JPH07109647B2 - 薄膜磁気ベッド - Google Patents
薄膜磁気ベッドInfo
- Publication number
- JPH07109647B2 JPH07109647B2 JP1002955A JP295589A JPH07109647B2 JP H07109647 B2 JPH07109647 B2 JP H07109647B2 JP 1002955 A JP1002955 A JP 1002955A JP 295589 A JP295589 A JP 295589A JP H07109647 B2 JPH07109647 B2 JP H07109647B2
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- Japan
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- cross
- thin film
- film magnetic
- linking agent
- heat
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 A.産業上の利用分野 本発明は、薄膜磁気ヘッドに関し、特にそのようなヘッ
ドを作製するために使用される非磁性材料に関する。
ドを作製するために使用される非磁性材料に関する。
B.従来技術 薄膜磁気ヘッドは、従来周知である。そのようなものの
例としては、米国特許第4219854号、同第4516180号及び
同第4652954号がある。
例としては、米国特許第4219854号、同第4516180号及び
同第4652954号がある。
熱により活性化される交差結合剤または反応促進剤をポ
リマと組合せて使用することは従来から知らされてい
る。きわめて低いパーセントの熱により活性化される交
差結合剤を使用したフォトレジストがIBMテクニカル・
ディスクロジャ・ブルティン（以下IBM TDBと称する）V
ol.14、2309ページ、1972年１月に示されており、W.E.
フィーリー（Feely）、SPIE議事録（Proceedings of SP
IE）Vol.631、48、1986にはフォトレジストの交差結合
が示されている。
リマと組合せて使用することは従来から知らされてい
る。きわめて低いパーセントの熱により活性化される交
差結合剤を使用したフォトレジストがIBMテクニカル・
ディスクロジャ・ブルティン（以下IBM TDBと称する）V
ol.14、2309ページ、1972年１月に示されており、W.E.
フィーリー（Feely）、SPIE議事録（Proceedings of SP
IE）Vol.631、48、1986にはフォトレジストの交差結合
が示されている。
しかし本願発明者が知る限り、熱により活性化される交
差結合剤を含むフォトレジストを扱う、薄膜磁気ヘッド
に関連する従来技術はない。例えば、上述した米国特許
のどれも、熱により活性化される交差結合フォトレジス
トに言及してない。また同様に、上述のIBM TDB及びSPI
E刊行物は、薄膜磁気ヘッドに関連する記載を全く含ま
ない。
差結合剤を含むフォトレジストを扱う、薄膜磁気ヘッド
に関連する従来技術はない。例えば、上述した米国特許
のどれも、熱により活性化される交差結合フォトレジス
トに言及してない。また同様に、上述のIBM TDB及びSPI
E刊行物は、薄膜磁気ヘッドに関連する記載を全く含ま
ない。
C.発明が解決しようとする問題点 本発明の目的は、熱により活性化される交差結合剤を使
用した薄膜磁気ヘッドを提供することにある。
用した薄膜磁気ヘッドを提供することにある。
D.問題点を解決するための手段 本発明は、導電コイルを取り巻く電気的絶縁体が、熱に
より活性化される交差結合剤によって交差結合された感
光性樹脂から成っている薄膜磁気ヘッドを提供する。
より活性化される交差結合剤によって交差結合された感
光性樹脂から成っている薄膜磁気ヘッドを提供する。
E.実施例 第１図を参照すると、薄膜磁気ヘッド・アセンブリ11の
断面図が図示されており、これは非磁性セラミック支持
体を具備し、その支持体上には磁気ポールピース層12及
び14が付着されている。磁気ポールピース層12及び14の
間には非磁性絶縁材料22が付着されている。符号16で示
されているのは変換ギャップであり、これは、従来より
知られているように、磁性媒体に対して、磁気変換を行
うような位置関係、好適には空気を介在させるような位
置関係で相互作用を行う。このため、記録媒体に近接し
て飛翔する空気介在表面（ABS）をもつスライダとして
支持体10が形成されている。記録媒体は例えば、ディス
ク・ファイルの動作の間回転する磁気ディスクである。
断面図が図示されており、これは非磁性セラミック支持
体を具備し、その支持体上には磁気ポールピース層12及
び14が付着されている。磁気ポールピース層12及び14の
間には非磁性絶縁材料22が付着されている。符号16で示
されているのは変換ギャップであり、これは、従来より
知られているように、磁性媒体に対して、磁気変換を行
うような位置関係、好適には空気を介在させるような位
置関係で相互作用を行う。このため、記録媒体に近接し
て飛翔する空気介在表面（ABS）をもつスライダとして
支持体10が形成されている。記録媒体は例えば、ディス
ク・ファイルの動作の間回転する磁気ディスクである。
薄膜ヘッド構造は、ポールピース12及び14の閉止によつ
て形成された後方ギャップ部分18を有する。後方ギャッ
プ部分18は変換ギャップからは隔離され、後方ギャップ
と変換ギャップの間にはコイル構造体20が介在配置され
ている。
て形成された後方ギャップ部分18を有する。後方ギャッ
プ部分18は変換ギャップからは隔離され、後方ギャップ
と変換ギャップの間にはコイル構造体20が介在配置され
ている。
個別の磁気ポールピース層12及び14の間には連続コイル
20が配置され、コイル20はそれらの磁気ポールピース片
層に磁気的に結合される。コイル20とポールピース片12
及び14は絶縁体22によって隔離され、この絶縁体22がポ
ールピース片の間の部分のコイルを固定する。コイルの
中心領域には電気的接点（図示せず）が設けられてお
り、同様にコイルの外側終端には電気的接点のための拡
大領域が設けられている。これらの接点は、読み取り及
び書込み信号を処理するための外部ワイヤ及びヘッド回
路（図示せず）に接続されている。
20が配置され、コイル20はそれらの磁気ポールピース片
層に磁気的に結合される。コイル20とポールピース片12
及び14は絶縁体22によって隔離され、この絶縁体22がポ
ールピース片の間の部分のコイルを固定する。コイルの
中心領域には電気的接点（図示せず）が設けられてお
り、同様にコイルの外側終端には電気的接点のための拡
大領域が設けられている。これらの接点は、読み取り及
び書込み信号を処理するための外部ワイヤ及びヘッド回
路（図示せず）に接続されている。
薄膜ヘッドを作製するために今まで使用されている典型
的な処理においては、絶縁体は、高温ときわめて長い時
間の硬化サイクルを用いて交差結合されていた。その温
度は260℃もの高さであり、処理時間は20時間もの長さ
であった。さらに、その輻射反応はきわめて緩慢で完成
品が所望の寸法の安定性を欠くという点で不十分であっ
た。本発明は、これらの重大な問題に対して長い間要求
されていた解決法を提供するものであって、必要な温度
を80℃まで低減し、必要な処理時間を15時間にまで低減
する。そうして得られた製品は寸法の安定性に著しい改
善を呈する。
的な処理においては、絶縁体は、高温ときわめて長い時
間の硬化サイクルを用いて交差結合されていた。その温
度は260℃もの高さであり、処理時間は20時間もの長さ
であった。さらに、その輻射反応はきわめて緩慢で完成
品が所望の寸法の安定性を欠くという点で不十分であっ
た。本発明は、これらの重大な問題に対して長い間要求
されていた解決法を提供するものであって、必要な温度
を80℃まで低減し、必要な処理時間を15時間にまで低減
する。そうして得られた製品は寸法の安定性に著しい改
善を呈する。
本発明によれば、薄膜磁気ヘッド・アセンブリの非磁性
絶縁材料が、熱により活性化される交差結合剤を含む感
光性樹脂を具備する。そのような材料を使用することに
よって、硬化時間が著しく低減され、硬化温度も著しく
低減されて、より安定な絶縁体層が製造されるのであ
る。
絶縁材料が、熱により活性化される交差結合剤を含む感
光性樹脂を具備する。そのような材料を使用することに
よって、硬化時間が著しく低減され、硬化温度も著しく
低減されて、より安定な絶縁体層が製造されるのであ
る。
本発明のさらなる利点として、熱により活性化される交
差結合剤が最終製品の絶縁特性にも、フォトリソグラフ
特性にも影響を及ぼさないということを強調しておきた
い。この点は、硬化温度や硬化時間を低減する試みが今
までそのような特性を保持することに成功しなかったが
ゆえに重要である。
差結合剤が最終製品の絶縁特性にも、フォトリソグラフ
特性にも影響を及ぼさないということを強調しておきた
い。この点は、硬化温度や硬化時間を低減する試みが今
までそのような特性を保持することに成功しなかったが
ゆえに重要である。
また、さらに強調しておきたいのは、本発明が従来より
も低い温度を採用することを可能ならしめたので、温度
に敏感であるがゆえに今まで使用不可能であった材料を
使用可能にする等、多くの今まで不可能であった製造処
理に途を開くということである。
も低い温度を採用することを可能ならしめたので、温度
に敏感であるがゆえに今まで使用不可能であった材料を
使用可能にする等、多くの今まで不可能であった製造処
理に途を開くということである。
本発明で使用するのに好適な樹脂は、ノボラック樹脂で
あり、それの多様な変種が従来より知られている。ノボ
ラックは、光感応剤の添加により輻射に感応性となる。
そのような光感応剤としては多くのものが知られてい
る。光感応剤としては例えば１−オキソ−２−ジアゾナ
フタレン・スルホン酸誘導体がある。この種の物質が本
発明に使用するのに好適である。
あり、それの多様な変種が従来より知られている。ノボ
ラックは、光感応剤の添加により輻射に感応性となる。
そのような光感応剤としては多くのものが知られてい
る。光感応剤としては例えば１−オキソ−２−ジアゾナ
フタレン・スルホン酸誘導体がある。この種の物質が本
発明に使用するのに好適である。
薄間ヘッド中の絶縁層の交差結合反応を熱的に促進する
ために３つのタイプの交差結合反応促進剤が採用され
る。その１つのタイプは、メラミン交差結合剤である。
そのような薬剤は市販されており、例えばメラミン樹脂
Cyme1303として、アメリカン・サイアナミド社（Americ
an Cyanamid Company）から購入できる。別のタイプの
熱により活性化される交差結合剤としては、エポキシ・
ノボラック樹脂と潜在（latent）触媒の組合せがある。
潜在触媒とは、例えば反応中に加熱されると触媒として
作用するような触媒である。エポキシ・ノボラック樹脂
としては、チバ・ガイギー（Ciba-Geigy）社から購入で
きるECN1273などのエポキシ・クレゾール・ノボラック
（ECN）及びエポキシ・フェノール（EPN）がある。潜在
触媒としては、エポキシ化合物の硬化によく使用される
潜在触媒である３塩化ホウ素がある。このタイプの触媒
は、市販されており、チバ・ガイギーから購入できるDY
9577がある。第３のタイプの交差結合反応促進剤として
はビスアジド・タイプ、たとば3.3′−ジアジド−ジフ
ェニルスルホン及び4,4′−ジアジド−ジフェニルスル
フィドがある。一般的には、熱により活性化される交差
結合反応促進剤は好適にはノボラック樹脂に対して約10
ないし50重量％存在し、最も好適には20ないし40重量％
存在する。
ために３つのタイプの交差結合反応促進剤が採用され
る。その１つのタイプは、メラミン交差結合剤である。
そのような薬剤は市販されており、例えばメラミン樹脂
Cyme1303として、アメリカン・サイアナミド社（Americ
an Cyanamid Company）から購入できる。別のタイプの
熱により活性化される交差結合剤としては、エポキシ・
ノボラック樹脂と潜在（latent）触媒の組合せがある。
潜在触媒とは、例えば反応中に加熱されると触媒として
作用するような触媒である。エポキシ・ノボラック樹脂
としては、チバ・ガイギー（Ciba-Geigy）社から購入で
きるECN1273などのエポキシ・クレゾール・ノボラック
（ECN）及びエポキシ・フェノール（EPN）がある。潜在
触媒としては、エポキシ化合物の硬化によく使用される
潜在触媒である３塩化ホウ素がある。このタイプの触媒
は、市販されており、チバ・ガイギーから購入できるDY
9577がある。第３のタイプの交差結合反応促進剤として
はビスアジド・タイプ、たとば3.3′−ジアジド−ジフ
ェニルスルホン及び4,4′−ジアジド−ジフェニルスル
フィドがある。一般的には、熱により活性化される交差
結合反応促進剤は好適にはノボラック樹脂に対して約10
ないし50重量％存在し、最も好適には20ないし40重量％
存在する。
次に示す例は単に本発明の好適な実施例を示すだけのた
めに与えるものであって、本発明の趣旨を逸脱すること
なく当業者はさまざまの変更をなし得るものである。
めに与えるものであって、本発明の趣旨を逸脱すること
なく当業者はさまざまの変更をなし得るものである。
例 使用される交差結合剤のタイプに応じて、熱により交差
可能なレジストを用意するために異なる手順が採用され
る。その第１の手順は、メラミン樹脂を使用するもので
ある。ノボラック樹脂に対して約30重量％のメラミンを
用意するために、2gのヘキサメチルオキシメチルメラミ
ンがヘキスト（Hoechst）ポジティブ・フォトレジストA
Z1375などのノボラックをベースとするポジティブ・フ
ォトレジストに添加される。混合すると、均一な溶液が
得られる。これで熱により交差可能なフォトレジストを
使用する準備が出来たことになる。
可能なレジストを用意するために異なる手順が採用され
る。その第１の手順は、メラミン樹脂を使用するもので
ある。ノボラック樹脂に対して約30重量％のメラミンを
用意するために、2gのヘキサメチルオキシメチルメラミ
ンがヘキスト（Hoechst）ポジティブ・フォトレジストA
Z1375などのノボラックをベースとするポジティブ・フ
ォトレジストに添加される。混合すると、均一な溶液が
得られる。これで熱により交差可能なフォトレジストを
使用する準備が出来たことになる。
第２のタイプのレジストはECN樹脂を含む。このレジス
トに対する20重量％の混合物を用意するために、25gのA
Z1375ポジティブ・フォトレジストに対して1.8gのエポ
キシ・クレゾール・ノボラックが添加される。そして、
20mlのセロソルブ・アセテート溶剤を加えることにより
粘度が低下される。均一な混合物を得るために、0.4gの
DY9577が加えられる。約１時間混合した後、熱により交
差可能な絶縁材レジストを使用する準備ができたことに
なる。
トに対する20重量％の混合物を用意するために、25gのA
Z1375ポジティブ・フォトレジストに対して1.8gのエポ
キシ・クレゾール・ノボラックが添加される。そして、
20mlのセロソルブ・アセテート溶剤を加えることにより
粘度が低下される。均一な混合物を得るために、0.4gの
DY9577が加えられる。約１時間混合した後、熱により交
差可能な絶縁材レジストを使用する準備ができたことに
なる。
AZ1350Jノボラック樹脂に、10重量％の4.4′−ジアジド
−ジフェニルフィドを添加して混合することによりレジ
ストが用意される。上述の添加物を含むレジストは、そ
のような添加物を含まないレジストよりもはるかに速く
ベークによる硬化を生じる。
−ジフェニルフィドを添加して混合することによりレジ
ストが用意される。上述の添加物を含むレジストは、そ
のような添加物を含まないレジストよりもはるかに速く
ベークによる硬化を生じる。
F.発明の効果 以上説明したように、この発明によれば、熱的に交差可
能なレジストを絶縁層として使用することにより、薄膜
磁気ヘッドの製造における処理温度及び処理時間を低減
することができるとともに、最終製品の寸法の安定性も
達成される。
能なレジストを絶縁層として使用することにより、薄膜
磁気ヘッドの製造における処理温度及び処理時間を低減
することができるとともに、最終製品の寸法の安定性も
達成される。
第１図は、薄膜磁気ヘッドの断面図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ジエームズ・シイ‐タング・リイ アメリカ合衆国カリフオルニア州サン・ホ セ、ヴアレイ・クウエイル・サークル1169 番地 (56)参考文献 特開 昭61−246908（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−117715（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】導電性コイルを取り囲む電気的絶縁体が、
熱により活性化される交差結合剤によって交差結合され
た光感応性樹脂で形成されている薄膜磁気ヘッドにおい
て、前記光感応性樹脂はノボラック樹脂であり、前記熱
により活性化される交差結合剤はノボラック樹脂に対し
て10-50重量パーセント存在し、前記交差結合剤はメラ
ミン、潜在触媒を含んだエポキシ・クレゾール・ノボラ
ック樹脂及びビスアジド・タイプよりなる群から選ばれ
た１つであることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US141738 | 1980-04-18 | ||
| US14173888A | 1988-01-11 | 1988-01-11 | |
| US182535 | 1988-04-18 | ||
| US07/182,535 US4875124A (en) | 1988-01-11 | 1988-04-18 | Thin film magnetic heads with thermally crosslinked insulation |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01235016A JPH01235016A (ja) | 1989-09-20 |
| JPH07109647B2 true JPH07109647B2 (ja) | 1995-11-22 |
Family
ID=26839401
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1002955A Expired - Fee Related JPH07109647B2 (ja) | 1988-01-11 | 1989-01-11 | 薄膜磁気ベッド |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4875124A (ja) |
| EP (1) | EP0323704B1 (ja) |
| JP (1) | JPH07109647B2 (ja) |
| CA (1) | CA1309177C (ja) |
| DE (1) | DE3888955T2 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA2019693A1 (en) * | 1989-07-07 | 1991-01-07 | Karen Ann Graziano | Acid-hardening photoresists of improved sensitivity |
| US5646804A (en) * | 1991-05-21 | 1997-07-08 | Philips Electronics North America Corporation | Thin film magnetic head having polymer on broken flux guide sections, method of producing and integrated structure incorporating same |
| US5580602A (en) * | 1994-09-01 | 1996-12-03 | International Business Machines Corporation | Process for making a thin film magnetic head |
| US5545307A (en) * | 1995-04-06 | 1996-08-13 | International Business Machines Corporation | Process for patterned electroplating |
| US5516418A (en) * | 1995-06-26 | 1996-05-14 | International Business Machines Corporation | Patterned electroplating |
| US5939134A (en) * | 1996-07-10 | 1999-08-17 | International Business Machines Corporation | Process for making a thin film magnetic head |
| US6631546B1 (en) * | 2000-02-01 | 2003-10-14 | International Business Machines Corporation | Self-aligned void filling for mushroomed plating |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4115366A (en) * | 1976-12-08 | 1978-09-19 | Plastics Engineering Company | Phenolic resin-melamine composition |
| US4219854A (en) * | 1978-12-21 | 1980-08-26 | International Business Machines Corporation | Thin film magnetic head assembly |
| JPS5741636A (en) * | 1980-08-27 | 1982-03-08 | Toshiba Corp | Photoresist composition |
| JPS57189320A (en) * | 1981-05-15 | 1982-11-20 | Comput Basic Mach Technol Res Assoc | Thin film magnetic head |
| JPS61117715A (ja) * | 1984-11-13 | 1986-06-05 | Nec Corp | 薄膜磁気ヘツド |
| US4596739A (en) * | 1985-02-11 | 1986-06-24 | International Business Machines Corporation | Rigid magnetic recording media |
| JPS61246908A (ja) * | 1985-04-23 | 1986-11-04 | Seiko Epson Corp | 磁気ヘツドの製造方法 |
| US4652954A (en) * | 1985-10-24 | 1987-03-24 | International Business Machines | Method for making a thin film magnetic head |
-
1988
- 1988-04-18 US US07/182,535 patent/US4875124A/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-10-17 CA CA000580325A patent/CA1309177C/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-11-23 DE DE3888955T patent/DE3888955T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-11-23 EP EP88311086A patent/EP0323704B1/en not_active Expired - Lifetime
-
1989
- 1989-01-11 JP JP1002955A patent/JPH07109647B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3888955D1 (de) | 1994-05-11 |
| JPH01235016A (ja) | 1989-09-20 |
| EP0323704A2 (en) | 1989-07-12 |
| CA1309177C (en) | 1992-10-20 |
| EP0323704B1 (en) | 1994-04-06 |
| EP0323704A3 (en) | 1991-01-16 |
| DE3888955T2 (de) | 1994-11-10 |
| US4875124A (en) | 1989-10-17 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
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| S531 | Written request for registration of change of domicile |
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| S533 | Written request for registration of change of name |
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| R350 | Written notification of registration of transfer |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071122 Year of fee payment: 12 |
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