JPH07113012B2 - 新規１５−ケト−プロスタグランジン類 - Google Patents
新規１５−ケト−プロスタグランジン類Info
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- JPH07113012B2 JPH07113012B2 JP4012795A JP1279592A JPH07113012B2 JP H07113012 B2 JPH07113012 B2 JP H07113012B2 JP 4012795 A JP4012795 A JP 4012795A JP 1279592 A JP1279592 A JP 1279592A JP H07113012 B2 JPH07113012 B2 JP H07113012B2
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- lower alkyl
- hydroxy
- difluoro
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、新規な１５−ケト−
プロスタグランジン類、すなわち、２−デカルボキシ−
２−カルボキシエチル−１５−ケト−プロスタグランジ
ン類に関するものである。
プロスタグランジン類、すなわち、２−デカルボキシ−
２−カルボキシエチル−１５−ケト−プロスタグランジ
ン類に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】プロスタグランジン類(以後プロスタグ
ランジンはＰＧとして示す)はひとおよび他の哺乳類の
組織または器官に含有され、広範囲の生理学的活性を示
す有機カルボン酸の１群である。天然に存在するＰＧ類
は一般的な構造特性として、プロスタン酸骨格を有す
る。
ランジンはＰＧとして示す)はひとおよび他の哺乳類の
組織または器官に含有され、広範囲の生理学的活性を示
す有機カルボン酸の１群である。天然に存在するＰＧ類
は一般的な構造特性として、プロスタン酸骨格を有す
る。
【化２】 一方幾つかの合成類似体は修飾された骨格を持ってい
る。天然ＰＧ類は５員環の構造特性によって、ＰＧＡ
類、ＰＧＢ類、ＰＧＣ類、ＰＧＤ類、ＰＧＥ類、ＰＧＦ
類、ＰＧＧ類、ＰＧＨ類、ＰＧＩ類およびＰＧＪ類に分
類され、さらに鎖部分が、不飽和および酸化の存在およ
び不存在によっても 下付１...１３,１４−不飽和−１５−ＯＨ 下付２...５,６−および１３,１４−ジ不飽和−１５−
ＯＨ 下付３...５,６−、１３,１４−および１７,１８−トリ
不飽和−１５−ＯＨ として分類される。
る。天然ＰＧ類は５員環の構造特性によって、ＰＧＡ
類、ＰＧＢ類、ＰＧＣ類、ＰＧＤ類、ＰＧＥ類、ＰＧＦ
類、ＰＧＧ類、ＰＧＨ類、ＰＧＩ類およびＰＧＪ類に分
類され、さらに鎖部分が、不飽和および酸化の存在およ
び不存在によっても 下付１...１３,１４−不飽和−１５−ＯＨ 下付２...５,６−および１３,１４−ジ不飽和−１５−
ＯＨ 下付３...５,６−、１３,１４−および１７,１８−トリ
不飽和−１５−ＯＨ として分類される。
【０００３】上記のプロスタン酸骨格において、例えば
ＰＧＥ類は、９位にオキソ基、１１位にヒドロキシ基を
有する化合物、ＰＧＦ類は、９位および１１位にヒドロ
キシ基を有する化合物、ＰＧＤ類は、９位にヒドロキシ
基、１１位にオキソ基を有する化合物、またＰＧＡ類は
９位にオキソ基、１１位に水素、10−11位に２重結合を
有する化合物である。ＰＧ類は、抗潰瘍、子宮収縮、腸
管収縮、血管拡張等の種々の作用を有することが知られ
ている。上記のようなＰＧ類における１５位のヒドロキ
シ基の代りに１５位にオキソ基を有する化合物またはそ
の誘導体も知られている(例えば、特開昭６４−５２７
５３号、特開平１−１０４０４０号、特開平１−１５１
５５２号および特開平１−２９４６２４号等)。そのう
ち、例えば特開平１−２９４６２４号等には、α鎖の炭
素原子数が７に限定されない一般式が示されているが、
炭素原子数が９の化合物の具体例は示されていない。
ＰＧＥ類は、９位にオキソ基、１１位にヒドロキシ基を
有する化合物、ＰＧＦ類は、９位および１１位にヒドロ
キシ基を有する化合物、ＰＧＤ類は、９位にヒドロキシ
基、１１位にオキソ基を有する化合物、またＰＧＡ類は
９位にオキソ基、１１位に水素、10−11位に２重結合を
有する化合物である。ＰＧ類は、抗潰瘍、子宮収縮、腸
管収縮、血管拡張等の種々の作用を有することが知られ
ている。上記のようなＰＧ類における１５位のヒドロキ
シ基の代りに１５位にオキソ基を有する化合物またはそ
の誘導体も知られている(例えば、特開昭６４−５２７
５３号、特開平１−１０４０４０号、特開平１−１５１
５５２号および特開平１−２９４６２４号等)。そのう
ち、例えば特開平１−２９４６２４号等には、α鎖の炭
素原子数が７に限定されない一般式が示されているが、
炭素原子数が９の化合物の具体例は示されていない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】１つの化合物が種々の
作用を同時に有することは、長所のようにみえるが、あ
る場合には目的としない作用の存在は却って不都合であ
り、副作用として排斥される。したがって、ＰＧ類が有
する諸作用のうち、特定の作用のみを有する化合物の開
発は望ましいことである。この発明者は、このような化
合物を探索して研究を続けた結果、α鎖の炭素原子数が
９であるこの発明に係る化合物の開発に成功したのであ
る。
作用を同時に有することは、長所のようにみえるが、あ
る場合には目的としない作用の存在は却って不都合であ
り、副作用として排斥される。したがって、ＰＧ類が有
する諸作用のうち、特定の作用のみを有する化合物の開
発は望ましいことである。この発明者は、このような化
合物を探索して研究を続けた結果、α鎖の炭素原子数が
９であるこの発明に係る化合物の開発に成功したのであ
る。
【０００５】
【発明の構成】すなわち、この発明は、一般式
【化３】 [式中、ＬおよびＭは水素、ヒドロキシ、低級アルキ
ル、ヒドロキシ(低級)アルキル、またはオキソ(但し、
ＬおよびＭの基の内少なくとも１つは水素以外の基であ
り、５員環は少なくとも１つの２重結合を有してしても
よい)、Ｘ1およびＸ2は水素、ハロゲンまたは低級アル
キル、Ｑは−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−
ＣＨ2−または−ＣＨ2ＣＨ＝ＣＨ−、Ｙは−ＣＨ2−Ｃ
Ｈ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−または−ＣＯ−Ｃ
Ｈ2−、Ｚは−ＣＨ2−ＣＨ2−または−ＣＨ＝ＣＨ−、
Ｒ1は水素原子、低級アルキル基、低級シクロアルキル
基、単環性アリール基、単環性アリール低級アルキル基
または単環性アロイル低級アルキル基、Ｒ2は単結合ま
たは低級アルキレン基、Ｒ3は非置換もしくはハロゲン
置換低級アルキル基、非置換もしくは低級アルキル置換
低級シクロアルキル基、非置換またはハロゲンもしくは
ハロ低級アルキルで置換された単環性アリール基、非置
換またはハロゲンもしくはハロ低級アルキルで置換され
た単環性アリールオキシ基を意味する]で示される化合
物またはＲ1が水素の場合その塩類を提供するものであ
る。上記の式において、「ハロゲン」の語は、ふっ素、塩
素、臭素およびよう素を包含する。ＱおよびＹにおける
基−ＣＨ＝ＣＨ−はシス結合を有するのが好ましく、Ｚ
における基−ＣＨ＝ＣＨ−はトランス結合を有するのが
好ましい。
ル、ヒドロキシ(低級)アルキル、またはオキソ(但し、
ＬおよびＭの基の内少なくとも１つは水素以外の基であ
り、５員環は少なくとも１つの２重結合を有してしても
よい)、Ｘ1およびＸ2は水素、ハロゲンまたは低級アル
キル、Ｑは−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−
ＣＨ2−または−ＣＨ2ＣＨ＝ＣＨ−、Ｙは−ＣＨ2−Ｃ
Ｈ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−または−ＣＯ−Ｃ
Ｈ2−、Ｚは−ＣＨ2−ＣＨ2−または−ＣＨ＝ＣＨ−、
Ｒ1は水素原子、低級アルキル基、低級シクロアルキル
基、単環性アリール基、単環性アリール低級アルキル基
または単環性アロイル低級アルキル基、Ｒ2は単結合ま
たは低級アルキレン基、Ｒ3は非置換もしくはハロゲン
置換低級アルキル基、非置換もしくは低級アルキル置換
低級シクロアルキル基、非置換またはハロゲンもしくは
ハロ低級アルキルで置換された単環性アリール基、非置
換またはハロゲンもしくはハロ低級アルキルで置換され
た単環性アリールオキシ基を意味する]で示される化合
物またはＲ1が水素の場合その塩類を提供するものであ
る。上記の式において、「ハロゲン」の語は、ふっ素、塩
素、臭素およびよう素を包含する。ＱおよびＹにおける
基−ＣＨ＝ＣＨ−はシス結合を有するのが好ましく、Ｚ
における基−ＣＨ＝ＣＨ−はトランス結合を有するのが
好ましい。
【０００６】「低級アルキル基」の語は、炭素原子数１−
６の直鎖または分枝鎖の飽和炭化水素残基を包含し、例
えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、t−ブチル、ペンチル、ヘキシル等を
含む。「低級アルキレン基」の語は、上記のような低級ア
ルキル基から水素を１個除いて得られる基であり、例え
ばメチレン、エチレン、プロピレン、テトラメチレン、
２−メチルテトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメ
チレン等を含む。「低級シクロアルキル基」の語は、炭素
原子３個以上を含む上記のような低級アルキル基が閉環
して生ずる基であり、例えばシクロプロピル、シクロブ
チル、シクロペンチル、シクロヘキシルを含む。「ハロ
低級アルキル基」の語は、少なくとも１個、好ましくは
１−３個の上記のようなハロゲンを有する上記のような
低級アルキル基を包含し、例えばクロロメチル、ブロモ
メチル、フルオロメチル、トリフルオロメチル、１,２
−ジクロロエチル、１,２,２−トリクロロエチル、クロ
ロプロピル、クロロブチル、クロロペンチル、クロロヘ
キシル等を含む。「単環性アリール基」の語は、低級アル
キル置換基を有するか有しないフェニル基を包含し、例
えばフェニル、トリル、キシリル、クメニル等を含む。
「単環性アリール低級アルキル基」の語は、上記のよう
な単環性アリール基と低級アルキル基が結合して生ずる
基であり、例えばベンジル、フェネチル、トリルメチル
等を含む。「単環性アロイル低級アルキル基」の語は、
低級アルキル置換基を有する有しないベンゾイル基のよ
うな単環性アロイル基が上記のような低級アルキル基と
結合して生ずる基であり、例えばフェナシル（ベンゾイ
ルメチル）、トリルメチル、キシリルメチル等を含む。
「単環性アリールオキシ基」の語は、上記のような単環性
アリール基が酸素原子(−Ｏ−)と結合して生ずる基であ
り、例えばフェノキシ、トリルオキシ、キシリルオキ
シ、クメニルオキシ等を含む。「塩類」としては、医薬上
許容し得る塩が適当である。
６の直鎖または分枝鎖の飽和炭化水素残基を包含し、例
えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、t−ブチル、ペンチル、ヘキシル等を
含む。「低級アルキレン基」の語は、上記のような低級ア
ルキル基から水素を１個除いて得られる基であり、例え
ばメチレン、エチレン、プロピレン、テトラメチレン、
２−メチルテトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメ
チレン等を含む。「低級シクロアルキル基」の語は、炭素
原子３個以上を含む上記のような低級アルキル基が閉環
して生ずる基であり、例えばシクロプロピル、シクロブ
チル、シクロペンチル、シクロヘキシルを含む。「ハロ
低級アルキル基」の語は、少なくとも１個、好ましくは
１−３個の上記のようなハロゲンを有する上記のような
低級アルキル基を包含し、例えばクロロメチル、ブロモ
メチル、フルオロメチル、トリフルオロメチル、１,２
−ジクロロエチル、１,２,２−トリクロロエチル、クロ
ロプロピル、クロロブチル、クロロペンチル、クロロヘ
キシル等を含む。「単環性アリール基」の語は、低級アル
キル置換基を有するか有しないフェニル基を包含し、例
えばフェニル、トリル、キシリル、クメニル等を含む。
「単環性アリール低級アルキル基」の語は、上記のよう
な単環性アリール基と低級アルキル基が結合して生ずる
基であり、例えばベンジル、フェネチル、トリルメチル
等を含む。「単環性アロイル低級アルキル基」の語は、
低級アルキル置換基を有する有しないベンゾイル基のよ
うな単環性アロイル基が上記のような低級アルキル基と
結合して生ずる基であり、例えばフェナシル（ベンゾイ
ルメチル）、トリルメチル、キシリルメチル等を含む。
「単環性アリールオキシ基」の語は、上記のような単環性
アリール基が酸素原子(−Ｏ−)と結合して生ずる基であ
り、例えばフェノキシ、トリルオキシ、キシリルオキ
シ、クメニルオキシ等を含む。「塩類」としては、医薬上
許容し得る塩が適当である。
【０００７】適当な「医薬上許容し得る塩」としては、慣
用される非毒性塩を含み、無機塩基との塩、例えばアル
カリ金属塩(ナトリウム塩、カリウム塩等)、アルカリ土
類金属塩(カルシウム塩、マグネシウム塩等)、アンモニ
ウム塩、有機塩基との塩、例えばアミン塩(例えばメチ
ルアミン、ジメチルアミン塩、シクロヘキシルアミン
塩、ベンジルアミン塩、ピペリジン塩、エチレンジアミ
ン塩、エタノールアミン塩、ジエタノールアミン塩、ト
リエタノールアミン塩、トリス(ヒドロキシメチルアミ
ノ)エタン塩、モノメチル−モノエタノールアミン塩、
リジン塩、プロカイン塩、カフェイン塩等)、塩基性ア
ミノ酸塩(例えばアルギニン塩、リジン塩等)テトラアル
キルアンモニウム塩等があげられる。これらの塩類は、
例えば対応する酸および塩基から常套の方法によってま
たは塩交換によって製造し得る。上記式(I)中、環、α
および／またはω鎖の配置は、天然のプロスタグランジ
ン類の配置と同様かまたは異なっていてもよい。しかし
ながら、この発明は、天然の配置を有する化合物および
非天然の配置を有する化合物の混合物も包含する。
用される非毒性塩を含み、無機塩基との塩、例えばアル
カリ金属塩(ナトリウム塩、カリウム塩等)、アルカリ土
類金属塩(カルシウム塩、マグネシウム塩等)、アンモニ
ウム塩、有機塩基との塩、例えばアミン塩(例えばメチ
ルアミン、ジメチルアミン塩、シクロヘキシルアミン
塩、ベンジルアミン塩、ピペリジン塩、エチレンジアミ
ン塩、エタノールアミン塩、ジエタノールアミン塩、ト
リエタノールアミン塩、トリス(ヒドロキシメチルアミ
ノ)エタン塩、モノメチル−モノエタノールアミン塩、
リジン塩、プロカイン塩、カフェイン塩等)、塩基性ア
ミノ酸塩(例えばアルギニン塩、リジン塩等)テトラアル
キルアンモニウム塩等があげられる。これらの塩類は、
例えば対応する酸および塩基から常套の方法によってま
たは塩交換によって製造し得る。上記式(I)中、環、α
および／またはω鎖の配置は、天然のプロスタグランジ
ン類の配置と同様かまたは異なっていてもよい。しかし
ながら、この発明は、天然の配置を有する化合物および
非天然の配置を有する化合物の混合物も包含する。
【０００８】この発明の化合物において、１３,１４位
が飽和している場合に１１位のヒドロキシと１５位のケ
ト間のヘミアセタール形成により、ケト−ヘミアセター
ル平衡を生ずる場合がある。このような互変異性体が存
在する場合、両異性体の存在比率は他の部分の構造また
は置換基の種類により変動し、場合によっては一方の異
性体が圧倒的に存在することもあるが、この発明におい
てはこれら両者を含むものとし、このような異性体の存
在の有無にかかわりなくケト型の構造式または命名法に
よって化合物を表わすことがあるが、これは便宜上のも
のであってヘミアセタール型の化合物を排除しようとす
るものではない。この発明においては、個々の互変異性
体、その混合物または光学異性体、その混合物、ラセミ
体、その他の立体異性体等の異性体も、同じ目的に使用
することが可能である。
が飽和している場合に１１位のヒドロキシと１５位のケ
ト間のヘミアセタール形成により、ケト−ヘミアセター
ル平衡を生ずる場合がある。このような互変異性体が存
在する場合、両異性体の存在比率は他の部分の構造また
は置換基の種類により変動し、場合によっては一方の異
性体が圧倒的に存在することもあるが、この発明におい
てはこれら両者を含むものとし、このような異性体の存
在の有無にかかわりなくケト型の構造式または命名法に
よって化合物を表わすことがあるが、これは便宜上のも
のであってヘミアセタール型の化合物を排除しようとす
るものではない。この発明においては、個々の互変異性
体、その混合物または光学異性体、その混合物、ラセミ
体、その他の立体異性体等の異性体も、同じ目的に使用
することが可能である。
【０００９】この発明の１５−ケト−ＰＧ化合物類の命
名に際しては式(Ａ)に示したプロスタン酸の番号を用い
る。前記式(Ａ)はＣ−２０の基本骨格のものであるが、
この番号はこの発明の化合物でもそのまま用いるものと
し、この発明の化合物のω鎖の炭素数がこれによって限
定されるものではない。即ち、式（Ａ）において、基本
骨格を構成する炭素の番号はカルボン酸を１とし５員環
に向って順に２〜７までをα鎖上の炭素に、８〜１２ま
でを５員環の炭素に、１３〜２０までをω鎖上に付して
いるが、α鎖上で増加する場合２位にカルボキシル基
(１位)に代わる置換基がついたものとして命名する。炭
素数がω鎖上で減少する場合、２０位から炭素の番号を
順次減じ、ω鎖上で増加する場合、２１番目以後の炭素
原子は置換基として命名する。また、立体配置に関して
は、特にことわりのないかぎり、上記基本骨格の有する
立体配置に従うものとする。従って、α鎖に９個の炭素
原子を有する１５−ケト−ＰＧ化合物を２−デカルボキ
シ−２−（２−カルボキシエチル）−１５−ケト−ＰＧ
類と命名する。上記式は最も典型的な配位である特定配
置を示すが、この明細書において、特にことわらない限
り化合物は上記の配置を有するものとする。
名に際しては式(Ａ)に示したプロスタン酸の番号を用い
る。前記式(Ａ)はＣ−２０の基本骨格のものであるが、
この番号はこの発明の化合物でもそのまま用いるものと
し、この発明の化合物のω鎖の炭素数がこれによって限
定されるものではない。即ち、式（Ａ）において、基本
骨格を構成する炭素の番号はカルボン酸を１とし５員環
に向って順に２〜７までをα鎖上の炭素に、８〜１２ま
でを５員環の炭素に、１３〜２０までをω鎖上に付して
いるが、α鎖上で増加する場合２位にカルボキシル基
(１位)に代わる置換基がついたものとして命名する。炭
素数がω鎖上で減少する場合、２０位から炭素の番号を
順次減じ、ω鎖上で増加する場合、２１番目以後の炭素
原子は置換基として命名する。また、立体配置に関して
は、特にことわりのないかぎり、上記基本骨格の有する
立体配置に従うものとする。従って、α鎖に９個の炭素
原子を有する１５−ケト−ＰＧ化合物を２−デカルボキ
シ−２−（２−カルボキシエチル）−１５−ケト−ＰＧ
類と命名する。上記式は最も典型的な配位である特定配
置を示すが、この明細書において、特にことわらない限
り化合物は上記の配置を有するものとする。
【００１０】前述のように、この発明の化合物の命名は
プロスタン酸骨格に基づいて行なうが、これをＩＵＰＡ
Ｃ命名法に基づいて行なうことも可能である。両命名法
による化合物の命名の例は実施例中に示す。
プロスタン酸骨格に基づいて行なうが、これをＩＵＰＡ
Ｃ命名法に基づいて行なうことも可能である。両命名法
による化合物の命名の例は実施例中に示す。
【００１１】［製造法］この発明の化合物は、種々の方
法で製造することができるが、例えば次の反応式にした
がって製造することもできる。下記反応式中、Ｐ1、
Ｐ2、Ｐ3、Ｐ4、Ｐ5、Ｐ6およびＰ7は保護基、Ｘ1、
Ｘ2、Ｒ2およびＲ3は前と同じ意味である。
法で製造することができるが、例えば次の反応式にした
がって製造することもできる。下記反応式中、Ｐ1、
Ｐ2、Ｐ3、Ｐ4、Ｐ5、Ｐ6およびＰ7は保護基、Ｘ1、
Ｘ2、Ｒ2およびＲ3は前と同じ意味である。
【００１２】反応式１
【化４】 反応式２
【化５】 反応式３
【化６】
【化７】 反応式４
【化８】 反応式５
【化９】 反応式６
【化１０】 反応式７
【化１１】 反応式８
【化１２】
【化１３】 反応式９
【化１４】
【００１３】反応式１において、化合物（１）（例えば
Ｘ1およびＸ2が水素である化合物は特開昭６４−５２７
５３号第３７頁の合成チャートＩに示された化合物８）
に、（６−カルボキシヘキシル）トリフェニルホスホニ
ウムブロミドから得たイリドを反応させて（２）とし、
これをエステル化して（３）を得、保護基を外すと目的
化合物（４）を得ることができる。また、反応式２にお
いて上記化合物（３）をジョーンズ酸化して（５）と
し、保護基を外すと目的化合物（６）を得ることができ
る。Ｑが−ＣＨ＝ＣＨＣＨ2−または−ＣＨ2ＣＨ＝ＣＨ
−の化合物は、化合物（１）にそれぞれ（６−カルボキ
シ−２−ヘキセニル）トリフェニルホスホニウムブロミ
ドまたは（６−カルボキシ−３−ヘキセニル）トリフェ
ニルホスホニウムブロミドから得たイリドを反応させ、
以下同様に処理して得られる。別の例として、反応式３
において、化合物（７）（市販品）を脱保護して得た化
合物（８）をスワーン酸化してアルデヒド体（９）と
し、これに２−オキソヘプチルホスホネート（例えば
３,３−ジハロ体）を反応させて（１０）を得る。接触
還元して（１１）とし、水素化ほう素ナトリウムでケト
ンを還元して（１２）とし、水素化ジイソブチルアルミ
ニウムで還元してラクトール（１３）とする。これにカ
ルボキシヘキシルホスホニウムブロミドを反応させて
（１４）とし、エステル化して（１５）とし、酸化して
（１６）とし、脱保護して化合物（６）を得る。所望に
より、これを加水分解すると遊離酸（１７）を得る。ま
た、反応式４において、上記化合物（１５）を接触還元
して（１８）とし、スワーン酸化して（１９）を得、こ
れを脱保護して目的化合物（２０）を得ることができ
る。
Ｘ1およびＸ2が水素である化合物は特開昭６４−５２７
５３号第３７頁の合成チャートＩに示された化合物８）
に、（６−カルボキシヘキシル）トリフェニルホスホニ
ウムブロミドから得たイリドを反応させて（２）とし、
これをエステル化して（３）を得、保護基を外すと目的
化合物（４）を得ることができる。また、反応式２にお
いて上記化合物（３）をジョーンズ酸化して（５）と
し、保護基を外すと目的化合物（６）を得ることができ
る。Ｑが−ＣＨ＝ＣＨＣＨ2−または−ＣＨ2ＣＨ＝ＣＨ
−の化合物は、化合物（１）にそれぞれ（６−カルボキ
シ−２−ヘキセニル）トリフェニルホスホニウムブロミ
ドまたは（６−カルボキシ−３−ヘキセニル）トリフェ
ニルホスホニウムブロミドから得たイリドを反応させ、
以下同様に処理して得られる。別の例として、反応式３
において、化合物（７）（市販品）を脱保護して得た化
合物（８）をスワーン酸化してアルデヒド体（９）と
し、これに２−オキソヘプチルホスホネート（例えば
３,３−ジハロ体）を反応させて（１０）を得る。接触
還元して（１１）とし、水素化ほう素ナトリウムでケト
ンを還元して（１２）とし、水素化ジイソブチルアルミ
ニウムで還元してラクトール（１３）とする。これにカ
ルボキシヘキシルホスホニウムブロミドを反応させて
（１４）とし、エステル化して（１５）とし、酸化して
（１６）とし、脱保護して化合物（６）を得る。所望に
より、これを加水分解すると遊離酸（１７）を得る。ま
た、反応式４において、上記化合物（１５）を接触還元
して（１８）とし、スワーン酸化して（１９）を得、こ
れを脱保護して目的化合物（２０）を得ることができ
る。
【００１４】上記の製造法中、化合物（１０）から
（１）を得る還元を省くと、Ｚが−ＣＨ＝ＣＨ−の化合
物が得られる。なお、６−ケト化合物は、さらに、一般
式（Ｉ）においてＬがＯＨ以外（例えば低級アルキル）
の化合物を目的とする場合は、１１位を脱保護し１５位
を保護した化合物（１２）のラクトンをラクトールに還
元し、ウイテイッヒ反応によりα鎖を導入し、１１位を
例えば低級アルカンまたは単環アリールスルホン酸基で
保護した後、酸化（例えばジョーンズ）して１０−エン
−９−オンとし、例えば低級アルキルリチウムを反応さ
せて１１−低級アルキル体とする。ＰＧＤ型化合物は、
１１脱保護体を酸化して得られ、ＰＧＡ型化合物は、１
０−エン−９−オン体から得られる。例えば反応式５に
示すように、化合物（３）にＮ−ブロムスクシンイミド
またはよう素を反応させて（２１）とし、これをＤＢＵ
で処理すると得られ、５,６−デヒドロ化合物（すなわ
ちアセチレン体）は、例えば反応式６に示すように、化
合物（２３）に銅錯体を反応させて生じる銅エノレート
に８−アルコキシカルボニル−１−ヨード−２−オクチ
ンを反応させて得られる。飽和のα鎖導入剤は、例えば
反応式７にしたがって製造される。
（１）を得る還元を省くと、Ｚが−ＣＨ＝ＣＨ−の化合
物が得られる。なお、６−ケト化合物は、さらに、一般
式（Ｉ）においてＬがＯＨ以外（例えば低級アルキル）
の化合物を目的とする場合は、１１位を脱保護し１５位
を保護した化合物（１２）のラクトンをラクトールに還
元し、ウイテイッヒ反応によりα鎖を導入し、１１位を
例えば低級アルカンまたは単環アリールスルホン酸基で
保護した後、酸化（例えばジョーンズ）して１０−エン
−９−オンとし、例えば低級アルキルリチウムを反応さ
せて１１−低級アルキル体とする。ＰＧＤ型化合物は、
１１脱保護体を酸化して得られ、ＰＧＡ型化合物は、１
０−エン−９−オン体から得られる。例えば反応式５に
示すように、化合物（３）にＮ−ブロムスクシンイミド
またはよう素を反応させて（２１）とし、これをＤＢＵ
で処理すると得られ、５,６−デヒドロ化合物（すなわ
ちアセチレン体）は、例えば反応式６に示すように、化
合物（２３）に銅錯体を反応させて生じる銅エノレート
に８−アルコキシカルボニル−１−ヨード−２−オクチ
ンを反応させて得られる。飽和のα鎖導入剤は、例えば
反応式７にしたがって製造される。
【００１５】さらに別の例として、反応式８において、
化合物（１２）の１５位ヒドロキシ基を保護（例えばシ
リル系保護基）して（２５）とし、ラクトンをラクトー
ルに還元して（２６）を得、これにα鎖導入剤、例えば
（６−カルボキシヘキシル）トリフェニルホスホニウム
ブロミドから得たイリドを反応させて（２７）とする。
カルボキシ基を保護して（２８）とし、９位のヒドロキ
シ基を保護して（２９）とし、１５位を脱保護して（３
０）を得、酸化して（３１）とした後、９、１１位を脱
保護すると目的化合物（３２）が得られる。また、反応
式９において、反応式３における化合物（１４）を接触
還元で脱離できる保護基（例えばベンジル）で保護して
（１５）とし、９位の酸化後１１位脱保護により（６）
を得、これを接触還元すると目的化合物（３３）が得ら
れる。
化合物（１２）の１５位ヒドロキシ基を保護（例えばシ
リル系保護基）して（２５）とし、ラクトンをラクトー
ルに還元して（２６）を得、これにα鎖導入剤、例えば
（６−カルボキシヘキシル）トリフェニルホスホニウム
ブロミドから得たイリドを反応させて（２７）とする。
カルボキシ基を保護して（２８）とし、９位のヒドロキ
シ基を保護して（２９）とし、１５位を脱保護して（３
０）を得、酸化して（３１）とした後、９、１１位を脱
保護すると目的化合物（３２）が得られる。また、反応
式９において、反応式３における化合物（１４）を接触
還元で脱離できる保護基（例えばベンジル）で保護して
（１５）とし、９位の酸化後１１位脱保護により（６）
を得、これを接触還元すると目的化合物（３３）が得ら
れる。
【００１６】［効果］この発明の化合物（Ｉ）は、ＰＧ
がもつ広範な作用のうち、あるものを保存すると共にあ
るものを欠くという特徴を有するので、ＰＧの作用を選
択的に発現するＰＧ誘導体として有用である。また、こ
の発明の化合物（Ｉ）は、白内障の予防・治療活性を有
するので、白内障の処置に有用である。上記のような作
用は、ＰＧの活性の測定に通常用いられている薬理試験
法により測定することができる。
がもつ広範な作用のうち、あるものを保存すると共にあ
るものを欠くという特徴を有するので、ＰＧの作用を選
択的に発現するＰＧ誘導体として有用である。また、こ
の発明の化合物（Ｉ）は、白内障の予防・治療活性を有
するので、白内障の処置に有用である。上記のような作
用は、ＰＧの活性の測定に通常用いられている薬理試験
法により測定することができる。
【００１７】
【実施例】以下、この発明を実施例によりさらに詳細に
説明する。 実施例１ ２０−エチル−２−デカルボキシ−２−（２−カルボキ
シエチル）−１３,１４−ジヒドロ−１５−ケト−ＰＧ
Ｆ2αイソプロピルエステル［ＩＵＰＡＣ名：(Ｚ)−９
−［(１Ｒ,２Ｒ,３Ｒ,５Ｓ)−３,５−ジヒドロキシ−２
−(３−オキソデシル)シクロペンチル］−７−ノネン酸
イソプロピルエステル］(４)の製造 原料化合物の製造 (６−カルボキシヘキシル)トリフェニルホスホニウムブ
ロミド(ｅ) ７−ブロモヘプタンニトリル(ｃ)(１０.０g)を４０％臭
化水素酸(８０ml)に加え、６時間加熱還流した。水で稀
釈後、エーテルで抽出した。常法処理により得た粗生成
物をシリカゲルカラムで精製し、７−ブロモヘプタン酸
(ｄ)を得た。 収量 : ７.６０g(６９％) ７−ブロモヘプタン酸(ｄ)(７.６０g)とトリフェニルホ
スフィン(１０.０g)とから(６−カルボキシヘキシル)ト
リフェニルホスホニウムブロミド(ｅ)を得た。 収量 : １６.０g(９３％) 目的化合物の製造 １−１）(Ｚ)−９−［(１Ｒ,２Ｒ,３Ｒ,５Ｓ)−２−
(３,３−エチレンジオキシデシル)−５−ヒドロキシ−
３−(テトラヒドロピラニルオキシ)シクロペンチル］−
７−ノネン酸(２） アルゴン雰囲気下、水素化ナトリウム（６０％,０.４２
２g)をヘキサンで洗浄し、これにジメチルスルホキシド
(ＤＭＳＯ、１０ml)を加え６０℃に３時間保った。室温
とした後、（６−カルボキシヘキシル）トリフェニルホ
スホニウムブロミド(２.４９g)を加え３０分間撹拌し
た。［１Ｓ,３(Ｒ,Ｓ),５Ｒ,６Ｒ,７Ｒ]−６−（３,３
−エチレンジオキシデシル）−７−テトラヒドロピラニ
ルオキシ−２−オキサビシクロ［３.３.０］オクタン−
３−オール(１)のＤＭＳＯ(１１ml)溶液を加え、室温で
２時間、４５℃で１時間撹拌後、氷水に注いだ。常法処
理により、標題化合物(２)を得た。 収量 : １.６８g １−２）(Ｚ)−９−［(１Ｒ,２Ｒ,３Ｒ,５Ｓ)−２−
(３,３−エチレンジオキシデシル)−５−ヒドロキシ−
３−(テトラヒドロピラニルオキシ)シクロペンチル］−
７−ノネン酸イソプロピルエステル(３) 化合物(２)(１.６８g)をアセトニトリル(１５ml)中、
１,８−ジアザビシクロ［５.４.０］−７−ウンデセン
（ＤＢＵ、０.７８ml)及びよう化イソプロピル(０.３５
ml)とを用いて常法によりエステル化し、標題化合物
(３)を得た。生成物はシリカゲルカラムで精製した。 収量 : ０.９０８g(８８％) １−３）(Ｚ)−９−〔(１Ｒ,２Ｒ,３Ｒ,５Ｓ)−３,５−
ジヒドロキシ−２−(３−オキソデシル)シクロペンチ
ル〕−７−ノネン酸イソプロピルエステル(４) 化合物(３)(０.３０５g)を、酢酸:ＴＨＦ:水(２:１:１)
混合溶媒(６ml)に溶解し、５０℃に１４時間保った。常
法処理により得た粗生成物をシリカゲルカラムで精製し
標題化合物(４)を得た。 収量 : ０.２１３g(９０％) 化合物(４)（Ｘ1＝Ｘ2＝Ｈ、Ｒ2−Ｒ3＝ヘキシル、Ｐ3
＝イソプロピル） ＮＭＲ(ＣＤＣl3)δ：０.８５(t,３Ｈ,Ｊ＝６.５Ｈz),
１.２０(d,６Ｈ,Ｊ＝６Ｈz),１.２３〜２.６５(m,３４
Ｈ),３.８６(m,１Ｈ),４.１６(m,１Ｈ),４.９９(Ｈept,
１Ｈ,Ｊ＝６Ｈz),５.３９(m,２Ｈ)
説明する。 実施例１ ２０−エチル−２−デカルボキシ−２−（２−カルボキ
シエチル）−１３,１４−ジヒドロ−１５−ケト−ＰＧ
Ｆ2αイソプロピルエステル［ＩＵＰＡＣ名：(Ｚ)−９
−［(１Ｒ,２Ｒ,３Ｒ,５Ｓ)−３,５−ジヒドロキシ−２
−(３−オキソデシル)シクロペンチル］−７−ノネン酸
イソプロピルエステル］(４)の製造 原料化合物の製造 (６−カルボキシヘキシル)トリフェニルホスホニウムブ
ロミド(ｅ) ７−ブロモヘプタンニトリル(ｃ)(１０.０g)を４０％臭
化水素酸(８０ml)に加え、６時間加熱還流した。水で稀
釈後、エーテルで抽出した。常法処理により得た粗生成
物をシリカゲルカラムで精製し、７−ブロモヘプタン酸
(ｄ)を得た。 収量 : ７.６０g(６９％) ７−ブロモヘプタン酸(ｄ)(７.６０g)とトリフェニルホ
スフィン(１０.０g)とから(６−カルボキシヘキシル)ト
リフェニルホスホニウムブロミド(ｅ)を得た。 収量 : １６.０g(９３％) 目的化合物の製造 １−１）(Ｚ)−９−［(１Ｒ,２Ｒ,３Ｒ,５Ｓ)−２−
(３,３−エチレンジオキシデシル)−５−ヒドロキシ−
３−(テトラヒドロピラニルオキシ)シクロペンチル］−
７−ノネン酸(２） アルゴン雰囲気下、水素化ナトリウム（６０％,０.４２
２g)をヘキサンで洗浄し、これにジメチルスルホキシド
(ＤＭＳＯ、１０ml)を加え６０℃に３時間保った。室温
とした後、（６−カルボキシヘキシル）トリフェニルホ
スホニウムブロミド(２.４９g)を加え３０分間撹拌し
た。［１Ｓ,３(Ｒ,Ｓ),５Ｒ,６Ｒ,７Ｒ]−６−（３,３
−エチレンジオキシデシル）−７−テトラヒドロピラニ
ルオキシ−２−オキサビシクロ［３.３.０］オクタン−
３−オール(１)のＤＭＳＯ(１１ml)溶液を加え、室温で
２時間、４５℃で１時間撹拌後、氷水に注いだ。常法処
理により、標題化合物(２)を得た。 収量 : １.６８g １−２）(Ｚ)−９−［(１Ｒ,２Ｒ,３Ｒ,５Ｓ)−２−
(３,３−エチレンジオキシデシル)−５−ヒドロキシ−
３−(テトラヒドロピラニルオキシ)シクロペンチル］−
７−ノネン酸イソプロピルエステル(３) 化合物(２)(１.６８g)をアセトニトリル(１５ml)中、
１,８−ジアザビシクロ［５.４.０］−７−ウンデセン
（ＤＢＵ、０.７８ml)及びよう化イソプロピル(０.３５
ml)とを用いて常法によりエステル化し、標題化合物
(３)を得た。生成物はシリカゲルカラムで精製した。 収量 : ０.９０８g(８８％) １−３）(Ｚ)−９−〔(１Ｒ,２Ｒ,３Ｒ,５Ｓ)−３,５−
ジヒドロキシ−２−(３−オキソデシル)シクロペンチ
ル〕−７−ノネン酸イソプロピルエステル(４) 化合物(３)(０.３０５g)を、酢酸:ＴＨＦ:水(２:１:１)
混合溶媒(６ml)に溶解し、５０℃に１４時間保った。常
法処理により得た粗生成物をシリカゲルカラムで精製し
標題化合物(４)を得た。 収量 : ０.２１３g(９０％) 化合物(４)（Ｘ1＝Ｘ2＝Ｈ、Ｒ2−Ｒ3＝ヘキシル、Ｐ3
＝イソプロピル） ＮＭＲ(ＣＤＣl3)δ：０.８５(t,３Ｈ,Ｊ＝６.５Ｈz),
１.２０(d,６Ｈ,Ｊ＝６Ｈz),１.２３〜２.６５(m,３４
Ｈ),３.８６(m,１Ｈ),４.１６(m,１Ｈ),４.９９(Ｈept,
１Ｈ,Ｊ＝６Ｈz),５.３９(m,２Ｈ)
【００１８】実施例２ ２０−エチル−２−デカルボキシ−２−（２−カルボキ
シエチル）−１３,１４−ジヒドロ−１５−ケト−ＰＧ
Ｅ2イソプロピルエステル［ＩＵＰＡＣ名：(Ｚ)−９−
［(１Ｒ,２Ｒ,３Ｒ)−３−ヒドロキシ−５−オキソ−２
−(３−オキソデシル)シクロペンチル］−７−ノネン酸
イソプロピルエステル］(６)の製造 ２−１）(Ｚ)−９−［(１Ｒ,２Ｒ,３Ｒ)−２−(３,３−
エチレンジオキシデシル)−５−オキソ−３−(テトラヒ
ドロピラニルオキシ)シクロペンチル］−７−ノネン酸
イソプロピルエステル(５) ジクロロメタン(５ml)を−７０℃に冷却し、これに２Ｍ
塩化オギザリル(０.４５ml)およびＤＭＳＯ(０.１３ml)
を加え１５分間撹拌した。これに(Ｚ)−９−［(１Ｒ,２
Ｒ,３Ｒ,５Ｓ)−２−(３,３−エチレンジオキシデシル)
−５−ヒドロキシ−３−(テトラヒドロピラニルオキシ)
シクロペンチル］−７−ノネン酸イソプロピルエステル
(３)(０.３５０g)のジクロロメタン(７ml)溶液を滴下し
た。これを−５５℃に昇温し１５分間撹拌後、トリエチ
ルアミン(０.２５ml)を加え１０℃まで６時間で昇温し
た。常温処理して得た粗生成物を、シリカゲルカラムで
精製し、標題化合物(５)を得た。 収量 : ０.３１１g(８９％) ２−２）(Ｚ)−９−［(１Ｒ,２Ｒ,３Ｒ)−３−ヒドロキ
シ−５−オキソ−２−(３−オキソデシル)シクロペンチ
ル]−７−ノネン酸イソプロピルエステル(６) 化合物(５)(０.３１１g)を酢酸 :ＴＨＦ:水(２:１:１)
混合溶媒(５ml)に溶解し、５０℃に３時間保った。常法
処理して得た粗生成物をシリカゲルカラムで精製し、標
題化合物(６)を得た。 収量 : ０.１５６g(６６％) 化合物(６)（Ｘ1＝Ｘ2＝Ｈ、Ｒ2−Ｒ3＝ヘキシル、Ｐ3
＝イソプロピル） ＮＭＲ(ＣＤＣl3)δ：０.８６(t,３Ｈ,Ｊ＝６.５Ｈz),
１.２０(d,６Ｈ,Ｊ＝６Ｈz),１.２３〜２.７５(m,３３
Ｈ),４.２０(m,１Ｈ),４.９９(Ｈept,１Ｈ,Ｊ＝６Ｈz),
５.１５〜５.５０(m,２Ｈ)
シエチル）−１３,１４−ジヒドロ−１５−ケト−ＰＧ
Ｅ2イソプロピルエステル［ＩＵＰＡＣ名：(Ｚ)−９−
［(１Ｒ,２Ｒ,３Ｒ)−３−ヒドロキシ−５−オキソ−２
−(３−オキソデシル)シクロペンチル］−７−ノネン酸
イソプロピルエステル］(６)の製造 ２−１）(Ｚ)−９−［(１Ｒ,２Ｒ,３Ｒ)−２−(３,３−
エチレンジオキシデシル)−５−オキソ−３−(テトラヒ
ドロピラニルオキシ)シクロペンチル］−７−ノネン酸
イソプロピルエステル(５) ジクロロメタン(５ml)を−７０℃に冷却し、これに２Ｍ
塩化オギザリル(０.４５ml)およびＤＭＳＯ(０.１３ml)
を加え１５分間撹拌した。これに(Ｚ)−９−［(１Ｒ,２
Ｒ,３Ｒ,５Ｓ)−２−(３,３−エチレンジオキシデシル)
−５−ヒドロキシ−３−(テトラヒドロピラニルオキシ)
シクロペンチル］−７−ノネン酸イソプロピルエステル
(３)(０.３５０g)のジクロロメタン(７ml)溶液を滴下し
た。これを−５５℃に昇温し１５分間撹拌後、トリエチ
ルアミン(０.２５ml)を加え１０℃まで６時間で昇温し
た。常温処理して得た粗生成物を、シリカゲルカラムで
精製し、標題化合物(５)を得た。 収量 : ０.３１１g(８９％) ２−２）(Ｚ)−９−［(１Ｒ,２Ｒ,３Ｒ)−３−ヒドロキ
シ−５−オキソ−２−(３−オキソデシル)シクロペンチ
ル]−７−ノネン酸イソプロピルエステル(６) 化合物(５)(０.３１１g)を酢酸 :ＴＨＦ:水(２:１:１)
混合溶媒(５ml)に溶解し、５０℃に３時間保った。常法
処理して得た粗生成物をシリカゲルカラムで精製し、標
題化合物(６)を得た。 収量 : ０.１５６g(６６％) 化合物(６)（Ｘ1＝Ｘ2＝Ｈ、Ｒ2−Ｒ3＝ヘキシル、Ｐ3
＝イソプロピル） ＮＭＲ(ＣＤＣl3)δ：０.８６(t,３Ｈ,Ｊ＝６.５Ｈz),
１.２０(d,６Ｈ,Ｊ＝６Ｈz),１.２３〜２.７５(m,３３
Ｈ),４.２０(m,１Ｈ),４.９９(Ｈept,１Ｈ,Ｊ＝６Ｈz),
５.１５〜５.５０(m,２Ｈ)
【００１９】実施例３ ２−デカルボキシ−２−（２−カルボキシエチル）−１
３,１４−ジヒドロ−１６,１６−ジフルオロ−１５−ケ
ト−ＰＧＥ2［ＩＵＰＡＣ名：(Ｚ)−９−［(１Ｒ,２Ｒ,
３Ｒ)−２−(４,４−ジフルオロ−３−オキソオクチル)
−３−ヒドロキシ−５−オキソシクロペンチル］−７−
ノネン酸］(１７)の製造 ３−１）(１Ｓ,５Ｒ,６Ｒ,７Ｒ)−６−(４,４−ジフル
オロ−３−オキソオクテニル)−７−(テトラヒドロピラ
ニルオキシ)−２−オキサビシクロ［３,３,０］オクタ
ン−３−オン(１０) 市販の(１Ｓ,５Ｒ,６Ｒ,７Ｒ)−６−(５−ブチルジメチ
ルシリルオキシメチル)−７−(テトラヒドロピラニルオ
キシ)−２−オキサビシクロ［３,３,０］オクタン−３
−オン(７)から得た(１Ｓ,５Ｒ,６Ｒ,７Ｒ)−６−ヒド
ロキシメチル−７−(テトラヒドロピラニルオキシ)−２
−オキサビシクロ［３,３,０］オクタン−３−オン(８)
(２７.８g)を、ジクロルメタン(８００ml)中、塩化オギ
ザリル(２.０Ｍ、１０９.３ml)ＤＳＭＯ(３１.０ml)及
びトリエチルアミン(１５０ml)を用いてスワーン酸化し
化合物(９)（Ｐ1＝テトラヒドロピラニル）を得た。上
記化合物(９)をジメチル３,３−ジフルオロ−２−オキ
ソヘプチルホスホネート(３０.０g)と、タリウムメトキ
シド(８.２３ml)の存在下ジクロルメタン中で反応させ
た。常法処理後に得た粗生成物をシリカゲルカラムで精
製し標題化合物(１０)を得た。 収量：２４.４g(５８％) ３−２）(１Ｓ,５Ｒ,６Ｒ,７Ｒ)−６−(４,４−ジフル
オロ−３−オキソオクチル)−７−テトラヒドロピラニ
ルオキシ−２−オキサビシクロ［３,３,０］オクタン−
３−オン(１１) 上記化合物(１０)(１２.７g)を酢酸エチル(３００ml)
中、５％パラジウム−炭素(触媒量)及び水素ガスを用い
て接触還元し、標題化合物(１１)を得た。 収量：(１２.５g)(９９％) ３−３）(１Ｓ,５Ｒ,６Ｒ,７Ｒ)−６−［４,４−ジフル
オロ−３(Ｒ,Ｓ)−ヒドロキシオクチル］−７−(テトラ
ヒドロピラニルオキシ)−２−オキサビシクロ［３,３,
０］オクタン−３−オン(１２) 上記化合物(１１)(１２.６g)をメタノール(４００ml)中
０℃において水素化ほう素ナトリウム(１.２５g)で還元
し、標題化合物(１２)を得た。 収量 : １２.１g(９５.５％) ３−４）［１Ｓ,３(Ｒ,Ｓ)５Ｒ,６Ｒ,７Ｒ］−６−
［４,４−ジフルオロ−３(Ｒ,Ｓ)−ヒドロキシオクチ
ル］−７−(テトラヒドロピラニルオキシ)−２−オキサ
ビシクロ［３,３,０］オクタン−３−オール(１３) 上記化合物(１２)(１２.１g)をトルエン(５００ml)中、
−７８℃において水素化ジイソブチルアルミニウム
（１.５Ｍ、６５.１ml)で還元し、シリカゲルカラムで
精製して標題化合物(１３)を得た。 収量 : １１.１g(９１％) ３−５）(Ｚ)−９−{(１Ｒ,２Ｒ,３Ｒ,５Ｓ)−２−
［４,４−ジフルオロ−(３ＲＳ)−ヒドロキシオクチ
ル］−５−ヒドロキシ−３−(テトラヒドロピラニルオ
キシ)シクロペンチル}−７−ノネン酸フェナシルエステ
ル(１５) 水素化ナトリウム(６０％,１.６３g)をペンタンで洗
い、これにＤＭＳＯ(４０ml)を加え６５〜７０℃に１.
５時間保った。室温とし、(６−カルボキシヘキシル)ト
リフェニルホスホニウムブロミド（ｅ）（９.６１ｇ）
を加えてイリドとした。これに上記化合物（１３）(２.
００g)のＤＭＳＯ(１５ml)溶液を滴下し、１夜室温に放
置した。常法処理により化合物(１４)を得た。 収量 : ３.１８(粗生成物) 上記化合物(１４)(０.７９５g)、フェナシルブロミド
(１.０１g)、及びジイソプロピルエチルアミン(０.８９
ml)をアセトニトリル(１０ml)に溶解し、室温に２０分
間、４５℃に３０分間保った。常法処理によりえた粗生
成物をシリカゲルカラムで精製し、標題化合物(１５)を
得た。 収量 : ０.６０４g
３,１４−ジヒドロ−１６,１６−ジフルオロ−１５−ケ
ト−ＰＧＥ2［ＩＵＰＡＣ名：(Ｚ)−９−［(１Ｒ,２Ｒ,
３Ｒ)−２−(４,４−ジフルオロ−３−オキソオクチル)
−３−ヒドロキシ−５−オキソシクロペンチル］−７−
ノネン酸］(１７)の製造 ３−１）(１Ｓ,５Ｒ,６Ｒ,７Ｒ)−６−(４,４−ジフル
オロ−３−オキソオクテニル)−７−(テトラヒドロピラ
ニルオキシ)−２−オキサビシクロ［３,３,０］オクタ
ン−３−オン(１０) 市販の(１Ｓ,５Ｒ,６Ｒ,７Ｒ)−６−(５−ブチルジメチ
ルシリルオキシメチル)−７−(テトラヒドロピラニルオ
キシ)−２−オキサビシクロ［３,３,０］オクタン−３
−オン(７)から得た(１Ｓ,５Ｒ,６Ｒ,７Ｒ)−６−ヒド
ロキシメチル−７−(テトラヒドロピラニルオキシ)−２
−オキサビシクロ［３,３,０］オクタン−３−オン(８)
(２７.８g)を、ジクロルメタン(８００ml)中、塩化オギ
ザリル(２.０Ｍ、１０９.３ml)ＤＳＭＯ(３１.０ml)及
びトリエチルアミン(１５０ml)を用いてスワーン酸化し
化合物(９)（Ｐ1＝テトラヒドロピラニル）を得た。上
記化合物(９)をジメチル３,３−ジフルオロ−２−オキ
ソヘプチルホスホネート(３０.０g)と、タリウムメトキ
シド(８.２３ml)の存在下ジクロルメタン中で反応させ
た。常法処理後に得た粗生成物をシリカゲルカラムで精
製し標題化合物(１０)を得た。 収量：２４.４g(５８％) ３−２）(１Ｓ,５Ｒ,６Ｒ,７Ｒ)−６−(４,４−ジフル
オロ−３−オキソオクチル)−７−テトラヒドロピラニ
ルオキシ−２−オキサビシクロ［３,３,０］オクタン−
３−オン(１１) 上記化合物(１０)(１２.７g)を酢酸エチル(３００ml)
中、５％パラジウム−炭素(触媒量)及び水素ガスを用い
て接触還元し、標題化合物(１１)を得た。 収量：(１２.５g)(９９％) ３−３）(１Ｓ,５Ｒ,６Ｒ,７Ｒ)−６−［４,４−ジフル
オロ−３(Ｒ,Ｓ)−ヒドロキシオクチル］−７−(テトラ
ヒドロピラニルオキシ)−２−オキサビシクロ［３,３,
０］オクタン−３−オン(１２) 上記化合物(１１)(１２.６g)をメタノール(４００ml)中
０℃において水素化ほう素ナトリウム(１.２５g)で還元
し、標題化合物(１２)を得た。 収量 : １２.１g(９５.５％) ３−４）［１Ｓ,３(Ｒ,Ｓ)５Ｒ,６Ｒ,７Ｒ］−６−
［４,４−ジフルオロ−３(Ｒ,Ｓ)−ヒドロキシオクチ
ル］−７−(テトラヒドロピラニルオキシ)−２−オキサ
ビシクロ［３,３,０］オクタン−３−オール(１３) 上記化合物(１２)(１２.１g)をトルエン(５００ml)中、
−７８℃において水素化ジイソブチルアルミニウム
（１.５Ｍ、６５.１ml)で還元し、シリカゲルカラムで
精製して標題化合物(１３)を得た。 収量 : １１.１g(９１％) ３−５）(Ｚ)−９−{(１Ｒ,２Ｒ,３Ｒ,５Ｓ)−２−
［４,４−ジフルオロ−(３ＲＳ)−ヒドロキシオクチ
ル］−５−ヒドロキシ−３−(テトラヒドロピラニルオ
キシ)シクロペンチル}−７−ノネン酸フェナシルエステ
ル(１５) 水素化ナトリウム(６０％,１.６３g)をペンタンで洗
い、これにＤＭＳＯ(４０ml)を加え６５〜７０℃に１.
５時間保った。室温とし、(６−カルボキシヘキシル)ト
リフェニルホスホニウムブロミド（ｅ）（９.６１ｇ）
を加えてイリドとした。これに上記化合物（１３）(２.
００g)のＤＭＳＯ(１５ml)溶液を滴下し、１夜室温に放
置した。常法処理により化合物(１４)を得た。 収量 : ３.１８(粗生成物) 上記化合物(１４)(０.７９５g)、フェナシルブロミド
(１.０１g)、及びジイソプロピルエチルアミン(０.８９
ml)をアセトニトリル(１０ml)に溶解し、室温に２０分
間、４５℃に３０分間保った。常法処理によりえた粗生
成物をシリカゲルカラムで精製し、標題化合物(１５)を
得た。 収量 : ０.６０４g
【００２０】３−６）(Ｚ)−９−［(１Ｒ,２Ｒ,３Ｒ)−
２−(４,４−ジフルオロ−３−オキソオクチル)−５−
オキソ−３−(テトラヒドロピラニルオキシ)シクロペン
チル］−７−ノネン酸フェナシルエステル(１６) 塩化オギザリル(０.５２ml)のジクロロメタン溶液(３０
ml)を−７８℃に冷却し、これにＤＭＳＯ(０.９２ml)を
滴下した。これに上記化合物(１５)(０.６０９g)のジク
ロロメタン溶液(１５ml)を加え、−３０℃〜−２０℃で
１.５時間撹拌した。トリエチルアミン(１.８８ml)を加
え３０分間撹拌した。常法処理により得られた粗生成物
をシリカゲルカラムで精製して標題化合物（１６）を得
た。 収量 : ０.５１４g(８５％) ３−７）(Ｚ)−９−［(１Ｒ,２Ｒ,３Ｒ)−２−(４,４−
ジフルオロ−３−オキソオクチル)−３−ヒドロキシ−
５−オキソシクロペンチル］−７−ノネン酸フェナシル
エステル(６) 上記化合物(１６)(０.５１４g)を酢酸：水：ＴＨＦ(４:
２:１)混合溶媒(３０ml)に溶かし、室温で一夜保った。
シリカゲルカラムで精製し、標題化合物(Ｚ)−９−
［(１Ｒ,２Ｒ,３Ｒ)−２−(４,４−ジフルオロ−３−オ
キソオクチル)−３−ヒドロキシ−５−オキソシクロペ
ンチル］−７−ノネン酸フェナシルエステル(６)を得
た。 収量 : ０.２７２g(６１％) 化合物（６）（Ｘ1＝Ｘ2＝Ｆ、Ｒ2−Ｒ3＝ブチル、Ｐ3
＝フェナシル） ＮＭＲ(ＣＤＣl3)δ：０.９２(t,３Ｈ,Ｊ＝７.５Ｈz)、
１.２−２.９(m,２７Ｈ)、４.１８(m,１Ｈ)、５.４（m,
２Ｈ）、７.４−８.０（m,５Ｈ） ３−８）(Ｚ)−９−［(１Ｒ,２Ｒ,３Ｒ)−２−(４,４−
ジフルオロ−３−オキソオクチル)−３−ヒドロキシ−
５−オキソシクロペンチル］−７−ノネン酸(１７) 上記化合物(６)(０.２７２g)を酢酸(１０ml)に溶解し、
室温で亜鉛(３.５g)を少量ずつ加え２.５時間撹拌し
た。常法処理により得られた粗生成物をシリカゲルカラ
ムで精製して標題化合物（１７）を得た。 収量 : ０.１７７g(８１％) 化合物(１７)（Ｘ1＝Ｘ2＝Ｆ、Ｒ2−Ｒ3＝ブチル） ＮＭＲ(ＣＤＣl3)δ：０.９３(t,３Ｈ,Ｊ＝６.５Ｈz),
１.１５〜２.９５(m,２８Ｈ),４.１９(m,１Ｈ),５.３６
(m,１Ｈ)
２−(４,４−ジフルオロ−３−オキソオクチル)−５−
オキソ−３−(テトラヒドロピラニルオキシ)シクロペン
チル］−７−ノネン酸フェナシルエステル(１６) 塩化オギザリル(０.５２ml)のジクロロメタン溶液(３０
ml)を−７８℃に冷却し、これにＤＭＳＯ(０.９２ml)を
滴下した。これに上記化合物(１５)(０.６０９g)のジク
ロロメタン溶液(１５ml)を加え、−３０℃〜−２０℃で
１.５時間撹拌した。トリエチルアミン(１.８８ml)を加
え３０分間撹拌した。常法処理により得られた粗生成物
をシリカゲルカラムで精製して標題化合物（１６）を得
た。 収量 : ０.５１４g(８５％) ３−７）(Ｚ)−９−［(１Ｒ,２Ｒ,３Ｒ)−２−(４,４−
ジフルオロ−３−オキソオクチル)−３−ヒドロキシ−
５−オキソシクロペンチル］−７−ノネン酸フェナシル
エステル(６) 上記化合物(１６)(０.５１４g)を酢酸：水：ＴＨＦ(４:
２:１)混合溶媒(３０ml)に溶かし、室温で一夜保った。
シリカゲルカラムで精製し、標題化合物(Ｚ)−９−
［(１Ｒ,２Ｒ,３Ｒ)−２−(４,４−ジフルオロ−３−オ
キソオクチル)−３−ヒドロキシ−５−オキソシクロペ
ンチル］−７−ノネン酸フェナシルエステル(６)を得
た。 収量 : ０.２７２g(６１％) 化合物（６）（Ｘ1＝Ｘ2＝Ｆ、Ｒ2−Ｒ3＝ブチル、Ｐ3
＝フェナシル） ＮＭＲ(ＣＤＣl3)δ：０.９２(t,３Ｈ,Ｊ＝７.５Ｈz)、
１.２−２.９(m,２７Ｈ)、４.１８(m,１Ｈ)、５.４（m,
２Ｈ）、７.４−８.０（m,５Ｈ） ３−８）(Ｚ)−９−［(１Ｒ,２Ｒ,３Ｒ)−２−(４,４−
ジフルオロ−３−オキソオクチル)−３−ヒドロキシ−
５−オキソシクロペンチル］−７−ノネン酸(１７) 上記化合物(６)(０.２７２g)を酢酸(１０ml)に溶解し、
室温で亜鉛(３.５g)を少量ずつ加え２.５時間撹拌し
た。常法処理により得られた粗生成物をシリカゲルカラ
ムで精製して標題化合物（１７）を得た。 収量 : ０.１７７g(８１％) 化合物(１７)（Ｘ1＝Ｘ2＝Ｆ、Ｒ2−Ｒ3＝ブチル） ＮＭＲ(ＣＤＣl3)δ：０.９３(t,３Ｈ,Ｊ＝６.５Ｈz),
１.１５〜２.９５(m,２８Ｈ),４.１９(m,１Ｈ),５.３６
(m,１Ｈ)
【００２１】実施例４ ２−デカルボキシ−２−（２−カルボキシエチル）−１
３,１４−ジヒドロ−１６,１６−ジフルオロ−１５−ケ
ト−ＰＧＥ1イソプロピルエステル［ＩＵＰＡＣ名：９
−［(１Ｒ,２Ｒ,３Ｒ)−２−(４,４−ジフルオロ−３−
オキソオクチル)−３−ヒドロキシ−５−オキソシクロ
ペンチル］−ノナン酸イソプロピルエステル］(２０)の
製造 ４−１）(Ｚ)−９−{(１Ｒ,２Ｒ,３Ｒ,５Ｓ)−２−
［４,４−ジフルオロ(３ＲＳ)−ヒドロキシオクチル］
−５−ヒドロキシ−３−(テトラヒドロピラニルオキシ)
シクロペンチル}−７−ノネン酸イソプロピルエステル
(１５) 実施例３で得た化合物(１４)(０.８０２g)、ＤＢＵ(０.
７６ml)、及びよう化イソプロピル(０.５１ml)をアセト
ニトリル(１５ml)に溶解し、５０℃に１時間保った。更
に化合物(１４)(０.４９２g)を同様にして反応させ、標
題化合物（１５）を得た。 収量：０.３１５g(両反応合わせて) ４−２）９−{(１Ｒ,２Ｒ,３Ｒ)−２−［４,４−ジフル
オロ−(３ＲＳ)−ヒドロキシオクチル］−５−ヒドロキ
シ−３−(テトラヒドロピラニルオキシ)シクロペンチ
ル}−ノナン酸イソプロピルエステル(１８) 上記化合物(１５)(０.３１５g)をエタノール(２０ml)
中、パラジウム−炭素(５％)(０.０８g)及び水素を用い
て接触還元して標題化合物（１８）を得た。 収量：０.３０１g(９５％) ４−３）９−［(１Ｒ,２Ｒ,３Ｒ)−２−(４,４−ジフル
オロ−３−オキソオクチル)−５−オキソ−３−(テトラ
ヒドロピラニルオキシ)シクロペンチル］−ノナン酸イ
ソプロピルエステル(１９) 塩化オギザリル(０.３４ml)、ＤＭＳＯ(０.６１ml)及び
トリエチルアミン(１.２２ml)を用いジクロロメタン中
で上記化合物(１８)(０.３０１g)をスワーン酸化し標題
化合物(１９)を得た。 収量：０.２８８g(９６％) ４−４）９−［(１Ｒ,２Ｒ,３Ｒ)−２−(４,４−ジフル
オロ−３−オキソオクチル)−３−ヒドロキシ−５−オ
キソシクロペンチル］−ノナン酸イソプロピルエステル
(２０) 上記化合物(１９)(０.２８８g)を酢酸 ：水：ＴＨＦ
(４:２:１)混合溶媒(３０ml)に溶解し、４５℃に３.５
時間保った。常法処理後に得た粗生成物をシリカゲルカ
ラムで精製して標題化合物（２０）を得た。 収量：０.１８４g(７６％) 化合物(２０)（Ｘ1＝Ｘ2＝Ｆ、Ｒ2−Ｒ3＝ブチル、Ｐ3
＝イソプロピル） ＮＭＲ(ＣＤＣl3)δ：０.９４(t,３Ｈ,Ｊ＝６.５Ｈz),
１.２４(d,６Ｈ,Ｊ＝６Ｈz),１.２７〜２.９５(m,３１
Ｈ),４.１９(m,１Ｈ),５.０２(Ｈept,１Ｈ,Ｊ＝６Ｈz) 式（Ｉ）においてＹが−ＣＯ−ＣＨ2−の化合物および
Ｙが−Ｃ≡Ｃ−の化合物は、次のようにして製造するこ
とができる。
３,１４−ジヒドロ−１６,１６−ジフルオロ−１５−ケ
ト−ＰＧＥ1イソプロピルエステル［ＩＵＰＡＣ名：９
−［(１Ｒ,２Ｒ,３Ｒ)−２−(４,４−ジフルオロ−３−
オキソオクチル)−３−ヒドロキシ−５−オキソシクロ
ペンチル］−ノナン酸イソプロピルエステル］(２０)の
製造 ４−１）(Ｚ)−９−{(１Ｒ,２Ｒ,３Ｒ,５Ｓ)−２−
［４,４−ジフルオロ(３ＲＳ)−ヒドロキシオクチル］
−５−ヒドロキシ−３−(テトラヒドロピラニルオキシ)
シクロペンチル}−７−ノネン酸イソプロピルエステル
(１５) 実施例３で得た化合物(１４)(０.８０２g)、ＤＢＵ(０.
７６ml)、及びよう化イソプロピル(０.５１ml)をアセト
ニトリル(１５ml)に溶解し、５０℃に１時間保った。更
に化合物(１４)(０.４９２g)を同様にして反応させ、標
題化合物（１５）を得た。 収量：０.３１５g(両反応合わせて) ４−２）９−{(１Ｒ,２Ｒ,３Ｒ)−２−［４,４−ジフル
オロ−(３ＲＳ)−ヒドロキシオクチル］−５−ヒドロキ
シ−３−(テトラヒドロピラニルオキシ)シクロペンチ
ル}−ノナン酸イソプロピルエステル(１８) 上記化合物(１５)(０.３１５g)をエタノール(２０ml)
中、パラジウム−炭素(５％)(０.０８g)及び水素を用い
て接触還元して標題化合物（１８）を得た。 収量：０.３０１g(９５％) ４−３）９−［(１Ｒ,２Ｒ,３Ｒ)−２−(４,４−ジフル
オロ−３−オキソオクチル)−５−オキソ−３−(テトラ
ヒドロピラニルオキシ)シクロペンチル］−ノナン酸イ
ソプロピルエステル(１９) 塩化オギザリル(０.３４ml)、ＤＭＳＯ(０.６１ml)及び
トリエチルアミン(１.２２ml)を用いジクロロメタン中
で上記化合物(１８)(０.３０１g)をスワーン酸化し標題
化合物(１９)を得た。 収量：０.２８８g(９６％) ４−４）９−［(１Ｒ,２Ｒ,３Ｒ)−２−(４,４−ジフル
オロ−３−オキソオクチル)−３−ヒドロキシ−５−オ
キソシクロペンチル］−ノナン酸イソプロピルエステル
(２０) 上記化合物(１９)(０.２８８g)を酢酸 ：水：ＴＨＦ
(４:２:１)混合溶媒(３０ml)に溶解し、４５℃に３.５
時間保った。常法処理後に得た粗生成物をシリカゲルカ
ラムで精製して標題化合物（２０）を得た。 収量：０.１８４g(７６％) 化合物(２０)（Ｘ1＝Ｘ2＝Ｆ、Ｒ2−Ｒ3＝ブチル、Ｐ3
＝イソプロピル） ＮＭＲ(ＣＤＣl3)δ：０.９４(t,３Ｈ,Ｊ＝６.５Ｈz),
１.２４(d,６Ｈ,Ｊ＝６Ｈz),１.２７〜２.９５(m,３１
Ｈ),４.１９(m,１Ｈ),５.０２(Ｈept,１Ｈ,Ｊ＝６Ｈz) 式（Ｉ）においてＹが−ＣＯ−ＣＨ2−の化合物および
Ｙが−Ｃ≡Ｃ−の化合物は、次のようにして製造するこ
とができる。
【００２２】実施例５ ２−デカルボキシ−２−（２−カルボキシエチル）−１
３,１４−ジヒドロ−６,１５−ジケト−ＰＧＦ1αイソ
プロピルエステルの製造 実施例１で得た化合物（３）をテトラヒドロフランと塩
化メチレンに溶解し、０℃で少過剰量のＮ−ブロモスク
シンイミドを加え５分間撹拌する。常法により後処理し
て得た粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製して
化合物（２１）（Ｘ1＝Ｘ2＝Ｈ、Ｒ2−Ｒ3＝ブチル、Ｐ
1＝テトラヒドロピラニル、Ｐ2＝エチレン、Ｐ3＝イソ
プロピル）を得る。これをトルエンに溶解し、ＤＢＵを
加え４０℃で一夜撹拌する。氷冷後、１Ｎ塩酸を加えて
酸性にし、１０分間撹拌後酢酸エチルで抽出する。常法
により後処理して得た粗生成物をカラムクロマトグラフ
ィーで精製して化合物（２２）（記号の意味は前と同
じ）を得る。これを実施例１の工程１−３）と同様に脱
保護して標題化合物を得る。
３,１４−ジヒドロ−６,１５−ジケト−ＰＧＦ1αイソ
プロピルエステルの製造 実施例１で得た化合物（３）をテトラヒドロフランと塩
化メチレンに溶解し、０℃で少過剰量のＮ−ブロモスク
シンイミドを加え５分間撹拌する。常法により後処理し
て得た粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製して
化合物（２１）（Ｘ1＝Ｘ2＝Ｈ、Ｒ2−Ｒ3＝ブチル、Ｐ
1＝テトラヒドロピラニル、Ｐ2＝エチレン、Ｐ3＝イソ
プロピル）を得る。これをトルエンに溶解し、ＤＢＵを
加え４０℃で一夜撹拌する。氷冷後、１Ｎ塩酸を加えて
酸性にし、１０分間撹拌後酢酸エチルで抽出する。常法
により後処理して得た粗生成物をカラムクロマトグラフ
ィーで精製して化合物（２２）（記号の意味は前と同
じ）を得る。これを実施例１の工程１−３）と同様に脱
保護して標題化合物を得る。
【００２３】実施例６ ２−デカルボキシ−２−（２−カルボキシエチル）−
５,６−デヒドロ−１３,１４−ジヒドロ−１５−ケト−
ＰＧＥ2メチルエステルの製造 ８−メトキシ−３,３−エチレンジオキシ−１−ヨード
オクタン（特開昭６４−５２７５３号）のエーテル溶液
に−７８℃で第３級ブチルリチウムを３０分間で滴下
し、３時間撹拌する。これに、−７８℃に冷却したよう
化第１銅およびトリブチルホスフィンのエーテル溶液を
一度に加え、２０分間撹拌して錯体（ａ）とする。さら
に、４Ｒ−第３級ブチルジメチルシリルオキシ−２−シ
クロペンテン−１−オン（２３）のテトラヒドロフラン
溶液を９５分間で滴下し、１５分間撹拌後−３０℃の冷
却浴に移す。８−メトキシカルボニル−１−ヨードオク
チン（ｂ）のＨＭＰＡ溶液を加え、４.５時間撹拌す
る。さらに室温で１２時間撹拌後飽和塩化アンモニウム
水溶液に注ぎ有機層を分取する。常法により後処理して
得た粗生成物をクロマトグラフィーで精製し、化合物
（２４）（Ｘ1＝Ｘ2＝Ｈ、Ｒ2−Ｒ3＝ブチル、Ｐ3＝メ
チル、Ｐ5＝第３級ブチルジメチルシリル）を得る。こ
れを常法により脱保護して標題化合物を得る。
５,６−デヒドロ−１３,１４−ジヒドロ−１５−ケト−
ＰＧＥ2メチルエステルの製造 ８−メトキシ−３,３−エチレンジオキシ−１−ヨード
オクタン（特開昭６４−５２７５３号）のエーテル溶液
に−７８℃で第３級ブチルリチウムを３０分間で滴下
し、３時間撹拌する。これに、−７８℃に冷却したよう
化第１銅およびトリブチルホスフィンのエーテル溶液を
一度に加え、２０分間撹拌して錯体（ａ）とする。さら
に、４Ｒ−第３級ブチルジメチルシリルオキシ−２−シ
クロペンテン−１−オン（２３）のテトラヒドロフラン
溶液を９５分間で滴下し、１５分間撹拌後−３０℃の冷
却浴に移す。８−メトキシカルボニル−１−ヨードオク
チン（ｂ）のＨＭＰＡ溶液を加え、４.５時間撹拌す
る。さらに室温で１２時間撹拌後飽和塩化アンモニウム
水溶液に注ぎ有機層を分取する。常法により後処理して
得た粗生成物をクロマトグラフィーで精製し、化合物
（２４）（Ｘ1＝Ｘ2＝Ｈ、Ｒ2−Ｒ3＝ブチル、Ｐ3＝メ
チル、Ｐ5＝第３級ブチルジメチルシリル）を得る。こ
れを常法により脱保護して標題化合物を得る。
【００２４】実施例７ ２−デカルボキシ−２−(２−カルボキシエチル)−１
３,１４−ジヒドロ−１６,１６−ジフルオロ−１５−ケ
ト−ＰＧＦ2αメチルエステル）［ＩＵＰＡＣ名：(Ｚ)
−９−［(１Ｒ,２Ｒ,３Ｒ,５Ｓ)−２−(４,４−ジフル
オロ−３−オキソオクチル)−３,５−ジヒドロキシシロ
クペンチル]−７−ノネン酸メチルエステル］(３２)の
製造 ７−１）[１Ｓ,３(Ｒ,Ｓ),５Ｒ,６Ｒ,７Ｒ]−６−[３
(Ｒ,Ｓ)−t−ブチルジメチルシリルオキシ−４,４−ジ
フルオロオクチル]−７−(テトラヒドロピラニルオキ
シ)−２−オキサビシクロ[３.３.０]オクタン−３−オ
ール(２６) 化合物(１２)（Ｘ1＝Ｘ2＝Ｆ、Ｐ1＝テトラヒドロピラ
ニル、Ｒ2−Ｒ3＝ブチル）(１.２６g)を、ＤＭＦ(１５
ｍｌ)中、イミダゾール(２.６３g)、及び塩化ｔ−ブチ
ルジメチルシラン(２.９１g)を用いシリルエーテル(２
５)とした。 収量：１.４３g(８８％) 得られたシリルエーテル(２５)(１.４３g)を、水素化ジ
イソブチルアルミニウムを用い常法で還元し、標題化合
物(２６)とした。 収量：１.４７g(１００％) ７−２）(Ｚ)−９−{(１Ｒ,２Ｒ,３Ｒ,５Ｓ)−２−[３
(Ｒ,Ｓ)−t−ブチルジメチルシリルオキシ−４,４−ジ
フルオロオクチル]−５−ヒドロキシ−３−(テトラヒド
ロピラニルオキシ)シクロペンチル}−７−ノネン酸メチ
ルエステル(２８） 水素化ナトリウム（６０％、０.９３４g)、ＤＭＳＯ(２
５ｍｌ)及び(６−カルボキシヘキシル)トリフェニルホ
スホニウムブロミド(５.５０g)から、常法によりイリド
を得た。これに上記化合物(２６)のエーテル溶液(８ｍ
ｌ)を加え２時間室温で攪拌した。常法処理後に得たカ
ルボン酸(２７)をジアゾメタンで処理した。シリカゲル
カラムで精製し、標題化合物(２８)を得た。 収量: ０.４３g(４８％) ７−３）(Ｚ)−９−{(１Ｒ,２Ｒ,３Ｒ,５Ｓ)−２−[３
(Ｒ,Ｓ)−t−ブチルジメチルシリルオキシ−４,４−ジ
フルオロオクチル]−３,５−(ジテトラヒドロピラニル
オキシ)シクロペンチル}−７−ノネン酸メチルエステル
(２９) 上記化合物(２８)(０.４３８g)をジクロルメタン(２５
ｍｌ)中過剰のジヒドロピラン及び触媒量のp−トルエン
スルホン酸を用いてジテトラヒドロピラニルエーテル化
し、標題化合物（２９）とした。シリカゲルカラムで精
製した。 収量：０.４９４g(９９％)
３,１４−ジヒドロ−１６,１６−ジフルオロ−１５−ケ
ト−ＰＧＦ2αメチルエステル）［ＩＵＰＡＣ名：(Ｚ)
−９−［(１Ｒ,２Ｒ,３Ｒ,５Ｓ)−２−(４,４−ジフル
オロ−３−オキソオクチル)−３,５−ジヒドロキシシロ
クペンチル]−７−ノネン酸メチルエステル］(３２)の
製造 ７−１）[１Ｓ,３(Ｒ,Ｓ),５Ｒ,６Ｒ,７Ｒ]−６−[３
(Ｒ,Ｓ)−t−ブチルジメチルシリルオキシ−４,４−ジ
フルオロオクチル]−７−(テトラヒドロピラニルオキ
シ)−２−オキサビシクロ[３.３.０]オクタン−３−オ
ール(２６) 化合物(１２)（Ｘ1＝Ｘ2＝Ｆ、Ｐ1＝テトラヒドロピラ
ニル、Ｒ2−Ｒ3＝ブチル）(１.２６g)を、ＤＭＦ(１５
ｍｌ)中、イミダゾール(２.６３g)、及び塩化ｔ−ブチ
ルジメチルシラン(２.９１g)を用いシリルエーテル(２
５)とした。 収量：１.４３g(８８％) 得られたシリルエーテル(２５)(１.４３g)を、水素化ジ
イソブチルアルミニウムを用い常法で還元し、標題化合
物(２６)とした。 収量：１.４７g(１００％) ７−２）(Ｚ)−９−{(１Ｒ,２Ｒ,３Ｒ,５Ｓ)−２−[３
(Ｒ,Ｓ)−t−ブチルジメチルシリルオキシ−４,４−ジ
フルオロオクチル]−５−ヒドロキシ−３−(テトラヒド
ロピラニルオキシ)シクロペンチル}−７−ノネン酸メチ
ルエステル(２８） 水素化ナトリウム（６０％、０.９３４g)、ＤＭＳＯ(２
５ｍｌ)及び(６−カルボキシヘキシル)トリフェニルホ
スホニウムブロミド(５.５０g)から、常法によりイリド
を得た。これに上記化合物(２６)のエーテル溶液(８ｍ
ｌ)を加え２時間室温で攪拌した。常法処理後に得たカ
ルボン酸(２７)をジアゾメタンで処理した。シリカゲル
カラムで精製し、標題化合物(２８)を得た。 収量: ０.４３g(４８％) ７−３）(Ｚ)−９−{(１Ｒ,２Ｒ,３Ｒ,５Ｓ)−２−[３
(Ｒ,Ｓ)−t−ブチルジメチルシリルオキシ−４,４−ジ
フルオロオクチル]−３,５−(ジテトラヒドロピラニル
オキシ)シクロペンチル}−７−ノネン酸メチルエステル
(２９) 上記化合物(２８)(０.４３８g)をジクロルメタン(２５
ｍｌ)中過剰のジヒドロピラン及び触媒量のp−トルエン
スルホン酸を用いてジテトラヒドロピラニルエーテル化
し、標題化合物（２９）とした。シリカゲルカラムで精
製した。 収量：０.４９４g(９９％)
【００２５】７−４）(Ｚ)−９−[(１Ｒ,２Ｒ,３Ｒ,５
Ｓ)−２−(t−ブチルジメチルシリルオキシ−３−オキ
ソオクチル)−３,５−(ジテトラヒドロピラニルオキシ)
シクロペンチル]−７−ノネン酸メチルエステル(３１) 上記化合物（２９)(０.４９４g)をＴＨＦ(１０ｍｌ)に
溶解し、ふっ化テトラブチルアンモニウム(１.０Ｍ、
５.６ｍｌ)を加え、室温で一夜放置した。常法処理後、
シリカゲルカラムで精製し脱保護体(３０)を得た。 収量：０.２８４g(６８％) 得られた上記化合物(３０)(０.２８４g)をジクロルメタ
ン(１０ｍｌ)中、塩化オギザリル(０.１６５ｍｌ)、Ｄ
ＭＳＯ(０.３ｍｌ)を用いてスワン酸化した。シリカゲ
ルカラム精製し標題化合物(３１)を得た。 収量：０.２５１ｇ(８９％) ７−５）(Ｚ)−９−［(１Ｒ,２Ｒ,３Ｒ,５Ｓ)−２−
(４,４−ジフルオロ−３−オキソオクチル)−３,５−ジ
ヒドロキシシクロペンチル]−７−ノネン酸メチルエス
テル(３２) 上記化合物(３１)(０.２５１ｇ)を酢酸−水−ＴＨＦ
(４:２:１)混合溶媒(３０ｍｌ)に溶解し４５〜５０℃に
３時間保った。常法処理して得た粗生成物をシリカゲル
カラムで精製し、標題化合物(３２)を得た。 収量：０.１３７ｇ(７６％) 化合物（３２）（Ｘ1＝Ｘ2＝Ｆ、Ｒ2−Ｒ3＝ブチル、Ｐ
3＝メチル） ＮＭＲ(ＣＤＣl3)δ：０.９２(t,３Ｈ,Ｊ＝７.５Ｈz)、
１.２−２.９(m,３８Ｈ)、３.６７(s,３Ｈ)、３.７０
（q,１Ｈ,Ｊ＝７.５Ｈz）、４.２５（m,１Ｈ）、５.４
３（m,２Ｈ）
Ｓ)−２−(t−ブチルジメチルシリルオキシ−３−オキ
ソオクチル)−３,５−(ジテトラヒドロピラニルオキシ)
シクロペンチル]−７−ノネン酸メチルエステル(３１) 上記化合物（２９)(０.４９４g)をＴＨＦ(１０ｍｌ)に
溶解し、ふっ化テトラブチルアンモニウム(１.０Ｍ、
５.６ｍｌ)を加え、室温で一夜放置した。常法処理後、
シリカゲルカラムで精製し脱保護体(３０)を得た。 収量：０.２８４g(６８％) 得られた上記化合物(３０)(０.２８４g)をジクロルメタ
ン(１０ｍｌ)中、塩化オギザリル(０.１６５ｍｌ)、Ｄ
ＭＳＯ(０.３ｍｌ)を用いてスワン酸化した。シリカゲ
ルカラム精製し標題化合物(３１)を得た。 収量：０.２５１ｇ(８９％) ７−５）(Ｚ)−９−［(１Ｒ,２Ｒ,３Ｒ,５Ｓ)−２−
(４,４−ジフルオロ−３−オキソオクチル)−３,５−ジ
ヒドロキシシクロペンチル]−７−ノネン酸メチルエス
テル(３２) 上記化合物(３１)(０.２５１ｇ)を酢酸−水−ＴＨＦ
(４:２:１)混合溶媒(３０ｍｌ)に溶解し４５〜５０℃に
３時間保った。常法処理して得た粗生成物をシリカゲル
カラムで精製し、標題化合物(３２)を得た。 収量：０.１３７ｇ(７６％) 化合物（３２）（Ｘ1＝Ｘ2＝Ｆ、Ｒ2−Ｒ3＝ブチル、Ｐ
3＝メチル） ＮＭＲ(ＣＤＣl3)δ：０.９２(t,３Ｈ,Ｊ＝７.５Ｈz)、
１.２−２.９(m,３８Ｈ)、３.６７(s,３Ｈ)、３.７０
（q,１Ｈ,Ｊ＝７.５Ｈz）、４.２５（m,１Ｈ）、５.４
３（m,２Ｈ）
【００２６】実施例８ ２−デカルボキシ−２−（２−カルボキシエチル）−１
３,１４−ジヒドロ−１６,１６−ジフルオロ−１５−ケ
ト−ＰＧＥ1［ＩＵＰＡＣ名：（Ｚ）−９−[(１Ｒ,２
Ｒ,３Ｒ,５Ｓ)−２−(４,４−ジフルオロ−３−オキソ
オクチル)−３−ヒドロキシ−５−オキソシクロペンチ
ル]ノナン酸］(３３)の製造 ８−１）(Ｚ)−９−{(１Ｒ,２Ｒ,３Ｒ,５Ｓ)−２−[４,
４−ジフルオロ−３(Ｒ,Ｓ)−ヒドロキシオクチル]−５
−ヒドロキシ−３−(テトラヒドロピラニルオキシ)シク
ロペンチル}−７−ノネン酸ベンジルエステル(１５) 化合物(１４)（Ｘ1＝Ｘ2＝Ｆ、Ｐ1＝テトラヒドロピラ
ニル、Ｒ2−Ｒ3＝ブチル）(１.０９ｇ)を、アセトニト
リル(２０ｍｌ)に溶解し、ＤＢＵ(２.６ｍｌ)及びベン
ジルブロミド(２.２ｍｌ)を加えて、４５℃に１時間、
６０℃に一夜保った。常法処理後に得た粗生成物をシリ
カゲルカラムで精製し、標題化合物(１５)を得た。 収量：０.２１３ｇ ８−２）(Ｚ)−９−[(１Ｒ,２Ｒ,３Ｒ,５Ｓ)−２−(４,
４−ジフルオロ−３−オキソオクチル)−３−(テトラヒ
ドロピラニルオキシ)−５−オキソシクロペンチル]−７
−ノネン酸ベンジルエステル(１６) 上記化合物(１５)(０.２１３ｇ)を、ジクロルメタン(１
５ｍｌ)中、塩化オギザリル(０.２３ｍｌ)、ＤＭＳＯ
(０.４１ｍｌ)及びトリエチルアミン(０.８１ｍｌ)を用
いてスワン酸化した。シリカゲルカラムで精製し標題化
合物(１６)を得た。 収量: ０．１８１ｇ(８６％) ８−３）(Ｚ)−９−[(１Ｒ,２Ｒ,３Ｒ,５Ｓ)−２−(４,
４−ジフルオロ−３−オキソオクチル)−３−ヒドロキ
シ−５−オキソシクロペンチル]−７−ノネン酸ベンジ
ルエステル(６) 上記化合物(１６)(０.１８１ｇ)を酢酸−水−ＴＨＦ
(４:２:１)混合溶媒(２５ｍｌ)に溶解し４５℃に３.５
時間保った。常法処理後に得た粗生成物をシリカゲルカ
ラムで精製し、標題化合物（６）を得た。 収量：０．１４０ｇ(９１％) 化合物（６）（Ｘ1＝Ｘ2＝Ｆ、Ｒ2−Ｒ3＝ブチル、Ｐ3
＝ベンジル） ＮＭＲ(ＣＤＣl3)δ：０.９３(t,３Ｈ,Ｊ＝７.５Ｈz)、
１.２−２.８(m,２７Ｈ)、４.２０(m,１Ｈ)、５.１２
（s,２Ｈ）、５.２−５.５（m,２Ｈ）、７.３５（m,５
Ｈ） ８−４）９−[(１Ｒ,２Ｒ,３Ｒ,５Ｓ)−２−(４,４−ジ
フルオロ−３−オキソオクチル)−３−ヒドロキシ−５
−オキソシクロペンチル]ノナン酸(３３) 上記化合物(６)(０.１４０ｇ)を酢酸エチル(１５ｍｌ)
に溶解し、パラジウム−炭素(５０ｍｇ)及び水素を用い
て接触還元した。触媒を濾別後、濾液を濃縮して得た生
成物をローバーカラム(ＯＤＳ)を用いて精製し、標題化
合物（３３）を得た。 収量：０．０７７ｇ(６５％） 化合物（３３）（Ｘ1＝Ｘ2＝Ｆ、Ｒ2−Ｒ3＝ブチル） ＮＭＲ(ＣＤＣl3)δ：０.９５(t,３Ｈ,Ｊ＝７.５Ｈz)、
１.２−２.８(m,３２Ｈ)、４.２０(m,１Ｈ)
３,１４−ジヒドロ−１６,１６−ジフルオロ−１５−ケ
ト−ＰＧＥ1［ＩＵＰＡＣ名：（Ｚ）−９−[(１Ｒ,２
Ｒ,３Ｒ,５Ｓ)−２−(４,４−ジフルオロ−３−オキソ
オクチル)−３−ヒドロキシ−５−オキソシクロペンチ
ル]ノナン酸］(３３)の製造 ８−１）(Ｚ)−９−{(１Ｒ,２Ｒ,３Ｒ,５Ｓ)−２−[４,
４−ジフルオロ−３(Ｒ,Ｓ)−ヒドロキシオクチル]−５
−ヒドロキシ−３−(テトラヒドロピラニルオキシ)シク
ロペンチル}−７−ノネン酸ベンジルエステル(１５) 化合物(１４)（Ｘ1＝Ｘ2＝Ｆ、Ｐ1＝テトラヒドロピラ
ニル、Ｒ2−Ｒ3＝ブチル）(１.０９ｇ)を、アセトニト
リル(２０ｍｌ)に溶解し、ＤＢＵ(２.６ｍｌ)及びベン
ジルブロミド(２.２ｍｌ)を加えて、４５℃に１時間、
６０℃に一夜保った。常法処理後に得た粗生成物をシリ
カゲルカラムで精製し、標題化合物(１５)を得た。 収量：０.２１３ｇ ８−２）(Ｚ)−９−[(１Ｒ,２Ｒ,３Ｒ,５Ｓ)−２−(４,
４−ジフルオロ−３−オキソオクチル)−３−(テトラヒ
ドロピラニルオキシ)−５−オキソシクロペンチル]−７
−ノネン酸ベンジルエステル(１６) 上記化合物(１５)(０.２１３ｇ)を、ジクロルメタン(１
５ｍｌ)中、塩化オギザリル(０.２３ｍｌ)、ＤＭＳＯ
(０.４１ｍｌ)及びトリエチルアミン(０.８１ｍｌ)を用
いてスワン酸化した。シリカゲルカラムで精製し標題化
合物(１６)を得た。 収量: ０．１８１ｇ(８６％) ８−３）(Ｚ)−９−[(１Ｒ,２Ｒ,３Ｒ,５Ｓ)−２−(４,
４−ジフルオロ−３−オキソオクチル)−３−ヒドロキ
シ−５−オキソシクロペンチル]−７−ノネン酸ベンジ
ルエステル(６) 上記化合物(１６)(０.１８１ｇ)を酢酸−水−ＴＨＦ
(４:２:１)混合溶媒(２５ｍｌ)に溶解し４５℃に３.５
時間保った。常法処理後に得た粗生成物をシリカゲルカ
ラムで精製し、標題化合物（６）を得た。 収量：０．１４０ｇ(９１％) 化合物（６）（Ｘ1＝Ｘ2＝Ｆ、Ｒ2−Ｒ3＝ブチル、Ｐ3
＝ベンジル） ＮＭＲ(ＣＤＣl3)δ：０.９３(t,３Ｈ,Ｊ＝７.５Ｈz)、
１.２−２.８(m,２７Ｈ)、４.２０(m,１Ｈ)、５.１２
（s,２Ｈ）、５.２−５.５（m,２Ｈ）、７.３５（m,５
Ｈ） ８−４）９−[(１Ｒ,２Ｒ,３Ｒ,５Ｓ)−２−(４,４−ジ
フルオロ−３−オキソオクチル)−３−ヒドロキシ−５
−オキソシクロペンチル]ノナン酸(３３) 上記化合物(６)(０.１４０ｇ)を酢酸エチル(１５ｍｌ)
に溶解し、パラジウム−炭素(５０ｍｇ)及び水素を用い
て接触還元した。触媒を濾別後、濾液を濃縮して得た生
成物をローバーカラム(ＯＤＳ)を用いて精製し、標題化
合物（３３）を得た。 収量：０．０７７ｇ(６５％） 化合物（３３）（Ｘ1＝Ｘ2＝Ｆ、Ｒ2−Ｒ3＝ブチル） ＮＭＲ(ＣＤＣl3)δ：０.９５(t,３Ｈ,Ｊ＝７.５Ｈz)、
１.２−２.８(m,３２Ｈ)、４.２０(m,１Ｈ)
【００２７】実施例９ ２０−エチル−２−デカルボキシ−２−（２−カルボキ
シエチル）−１３,１４−ジヒドロ−１６,１６−ジフル
オロ−１５−ケト−ＰＧＥ1イソプロピルエステル［Ｉ
ＵＰＡＣ名：（Ｚ）−９−［（１Ｒ,２Ｒ,３Ｒ）−２−
（４,４−ジフルオロ−３−オキソデシル）−３−ヒド
ロキシ−５−オキソシクロペンチル］−ノネン酸イソプ
ロピルエステル］（２０）の製造 アルキルホスホネートとしてジメチル（３,３−ジフル
オロ−２−オキソノニル）ホスホネートを用いた以外
は、実施例４と同様にして標題化合物（２０）を得た。 化合物（２０）（Ｘ1＝Ｘ2＝Ｆ、Ｒ2−Ｒ3＝ヘキシル、
Ｐ3＝イソプロピル） ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．９０（ｔ,３Ｈ,Ｊ＝７．
５Ｈｚ）、１．３２（ｄ,６Ｈ,６Ｈｚ）、１．２５−
２．７０（ｍ,３４Ｈ）、３．１５（ｓ,１Ｈ）、４．２
０（ｍ,１Ｈ）、５．００（Ｈept,１Ｈ,７．５Ｈｚ）
シエチル）−１３,１４−ジヒドロ−１６,１６−ジフル
オロ−１５−ケト−ＰＧＥ1イソプロピルエステル［Ｉ
ＵＰＡＣ名：（Ｚ）−９−［（１Ｒ,２Ｒ,３Ｒ）−２−
（４,４−ジフルオロ−３−オキソデシル）−３−ヒド
ロキシ−５−オキソシクロペンチル］−ノネン酸イソプ
ロピルエステル］（２０）の製造 アルキルホスホネートとしてジメチル（３,３−ジフル
オロ−２−オキソノニル）ホスホネートを用いた以外
は、実施例４と同様にして標題化合物（２０）を得た。 化合物（２０）（Ｘ1＝Ｘ2＝Ｆ、Ｒ2−Ｒ3＝ヘキシル、
Ｐ3＝イソプロピル） ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．９０（ｔ,３Ｈ,Ｊ＝７．
５Ｈｚ）、１．３２（ｄ,６Ｈ,６Ｈｚ）、１．２５−
２．７０（ｍ,３４Ｈ）、３．１５（ｓ,１Ｈ）、４．２
０（ｍ,１Ｈ）、５．００（Ｈept,１Ｈ,７．５Ｈｚ）
【００２８】実施例１０ ２−デカルボキシ−２−（２−カルボキシエチル）−１
３,１４−ジヒドロ−１５−ケト−ＰＧＥ2イソプロピル
エステル［ＩＵＰＡＣ名：（Ｚ）−９−［（１Ｒ,２Ｒ,
３Ｒ）−２−（３−オキソペンチル）−３−ヒドロキシ
−５−オキクソシクロペンチル］−ノネン酸イソプロピ
ルエステル］（６）の製造 アルキルホスホネートとしてジメチル（２−オキソヘプ
チル）ホスホネートを用いた以外は、実施例２と同様に
して標題化合物（６）を得た。 化合物（６）（Ｘ1＝Ｘ2＝Ｈ、Ｒ2−Ｒ3＝ブチル、Ｐ3
＝イソプロピル） ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．８９（ｔ,３Ｈ,Ｊ＝６．
６Ｈｚ）、１．１８（ｄ,６Ｈ,６．２Ｈｚ）、１．１５
−３．０（ｍ,２９Ｈ）、４．０４（ｍ,１Ｈ）、４．９
９（Ｈｅｐｔ．１Ｈ,６．２Ｈｚ）、５．３７（ｍ,２
Ｈ）
３,１４−ジヒドロ−１５−ケト−ＰＧＥ2イソプロピル
エステル［ＩＵＰＡＣ名：（Ｚ）−９−［（１Ｒ,２Ｒ,
３Ｒ）−２−（３−オキソペンチル）−３−ヒドロキシ
−５−オキクソシクロペンチル］−ノネン酸イソプロピ
ルエステル］（６）の製造 アルキルホスホネートとしてジメチル（２−オキソヘプ
チル）ホスホネートを用いた以外は、実施例２と同様に
して標題化合物（６）を得た。 化合物（６）（Ｘ1＝Ｘ2＝Ｈ、Ｒ2−Ｒ3＝ブチル、Ｐ3
＝イソプロピル） ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．８９（ｔ,３Ｈ,Ｊ＝６．
６Ｈｚ）、１．１８（ｄ,６Ｈ,６．２Ｈｚ）、１．１５
−３．０（ｍ,２９Ｈ）、４．０４（ｍ,１Ｈ）、４．９
９（Ｈｅｐｔ．１Ｈ,６．２Ｈｚ）、５．３７（ｍ,２
Ｈ）
Claims (5)
- 【請求項１】 一般式 【化１】 [式中、ＬおよびＭは水素、ヒドロキシ、低級アルキ
ル、ヒドロキシ(低級)アルキル、またはオキソ(但し、
ＬおよびＭの基の内少なくとも１つは水素以外の基であ
り、５員環は少なくとも１つの２重結合を有してしても
よい)、Ｘ1およびＸ2は水素、ハロゲンまたは低級アル
キル、Ｑは−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−
ＣＨ2−または−ＣＨ2−ＣＨ＝ＣＨ−、Ｙは−ＣＨ2−
ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−または−ＣＯ−
ＣＨ2−、Ｚは−ＣＨ2−ＣＨ2−または−ＣＨ＝ＣＨ
−、Ｒ1は水素原子、低級アルキル基、低級シクロアル
キル基、単環性アリール基、単環性アリール低級アルキ
ル基または単環性アロイル低級アルキル基、Ｒ2は単結
合または低級アルキレン基、Ｒ3は非置換もしくはハロ
ゲン置換低級アルキル基、非置換もしくは低級アルキル
置換低級シクロアルキル基、非置換またはハロゲンもし
くはハロ低級アルキルで置換された単環性アリール基、
非置換またはハロゲンもしくはハロ低級アルキルで置換
された単環性アリールオキシ基を意味する]で示される
化合物またはＲ1が水素の場合その塩類。 - 【請求項２】 Ｘ1がふっ素である、請求項１記載の化
合物。 - 【請求項３】 Ｘ2がふっ素である、請求項２記載の化
合物。 - 【請求項４】 Ｚが−ＣＨ2−ＣＨ2−である、請求項１
記載の化合物。 - 【請求項５】 Ｒ2が単結合、Ｒ3が低級アルキル基であ
る、請求項１記載の化合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4012795A JPH07113012B2 (ja) | 1991-01-29 | 1992-01-28 | 新規１５−ケト−プロスタグランジン類 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2931091 | 1991-01-29 | ||
| JP3-29310 | 1991-01-29 | ||
| JP4012795A JPH07113012B2 (ja) | 1991-01-29 | 1992-01-28 | 新規１５−ケト−プロスタグランジン類 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0558992A JPH0558992A (ja) | 1993-03-09 |
| JPH07113012B2 true JPH07113012B2 (ja) | 1995-12-06 |
Family
ID=26348464
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4012795A Expired - Lifetime JPH07113012B2 (ja) | 1991-01-29 | 1992-01-28 | 新規１５−ケト−プロスタグランジン類 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07113012B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE69714698T2 (de) * | 1996-06-10 | 2002-12-05 | Sucampo Ag, Zug | Endothelin-antagonisten |
| TWI225398B (en) * | 1999-07-14 | 2004-12-21 | R Tech Ueno Ltd | Composition for treatment of external secretion disorders |
| US7321057B2 (en) * | 2004-08-02 | 2008-01-22 | R-Tech Ueno, Ltd. | Method for manufacturing prostaglandin analogue |
| DK1841433T3 (da) | 2005-01-27 | 2012-01-16 | Sucampo Ag | Præparat til behandling af lidelser i centralnervesystemet |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3974195A (en) * | 1974-10-02 | 1976-08-10 | The Upjohn Company | 2A,2B-Dihomo-15-alkyl-PGF2.sub.α analogs |
-
1992
- 1992-01-28 JP JP4012795A patent/JPH07113012B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3974195A (en) * | 1974-10-02 | 1976-08-10 | The Upjohn Company | 2A,2B-Dihomo-15-alkyl-PGF2.sub.α analogs |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0558992A (ja) | 1993-03-09 |
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| JPH07116135B2 (ja) | ６，１５―ジケト―５―ハロプロスタグランジンｅ類 |
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