JP3272119B2 - ゼオライト結晶膜の製造方法 - Google Patents
ゼオライト結晶膜の製造方法Info
- Publication number
- JP3272119B2 JP3272119B2 JP25425693A JP25425693A JP3272119B2 JP 3272119 B2 JP3272119 B2 JP 3272119B2 JP 25425693 A JP25425693 A JP 25425693A JP 25425693 A JP25425693 A JP 25425693A JP 3272119 B2 JP3272119 B2 JP 3272119B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- zeolite
- crystal
- zeolite crystal
- substrate
- alumina substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Description
として使用されるゼオライト結晶膜を、アルミナ基板の
細孔内及び表面に効率よく形成することができるゼオラ
イト結晶膜の製造方法に関するものである。
米国特許第5100596 号に示されるように、ゼオライト前
駆体を含む反応液中に非多孔質体を入れてゼオライト結
晶を析出させ、得られたゼオライト結晶膜を非多孔質体
から剥離する方法が知られている。しかしこの方法によ
り得られたゼオライト結晶膜は機械的強度が非常に低
く、薄膜化に限界があるためにモレキュラーシーブ等と
して使用するうえで満足できない点がある。
板の細孔内及び表面にゼオライト結晶膜を生成させる方
法を開発し、既に特願平4-59179 号として特許出願済み
である。この方法はアルミナ基板をゼオライト前駆体を
含む反応液中に浸漬して水熱合成を繰り返す方法であ
り、アルミナ基板が担体となるので機械的強度の優れた
ゼオライト結晶膜を得ることができる。
基板上に付着して結晶成長していく結晶核は少量である
ため、成膜するためには反応液をある過飽和度以上とす
ることによって結晶核生成を促すとともに、水熱合成反
応を繰り返す必要がある。その結果、図４に示すように
反応液中に大量のゼオライト粉末が副生されてしまい、
ゼオライト前駆体のうち結晶膜となる比率は極めて低い
うえ、製造工程が煩雑化するという問題があった。ま
た、過飽和度を大きくして結晶核生成を過度に促すと結
晶成長が抑制される結果、結晶粒界が多くなるために緻
密な結晶膜とはなりにくいという問題があった。
の問題点を解決して、アルミナ基板の細孔内及び表面
に、１回の水熱合成反応によっても緻密なゼオライト結
晶膜を生成することができ、しかもゼオライト粉末の副
生量を大幅に減少させることができるゼオライト結晶膜
の製造方法を提供するためになされたものである。
めになされた本発明のゼオライト結晶膜の製造方法は、
結合剤としての水ガラスまたはシリカゾルの溶液にゼオ
ライト結晶を懸濁させたスラリーを、アルミナ基板に含
浸させた後、該基板を洗浄・乾燥することによってアル
ミナ基板の細孔内及び表面にゼオライト結晶を付着さ
せ、このアルミナ基板をゼオライト前駆体を含む反応液
中に浸漬して水熱合成を行うことにより、上記ゼオライ
ト結晶を成長させて結晶膜を得ることを特徴とするもの
である。
はシリカゾルの水溶液にゼオライト結晶を懸濁させたス
ラリーをアルミナ基板に含浸させた後、アルミナ基板を
洗浄・乾燥することによって基板の細孔内及び表面に予
めゼオライト結晶を付着させ、その後この基板をゼオラ
イト前駆体を含む反応液中に浸漬して水熱合成を行うの
で、付着させたゼオライト結晶を核としてゼオライト結
晶を成長させることができる。このように本発明によれ
ば、基板に予めゼオライト結晶を付着させてあるので反
応液の過飽和度を小さくし、結晶核生成を抑制しつつ成
膜を行うことができ、ゼオライト粉末の副生量を大幅に
減少させることができる。それと同時に、１回の反応に
よっても緻密な結晶膜を得ることができ、製造工程の簡
素化と効率化が可能となる。また、反応液の過飽和度を
小さくできるので、基板に付着させたゼオライト結晶を
核として結晶成長が促進される結果、本発明によって製
造された結晶膜は従来法によるものと比べて結晶粒界の
少ないより緻密な結晶膜となる。本発明の工程を図３に
示した。
つつ実施例とともに更に詳細に説明する。まず結合剤と
して水ガラスやシリカゾルの水溶液にゼオライト結晶を
混合してスラリーを作成する。実施例の場合には、50％
の水ガラス水溶液中に粒径が１〜２μm のゼオライト結
晶を重量比で2.5 ％混合し、懸濁させる。ここで結合剤
として水ガラスまたはシリカゾルを使用するのは、結合
剤から溶出するSiO２分がアルミナ基板に付着させたゼ
オライト結晶の結晶成長を促進するためである。
0重量％以上で細孔を有するアルミナ基板に含浸させ、
基板を洗浄・乾燥することによってアルミナ基板の細孔
内及び表面にゼオライト結晶を付着させる。ここでアル
ミナ基板を使用したのは、アルミナとゼオライト結晶体
との原子間距離が類似しているために強固で剥離しにく
いゼオライト結晶膜が得られるためである。また、CaO
等の不純物が10％以上となると、基板を構成する原子と
ゼオライト結晶体を構成する原子との原子間距離が異な
り、両者間の結合強度が低下するため、Al２O３ 90重
量％以上のアルミナ基板を使用することが好ましい。
内部に１個のゼオライト結晶を付着させることが理想的
である。このためには、基板の細孔径は付着させるゼオ
ライト結晶の0.5 〜２倍程度であることが望ましく、ゼ
オライト結晶径が一般的なゼオライト合成法による結晶
径である0.1 〜５μm である場合、基板の細孔径は0.1
〜３μm が好ましいこととなる。
9.9％アルミナからなるフィルターを基板として使用
し、このアルミナ基板を前記したスラリー中に１分間浸
漬した後に引上げ、水流によって表面に付着しているゼ
オライト結晶を洗い流し、例えば110 ℃で４時間乾燥さ
せる。このようにして得られた前処理基板の細孔内及び
表面には、図３の上段に模式的に示すようにゼオライト
結晶が結合剤を介して付着することとなる。
オライト前駆体を含む反応液中に浸漬して水熱合成を行
う。ここでゼオライト前駆体とは、SiO4四面体、AlO4四
面体及びそれらが環状等に連結したものをいう。またこ
の反応液としては、例えば珪酸ナトリウムまたは水ガラ
ス、硫酸アルミニウムまたは水酸化アルミニウム、水酸
化ナトリウム、NaCl、水およびテンプレートの混合液を
使用することができる。そして、Ａ型ゼオライト膜を形
成する際は70〜90℃で15分〜12時間程度、ＺＳＭ−５ゼ
オライト膜を形成する際は160 〜200 ℃で24〜72時間程
度、オートクレーブ中で保持する。その結果、アルミナ
基板の細孔内及び表面に付着しているゼオライト結晶を
核としてゼオライト結晶が成長し、１回の水熱合成反応
によっても強固で緻密なゼオライト結晶膜を得ることが
できる。
燥されてゼオライト結晶膜が表面及び細孔内に生成され
た基板を得ることができる。一方、反応液は固液分離さ
れ、液体部分は洗浄水とともに酸により中和されて廃棄
される。また固形分であるゼオライト粉末は洗浄・乾燥
されたうえで最初の工程に返送され、基板の前処理用の
スラリーの原料となる。前記したように、本発明におい
ては予め基板に付着させたゼオライト結晶を核としてゼ
オライト結晶を成長させるので、反応液の過飽和度を小
さくすることができ、結晶核生成を抑制しつつ成膜を行
わせることが可能である。このためにゼオライト粉末の
副生量を先願発明の1/10程度に減少させることができ
る。
は、水熱合成により生じたゼオライト粉末と反応液とを
固液分離してゼオライト粉末のみを最初の工程に返送し
ていたが、図２に示す第２の実施例では、水熱合成によ
り生じたゼオライト粉末と反応液とをそのまま最初の工
程に返送し、ここに結合剤を添加することにより前処理
用のスラリーを作成する。このために製造工程をより簡
素化することができるが、その他の点については図１の
実施例と同様である。
イト結晶膜の製造方法によれば、予めアルミナ基板に付
着させたゼオライト結晶を核としてゼオライト結晶を成
長させるので、アルミナ基板の細孔内及び表面に１回の
水熱合成反応によっても緻密なゼオライト結晶膜を生成
することができ、製造工程の簡素化を図ることができ
る。しかも本発明の方法によれば、ゼオライト粉末の副
生量を大幅に減少させることができる利点がある。この
ためにアルミナ基板の細孔が結晶粒界の少ない緻密なゼ
オライト結晶体により覆われた強度の大きい製品を製造
することができ、モレキュラーシーブ等として使用する
に適したゼオライト結晶膜が得られる。
る。
る。
る模式図である。
模式図である。
Claims (1)
- 【請求項１】 結合剤としての水ガラスまたはシリカゾ
ルの溶液にゼオライト結晶を懸濁させたスラリーを、ア
ルミナ基板に含浸させた後、該基板を洗浄・乾燥するこ
とによってアルミナ基板の細孔内及び表面にゼオライト
結晶を付着させ、このアルミナ基板をゼオライト前駆体
を含む反応液中に浸漬して水熱合成を行うことにより、
上記ゼオライト結晶を成長させて結晶膜を得ることを特
徴とするゼオライト結晶膜の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25425693A JP3272119B2 (ja) | 1993-10-12 | 1993-10-12 | ゼオライト結晶膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25425693A JP3272119B2 (ja) | 1993-10-12 | 1993-10-12 | ゼオライト結晶膜の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07109116A JPH07109116A (ja) | 1995-04-25 |
| JP3272119B2 true JP3272119B2 (ja) | 2002-04-08 |
Family
ID=17262456
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25425693A Expired - Fee Related JP3272119B2 (ja) | 1993-10-12 | 1993-10-12 | ゼオライト結晶膜の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3272119B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7798334B2 (en) | 2003-08-06 | 2010-09-21 | Mitsubishi Chemical Corporation | Method and apparatus for manufacturing zeolite membrane, and zeolite tubular separation membrane provided by the method |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SE9600970D0 (sv) * | 1996-03-14 | 1996-03-14 | Johan Sterte | Förfarande för framställning av mycket tunna filmer av molekylsiktar |
| JP3754520B2 (ja) * | 1997-01-30 | 2006-03-15 | 三井造船株式会社 | ＮａＸ型ゼオライト膜の製膜法 |
| DK173486B1 (da) * | 1998-11-18 | 2000-12-18 | Topsoe Haldor As | Fremgangsmåde til fremstilling af små, zeotype krystaller |
| JP3971546B2 (ja) | 2000-03-03 | 2007-09-05 | 株式会社ノリタケカンパニーリミテド | 多孔質セラミック積層体及びその製造方法 |
| JP4506251B2 (ja) * | 2004-03-17 | 2010-07-21 | 三菱化学株式会社 | 分離膜および分離膜の作製方法 |
| EP1900687B1 (en) | 2005-06-10 | 2010-04-21 | Mitsubishi Chemical Corporation | Manufacturing device for zeolite membrane |
| JP4923487B2 (ja) | 2005-09-01 | 2012-04-25 | 三菱化学株式会社 | ゼオライト分離膜及びその製造方法 |
| JP5135671B2 (ja) | 2005-09-28 | 2013-02-06 | 三菱化学株式会社 | ゼオライト分離膜の製造方法 |
| JP2007182345A (ja) * | 2006-01-06 | 2007-07-19 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | ゼオライト分離膜 |
| JP4984566B2 (ja) | 2006-02-24 | 2012-07-25 | 三菱化学株式会社 | ゼオライト分離膜の製造方法 |
| JP5324067B2 (ja) * | 2006-08-22 | 2013-10-23 | 日本碍子株式会社 | ゼオライト膜の製造方法 |
| JP5087644B2 (ja) * | 2010-03-05 | 2012-12-05 | 三井造船株式会社 | Ｚｓｍ−５型ゼオライト膜の製造方法 |
-
1993
- 1993-10-12 JP JP25425693A patent/JP3272119B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7798334B2 (en) | 2003-08-06 | 2010-09-21 | Mitsubishi Chemical Corporation | Method and apparatus for manufacturing zeolite membrane, and zeolite tubular separation membrane provided by the method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07109116A (ja) | 1995-04-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3272119B2 (ja) | ゼオライト結晶膜の製造方法 | |
| JP6373381B2 (ja) | ゼオライト膜、その製造方法およびこれを用いた分離方法 | |
| JP4923487B2 (ja) | ゼオライト分離膜及びその製造方法 | |
| US6692640B2 (en) | Mordenite zeolite membrane and method for producing the same | |
| JPH05105420A (ja) | ゼオライト結晶体の合成膜およびその製造方法 | |
| KR101248880B1 (ko) | 열균열이 방지된 제올라이트 분리막 및 그 제조 방법 | |
| WO2017107478A1 (zh) | 分子筛膜支撑体的制备方法 | |
| JP4984566B2 (ja) | ゼオライト分離膜の製造方法 | |
| JP2002201020A (ja) | ゼオライト種結晶及び該種結晶を用いたゼオライト膜製造方法 | |
| JP2004082008A (ja) | 種結晶の担持方法によって分離係数が決定されるゼオライト膜の製造方法 | |
| KR101693599B1 (ko) | 제올라이트 분리막 제조 방법 | |
| CN115028176B (zh) | 超高正弦孔道暴露比zsm-5分子筛及其制备方法 | |
| CN104150503B (zh) | 一种sapo-18分子筛膜的制备方法 | |
| JP4506251B2 (ja) | 分離膜および分離膜の作製方法 | |
| CN111087032A (zh) | 一种氧化硅和氧化镁复合材料及其合成方法 | |
| CN114560474A (zh) | 一种金属改性m-mfi分子筛膜的合成方法 | |
| CN109052427B (zh) | 一种体相介孔分布均匀的高介孔度h-zsm-5分子筛及制法和应用 | |
| WO2007081024A1 (ja) | ゼオライト分離膜の製造方法 | |
| KR20110058335A (ko) | ＮａＡ 제올라이트 분리막 및 그 제조 방법 | |
| JP2011115691A (ja) | ゼオライト分離膜の製造方法 | |
| CN107758689B (zh) | ZSM-5/Silicalite-1核壳型沸石分子筛的合成方法 | |
| JPH10244161A (ja) | ゼオライト膜、その製造方法およびゼオライト膜を利用したオレフィンの製造方法 | |
| JP2004250290A (ja) | ゼオライト配向膜の製造方法およびゼオライト配向膜、並びにその利用 | |
| CN109529629B (zh) | 一种脱醇用silicalite-1沸石膜的制备方法 | |
| CN109663503B (zh) | 一种在氧化铝载体上合成silicalite-1沸石膜的方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20020108 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090125 Year of fee payment: 7 |
|
| R371 | Transfer withdrawn |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090125 Year of fee payment: 7 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313115 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090125 Year of fee payment: 7 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090125 Year of fee payment: 7 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090125 Year of fee payment: 7 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090125 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100125 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110125 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110125 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120125 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120125 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130125 Year of fee payment: 11 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |