JPH07109116A - ゼオライト結晶膜の製造方法 - Google Patents

ゼオライト結晶膜の製造方法

Info

Publication number
JPH07109116A
JPH07109116A JP25425693A JP25425693A JPH07109116A JP H07109116 A JPH07109116 A JP H07109116A JP 25425693 A JP25425693 A JP 25425693A JP 25425693 A JP25425693 A JP 25425693A JP H07109116 A JPH07109116 A JP H07109116A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
zeolite
substrate
crystal
zeolite crystal
crystal film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP25425693A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3272119B2 (ja
Inventor
Akira Saji
明 佐治
Hidetomo Noda
英智 野田
Kenji Hashimoto
健治 橋本
Takao Masuda
隆夫 増田
Yuichi Ikeda
裕一 池田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NGK Insulators Ltd
Chubu Electric Power Co Inc
Original Assignee
NGK Insulators Ltd
Chubu Electric Power Co Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NGK Insulators Ltd, Chubu Electric Power Co Inc filed Critical NGK Insulators Ltd
Priority to JP25425693A priority Critical patent/JP3272119B2/ja
Publication of JPH07109116A publication Critical patent/JPH07109116A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3272119B2 publication Critical patent/JP3272119B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Silicates, Zeolites, And Molecular Sieves (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】基板の表面に、1回の水熱合成反応によっても
結晶粒界の少ない緻密なゼオライト結晶膜を生成するこ
とができ、しかもゼオライト粉末の副生量を大幅に減少
させることができるゼオライト結晶膜の製造方法を提供
する。 【構成】結合剤の溶液にゼオライト結晶を懸濁させてス
ラリーを作成し、このスラリーをアルミナ基板に含浸さ
せた後、必要に応じて基板を洗浄、乾燥する。その結
果、アルミナ基板の細孔内及び表面にゼオライト結晶が
付着するので、この基板をゼオライト前駆体を含む反応
液中に浸漬して水熱合成を行えば、担持されたゼオライ
ト結晶を核としてゼオライト結晶膜が生成される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、モレキュラーシーブ等
として使用されるゼオライト結晶膜を、アルミナ基板の
細孔内及び表面に効率よく形成することができるゼオラ
イト結晶膜の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】ゼオライト結晶膜の製造方法としては、
米国特許第5100596 号に示されるように、ゼオライト前
駆体を含む反応液中に非多孔質体を入れてゼオライト結
晶を析出させ、得られたゼオライト結晶膜を非多孔質体
から剥離する方法が知られている。しかしこの方法によ
り得られたゼオライト結晶膜は機械的強度が非常に低
く、薄膜化に限界があるためにモレキュラーシーブ等と
して使用するうえで満足できない点がある。
【0003】そこで本発明者等は、多孔質のアルミナ基
板の細孔内及び表面にゼオライト結晶膜を生成させる方
法を開発し、既に特願平4-59179 号として特許出願済み
である。この方法はアルミナ基板をゼオライト前駆体を
含む反応液中に浸漬して水熱合成を繰り返す方法であ
り、アルミナ基板が担体となるので機械的強度の優れた
ゼオライト結晶膜を得ることができる。
【0004】しかし、この方法においては反応終了まで
基板上に付着して結晶成長していく結晶核は少量である
ため、成膜するためには反応液をある過飽和度以上とす
ることによって結晶核生成を促すとともに、水熱合成反
応を繰り返す必要がある。その結果、図4に示すように
反応液中に大量のゼオライト粉末が副生されてしまい、
ゼオライト前駆体のうち結晶膜となる比率は極めて低い
うえ、製造工程が煩雑化するという問題があった。ま
た、過飽和度を大きくして結晶核生成を過度に促すと結
晶成長が抑制される結果、結晶粒界が多くなるために緻
密な結晶膜とはなりにくいという問題があった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記した従来
の問題点を解決して、アルミナ基板の細孔内及び表面
に、1回の水熱合成反応によっても緻密なゼオライト結
晶膜を生成することができ、しかもゼオライト粉末の副
生量を大幅に減少させることができるゼオライト結晶膜
の製造方法を提供するためになされたものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めになされた本発明のゼオライト結晶膜の製造方法は、
結合剤の溶液にゼオライト結晶を懸濁させたスラリー
を、アルミナ基板に含浸させた後、必要に応じてこの基
板を洗浄・乾燥することによってアルミナ基板の細孔内
及び表面にゼオライト結晶を付着させ、このアルミナ基
板をゼオライト前駆体を含む反応液中に浸漬して水熱合
成を行うことにより、上記ゼオライト結晶を成長させて
結晶膜を得ることを特徴とするものである。なお、SiO2
分を含有する結合剤としては水ガラスまたはシリカゾル
を使用することが好ましい。
【0007】
【作用】本発明によれば、結合剤の水溶液にゼオライト
結晶を懸濁させたスラリーをアルミナ基板に含浸させた
後、必要に応じてアルミナ基板を洗浄・乾燥することに
よって基板の細孔内及び表面に予めゼオライト結晶を付
着させ、その後この基板をゼオライト前駆体を含む反応
液中に浸漬して水熱合成を行うので、付着させたゼオラ
イト結晶を核としてゼオライト結晶を成長させることが
できる。このように本発明によれば、基板に予めゼオラ
イト結晶を付着させてあるので反応液の過飽和度を小さ
くし、結晶核生成を抑制しつつ成膜を行うことができ、
ゼオライト粉末の副生量を大幅に減少させることができ
る。それと同時に、1回の反応によっても緻密な結晶膜
を得ることができ、製造工程の簡素化と効率化が可能と
なる。また、反応液の過飽和度を小さくできるので、基
板に付着させたゼオライト結晶を核として結晶成長が促
進される結果、本発明によって製造された結晶膜は従来
法によるものと比べて結晶粒界の少ないより緻密な結晶
膜となる。本発明の工程を図3に示した。
【0008】
【実施例】以下に本発明を図1のフローシートを参照し
つつ実施例とともに更に詳細に説明する。まず結合剤の
溶液、望ましくは水ガラスやシリカゾルの水溶液にゼオ
ライト結晶を混合してスラリーを作成する。実施例の場
合には、50%の水ガラス水溶液中に粒径が1〜2μm の
ゼオライト結晶を重量比で2.5 %混合し、懸濁させる。
ここで結合剤として水ガラスまたはシリカゾルを使用す
るのは、結合剤から溶出するSiO2分がアルミナ基板に付
着させたゼオライト結晶の結晶成長を促進するためであ
る。
【0009】次にこのスラリーを好ましくはAl2O3 90重
量%以上で細孔を有するアルミナ基板に含浸させ、必要
に応じて基板を洗浄・乾燥することによってアルミナ基
板の細孔内及び表面にゼオライト結晶を付着させる。こ
こでアルミナ基板を使用したのは、アルミナとゼオライ
ト結晶体との原子間距離が類似しているために強固で剥
離しにくいゼオライト結晶膜が得られるためである。ま
た、CaO 等の不純物が10%以上となると、基板を構成す
る原子とゼオライト結晶体を構成する原子との原子間距
離が異なり、両者間の結合強度が低下するため、Al2O3
90重量%以上のアルミナ基板を使用することが好まし
い。
【0010】本発明においては、アルミナ基板の細孔の
内部に1個のゼオライト結晶を付着させることが理想的
である。このためには、基板の細孔径は付着させるゼオ
ライト結晶の0.5 〜2倍程度であることが望ましく、ゼ
オライト結晶径が一般的なゼオライト合成法による結晶
径である0.1 〜5μm である場合、基板の細孔径は0.1
〜3μm が好ましいこととなる。
【0011】実施例では、平均細孔径が1〜2μm の9
9.9%アルミナからなるフィルターを基板として使用
し、このアルミナ基板を前記したスラリー中に1分間浸
漬した後に引上げ、水流によって表面に付着しているゼ
オライト結晶を洗い流し、例えば110 ℃で4時間乾燥さ
せる。このようにして得られた前処理基板の細孔内及び
表面には、図3の上段に模式的に示すようにゼオライト
結晶が結合剤を介して付着することとなる。
【0012】次に、この前処理されたアルミナ基板をゼ
オライト前駆体を含む反応液中に浸漬して水熱合成を行
う。ここでゼオライト前駆体とは、SiO4四面体、AlO4
面体及びそれらが環状等に連結したものをいう。またこ
の反応液としては、例えば珪酸ナトリウムまたは水ガラ
ス、硫酸アルミニウムまたは水酸化アルミニウム、水酸
化ナトリウム、NaCl、水およびテンプレートの混合液を
使用することができる。そして、A型ゼオライト膜を形
成する際は70〜90℃で15分〜12時間程度、ZSM−5ゼ
オライト膜を形成する際は160 〜200 ℃で24〜72時間程
度、オートクレーブ中で保持する。その結果、アルミナ
基板の細孔内及び表面に付着しているゼオライト結晶を
核としてゼオライト結晶が成長し、1回の水熱合成反応
によっても強固で緻密なゼオライト結晶膜を得ることが
できる。
【0013】図1に示すように、その後基板は洗浄・乾
燥されてゼオライト結晶膜が表面及び細孔内に生成され
た基板を得ることができる。一方、反応液は固液分離さ
れ、液体部分は洗浄水とともに酸により中和されて廃棄
される。また固形分であるゼオライト粉末は洗浄・乾燥
されたうえで最初の工程に返送され、基板の前処理用の
スラリーの原料となる。前記したように、本発明におい
ては予め基板に付着させたゼオライト結晶を核としてゼ
オライト結晶を成長させるので、反応液の過飽和度を小
さくすることができ、結晶核生成を抑制しつつ成膜を行
わせることが可能である。このためにゼオライト粉末の
副生量を先願発明の1/10程度に減少させることができ
る。
【0014】以上に説明した図1のフローの実施例で
は、水熱合成により生じたゼオライト粉末と反応液とを
固液分離してゼオライト粉末のみを最初の工程に返送し
ていたが、図2に示す第2の実施例では、水熱合成によ
り生じたゼオライト粉末と反応液とをそのまま最初の工
程に返送し、ここに結合剤を添加することにより前処理
用のスラリーを作成する。このために製造工程をより簡
素化することができるが、その他の点については図1の
実施例と同様である。
【0015】
【発明の効果】以上に説明したように、本発明のゼオラ
イト結晶膜の製造方法によれば、予めアルミナ基板に付
着させたゼオライト結晶を核としてゼオライト結晶を成
長させるので、アルミナ基板の細孔内及び表面に1回の
水熱合成反応によっても緻密なゼオライト結晶膜を生成
することができ、製造工程の簡素化を図ることができ
る。しかも本発明の方法によれば、ゼオライト粉末の副
生量を大幅に減少させることができる利点がある。この
ためにアルミナ基板の細孔が結晶粒界の少ない緻密なゼ
オライト結晶体により覆われた強度の大きい製品を製造
することができ、モレキュラーシーブ等として使用する
に適したゼオライト結晶膜が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例を示すフローシートであ
る。
【図2】本発明の第2の実施例を示すフローシートであ
る。
【図3】本発明のゼオライト結晶膜の製造工程を説明す
る模式図である。
【図4】先願のゼオライト結晶膜の製造工程を説明する
模式図である。
フロントページの続き (72)発明者 橋本 健治 京都府綴喜郡田辺町大字田辺小字蕪木22番 地の17 (72)発明者 増田 隆夫 京都府京都市北区大宮開町6番2号 コー トハウス205号室 (72)発明者 池田 裕一 愛知県名古屋市瑞穂区須田町2番56号 日 本碍子株式会社内

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 結合剤の溶液にゼオライト結晶を懸濁さ
    せたスラリーを、アルミナ基板に含浸させた後、必要に
    応じて基板を洗浄・乾燥することによってアルミナ基板
    の細孔内及び表面にゼオライト結晶を付着させ、このア
    ルミナ基板をゼオライト前駆体を含む反応液中に浸漬し
    て水熱合成を行うことにより、上記ゼオライト結晶を成
    長させて結晶膜を得ることを特徴とするゼオライト結晶
    膜の製造方法。
  2. 【請求項2】結合剤として水ガラスまたはシリカゾルを
    使用する請求項1記載のゼオライト結晶膜の製造方法。
JP25425693A 1993-10-12 1993-10-12 ゼオライト結晶膜の製造方法 Expired - Fee Related JP3272119B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25425693A JP3272119B2 (ja) 1993-10-12 1993-10-12 ゼオライト結晶膜の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25425693A JP3272119B2 (ja) 1993-10-12 1993-10-12 ゼオライト結晶膜の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH07109116A true JPH07109116A (ja) 1995-04-25
JP3272119B2 JP3272119B2 (ja) 2002-04-08

Family

ID=17262456

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP25425693A Expired - Fee Related JP3272119B2 (ja) 1993-10-12 1993-10-12 ゼオライト結晶膜の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3272119B2 (ja)

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1997033684A1 (en) * 1996-03-14 1997-09-18 Exxon Chemical Patents Inc. Procedure for preparing molecular sieve films
JPH10212117A (ja) * 1997-01-30 1998-08-11 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd NaX型ゼオライト膜の製膜法
EP1002764A1 (en) * 1998-11-18 2000-05-24 Haldor Topsoe A/S Method for preparation of small zeotype crytals
JP2005262189A (ja) * 2004-03-17 2005-09-29 Bussan Nanotech Research Institute Inc 分離膜および分離膜の作製方法
US7018707B2 (en) 2000-03-03 2006-03-28 Noritake Co., Limited Porous ceramic laminate and production thereof
JP2007182345A (ja) * 2006-01-06 2007-07-19 National Institute Of Advanced Industrial & Technology ゼオライト分離膜
WO2007097417A1 (ja) * 2006-02-24 2007-08-30 Mitsubishi Chemical Corporation ゼオライト分離膜の製造方法
JP2008074695A (ja) * 2006-08-22 2008-04-03 Ngk Insulators Ltd ゼオライト膜製造用の種結晶含有層付き多孔質基材、ゼオライト膜及びゼオライト膜の製造方法
JP2010131600A (ja) * 2010-03-05 2010-06-17 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd Zsm−5型ゼオライト膜の製造方法
US7951738B2 (en) 2005-09-28 2011-05-31 Mitsubishi Chemical Corporation Process for producing zeolite separation membrane
US8105548B2 (en) 2005-06-10 2012-01-31 Mitsubishi Chemical Corporation Manufacturing device for zeolite membrane
US8258069B2 (en) 2005-09-01 2012-09-04 Mitsubishi Chemical Corporation Zeolitic separation membrane and process for producing the same
JP2023504063A (ja) * 2019-11-29 2023-02-01 寧波大学 分子ふるい膜の継代合成方法

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100749611B1 (ko) 2003-08-06 2007-08-14 가부시키가이샤 붓산 나노테크 겐큐쇼 제올라이트 막의 제조 방법 및 제조 장치, 및 이 방법에의해 얻어진 제올라이트 관상 분리막

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000507909A (ja) * 1996-03-14 2000-06-27 エクソン ケミカル パテンツ インコーポレイテッド モレキュラーシーブフィルムの調製方法
US6177373B1 (en) 1996-03-14 2001-01-23 Exxon Chemicals Patents Inc Procedure for preparing molecular sieve films
WO1997033684A1 (en) * 1996-03-14 1997-09-18 Exxon Chemical Patents Inc. Procedure for preparing molecular sieve films
JPH10212117A (ja) * 1997-01-30 1998-08-11 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd NaX型ゼオライト膜の製膜法
EP1002764A1 (en) * 1998-11-18 2000-05-24 Haldor Topsoe A/S Method for preparation of small zeotype crytals
US7018707B2 (en) 2000-03-03 2006-03-28 Noritake Co., Limited Porous ceramic laminate and production thereof
JP4506251B2 (ja) * 2004-03-17 2010-07-21 三菱化学株式会社 分離膜および分離膜の作製方法
JP2005262189A (ja) * 2004-03-17 2005-09-29 Bussan Nanotech Research Institute Inc 分離膜および分離膜の作製方法
US8105548B2 (en) 2005-06-10 2012-01-31 Mitsubishi Chemical Corporation Manufacturing device for zeolite membrane
US8258069B2 (en) 2005-09-01 2012-09-04 Mitsubishi Chemical Corporation Zeolitic separation membrane and process for producing the same
US7951738B2 (en) 2005-09-28 2011-05-31 Mitsubishi Chemical Corporation Process for producing zeolite separation membrane
JP2007182345A (ja) * 2006-01-06 2007-07-19 National Institute Of Advanced Industrial & Technology ゼオライト分離膜
WO2007097417A1 (ja) * 2006-02-24 2007-08-30 Mitsubishi Chemical Corporation ゼオライト分離膜の製造方法
US8263179B2 (en) 2006-02-24 2012-09-11 Mitsubishi Chemical Corporation Process for producing zeolite separation membrane
JP2008074695A (ja) * 2006-08-22 2008-04-03 Ngk Insulators Ltd ゼオライト膜製造用の種結晶含有層付き多孔質基材、ゼオライト膜及びゼオライト膜の製造方法
JP2010131600A (ja) * 2010-03-05 2010-06-17 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd Zsm−5型ゼオライト膜の製造方法
JP2023504063A (ja) * 2019-11-29 2023-02-01 寧波大学 分子ふるい膜の継代合成方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP3272119B2 (ja) 2002-04-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH07109116A (ja) ゼオライト結晶膜の製造方法
JP4923487B2 (ja) ゼオライト分離膜及びその製造方法
US8052775B2 (en) Process for the preparation of a two-layer metal palladium or palladium alloy composite membrane
JP5221303B2 (ja) 多様な厚さを有するすべてのb軸が基質に対して垂直配向されたMFI型ゼオライト薄膜の製造方法
WO2016006564A1 (ja) ゼオライト膜、その製造方法およびこれを用いた分離方法
US6692640B2 (en) Mordenite zeolite membrane and method for producing the same
JPH05105420A (ja) ゼオライト結晶体の合成膜およびその製造方法
CN109665545B (zh) 一种可控形貌ssz-13分子筛的合成方法
JP2012016688A (ja) 熱亀裂が防止されたゼオライト分離膜及びその製造方法
CN109970075B (zh) 一种低温合成a型分子筛膜的方法
JP2002201020A (ja) ゼオライト種結晶及び該種結晶を用いたゼオライト膜製造方法
CN102674387A (zh) 一种多级纳米晶堆积结构mfi型分子筛的合成方法
JP2501825B2 (ja) 膜状合成ゼオライトの製造方法
JP2004082008A (ja) 種結晶の担持方法によって分離係数が決定されるゼオライト膜の製造方法
CN101318108A (zh) X型分子筛膜在不锈钢金属网上的二次生长制备方法
CN104150503B (zh) 一种sapo-18分子筛膜的制备方法
CN115028176B (zh) 超高正弦孔道暴露比zsm-5分子筛及其制备方法
JP4506251B2 (ja) 分離膜および分離膜の作製方法
KR20160144949A (ko) 제올라이트 분리막 제조 방법
JP2007185639A (ja) ゼオライト分離膜の製造方法
JP2000026115A (ja) Mfi型ゼオライト膜の製造方法
CN111186846B (zh) 一种ith结构硅铝分子筛及其制备方法
CN114028955A (zh) 一种用于制备分子筛膜的支撑体的修复方法
JPH0632610A (ja) A型またはフォージャサイト型ゼオライト膜の製造方法
CN107758689B (zh) ZSM-5/Silicalite-1核壳型沸石分子筛的合成方法

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20020108

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090125

Year of fee payment: 7

R371 Transfer withdrawn

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090125

Year of fee payment: 7

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313115

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090125

Year of fee payment: 7

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090125

Year of fee payment: 7

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090125

Year of fee payment: 7

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090125

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100125

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110125

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110125

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120125

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120125

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130125

Year of fee payment: 11

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees