、図２の（ｂ）に示すよう
に、低周波超音波振動子２、３に低周波発信器５から２
８ＫＨｚ、低周波発振器６から４５ＫＨｚの低周波出力
が切り替え装置４で１０ｍｓ毎に印加される場合は、洗
浄槽内で測定された音圧は電圧のピックアップで約１０
０ｍｖにしかならない。
に、低周波超音波振動子２、３に低周波発信器５から２
８ＫＨｚ、低周波発振器６から４５ＫＨｚの低周波出力
が切り替え装置４で１０ｍｓ毎に印加される場合は、洗
浄槽内で測定された音圧は電圧のピックアップで約１０
０ｍｖにしかならない。
【００１５】又、図２の（ｃ）に示すように、高周波超
音波振動子８に高周波発信器９から１６０ＫＨｚの高周
波出力が連続印加されるている洗浄槽１内に低周波超音
波振動子２、３に低周波発信器５から２８ＫＨｚ、低周
波発振器６から４５ＫＨｚの低周波出力が切り替え装置
４で５ｍｓ毎に切り替えられて印加されると、洗浄槽１
内で測定された超音波の音圧は電圧のピックアップで約
２５０ｍＶ以上に達している。
音波振動子８に高周波発信器９から１６０ＫＨｚの高周
波出力が連続印加されるている洗浄槽１内に低周波超音
波振動子２、３に低周波発信器５から２８ＫＨｚ、低周
波発振器６から４５ＫＨｚの低周波出力が切り替え装置
４で５ｍｓ毎に切り替えられて印加されると、洗浄槽１
内で測定された超音波の音圧は電圧のピックアップで約
２５０ｍＶ以上に達している。
【００１６】又、図２の（ｄ）に示すように、低周波超
音波振動子２、３に低周波発信器５から２８ＫＨｚ、低
周波発振器６から４５ＫＨｚの低周波出力が切り替え装
置４で５ｍｓ毎に印加される場合は、洗浄槽内で測定さ
れた音圧は同様に電圧のピックアップで約１００ｍｖで
ある。
音波振動子２、３に低周波発信器５から２８ＫＨｚ、低
周波発振器６から４５ＫＨｚの低周波出力が切り替え装
置４で５ｍｓ毎に印加される場合は、洗浄槽内で測定さ
れた音圧は同様に電圧のピックアップで約１００ｍｖで
ある。
【００１７】さらに、図２の（ｅ）に示すように、高周
波超音波振動子８に高周波発信器９から１６０ＫＨｚの
高周波出力が連続印加されている洗浄槽１内に低周波超
音波振動子２、３に低周波発信器５から２８ＫＨｚ、低
周波発振器６から４５ＫＨｚの低周波出力が切り替え装
置４で３ｍｓ毎に印加されると、洗浄槽１内で測定され
た超音波の音圧は電圧のピックアップで約２５０ｍＶ以
上に達している。
波超音波振動子８に高周波発信器９から１６０ＫＨｚの
高周波出力が連続印加されている洗浄槽１内に低周波超
音波振動子２、３に低周波発信器５から２８ＫＨｚ、低
周波発振器６から４５ＫＨｚの低周波出力が切り替え装
置４で３ｍｓ毎に印加されると、洗浄槽１内で測定され
た超音波の音圧は電圧のピックアップで約２５０ｍＶ以
上に達している。
【００１８】又、図２の（ｆ）に示すように、低周波超
音波振動子２、３に低周波発信器５から２８ＫＨｚ、低
周波発振器６から４５ＫＨｚの低周波出力が切り替え装
置４で３ｍｓ毎に印加されている場合は、洗浄槽内で測
定された音圧は同様に電圧のピックアップで約１００ｍ
ｖにしかならない。
音波振動子２、３に低周波発信器５から２８ＫＨｚ、低
周波発振器６から４５ＫＨｚの低周波出力が切り替え装
置４で３ｍｓ毎に印加されている場合は、洗浄槽内で測
定された音圧は同様に電圧のピックアップで約１００ｍ
ｖにしかならない。
【００１９】又、図２の（ｇ）に示すように、高周波超
音波振動子８に高周波発信器９から１６０ＫＨｚの高周
波出力が連続印加されている洗浄槽１内に低周波超音波
振動子２、３に低周波発信器５から２８ＫＨｚ、低周波
発振器６から４５ＫＨｚ、低周波発振器７から１００Ｋ
Ｈｚの低周波出力が切り替え装置４で１０ｍｓ毎に印加
されると、洗浄槽１内で測定された超音波の音圧は電圧
のピックアップで約２２０ｍＶに達する。
音波振動子８に高周波発信器９から１６０ＫＨｚの高周
波出力が連続印加されている洗浄槽１内に低周波超音波
振動子２、３に低周波発信器５から２８ＫＨｚ、低周波
発振器６から４５ＫＨｚ、低周波発振器７から１００Ｋ
Ｈｚの低周波出力が切り替え装置４で１０ｍｓ毎に印加
されると、洗浄槽１内で測定された超音波の音圧は電圧
のピックアップで約２２０ｍＶに達する。
【００２０】これに対して、図２の（ｈ）に示すよう
に、低周波超音波振動子２、３に低周波発信器５から２
８ＫＨｚ、低周波発振器６から４５ＫＨｚ、低周波発振
器７から１００ＫＨｚの低周波出力が切り替え装置４で
１０ｍｓ毎に切り替えられて印加される場合は、洗浄槽
内で測定された音圧は電圧のピックアップで約１００ｍ
ｖにしかならない。
に、低周波超音波振動子２、３に低周波発信器５から２
８ＫＨｚ、低周波発振器６から４５ＫＨｚ、低周波発振
器７から１００ＫＨｚの低周波出力が切り替え装置４で
１０ｍｓ毎に切り替えられて印加される場合は、洗浄槽
内で測定された音圧は電圧のピックアップで約１００ｍ
ｖにしかならない。
【００２１】又、図２の（ｉ）に示すように、高周波超
音波振動子８に高周波発信器９から１６０ＫＨｚの高周
波出力が連続印加されている洗浄槽１内に低周波超音波
振動子２、３に低周波発信器５から２８ＫＨｚ、低周波
発振器６から４５ＫＨｚ、低周波発振器７から１００Ｋ
Ｈｚの低周波出力が切り替え装置４で５ｍｓ毎に印加さ
れると、洗浄槽１内で測定された超音波の音圧は電圧の
ピックアップで約３２０ｍＶ以上に達している。
音波振動子８に高周波発信器９から１６０ＫＨｚの高周
波出力が連続印加されている洗浄槽１内に低周波超音波
振動子２、３に低周波発信器５から２８ＫＨｚ、低周波
発振器６から４５ＫＨｚ、低周波発振器７から１００Ｋ
Ｈｚの低周波出力が切り替え装置４で５ｍｓ毎に印加さ
れると、洗浄槽１内で測定された超音波の音圧は電圧の
ピックアップで約３２０ｍＶ以上に達している。
【００２２】これに対して、図２の（ｊ）に示すよう
に、低周波超音波振動子２、３に低周波発信器５から２
８ＫＨｚ、低周波発振器６から４５ＫＨｚ、低周波発振
器７から１００ＫＨｚの低周波出力が切り替え装置４で
５ｍｓ毎に切り替えられて印加される場合は、洗浄槽内
で測定された音圧は同様に電圧のピックアップで約１０
０ｍｖである。
に、低周波超音波振動子２、３に低周波発信器５から２
８ＫＨｚ、低周波発振器６から４５ＫＨｚ、低周波発振
器７から１００ＫＨｚの低周波出力が切り替え装置４で
５ｍｓ毎に切り替えられて印加される場合は、洗浄槽内
で測定された音圧は同様に電圧のピックアップで約１０
０ｍｖである。
【００２３】さらに、図２の（ｋ）に示すように、高周
波超音波振動子８に高周波発信器９から１６０ＫＨｚの
高周波出力が連続印加されている洗浄槽１内に低周波超
音波振動子２、３に低周波発信器５から２８ＫＨｚ、低
周波発振器６から４５ＫＨｚ、低周波発振器７から１０
０ＫＨｚの低周波出力が３ｍｓ毎に印加されると、洗浄
槽１内で測定された超音波の音圧は電圧のピックアップ
で約３５０ｍＶ以上に達している。
波超音波振動子８に高周波発信器９から１６０ＫＨｚの
高周波出力が連続印加されている洗浄槽１内に低周波超
音波振動子２、３に低周波発信器５から２８ＫＨｚ、低
周波発振器６から４５ＫＨｚ、低周波発振器７から１０
０ＫＨｚの低周波出力が３ｍｓ毎に印加されると、洗浄
槽１内で測定された超音波の音圧は電圧のピックアップ
で約３５０ｍＶ以上に達している。
【００２４】又、図２の（ｌ）に示すように、低周波超
音波振動子２、３に低周波発信器５から２８ＫＨｚ、４
５ＫＨｚ、１００ＫＨｚの低周波出力が３ｍｓ毎に印加
されている場合は、洗浄槽内で測定された音圧は電圧の
ピックアップで約１００ｍｖにしかならない。
音波振動子２、３に低周波発信器５から２８ＫＨｚ、４
５ＫＨｚ、１００ＫＨｚの低周波出力が３ｍｓ毎に印加
されている場合は、洗浄槽内で測定された音圧は電圧の
ピックアップで約１００ｍｖにしかならない。
【００２５】又、図３の点線Ａは、２８ＫＨｚ、４５Ｋ
Ｈｚの低周波数の出力を０.１ｍｓから５００ｍｓにそ
れぞれ切り替えて出力した音圧をで示し、又、実線Ｂは
１６０ＫＨｚの高周波数の出力を連続的に洗浄槽１内に
印加し、この高周波数の出力にさらに低周波発振器５か
ら２８ＫＨｚ、低周波数６から４５ＫＨｚの低周波数の
出力を０.１ｍｓから５００ｍｓで切り替え装置４によ
りそれぞれ切り替えて出力した音圧を示した図で、この
図によると、低周波数の出力だけでは、音圧は１８０ｍ
Ｖ程度であるが、低周波数の出力に高周波数の出力を印
加した場合には、４００ｍＶを越える音圧になり、これ
によって洗浄効果が非常に増大することが分かる。
Ｈｚの低周波数の出力を０.１ｍｓから５００ｍｓにそ
れぞれ切り替えて出力した音圧をで示し、又、実線Ｂは
１６０ＫＨｚの高周波数の出力を連続的に洗浄槽１内に
印加し、この高周波数の出力にさらに低周波発振器５か
ら２８ＫＨｚ、低周波数６から４５ＫＨｚの低周波数の
出力を０.１ｍｓから５００ｍｓで切り替え装置４によ
りそれぞれ切り替えて出力した音圧を示した図で、この
図によると、低周波数の出力だけでは、音圧は１８０ｍ
Ｖ程度であるが、低周波数の出力に高周波数の出力を印
加した場合には、４００ｍＶを越える音圧になり、これ
によって洗浄効果が非常に増大することが分かる。
【００２６】なお、図４に示すように、２８ＫＨｚ、４
５ＫＨｚ、１００ＫＨｚを切り替えて出力した場合の洗
浄槽１内の音圧を点線Ａで示し、実線Ｂは１６０ＫＨｚ
の高周波数を連続的に印加して出力している洗浄槽１内
に、２８ＫＨｚ、４５ＫＨｚ、１００ＫＨｚを切り替え
た場合の音圧を示しているが、２８ＫＨｚ、４５ＫＨ
ｚ、１００ＫＨｚを１０ｍｓ毎に切り替えて出力してい
る場合には出力に差があるが、２８ＫＨｚ、４５ＫＨ
ｚ、１００ＫＨｚを切り替え時間を１０ｍｓから徐々に
切り替え時間を長くすると、４０ｍｓでは逆転してしま
うため、２８ＫＨｚ、４５ＫＨｚ、１００ＫＨｚを切り
替えて出力する場合には、切り替え時間は１０ｍｓ迄は
効果がある。
５ＫＨｚ、１００ＫＨｚを切り替えて出力した場合の洗
浄槽１内の音圧を点線Ａで示し、実線Ｂは１６０ＫＨｚ
の高周波数を連続的に印加して出力している洗浄槽１内
に、２８ＫＨｚ、４５ＫＨｚ、１００ＫＨｚを切り替え
た場合の音圧を示しているが、２８ＫＨｚ、４５ＫＨ
ｚ、１００ＫＨｚを１０ｍｓ毎に切り替えて出力してい
る場合には出力に差があるが、２８ＫＨｚ、４５ＫＨ
ｚ、１００ＫＨｚを切り替え時間を１０ｍｓから徐々に
切り替え時間を長くすると、４０ｍｓでは逆転してしま
うため、２８ＫＨｚ、４５ＫＨｚ、１００ＫＨｚを切り
替えて出力する場合には、切り替え時間は１０ｍｓ迄は
効果がある。
【００２７】又、上記実施例では、低周波数として、２
８ＫＨｚ、４５ＫＨｚ、１００ＫＨｚを入力し、高周波
数として１６０ＫＨｚを入力した例を示したが、低周波
数及び高周波数として他の周波数も使用することができ
る。
８ＫＨｚ、４５ＫＨｚ、１００ＫＨｚを入力し、高周波
数として１６０ＫＨｚを入力した例を示したが、低周波
数及び高周波数として他の周波数も使用することができ
る。
【００２８】
【発明の効果】以上説明したように本発明の超音波洗浄
装置では、高周波数の超音波を連続的に出力して洗浄槽
内に２０μ〜５００μの気泡を作り、この気泡に低周波
数の超音波のバースト波を出力することにより、低周波
数の超音波で充満している気泡を破壊して高次の超音波
を発生することにより、洗浄効果が非常に増大するとい
う利点がある。
装置では、高周波数の超音波を連続的に出力して洗浄槽
内に２０μ〜５００μの気泡を作り、この気泡に低周波
数の超音波のバースト波を出力することにより、低周波
数の超音波で充満している気泡を破壊して高次の超音波
を発生することにより、洗浄効果が非常に増大するとい
う利点がある。
【図１】本発明の１実施例の超音波洗浄装置の構成図で
ある。
ある。
【図２】図１の洗浄装置による洗浄効果を説明するグラ
フである。
フである。
【図３】図１の洗浄装置による洗浄効果を説明するグラ
フである。
フである。
【図４】図１の洗浄装置による洗浄効果を説明するグラ
フである。
フである。
１ 洗浄槽 ２、３ 低周波超音波振動子 ４ 切り替え装置 ５、６、７ 低周波発信器 ８ 高周波超音波振動子 ９ 高周波発信器
Claims (6)
- 【請求項１】 超音波振動子から連続的に１００ＫＨｚ
以上の超音波を照射して洗浄液に２０μ〜５００μの気
泡を作り、該それぞれの気泡の直径に共振して過度応動
する前記超音波より低周波数のバースト波を他の超音波
振動子より前記洗浄液に照射することにより、前記洗浄
液に高次の超音波を発生して洗浄効果を向上させること
を特徴とする超音波洗浄方法。 - 【請求項２】 前記高周波数は１００ＫＨｚ以上とする
ことを特徴とする請求項１記載の超音波洗浄方法。 - 【請求項３】 前記低周波数は２０ＫＨｚ〜５０ＫＨｚ
であることを特徴とする請求項１記載の超音波洗浄方
法。 - 【請求項４】 洗浄槽に取り付けた低周波数の超音波振
動子に微小時間で切り替えるスイッチング装置を介して
２つ又はそれ以上の低周波発振器を接続するとともに、
前記洗浄槽に高周波数の超音波振動子を取り付け、該高
周波数の超音波振動子に高周波発振器を接続したことを
特徴とする超音波洗浄装置。 - 【請求項５】 前記高周波数は１００ＫＨｚ以上とする
ことを特徴とする請求項４記載の超音波洗浄装置。 - 【請求項６】 前記低周波数は２０ＫＨｚと５０ＫＨｚ
であることを特徴とする請求項４記載の超音波洗浄装
置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29273493A JP3336323B2 (ja) | 1993-10-28 | 1993-10-28 | 超音波洗浄方法及びその装置 |
| US08/330,009 US5656095A (en) | 1993-10-28 | 1994-10-27 | Ultrasonic washing method and apparatus using continuous high frequency ultrasonic waves and intermittent low frequency ultrasonic waves |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29273493A JP3336323B2 (ja) | 1993-10-28 | 1993-10-28 | 超音波洗浄方法及びその装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07116620A true JPH07116620A (ja) | 1995-05-09 |
| JP3336323B2 JP3336323B2 (ja) | 2002-10-21 |
Family
ID=17785639
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29273493A Expired - Fee Related JP3336323B2 (ja) | 1993-10-28 | 1993-10-28 | 超音波洗浄方法及びその装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5656095A (ja) |
| JP (1) | JP3336323B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008119916A (ja) * | 2006-11-10 | 2008-05-29 | Asahi Kasei Chemicals Corp | レーザー彫刻印刷版表面の洗浄方法 |
| JP2012066218A (ja) * | 2010-09-27 | 2012-04-05 | Honda Electronic Co Ltd | 超音波発生装置 |
Families Citing this family (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6822372B2 (en) * | 1999-08-09 | 2004-11-23 | William L. Puskas | Apparatus, circuitry and methods for cleaning and/or processing with sound waves |
| US6313565B1 (en) | 2000-02-15 | 2001-11-06 | William L. Puskas | Multiple frequency cleaning system |
| CN1299333C (zh) * | 1996-08-20 | 2007-02-07 | 奥加诺株式会社 | 清洗电子元件或其制造设备的元件的方法和装置 |
| US5865199A (en) * | 1997-10-31 | 1999-02-02 | Pedziwiatr; Michael P. | Ultrasonic cleaning apparatus |
| AU7383300A (en) | 1999-09-14 | 2001-04-17 | Charles A. Meldrum | Multiple-stage energy-efficient produce processing system |
| AU1253301A (en) | 1999-09-14 | 2001-04-17 | Charles A. Meldrum | Produce washing system utilizing multiple energy sources |
| US6452672B1 (en) | 2000-03-10 | 2002-09-17 | Wyatt Technology Corporation | Self cleaning optical flow cell |
| US20020157685A1 (en) * | 2000-09-11 | 2002-10-31 | Naoya Hayamizu | Washing method, method of manufacturing semiconductor device and method of manufacturing active matrix-type display device |
| US7104268B2 (en) * | 2003-01-10 | 2006-09-12 | Akrion Technologies, Inc. | Megasonic cleaning system with buffered cavitation method |
| JP2007523738A (ja) * | 2003-11-05 | 2007-08-23 | ザ・クレスト・グループ・インク | 複数の応答周波数を持つトランスデューサを用いた超音波処理方法および超音波処理装置 |
| TW200738356A (en) * | 2005-06-15 | 2007-10-16 | Akrion Inc | System and method of processing substrates using sonic energy having cavitation control |
| TWI393595B (zh) * | 2006-03-17 | 2013-04-21 | Michale Goodson J | 具有頻率掃描的厚度模式轉換器之超高頻音波處理設備 |
| WO2011038168A1 (en) * | 2009-09-24 | 2011-03-31 | The Board Of Trustees Of The University Of Illinois | Continous-flow bacterial disinfection of fruits, vegetables, fresh-cut produce and leafy greens using high-intensity ultrasound |
| CN102639752B (zh) * | 2009-12-03 | 2014-01-15 | 新日铁住金株式会社 | 钢板的酸洗方法和酸洗装置 |
| JP4934739B2 (ja) * | 2010-06-07 | 2012-05-16 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 超音波洗浄装置及び超音波洗浄方法 |
| CN105149288A (zh) * | 2015-10-19 | 2015-12-16 | 无锡清杨机械制造有限公司 | 一种利用变频超声清洁物件的方法 |
| CN106140724A (zh) * | 2016-09-30 | 2016-11-23 | 四川行来科技有限公司 | 一种超声波薄膜清洗机 |
| DE102021118871A1 (de) * | 2021-07-21 | 2023-01-26 | Bernhard Giersberg | Verfahren und Vorrichtung sowie Messsonde zur Klärschlammkonditionierung |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4409999A (en) * | 1981-08-07 | 1983-10-18 | Pedziwiatr Edward A | Automatic ultrasonic cleaning apparatus |
| JPS60261581A (ja) * | 1984-06-07 | 1985-12-24 | キヤノン株式会社 | 超音波洗浄装置 |
| EP0270928B1 (de) * | 1986-11-29 | 1992-01-15 | Asea Brown Boveri Aktiengesellschaft | Reinigungsverfahren für ein elekrisches Isolierteil |
| JPH01308942A (ja) * | 1988-06-08 | 1989-12-13 | Mitsubishi Electric Corp | 固体表面付着微粒子計数装置 |
| JP2832443B2 (ja) * | 1988-11-22 | 1998-12-09 | 本多電子株式会社 | マルチ周波数超音波洗浄方法及び洗浄装置 |
| JP2794438B2 (ja) * | 1989-02-16 | 1998-09-03 | 本多電子株式会社 | キャビテーションを利用した洗浄方法 |
| FI82388C (fi) * | 1989-06-29 | 1991-03-11 | Outokumpu Oy | Foerfarande foer rening av filterplattorna i en sugtorkningsanordning. |
| US5218980A (en) * | 1991-10-10 | 1993-06-15 | Evans David H | Ultrasonic dishwasher system |
-
1993
- 1993-10-28 JP JP29273493A patent/JP3336323B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1994
- 1994-10-27 US US08/330,009 patent/US5656095A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008119916A (ja) * | 2006-11-10 | 2008-05-29 | Asahi Kasei Chemicals Corp | レーザー彫刻印刷版表面の洗浄方法 |
| JP2012066218A (ja) * | 2010-09-27 | 2012-04-05 | Honda Electronic Co Ltd | 超音波発生装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5656095A (en) | 1997-08-12 |
| JP3336323B2 (ja) | 2002-10-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH07116620A (ja) | 超音波洗浄方法及びその装置 | |
| JP2794438B2 (ja) | キャビテーションを利用した洗浄方法 | |
| KR101004073B1 (ko) | 초음파 처리 방법 및 다중 주파수 변환기를 구비한 장치 | |
| JP2832443B2 (ja) | マルチ周波数超音波洗浄方法及び洗浄装置 | |
| KR940019363A (ko) | 초음파세정에 있어서의 초음파진동자의 발진방법 | |
| US3421939A (en) | Method and apparatus for cleaning a pipe with sonic energy | |
| Fuchs | Ultrasonic cleaning: Fundamental theory and application | |
| KR940021798A (ko) | 저주파 진동 세탁방법 및 장치 | |
| JPH06296942A (ja) | 超音波洗浄における超音波振動子の発振方法及びその装置 | |
| JPH05317820A (ja) | 超音波洗浄方法及び装置 | |
| WO2001090003B1 (fr) | Procede et dispositif destines a l'elimination electrolytique en continu d'eaux usees | |
| JPS63104620A (ja) | 消泡方法 | |
| JP2007311379A (ja) | 超音波洗浄装置 | |
| KR102065067B1 (ko) | 다중 주파수 동시 구동형 멀티진동자 기반 초음파세척장치 | |
| JP2004337800A (ja) | 超音波キャビテーション発生装置 | |
| JP2785022B2 (ja) | キャビテーションを利用した洗浄方法 | |
| KR20220030718A (ko) | 초음파 파동의 변화를 이용한 초음파 세척방법 및 그 장치 | |
| KR100567966B1 (ko) | 원통형 초음파 세정 장치 | |
| JPH0730133Y2 (ja) | 超音波発振器 | |
| JPS59142885A (ja) | 超音波処理方法およびその装置 | |
| JPH08131978A (ja) | 超音波洗浄装置 | |
| JPH10137705A (ja) | 洗浄装置 | |
| Fuchs | 2 The Fundamental Theory and Application of Ultrasonics for Cleaning | |
| JP2009000023A (ja) | 食品粉体の殺菌装置 | |
| JP2003220331A5 (ja) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070802 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080802 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090802 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090802 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100802 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100802 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110802 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110802 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120802 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120802 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130802 Year of fee payment: 11 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |