JPH07106770A - 多層プリント配線板 - Google Patents

多層プリント配線板

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JPH07106770A
JPH07106770A JP5268178A JP26817893A JPH07106770A JP H07106770 A JPH07106770 A JP H07106770A JP 5268178 A JP5268178 A JP 5268178A JP 26817893 A JP26817893 A JP 26817893A JP H07106770 A JPH07106770 A JP H07106770A
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JP
Japan
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wiring board
printed wiring
thermal expansion
multilayer printed
coefficient
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Application number
JP5268178A
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English (en)
Inventor
Hideo Yoshida
英生 吉田
Toru Furuta
徹 古田
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Ibiden Co Ltd
Original Assignee
Ibiden Co Ltd
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Publication date
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  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 小型薄型化電子部品との接続信頼性に優れ,
絶縁密度が高く,高密度実装が可能な多層プリント配線
板を提供すること。 【構成】 繊維,粒子等の副材料と合成樹脂との混合体
よりなる絶縁基板21〜23と,該絶縁基板の表面に設
けたパターン110,120,121,130とにより
構成したプリント基板31〜33を用い,該プリント基
板を複数枚積層した多層プリント配線板3である。多層
プリント配線板3における少なくとも最外層のパターン
110,130は,上記絶縁基板よりも低い熱膨張率を
有する金属よりなる。最外層のパターン110,130
の面積は,上記プリント基板31,33の片面の全面積
に対して40%以上を占有していることが好ましい。上
記低い熱膨張率を有する金属としては,42アロイ,コ
バール等がある。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は,小型薄型化された半導
体集積回路パッケージを搭載するための,多層プリント
配線板に関する。
【0002】
【従来技術】プリント基板材料は,ガラスエポキシ等の
有機材料とアルミナ等の無機材料とに大別される。無機
材料を使用したセラミック基板は高耐熱性,高放熱性,
かつ低熱膨張性を生かして特徴のある分野を築いてい
る。しかし,セラミック基板は,加工工程が複雑であ
り,量産性に劣る。これに対し,有機絶縁基板は軽量
で,加工し易い等の点から量産性に富み,更にパターン
の微細加工や多層化が容易なため,民生機器用のみなら
ず,産業機器用にも広く使用されている。ところで,電
子機器の高密度実装化が進み,高速化が要求される昨今
においては,小型薄型化された半導体集積回路パッケー
ジ(Thin Small Outline Pack
age 以下,「TSOP」という)が多用されるよう
になってきた。
【0003】このTSOPは,高密度化及び高精密化の
ため熱膨張率が従来より遙に小さくなり,プリント基板
との熱膨張率に差が生じるようになった。そのため,図
10に示すごとく,プリント基板91の表面に形成され
たパッド910の上に,半田93によりTSOP92の
接続部94を接合した場合,次の損傷を生ずるおそれが
ある。即ち,まず,接続部94と接触する部分の半田9
3に破損95が生ずることがある。また,TSOP92
自体に,接続部94の近くにおいて,亀裂96が入る等
の不都合が発生する。それ故,プリント基板の低熱膨張
化が望まれている。
【0004】その要望に応えるために,熱膨張率の小さ
い金属を導通用のパターンに用いたプリント基板材料の
開発が近年成されつつある。例えば,上記プリント基板
材料としては,絶縁基板の表面に銅箔を積層した銅張り
積層板がある。上記絶縁基板はガラスクロスに樹脂を含
浸させたものである。この絶縁基板の熱膨張率は約1
4.0ppmであり,これに銅箔を積層した上記銅張り
積層板の熱膨張率は11〜12ppmが,低熱膨張率化
の限界である。また,他方では,低熱膨張材の開発がガ
ラス─エポキシ樹脂材料を主体として行われてきた。そ
の中では,この基板中の樹脂含有量を極限まで減らすこ
とにより,9〜12ppmの低熱膨張率が得られてい
る。
【0005】
【解決しようとする課題】しかしながら,その反面,こ
の基板は樹脂が少ないため,パターンとの密着性が乏し
い。また,スルーホールメッキ等の各種メッキ液が基板
内に浸み込み,パターンを形成する段階でショートする
おそれがある。また,長期に渡って使用していると,マ
イグレーションを生じ,ショート或いは絶縁性の劣化と
いった欠点を有している。
【0006】更に,プリント基板材料として,銅─イン
バ─銅等の合金層を中心としてその上下にガラス繊維入
りの樹脂層を形成した多層基板がある。しかし,この多
層基板に導通性のスルーホールを設けた場合,合金層に
予めスルーホール径より大きい穴を明け,絶縁性の樹脂
を充填し,スルーホールと合金層とを絶縁しておく必要
があり,複雑な工程を必要とする。
【0007】また大きい穴を形成するため,高密度実装
化を図ることが困難であった。また,スルーホールと合
金との絶縁信頼性に欠け,更には基板の品質安定供給が
困難といった問題があった。本発明はかかる従来の問題
点に鑑み,絶縁密度が高く,小型薄型化電子部品との接
続信頼性に優れ,高密度実装が可能な,多層プリント配
線板を提供しようとするものである。
【0008】
【課題の解決手段】本発明は,繊維,粒子等の副材料と
合成樹脂との混合体よりなる絶縁基板と,該絶縁基板の
表面に設けたパターンとにより構成したプリント基板を
用い,該プリント基板を複数枚積層した多層プリント配
線板において,該多層プリント配線板における少なくと
も最外層のパターンは,上記絶縁基板よりも低い熱膨張
率を有する金属よりなることを特徴とする多層プリント
配線板にある。
【0009】本発明において,上記多層プリント配線板
における少なくとも最外層のパターンは,絶縁基板より
も低い熱膨張率を有する金属よりなる。該金属として
は,42アロイ,コバール,銅─インバ─銅合金,及び
ステンレススチールのグループから選ばれた合金等があ
る。上記最外層のパターンは,低熱膨張の部品等が実装
され,直接接着する箇所である。
【0010】上記最外層のパターンの面積は,プリント
基板の片面の全面積に対して40%以上を占有している
ことが好ましい。40%未満の場合には,多層プリント
配線板の表面に低熱膨張性のTSOPを実装した場合,
TSOPと多層プリント配線板との接続信頼性に欠ける
おそれがある。また,多層プリント配線板の最外層にお
いて,低熱膨張性を有するTSOPを実装する部分だけ
に,絶縁基板よりも低い熱膨張率を有する金属からなる
パターンを形成してもよい。また,上記多層プリント配
線板の最外層以外,例えば多層プリント配線板の内部に
も,絶縁基板よりも低い熱膨張率を有する金属からなる
パターンを設けることができる。
【0011】上記絶縁基板は,副材料と合成樹脂との混
合体よりなる。副材料としては,ガラス繊維,アラミド
等の繊維,又はセラミック(アルミナ)等の粒子等があ
る。合成樹脂としては,エポキシ樹脂,ポリイミド樹
脂,フェノール樹脂等がある。上記絶縁基板としては,
例えば繊維に樹脂を含浸させたプリプレグ,ガラスエポ
キシ樹脂基板の表面に上記プリプレグを積層プレスした
ものなどがある。
【0012】
【作用及び効果】本発明の多層プリント配線板において
は,少なくとも多層プリント配線板の最外層のパターン
が,絶縁基板よりも低い熱膨張率を有する金属よりな
る。そのため,多層プリント配線板の表面を低熱膨性と
することができる。それ故,上記多層プリント配線板の
表面に,低熱膨張率を有するTSOPを搭載する場合に
も,上記多層プリント配線板とTSOPとの接続部でク
ラックが発生することがなく,接続信頼性を確保するこ
とができる。
【0013】また,上記多層プリント配線板の少なくと
も最外層には,低い熱膨張率を有する金属からなるパタ
ーンが形成されている。そのため,この金属は,該パタ
ーンから離れた位置にある絶縁基板の熱膨張を抑制する
ことは困難であるが,TSOPが直接実装される最外層
のパターン付近の熱膨張を抑制することができる。その
ため,本発明によれば,最も効率的に低熱膨張化を図る
ことができる。
【0014】また,上記多層プリント配線板を構成して
いる絶縁基板は,繊維,粒子等の副材料と合成樹脂との
混合体よりなり,絶縁密度が高い。そのため,この多層
プリント配線板にスルーホールを設けた場合,該スルー
ホール内の導電膜と絶縁基板との間に改めて絶縁材料を
充填する必要がなく,スルーホールの口径を最小限にす
ることができる。従って,高密度実装化を図ることがで
きる。本発明によれば,絶縁密度が高く,小型薄型化電
子部品との接続信頼性に優れ,高密度実装が可能な,多
層プリント配線板を提供することができる。
【0015】
【実施例】実施例1 本発明にかかる多層プリント配線板について,図1〜図
9を用いて説明する。本例の多層プリント配線板3は,
図1に示すごとく,プリント基板31,32,33を積
層したものである。上記プリント基板31〜33は,繊
維,粒子等の副材料と合成樹脂との混合体よりなる絶縁
基板21,22,23とを有している。
【0016】また,多層プリント配線板3の最外層には
外層パターン110,130が,多層プリント配線板3
の内部には内層パターン120,121が形成されてい
る。外層パターン130の上には,半田6により,TS
OP5の接続部54が接合されている。
【0017】外層パターン110,130,内層パター
ン120,121は,上記絶縁基板よりも低い熱膨張率
を有する42アロイよりなり,これらのパターンの面積
は,図2に示すごとく,各プリント基板31〜33の片
面の全面積に対して40%以上を占有している。即ち,
上記絶縁基板21,23の熱膨張率は14ppmであ
り,絶縁基板22の熱膨張率は14ppmである。外層
パターン110,130,及び内層パターン120,1
21の熱膨張率は,16ppmである。また,上記多層
プリント配線板2には,導電膜10により被覆されたス
ルーホール25が設けられている。
【0018】次に,上記多層プリント配線板の製造方法
について,図3〜図9を用いて説明する。まず,図3に
示すごとく,厚さ0.035mm,熱膨張率5ppmの
42アロイ板を圧延成形した。次いで,この42アロイ
板1の裏表両面を,塩化第二鉄(FeCl2 )によって
ソフトエッチングし,選択的に鉄のみエッチングした。
これにより,ニッケルのアンカー11を平均高さ10μ
m以上に形成した。上記アンカー11を設けることによ
り,42アロイ板1とプリプレグ41との接着性を向上
させることができる。
【0019】次に,板厚0.1mmのガラスエポキシ基
板4を中心にして,その上下に,板厚0.05mmのプ
リプレグ41,及び上記42アロイ板1を配置した。上
記プリプレグ41には,ガラスクロス繊維等の副材料に
樹脂が含浸させてある。次いで,これらを温度177
℃,圧力30kg/cm2 torrで積層プレスした。
これにより,図4に示すごとく,繊維等と合成樹脂との
混合体からなる絶縁基板22が形成された。該絶縁基板
22の熱膨張率は10ppmであった。
【0020】次に,絶縁基板22の上下両面にある上記
42アロイ板1を塩化第二鉄液と接触させることによ
り,エッチングして,図5に示すごとく,内層パターン
120,121を形成し,プリント基板32とした。内
層パターン120,121の面積は,それぞれ上記プリ
ント基板32の片面の全面積に対して50%に相当し
た。
【0021】次に,図6,図7に示すごとく,上記プリ
ント基板32の表裏両面に更に,0.10mmのプリプ
レグを絶縁基板21,23として配置した。次いで,該
絶縁基板21,23の表裏両面に,前記と同様に処理し
た42アロイ板1を配置し,同様にプレスした。次い
で,図8に示すごとく,塩化第二鉄液を用いて上記42
アロイ板1をエッチングした。これにより,プリント基
板32の上下に積層され,外層パターン130,110
を各々有するプリント基板33,31が得られた。
【0022】次に,図9に示すごとく,積層された上記
プリント基板31〜33にスルーホール25を穿設し,
その内壁にメッキにより導体膜10を形成した。これに
より,4層からなり,外層パターン110,130を有
する,多層プリント配線板3が得られた。該多層プリン
ト配線板3の熱膨張率は9ppmであった。
【0023】次に,前記図1に示すごとく,この多層プ
リント配線板3の最外層における,外層パターン130
の表面に,半田6を介して,4M─TSOP5を実装し
た。そして,─65℃〜125℃の熱サイクルで接続信
頼性を評価した。その結果,1%半田剥がれ不良が発生
したのは,300サイクルのときであり,優れた接続性
があった。上記の「1%半田剥がれ不良」とは,TSO
Pとプリント配線板の半田接続部のクラック又は離脱に
よる導通不良をいう。
【0024】また,本例の多層プリント配線板3におい
ては,スルーホール25の口径は,メッキによる薄い導
体膜10を形成するために必要とされる大きさだけでよ
い。そのため,スルーホール25を必要最小限の大きさ
とすることができ,多層プリント配線板3の高密度実装
化を図ることができた。
【0025】実施例2 本例においては,実施例1の多層プリント配線板につい
て,以下の諸条件を変えた場合(試料1〜試料6)の,
外層パターンの熱膨張率,及び接続不良が発生した時の
発生サイクル数(回)を測定した。 各絶縁基板の板厚 プリプレグの厚みを変えて,各絶縁基板の板厚を調整し
た。絶縁基板の熱膨張率は10〜14ppmである。 絶縁基板の積層枚数 実施例1と同じく2層の場合,又は更にプリント基板2
1の裏表面に厚み0.2mmのプリプレグを積層プレス
して4層とした場合について行った。
【0026】外層パターン形成に用いられる金属の種
類 実施例1と同様の42アロイ板,又は銅箔の場合につい
て行った。42アロイ板,銅箔の熱膨張率は,5pp
m,16ppmである。 多層プリント配線板の最外層のパターンの面積占有率 多層プリント配線板の表面側の全面積に対する外層パタ
ーンの面積占有率を変えた。 測定の結果を表1に示す。
【0027】同表より知られるように,外層パターンが
42アロイよりなり,その面積占有率が50%の多層プ
リント配線板(試料1,2)は,熱膨張率が10ppm
以下であった。また,TSOPの接続不良発生時のサイ
クル数については,本発明にかかる多層プリント配線板
(試料1,2)が,他の多層プリント配線板(試料3〜
6)と比べて,格段に優れていた。
【0028】また,絶縁基板22の全面積に対する,多
層プリント配線板の内部に形成された内層パターン12
0,121(図1参照)の面積占有率をそれぞれ40%
未満とし,上記と同様の測定を行った。その結果,外層
パターンが42アロイよりなり,その面積占有率が50
%以上の多層プリント配線板の表面は,低い熱膨張率で
あった。また,TSOPの接続不良も,200サイクル
以上の時に発生した。
【0029】このことから,外層パターンが,絶縁基板
よりも低い熱膨張率を有する42アロイよりなる場合に
は,多層プリント配線板の表面を低熱膨張率とすること
ができ,TSOP等の接続信頼性を向上できることがわ
かる。
【0030】
【表1】
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例1の多層プリント配線板の断面図。
【図2】実施例1の多層プリント配線板の平面図。
【図3】実施例1のプリント基板の製造方法を示す説明
図。
【図4】実施例1のプリント基板の断面図。
【図5】実施例1の,パターンを形成したプリント基板
の断面図。
【図6】実施例1の,上下両面にプリプレグ及び42ア
ロイ板を積層したプリント基板の断面図。
【図7】実施例1の,積層プレスされた多層のプリント
基板の断面図。
【図8】実施例1の,上下両面にパターンを形成した多
層プリント配線板の断面図。
【図9】実施例1の,スルーホールを形成した多層プリ
ント配線板の断面図。
【図10】従来例のプリント基板の断面図。
【符号の説明】
1...42アロイ板, 11...アンカー, 110,130...外層パターン, 120,121...内層パターン, 21,22,23...絶縁基板, 3...多層プリント配線板, 31,32,33...プリント基板, 5...TSOP,

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 繊維,粒子等の副材料と合成樹脂との混
    合体よりなる絶縁基板と,該絶縁基板の表面に設けたパ
    ターンとにより構成したプリント基板を用い,該プリン
    ト基板を複数枚積層した多層プリント配線板において, 該多層プリント配線板における少なくとも最外層のパタ
    ーンは,上記絶縁基板よりも低い熱膨張率を有する金属
    よりなることを特徴とする多層プリント配線板。
  2. 【請求項2】 請求項1において,上記低い熱膨張率を
    有する金属により形成されたパターンの面積は,上記プ
    リント基板の片面の全面積に対して40%以上を占有し
    ていることを特徴とする多層プリント配線板。
  3. 【請求項3】 請求項1において,上記低い熱膨張率を
    有する金属は,42アロイ,コバール,銅─インバ─銅
    合金,及びステンレススチールのグループから選ばれた
    合金であることを特徴とする多層プリント配線板。
JP5268178A 1993-09-29 1993-09-29 多層プリント配線板 Pending JPH07106770A (ja)

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Cited By (5)

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